KR102040301B1 - Antireflection film, polarizing plate comprising the same and optical display apparatus comprising the same - Google Patents
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Abstract
기재층, 제1층 및 제2층이 순차적으로 적층되는 반사방지 필름이고, 상기 제2층은 상기 제1층에 직접적으로 형성되고, 상기 제1층은 25℃에서 표면에너지가 20dyne/cm 내지 23dyne/cm이고, 상기 제2층은 에어 홀을 포함하고, 상기 반사방지 필름은 반사율이 0.3% 이하인 반사방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치가 제공된다.The base layer, the first layer and the second layer is an antireflection film sequentially stacked, the second layer is formed directly on the first layer, the first layer has a surface energy of 20 dyne / cm to 25 ℃ 23 dyne / cm, the second layer includes an air hole, and the anti-reflection film is provided with an anti-reflection film having a reflectance of 0.3% or less, a polarizing plate including the same, and an optical display device including the same.
Description
본 발명은 반사방지 필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to an antireflection film, a polarizing plate including the same, and an optical display device including the same.
광학표시장치는 외광이 입사하는 환경하에 사용된다. 외광의 입사는 광학표시장치의 화면 표시 품질을 저하시킬 수 있다. 따라서, 광학표시장치에서는 반사방지 필름이 사용되는 것이 일반적이다. 반사방지 필름은 통상 기재층 상에 고굴절층과 저굴절층이 반복되는 구조를 갖는다. 반사방지 필름은 일반적으로 저굴절층의 굴절률을 낮추어 반사율을 낮춘다.An optical display device is used under an environment in which external light is incident. Incident of external light may degrade the screen display quality of the optical display device. Therefore, in the optical display device, an antireflection film is generally used. The antireflection film usually has a structure in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are repeated on a substrate layer. The antireflection film generally lowers the refractive index of the low refractive layer to lower the reflectance.
반사방지 필름은 광학표시장치에서 외곽에 위치하므로 하드코트 기능, 대전방지 기능을 더 갖는 것이 바람직하다. 따라서, 최근에는 기재층 상에 하드코팅 기능을 갖는 하드코팅층, 무기 입자를 포함시켜 고굴절과 대전방지 기능을 갖는 고굴절층, 저굴절층을 차례로 적층시켜 반사방지 필름을 제조하는 기술이 개발되고 있다. 그러나, 이것은 3개의 코팅층으로 이루어져 반사방지 필름 제조가 복잡하였다. 하드코팅층이 없는 경우, 경도 및 외부 충격에 취약해지는 문제점이 있으며, 고굴절층이 없는 경우 반사방지 필름의 반사율을 낮추는 데에는 한계가 있었다. 반사방지 필름의 반사율을 낮추기 위해 저굴절층에 무기 중공 입자의 비율을 높이면, 반사율은 떨어지나 기계적 물성이 취약해져 적용하기 어려운 문제점이 있었다.Since the anti-reflection film is located outside the optical display device, it is preferable to further have a hard coat function and an antistatic function. Therefore, in recent years, a technology for manufacturing an antireflection film by including a hard coating layer having a hard coating function and an inorganic particle on a substrate layer and sequentially laminating a high refractive layer having a high refractive index and an antistatic function and a low refractive layer has been developed. However, this consisted of three coating layers which made the production of antireflective films complicated. If there is no hard coating layer, there is a problem that the hardness and the external shocks are vulnerable, there is a limit to lower the reflectance of the antireflection film in the absence of a high refractive index layer. Increasing the ratio of the inorganic hollow particles to the low refractive index layer in order to lower the reflectance of the antireflection film, the reflectance is reduced, but there is a problem that is difficult to apply due to the weak mechanical properties.
본 발명의 배경기술은 한국공개특허 제2015-0135662호에 개시되어 있다.Background art of the present invention is disclosed in Korea Patent Publication No. 2015-0135662.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 에어 홀을 포함하는 제2층과 제1층 간의 밀착력이 우수하고, 반사율이 현저하게 낮은 반사방지 필름을 제공하는 것이다.The problem to be solved by the present invention is to provide an antireflection film having excellent adhesion between the second layer and the first layer including an air hole and having a significantly low reflectance.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 중공 입자 및 에어 홀을 포함하는 제2층의 표면 조도가 낮은 반사방지 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an antireflection film having a low surface roughness of a second layer including hollow particles and air holes.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 에어 홀을 포함하고 연필경도가 우수하며 내스크래치성이 우수한 제2층을 포함하는 반사방지 필름을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an antireflection film including an air hole, a second layer having excellent pencil hardness and excellent scratch resistance.
본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 본 발명의 반사방지 필름을 포함하는 편광판 및 광학표시장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a polarizing plate and an optical display device comprising an anti-reflection film of the present invention.
본 발명의 반사방지 필름은 기재층, 제1층 및 제2층이 순차적으로 적층되고, 상기 제2층은 상기 제1층에 직접적으로 형성되고, 상기 제1층은 25℃에서 표면에너지가 20dyne/cm 내지 23dyne/cm이고, 상기 제2층은 에어 홀을 포함하고, 상기 반사방지 필름은 반사율이 0.3% 이하가 될 수 있다.In the antireflection film of the present invention, a base layer, a first layer, and a second layer are sequentially stacked, the second layer is directly formed on the first layer, and the first layer has a surface energy of 20 dyne at 25 ° C. / cm to 23 dyne / cm, the second layer includes an air hole, the antireflection film may have a reflectance of 0.3% or less.
본 발명의 편광판은 본 발명의 반사방지 필름을 포함할 수 있다.The polarizing plate of the present invention may include the antireflective film of the present invention.
본 발명의 광학표시장치는 본 발명의 반사방지 필름을 포함할 수 있다.The optical display device of the present invention may include the antireflection film of the present invention.
본 발명은 에어 홀을 포함하는 제2층과 제1층 간의 밀착력이 우수하고 반사율이 현저하게 낮은 반사방지 필름을 제공하였다.The present invention provides an antireflection film having excellent adhesion between the second layer and the first layer including air holes and having a significantly low reflectance.
본 발명은 중공 입자 및 에어 홀을 포함하는 제2층의 표면 조도가 낮은 반사방지 필름을 제공하였다. The present invention provides an antireflection film having a low surface roughness of a second layer including hollow particles and air holes.
본 발명은 에어 홀을 포함하고 연필경도가 우수며 내스크래치성이 우수한 제2층을 포함하는 반사방지 필름을 제공하였다.The present invention provides an antireflection film including an air hole and a second layer having excellent pencil hardness and excellent scratch resistance.
본 발명은 본 발명의 반사방지 필름을 포함하는 편광판 및 광학표시장치를 제공하였다.The present invention provides a polarizing plate and an optical display device including the antireflection film of the present invention.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 필름의 두께 방향 일 부분의 단면도의 개념도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 필름 중 제2층의 상부 평면도 중 일부의 개념도이다.
도 3은 실시예 1에 따른 반사방지 필름의 SEM 측정 결과이다.1 is a conceptual view of a cross-sectional view of a portion in the thickness direction of the antireflective film according to an embodiment of the present invention.
2 is a conceptual view of a part of the top plan view of the second layer of the antireflective film according to an embodiment of the present invention.
3 is a SEM measurement result of the antireflection film according to Example 1.
첨부한 도면을 참고하여 실시예에 의해 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일한 명칭을 사용하였다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention. In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and the same names are used for the same or similar elements throughout the specification.
본 명세서에서 "상부"와 "하부"는 도면을 기준으로 정의한 것으로서, 시 관점에 따라 "상부"가 "하부"로 "하부"가 "상부"로 변경될 수 있고, "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 구조를 개재한 경우도 포함할 수 있다. 반면, "직접 위(directly on)" 또는 "바로 위"로 지칭되는 것은 중간에 다른 구조를 개재하지 않은 것을 나타낸다.In the present specification, "upper" and "lower" are defined based on the drawings, and according to a viewpoint, "upper" may be changed to "lower" and "lower" to "upper", and "on" or What is referred to as “on” may include not only the above but also intervening other structures in the middle. On the other hand, what is referred to as "directly on" or "directly on" indicates that there is no intervening structure in between.
본 명세서에서 "(메트)아크릴"은 아크릴 및/또는 메타아크릴을 의미한다.As used herein, "(meth) acryl" refers to acrylic and / or methacryl.
본 명세서에서 반사방지 필름의 "반사율"은 반사방지 필름 중 기재층의 뒷면에 블랙 아크릴 시트(Nitto Jushi Kogyo사, CLAREX)를 라미네이트하여 제조된 시편에 대하여 분광광도계(Spectrophotometer, Konica Minolta, CM-3600A)로 SCI 반사 모드(광원: D65 광원, 광원 구경:φ8mm)에서 파장 360nm 내지 파장 740nm에서 측정된 반사율 중 Y(D65)값을 의미한다.In the present specification, the "reflectivity" of the antireflection film is a spectrophotometer (Spectrophotometer, Konica Minolta, CM-3600A) for a specimen prepared by laminating a black acrylic sheet (CLAREX, Nitto Jushi Kogyo Co., Ltd.) on the back side of the base layer of the antireflection film. In the SCI reflection mode (light source: D65 light source, light source aperture: φ8 mm), the value of Y (D65) is measured among reflectances measured at a wavelength of 360 nm to 740 nm.
본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 필름은 기재층, 제1층 및 제2층이 순차적으로 적층되어 있고, 제1층은 제2층과 직접적으로 형성되어 있다. 상기 "직접적으로 형성"은 제1층과 제2층 사이에 임의의 다른 점착층, 접착층 또는 점접착층 등이 형성되지 않음을 의미한다.In the antireflection film according to the embodiment of the present invention, the base layer, the first layer, and the second layer are sequentially stacked, and the first layer is directly formed with the second layer. The term "directly formed" means that no other adhesive layer, adhesive layer or adhesive layer is formed between the first layer and the second layer.
제1층은 25℃에서 표면에너지가 20dyne/cm 내지 23dyne/cm이다. 따라서, 제2층에 에어 홀(air hole)의 형성 정도를 높였음에도 불구하고, 제1층과 제2층 간의 밀착력을 높임으로써 지나친 에어 홀 형성으로 인한 제1층과 제2층 간의 결합 강도가 저하되는 것을 막음과 동시에, 제2층에 에어 홀 형성 정도를 높여 제1층 대비 제2층의 굴절률을 현저하게 낮추어 반사방지 필름의 반사율을 현저하게 낮출 수 있다. 반사방지 필름은 반사율이 0.3% 이하가 될 수 있다. 상기 범위에서, 광학표시장치에서 반사방지 필름으로 사용시 화면 품질 개선 효과가 클 수 있다. 특히, 제2층에 중공 입자 또는 중공 입자와 비중공 입자의 혼합물을 포함할 경우 해당 입자가 제1층에 접촉되어 밀착성이 저하될 수 있는데, 제1층의 표면 에너지를 상기 범위로 조절함으로써 밀착성을 높임과 동시에 에어 홀을 잘 형성시켜 반사율을 낮추었다. 제1층의 표면 에너지가 상기 범위를 벗어나는 경우 에어 홀 자체가 형성되지 않아서 밀착성이 좋을 수 있으나 에어 홀이 형성되지 않으므로 반사율이 낮아지기 어렵다.The first layer has a surface energy of 20 dyne / cm to 23 dyne / cm at 25 ° C. Therefore, although the degree of formation of air holes is increased in the second layer, the bonding strength between the first layer and the second layer due to excessive air hole formation is increased by increasing the adhesion between the first layer and the second layer. At the same time, the degree of air hole formation in the second layer may be increased, and the refractive index of the second layer may be significantly lowered than that of the first layer, thereby significantly lowering the reflectance of the antireflection film. The antireflective film may have a reflectance of 0.3% or less. Within this range, the screen quality improvement effect may be great when used as an antireflection film in the optical display device. In particular, when the second layer includes hollow particles or a mixture of hollow particles and non-hollow particles, the particles may come into contact with the first layer, thereby decreasing the adhesion. The adhesion may be controlled by adjusting the surface energy of the first layer to the above range. At the same time, the air hole was well formed to lower the reflectance. When the surface energy of the first layer is out of the above range, the air hole itself may not be formed, and thus adhesion may be good, but since the air hole is not formed, the reflectance may not be low.
에어 홀은 에어 기둥 형태를 나타낼 수 있다. 상기 "에어 기둥"은 제2층에 에어 홀이 산발적으로 형성되는 것이 아니라, 제1층과 제2층의 경계면을 제2층의 하부면이라 하고 제2층 중 상기 제2층의 하부면과 대향하는 면을 제2층의 상부면이라고 할 때, 소정의 단면적을 갖는 에어로 형성된 기둥이 제2층의 하부면에서부터 제2층의 상부면까지 제2층의 두께 방향으로 연속적으로 형성된 것을 의미한다. 에어 기둥은 제1층의 25℃에서 표면에너지가 20dyne/cm 내지 23dyne/cm가 되도록 함으로써 잘 형성될 수 있다.The air hole may have an air pillar shape. The air pillar is not formed sporadically in the second layer, the interface between the first layer and the second layer is referred to as the bottom surface of the second layer and the bottom surface of the second layer among the second layers. When the opposite surface is referred to as the upper surface of the second layer, it means that the pillars formed of air having a predetermined cross-sectional area are continuously formed in the thickness direction of the second layer from the lower surface of the second layer to the upper surface of the second layer. . The air pillar may be well formed by having a surface energy of 20 dyne / cm to 23 dyne / cm at 25 ° C. of the first layer.
도 1, 도 2를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 필름을 설명한다. 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 필름의 두께 방향 일 부분의 단면도의 개념도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 필름 중 제2층의 상부 평면도 중 일부의 개념도이다.1 and 2, an anti-reflection film according to an embodiment of the present invention will be described. 1 is a conceptual view of a cross-sectional view of a portion in the thickness direction of the antireflective film according to an embodiment of the present invention. 2 is a conceptual view of a part of the top plan view of the second layer of the antireflective film according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 반사방지 필름(100)은 제1층(110) 및 제1층(110)에 직접적으로 형성된 제2층(120)을 포함한다. 도 1에서 반사방지 필름 중 기재층은 생략되었다.Referring to FIG. 1, the
제2층(120)은 에어 홀(121)을 포함할 수 있다. 에어 홀(121)은 소정의 단 면적을 가지며 제2층(120)의 하부면에서부터 제2층(120)의 상부면까지 제2층(120)의 두께 방향으로 연속적으로 형성된 에어 기둥 형태를 나타낸다. 이를 통해, 제1층 대비 제2층의 굴절률을 현저하게 낮추어 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다. 에어 홀이 산발적으로 형성된 경우와 유사한 부피로 에어 기둥이 형성되는 경우, 제2층의 굴절률을 낮출 수 있고, 반사율이 낮아지는 효과가 있다.The
도 1은 제1층(110)이 일 평면인 경우를 나타낸 것이다. 그러나, 본 발명의 반사방지 필름에서 제1층은 일 평면이 될 수도 있고 또는 굴곡이 있는 면이 될 수도 있다. 제1층(110)은 25℃에서 표면에너지가 20dyne/cm 내지 23dyne/cm가 됨으로써 제1층이 굴곡이 있더라도 제2층(120)의 표면 조도를 낮출 수도 있다. 1 illustrates a case where the
도 2를 참조하면, 제2층은 에어홀(121)로 구성되는 영역과, 중공 입자(122), 비 중공 입자(124) 및 경화성 화합물의 경화물(123)로 구성되는 영역을 포함한다. 제2층(120)은 중공 입자(122) 및 경화성 화합물의 경화물(123)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2, the second layer includes a region composed of an
도 1, 도 2에서는 제2층(120)에 비 중공 입자(124)를 포함하는 경우를 도시한 것이다. 그러나, 비 중공 입자(124)는 포함되지 않을 수도 있다. 중공 입자, 경화성 화합물의 경화물 및 비 중공 입자에 대해서는 하기에서 상세히 설명한다.1 and 2 illustrate a case where the
반사방지 필름은 제1층의 표면 에너지를 상기 범위로 조절하고 하기 상술되는 바와 같이 중공 입자, 경화성 화합물을 포함함으로써, 제2층의 표면조도를 낮출 수 있다. 반사방지 필름은 제2층에서 측정된 표면 조도가 50nm 이하, 예를 들면 15nm 내지 50nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 발수 및 발유 효과가 있을 수 있다. 표면 조도는 반사방지 필름 중 제2층에서 측정된 값이다.The antireflective film can lower the surface roughness of the second layer by adjusting the surface energy of the first layer in the above range and including hollow particles and a curable compound as described below. The antireflection film may have a surface roughness of 50 nm or less, for example, 15 nm to 50 nm, measured in the second layer. In the above range, there may be a water and oil repelling effect. Surface roughness is the value measured in the second layer of the antireflective film.
제2층The second layer
제2층은 제1층에 직접적으로 형성되어 있다. 제2층은 에어 홀을 포함하고 있어서, 제1층 대비 굴절률이 현저하게 낮다. 따라서, 제2층은 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다. 구체적으로, 제2층은 굴절률이 1.30 이하, 예를 들면 1.20 내지 1.30, 구체적으로 1.29 내지 1.30이 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름의 반사율을 현저하게 낮출 수 있다.The second layer is formed directly on the first layer. The second layer includes air holes, so that the refractive index is significantly lower than that of the first layer. Thus, the second layer can lower the reflectance of the antireflective film. Specifically, the second layer may have a refractive index of 1.30 or less, for example, 1.20 to 1.30, specifically 1.29 to 1.30. Within this range, the reflectance of the antireflective film can be significantly lowered.
제2층은 중공 입자, 경화성 화합물 및 개시제를 포함하는 제2층용 조성물로 형성될 수 있다. 제2층에서 에어 홀은 상기 제2층용 조성물의 조성 또는 구성 성분의 함량에 의해 형성되는 것이 아니라 제1층의 25℃에서의 표면 에너지를 20dyne/cm 내지 23dyne/cm로 만듬으로써 잘 형성될 수 있다.The second layer may be formed of a composition for a second layer including hollow particles, a curable compound, and an initiator. The air hole in the second layer is not formed by the composition of the composition for the second layer or the content of the constituents, but may be well formed by making the surface energy at 25 ° C. of the first layer from 20 dyne / cm to 23 dyne / cm. have.
에어 홀은 제2층 중 산발적으로 형성될 수도 있으나, 바람직하게는 도 1에서와 같이 에어 기둥 형태로 형성되어 제2층의 굴절률을 현저하게 낮출 수 있다. 에어 홀은 최저 평균 입경이 200nm 이하, 예를 들면 100nm 내지 200nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 우수한 외관을 유지하면서 제2층의 굴절률 감소 효과가 클 수 있다.The air hole may be sporadically formed in the second layer, but preferably, may be formed in the shape of an air column as shown in FIG. 1 to significantly lower the refractive index of the second layer. The air hole may have a minimum average particle diameter of 200 nm or less, for example, 100 nm to 200 nm. Within this range, the refractive index reduction effect of the second layer can be great while maintaining an excellent appearance.
에어 홀은 중공 입자로 둘러싸여 형성될 수 있다. 또는 에어 홀은 중공 입자 및 비 중공 입자로 둘러싸여 형성될 수 있다. 이것은 경화성 화합물이 중공 입자, 비 중공 입자를 서로 잡아줌으로써 에어 홀이 형성된 것과 관련된다. 이를 통해 완벽한 에어홀이 형성될 수 있으며 제2층의 굴절률 저하로 인한 반사율 감소 효과가 있을 수 있다.The air hole may be formed surrounded by hollow particles. Alternatively, the air hole may be formed surrounded by hollow particles and non-hollow particles. This relates to the formation of air holes by the curable compound catching hollow particles and non-hollow particles with each other. As a result, a perfect air hole may be formed, and the reflectance may be reduced due to the decrease in the refractive index of the second layer.
중공 입자는 에어 홀만 있는 경우 대비하여 제2층의 경도를 높이면서도 제2층의 굴절률을 낮출 수 있다. 반사방지 필름의 연필경도는 1H 이상 예를 들어 2H 내지 3H가 될 수 있다. 상기 범위에서, 광학표시장치 중 외곽에 사용될 수 있다. 또한, 중공 입자는 제2층 중 표면에 적어도 일부 포함되어 제2층의 내스크래치성을 높일 수 있다.The hollow particles may lower the refractive index of the second layer while increasing the hardness of the second layer in comparison with the case of only the air holes. The pencil hardness of the antireflection film may be 1H or more, for example, 2H to 3H. In the above range, it can be used on the outer side of the optical display device. In addition, the hollow particles may be included at least in part on the surface of the second layer to increase scratch resistance of the second layer.
중공 입자는 중공 구조를 가져 굴절률이 낮음으로써 제2층의 굴절률을 낮출 수 있다. 중공 입자의 굴절률은 1.40 이하 예를 들면 1.10 내지 1.30이 될 수 있다. 중공 입자는 유기 중공 입자, 무기 중공 입자 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 중공 입자는 중공 실리카를 사용할 수 있다. 중공 입자는 표면 처리되지 않은 무처리 중공 입자를 사용할 수도 있으나, 경화성 작용기(예: UV 경화성 작용기)로 표면 처리된 중공 입자를 사용함으로써 경화성 화합물과의 경화 반응을 통해 제2층의 경도를 더 높일 수 있다. 중공 입자는 구형, 무정형 등의 입자를 포함할 수 있다. 중공 입자의 평균 입경(D50)은 30nm 내지 150nm, 예를 들면 60nm 내지 120nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 제2층에 포함될 수 있고, 헤이즈와 투과도 등의 광특성을 좋게 할 수 있다.The hollow particles may have a hollow structure to lower the refractive index of the second layer. The refractive index of the hollow particles may be 1.40 or less, for example, 1.10 to 1.30. The hollow particles may include one or more of organic hollow particles and inorganic hollow particles. Preferably, the hollow particles may be hollow silica. The hollow particles may be untreated hollow particles that are not surface treated, but by using hollow particles that are surface treated with a curable functional group (such as a UV curable functional group), the hardness of the second layer may be further increased through a curing reaction with the curable compound. Can be. The hollow particles may include particles such as spherical and amorphous. The average particle diameter (D50) of the hollow particles may be 30 nm to 150 nm, for example, 60 nm to 120 nm. In the above range, it can be included in the second layer, and can improve optical characteristics such as haze and transmittance.
제2층 중 에어 홀의 평균 입경은 중공 입자의 평균 입경보다 클 수 있다. 그렇다고 해도, 본 발명의 반사방지 필름은 제1층과 제2층 간의 밀착력이 좋고 반사율이 낮다.The average particle diameter of the air holes in the second layer may be larger than the average particle diameter of the hollow particles. Even so, the antireflection film of the present invention has good adhesion between the first layer and the second layer and low reflectance.
중공 입자는 제2층 중 40중량% 내지 60중량%, 예를 들면 45중량% 내지 55중량%, 50중량% 내지 60중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름의 반사율을 낮추고 경도를 확보할 수 있다.The hollow particles may be included in an amount of 40 wt% to 60 wt%, for example 45 wt% to 55 wt%, and 50 wt% to 60 wt% in the second layer. In the above range, the reflectance of the antireflection film can be lowered and the hardness can be ensured.
경화성 화합물은 경화되어 제2층의 매트릭스를 형성하고 에어 홀이 안정적으로 형성되도록 하며 중공 입자 등을 잡아줌으로써 에어 홀이 붕괴되는 것을 차단한다. 또한, 경화성 화합물은 중공 입자, 비 중공 입자를 웨팅(wetting)시켜 중공 입자, 비 중공 입자를 서로 고정시킬 수 있다.The curable compound is cured to form a matrix of the second layer, allows the air hole to be stably formed, and blocks the air hole from collapsing by catching hollow particles or the like. In addition, the curable compound may fix the hollow particles and the non-hollow particles by wetting the hollow particles and the non-hollow particles.
경화성 화합물은 열경화성 화합물, 광경화성 화합물 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는 제2층이 빨리 형성되도록 하며 에어 홀이 잘 형성되도록 하기 위해서 경화성 화합물은 광경화성 화합물이 될 수 있다. 경화성 화합물은 경화성 작용기로 UV 경화성 작용기인 (메트)아크릴레이트기를 포함할 수 있다. 바람직하게는 경화성 화합물은 히드록시기를 포함할 수 있다.The curable compound may include one or more of a thermosetting compound and a photocurable compound. Preferably, the curable compound may be a photocurable compound so that the second layer is formed quickly and the air holes are well formed. The curable compound may include a (meth) acrylate group which is a UV curable functional group as the curable functional group. Preferably the curable compound may comprise a hydroxyl group.
경화성 화합물은 불소를 함유하지 않는 비 불소계 경화성 모노머 또는 그의 올리고머, 불소를 함유하는 불소계 경화성 모노머 또는 그의 올리고머 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 비 불소계와 불소계를 동시에 사용함으로써 제2층의 굴절률을 낮춤과 동시에 제2층의 강도 향상 효과가 있다.The curable compound may include at least one of a non-fluorine-based curable monomer or oligomer thereof that does not contain fluorine, a fluorine-based curable monomer or oligomer thereof containing fluorine. Preferably, by using a non-fluorine type and a fluorine type simultaneously, the refractive index of a 2nd layer is reduced, and there exists an effect of improving the intensity | strength of a 2nd layer.
일 구체예에서, 비 불소계 경화성 모노머는 2관능 이상 예를 들어 2관능 내지 10관능의 다관능 (메트)아크릴레이트계 모노머를 포함할 수 있다. 비 불소계 경화성 모노머는 다가 알코올과 (메트)아크릴산의 에스테르와 같은 다관능의 (메트)아크릴레이트(우레탄 결합을 포함하지 않는 비 우레탄계 다관능 (메트)아크릴레이트), 또는 다가 알코올, 이소시아네이트계 화합물, (메트)아크릴산의 히드록시 에스테르로부터 합성되는 다관능의 우레탄 (메트)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함할 수 있다.In one embodiment, the non-fluorine curable monomer may comprise a bifunctional or more than, for example, bifunctional to 10 functional polyfunctional (meth) acrylate-based monomers. The non-fluorine curable monomer may be a polyfunctional (meth) acrylate such as an ester of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (non-urethane polyfunctional (meth) acrylate without containing a urethane bond), or a polyhydric alcohol, an isocyanate compound, One or more of the polyfunctional urethane (meth) acrylates synthesized from the hydroxy esters of (meth) acrylic acid.
2관능의 (메트)아크릴레이트는, 예를 들어, 에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 노난디올 디(메트)아크릴레이트, 에톡시화헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 프로폭시화헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 에톡시화네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 히드록시피발린산네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트 등의 디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 3관능 이상의 (메트)아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들어, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 에톡시화트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 프로폭시화트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리스2-히드록시에틸이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트, 글리세린 트리(메트)아크릴레이트 등의 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트 등의 3관능의 (메트)아크릴레이트 화합물이나, 펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 헥사(메트)아크릴레이트 등의 3관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물이나, 이들 (메트)아크릴레이트의 일부를 알킬기나 ε-카프로락톤으로 치환한 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물 등을 들 수 있다.The bifunctional (meth) acrylate is, for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, Nonanediol di (meth) acrylate, ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, propoxylated hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate , Tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) Di (meth) acrylates, such as an acrylate and hydroxy pivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, etc. are mentioned. As a trifunctional or more than (meth) acrylate compound, For example, trimethylol propane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylol propane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylol propane tri (meth) acrylate, Tri (meth) acrylates such as tris2-hydroxyethylisocyanurate tri (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylic Trifunctional (meth) acrylate compounds such as acrylate and ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra ( Meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane penta (meth) acrylate And trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate compounds such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and ditrimethylolpropane hexa (meth) acrylate, and some of these (meth) acrylates may be alkyl groups or? -Capro The polyfunctional (meth) acrylate compound etc. which were substituted by lactone are mentioned.
다관능의 우레탄 (메트)아크릴레이트는, 폴리올, 이소시아네이트계 화합물, (메트)아크릴산의 히드록시 에스테르로부터 합성된다. 상기 폴리올은 방향족계 폴리올, 지방족계 폴리올, 지환족계 폴리올 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는 지방족계 폴리올, 지환족계 폴리올 중 하나 이상이 될 수 있다. 이러한 경우 반사방지 필름의 황변 발생이 적을 수 있다. 상기 폴리올은 폴리에스테르 디올, 폴리카보네이트 디올, 폴리올레핀 디올, 폴리에테르 디올, 폴리티오에테르 디올, 폴리실록산 디올, 폴리아세탈디올, 폴리에스테르아미드 디올 중 하나 이상을 포함할 수 있지만 이에 제한되지 않는다. 이소시아네이트계 화합물은 임의의 지방족, 지환족 또는 방향족의 다관능 이소시아네이트 화합물일 수 있다.Polyfunctional urethane (meth) acrylate is synthesize | combined from the hydroxy ester of a polyol, an isocyanate type compound, and (meth) acrylic acid. The polyol may include one or more of an aromatic polyol, an aliphatic polyol, and an alicyclic polyol. Preferably, at least one of an aliphatic polyol and an alicyclic polyol may be used. In this case, yellowing of the antireflection film may be less. The polyol may include, but is not limited to, one or more of polyester diols, polycarbonate diols, polyolefin diols, polyether diols, polythioether diols, polysiloxane diols, polyacetal diols, polyesteramide diols. The isocyanate compound can be any aliphatic, cycloaliphatic or aromatic polyfunctional isocyanate compound.
일 구체예에서, 불소계 경화성 모노머는 상술한 다관능의 (메트)아크릴레이트, 다관능의 우레탄 (메트)아크릴레이트 중 하나 이상의 수소 원자가 불소로 치환된 화합물을 포함할 수 있다. In one embodiment, the fluorine-based curable monomer may include a compound in which at least one hydrogen atom of the above-described multifunctional (meth) acrylate and polyfunctional urethane (meth) acrylate is substituted with fluorine.
다른 구체예에서, 불소계 경화성 모노머는 펜타에리트리톨 골격을 갖는 불소계 모노머, 디펜타에리트리톨 골격을 갖는 불소계 모노머, 트리메틸올프로판 골격을 갖는 불소계 모노머, 디트리메틸올프로판 골격을 갖는 불소계 모노머, 시클로헥실 골격을 갖는 불소계 모노머, 직쇄상 골격을 갖는 불소계 모노머 또는 이들의 혼합물이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 이때, 불소계 모노머는 (메트)아크릴레이트계 모노머일 수 있다.In another embodiment, the fluorine-based curable monomer is a fluorine monomer having a pentaerythritol skeleton, a fluorine monomer having a dipentaerythritol skeleton, a fluorine monomer having a trimethylolpropane skeleton, a fluorine monomer having a ditrimethylolpropane skeleton, a cyclohexyl skeleton It may be a fluorine-based monomer having a linear, a fluorine-based monomer having a linear skeleton or a mixture thereof, but is not limited thereto. In this case, the fluorine monomer may be a (meth) acrylate monomer.
경화성 화합물의 경화물은 제2층 중 30중량% 내지 50중량%, 바람직하게는 40중량% 내지 50중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 우수한 경도 및 스크래치 방지 효과가 있을 수 있다.The cured product of the curable compound may be included in an amount of 30 wt% to 50 wt%, preferably 40 wt% to 50 wt% in the second layer. In the above range, there can be excellent hardness and scratch prevention effect.
경화성 화합물 중 불소계 경화성 모노머 또는 그의 올리고머는 제2층 중 15중량% 내지 45중량%, 바람직하게는 25중량% 내지 42중량%, 28중량% 내지 42중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 안정적인 반사율 감소 효과가 있을 수 있다. 경화성 화합물 중 비불소계 경화성 모노머 또는 그의 올리고머는 제2층 중 5중량% 내지 20중량%, 바람직하게는 7중량% 내지 15중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 가교 밀도 향상 효과가 있을 수 있다.The fluorine-based curable monomer or oligomer thereof in the curable compound may be included in an amount of 15 wt% to 45 wt%, preferably 25 wt% to 42 wt%, and 28 wt% to 42 wt% in the second layer. In the above range, there may be a stable reflectance reduction effect. The non-fluorine curable monomer or oligomer thereof in the curable compound may be included in an amount of 5 wt% to 20 wt%, preferably 7 wt% to 15 wt% in the second layer. In the above range, there may be an effect of improving the crosslinking density.
개시제는 경화성 화합물 선택적으로는 경화성 화합물과 중공 입자를 경화시킨다. 개시제는 당업자에게 알려진 통상의 광 라디칼 개시제, 광 양이온 개시제 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 광 라디칼 개시제는 광 조사에 의해 라디칼을 발생시켜 경화를 촉매하는 것으로, 인계, 트리아진계, 아세토페논계, 벤조페논계, 티오크산톤계, 벤조인계, 옥심계, 페닐케톤계, 히드록시케톤계 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 광 양이온 개시제는 양이온과 음이온의 염을 포함할 수 있다. 양이온의 구체예로서는 디페닐요오드늄, 4-메톡시디페닐요오드늄, 비스(4-메틸페닐)요오드늄, (4-메틸페닐)[4-(2-메틸프로필)페닐]요오드늄, 비스(4-터트-부틸페닐)요오드늄, 비스(도데실페닐)요오드늄 등의 디아릴요오드늄, 트리페닐술포늄, 디페닐-4-티오페녹시페닐술포늄 등의 트리아릴술포늄, 비스[4-(디페닐술포니오)-페닐]술피드, 비스[4-(디(4-(2-히드록시에틸)페닐)술포니오)-페닐]술피드, (η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)[(1,2,3,4,5,6-η)-(1-메틸에틸)벤젠]철(1+) 등을 들 수 있다. 음이온의 구체예로서는, 테트라플루오로보레이트(BF4 -), 헥사플루오로포스페이트(PF6 -), 헥사플루오로안티모네이트(SbF6 -), 헥사플루오로아르세네이트(AsF6 -), 헥사클로로안티모네이트(SbCl6 -) 등을 들 수 있다.The initiator cures the curable compound and optionally the curable compound and the hollow particles. The initiator may comprise one or more of conventional photo radical initiators, photo cationic initiators known to those skilled in the art. The radical radical initiator generates a radical by light irradiation and catalyzes curing, and includes a phosphorus, triazine, acetophenone, benzophenone, thioxanthone, benzoin, oxime, phenylketone and hydroxyketone It may include one or more of. Photo cationic initiators may include salts of cations and anions. As a specific example of a cation, diphenyl iodonium, 4-methoxy diphenyl iodonium, bis (4-methylphenyl) iodonium, (4-methylphenyl) [4- (2-methylpropyl) phenyl] iodonium, bis (4-tert) -Triarylsulfonium, such as diaryl iodonium, triphenylsulfonium, and diphenyl-4-thiophenoxyphenylsulfonium, such as -butylphenyl) iodonium and bis (dodecylphenyl) iodonium; (Diphenylsulfonio) -phenyl] sulfide, bis [4- (di (4- (2-hydroxyethyl) phenyl) sulfonio) -phenyl] sulfide, (η5-2,4-cyclopenta Dien-1-yl) [(1,2,3,4,5,6-η)-(1-methylethyl) benzene] iron (1+), etc. are mentioned. Specific examples of the anionic examples include borate (BF 4 -) tetrafluoroborate, phosphate (PF 6 -) hexafluoropropane, antimonate hexafluorophosphate (SbF 6 -), are Senate hexafluorophosphate (AsF 6 -), hexamethylene Chloro antimonate (SbCl 6 − ) and the like.
제2층용 조성물은 용매를 더 포함하여 조성물의 코팅성을 높일 수도 있다. 용매는 메틸이소부틸케톤, 메틸에틸케톤, 에틸렌글리콜 디메틸에테르 등을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. The composition for the second layer may further include a solvent to increase the coating property of the composition. The solvent may include methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, ethylene glycol dimethyl ether, and the like, but is not limited thereto.
용매는 제2층용 조성물 중 잔량으로 포함될 수 있다.The solvent may be included in the remaining amount in the composition for the second layer.
일 구체예에서, 제2층용 조성물은 고형분 기준, 중공 입자 40중량% 내지 60중량%, 경화성 화합물 30중량% 내지 50중량%, 개시제 0.5중량% 내지 10중량%를 포함할 수 있다. 상기 범위에서, 우수한 반사 방지성 및 우수한 내스크래치성 효과가 있을 수 있다. 바람직하게는, 제2층용 조성물은 고형분 기준, 중공 입자 50중량% 내지 60중량%, 경화성 화합물 37중량% 내지 49.5중량%, 개시제 0.5중량% 내지 3중량%를 포함할 수 있다. 더 바람직하게는 제2층용 조성물은 고형분 기준, 중공 입자 50중량% 내지 60중량%, 비불소계 모노머 7중량% 내지 15중량%, 불소계 모노머 28중량% 내지 42중량%, 개시제 1중량% 내지 3중량%를 포함할 수 있다. 상기 범위에서, 우수한 반사 방지 효과가 있을 수 있다.In one embodiment, the composition for the second layer may include 40 wt% to 60 wt% of the hollow particles, 30 wt% to 50 wt% of the curable compound, and 0.5 wt% to 10 wt% of the initiator. In the above range, there can be an excellent anti-reflective effect and excellent scratch resistance effect. Preferably, the composition for the second layer may include 50 wt% to 60 wt% of the hollow particles, 37 wt% to 49.5 wt% of the curable compound, and 0.5 wt% to 3 wt% of the initiator. More preferably, the composition for the second layer is 50% by weight to 60% by weight of the hollow particles, 7% to 15% by weight of the non-fluorine monomer, 28% to 42% by weight of the fluorinated monomer, and 1% to 3% by weight of the initiator. May contain%. Within this range, there can be an excellent antireflection effect.
제2층은 비 중공 입자를 더 포함할 수 있다.The second layer may further comprise non-hollow particles.
비 중공 입자는 제2층에 포함되어 제2층의 기계적 강도를 향상시킬 수 있다. Non-hollow particles may be included in the second layer to improve the mechanical strength of the second layer.
비 중공 입자는 무기 입자, 유기 입자 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 바람직하게는, 비 중공 입자는 실리카를 사용할 수 있다. 비 중공 입자는 표면 처리되지 않은 무처리 입자를 사용할 수도 있으나, 경화성 작용기(예: UV 경화성 작용기)로 표면 처리된 비 중공 입자를 사용함으로써 경화성 화합물과의 경화 반응을 통해 제2층의 경도를 더 높일 수 있다. 비 중공 입자는 구형, 무정형 등의 입자를 포함할 수 있다. 비 중공 입자의 평균 입경(D50)은 30nm 내지 150nm, 예를 들면 50nm 내지 100nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 제2층에 포함될 수 있고, 헤이즈와 투과도 등의 광특성을 좋게 할 수 있다.Non-hollow particles may include one or more of inorganic particles and organic particles. Preferably, non-hollow particles may use silica. The non-hollow particles may use untreated particles that have not been surface treated, but by using non-hollow particles surface-treated with a curable functional group (such as a UV curable functional group), the hardness of the second layer may be further increased through a curing reaction with the curable compound. It can increase. Non-hollow particles may include particles such as spherical and amorphous. The average particle diameter (D50) of the non-hollow particles may be 30 nm to 150 nm, for example, 50 nm to 100 nm. In the above range, it can be included in the second layer, and can improve optical characteristics such as haze and transmittance.
비 중공 입자는 제2층 중 1중량% 내지 5중량%, 예를 들어 2중량% 내지 5중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 스크래치 방지 효과가 있을 수 있다.Non-hollow particles may be included in an amount of 1% to 5% by weight, for example 2% to 5% by weight of the second layer. In the above range, there may be a scratch prevention effect.
일 구체예에서, 제2층용 조성물은 고형분 기준, 중공 입자 40중량% 내지 60중량%, 경화성 화합물 35중량% 내지 50중량%, 개시제 0.5중량% 내지 10중량%, 비 중공 입자 1중량% 내지 5중량% 포함할 수 있다. 상기 범위에서, 스크래치 방지 개선 효과가 있을 수 있다. 바람직하게는, 제2층용 조성물은 고형분 기준, 중공 입자 40중량% 내지 60중량%, 비불소계 모노머 5중량% 내지 15중량%, 불소계 모노머 22중량% 내지 42중량%, 개시제 1중량% 내지 3중량%, 비 중공 입자 1중량% 내지 5중량% 포함할 수 있다. 상기 범위에서, 스크래치 방지 개선 효과가 있을 수 있다.In one embodiment, the composition for the second layer is based on solids, 40% to 60% by weight hollow particles, 35% to 50% by weight curable compound, 0.5% to 10% by weight initiator, 1% to 5% non-hollow particles It may include weight percent. In the above range, there may be an effect to improve scratch prevention. Preferably, the composition for the second layer is based on solids, 40% to 60% by weight hollow particles, 5% to 15% by weight non-fluorine monomer, 22% to 42% by weight fluorinated monomer, 1% to 3% initiator %, Non-hollow particles may contain 1% to 5% by weight. In the above range, there may be an effect to improve scratch prevention.
제2층은 반사방지 필름 중 포함되는 통상의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 첨가제는 예를 들면 계면활성제, 대전방지제, 소포제, 산화방지제 등을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 첨가제는 제2층 중 5중량% 이하, 예를 들어 3중량% 이하로 포함될 수 있다.The second layer may further comprise conventional additives included in the antireflective film. Additives may include, but are not limited to, for example, surfactants, antistatic agents, antifoams, antioxidants, and the like. The additive may be included in up to 5% by weight, for example up to 3% by weight of the second layer.
제2층은 두께가 150nm 이하, 예를 들어 50nm 내지 150nm, 95nm 내지 120nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름에 사용될 수 있다.The second layer may have a thickness of 150 nm or less, for example, 50 nm to 150 nm, 95 nm to 120 nm. In the above range, it can be used for the antireflection film.
제1층First floor
제1층은 제2층을 지지하고, 제2층 중 에어 홀 형성을 용이하게 하여 반사방지 필름의 반사율을 현저하게 낮추면서도 제1층과 제2층 간의 밀착력을 높일 수 있다. 또한, 제1층을 매개로 제2층은 기재층에 밀착될 수 있다.The first layer supports the second layer, and facilitates the formation of air holes in the second layer, thereby significantly lowering the reflectance of the antireflective film and increasing adhesion between the first layer and the second layer. In addition, the second layer may be in close contact with the base layer through the first layer.
제1층은 25℃에서 표면에너지가 20dyne/cm 내지 23dyne/cm인 층을 포함할 수 있다. 이를 통해, 제2층에서 에어 홀 형성이 많이 되도록 하여 반사방지 필름의 반사율을 낮추고, 제1층과 제2층 간의 밀착력을 높일 수 있다. 또한, 제1층이 굴곡진 면이라도 제2층의 표면 조도를 낮출 수 있다.The first layer may include a layer having a surface energy of 20 dyne / cm to 23 dyne / cm at 25 ° C. As a result, the air layer may be formed in the second layer to decrease the reflectance of the antireflection film, and the adhesion between the first layer and the second layer may be enhanced. In addition, even when the first layer is curved, the surface roughness of the second layer can be lowered.
25℃에서 표면에너지가 20dyne/cm 내지 23dyne/cm인 층은 표면에너지 조절제를 0.001중량% 내지 0.7중량%, 예를 들면 0.002중량% 내지 0.5중량%, 예를 들면 0.002중량% 내지 0.1중량%로 포함할 수 있다. 상기 범위에서, 상기 표면에너지를 갖도록 함으로써 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다.The layer having a surface energy of 20 dyne / cm to 23 dyne / cm at 25 ° C. may have a surface energy modifier of 0.001% to 0.7% by weight, for example, 0.002% to 0.5% by weight, for example, 0.002% to 0.1% by weight. It may include. In the above range, the reflectance of the antireflection film can be lowered by having the surface energy.
표면에너지 조절제는 실리콘계 표면 에너지 조절제를 사용할 수 있다. 예를 들면, 실리콘계 표면 에너지는 폴리에스테르 변성 아크릴 관능기를 갖는 폴리디메틸실록산(Polyester modified acryl functional polydimethylsiloxane), 예를 들면 UV 3500(BYK Chem사) 등을 사용할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The surface energy modifier may use a silicon-based surface energy modifier. For example, the silicone-based surface energy may be, but is not limited to, a polyester modified acryl functional polydimethylsiloxane having a polyester-modified acrylic functional group, for example, UV 3500 (BYK Chem).
일 구체예에서, 제1층은 상기 표면 에너지 조절제에, 상기 비 불소계 경화성 화합물, 및 상기 개시제를 포함하는 조성물로 형성된 하드코팅층일 수 있다. 이 경우, 제1층은 상기 표면에너지를 제공하면서도 제1층의 경도를 높여서 반사방지 필름의 경도를 높일 수 있다.In one embodiment, the first layer may be a hard coat layer formed of a composition comprising the surface energy modifier, the non-fluorine-based curable compound, and the initiator. In this case, the first layer may increase the hardness of the antireflection film by increasing the hardness of the first layer while providing the surface energy.
표면 에너지 조절제는 상기 비 불소계 경화성 화합물, 상기 개시제 및 용매의 총합 100중량부에 대해 0.001중량부 이상 0.3중량부 미만, 예를 들면 0.001중량부 내지 0.2중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 제1층의 표면에너지를 확보할 수 있다.The surface energy modifier may be included in an amount of 0.001 parts by weight or more and less than 0.3 parts by weight, for example, 0.001 parts by weight to 0.2 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the non-fluorine-based curable compound, the initiator and the solvent. Within this range, the surface energy of the first layer can be secured.
상기 비 불소계 경화성 화합물 및 상기 개시제의 총합 100중량부 중 상기 비 불소계 경화성 화합물은 70중량부 내지 95중량부, 상기 개시제는5중량부 내지 30중량부로 포함될 수 있다. 상기 비 불소계 경화성 화합물로서 비 우레탄계 다관능 (메트)아크릴레이트와 다관능 우레탄 (메트)아크릴레이트 혼합물을 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 경우, 비 우레탄계 다관능 (메트)아크릴레이트, 다관능 우레탄 (메트)아크릴레이트 및 개시제의 총합 100중량부 중 비 우레탄계 다관능 (메트)아크릴레이트 10중량부 내지 50중량부, 다관능 우레탄 (메트)아크릴레이트 40중량부 내지 80중량부 및 개시제 5중량부 내지 30중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 표면에너지 조절제를 포함하였을 때 본 발명의 표면 에너지에 용이하게 도달할 수 있고 제2층에서 에어 홀 형성이 잘 되게 할 수 있다. The total amount of the non-fluorine-based curable compound and the initiator may be 70 parts by weight to 95 parts by weight, and the initiator may be included in an amount of 5 parts by weight to 30 parts by weight. It is preferable that a non-urethane-type polyfunctional (meth) acrylate and a polyfunctional urethane (meth) acrylate mixture are included as said non-fluorine-type curable compound. In this case, 10 parts by weight to 50 parts by weight of the non-urethane-based polyfunctional (meth) acrylate in a total of 100 parts by weight of the non-urethane-based polyfunctional (meth) acrylate, the polyfunctional urethane (meth) acrylate and the initiator, and a polyfunctional urethane ( 40 to 80 parts by weight of meth) acrylate and 5 to 30 parts by weight of initiator may be included. Within this range, it is possible to easily reach the surface energy of the present invention when the surface energy modifier is included and to facilitate the formation of air holes in the second layer.
상기 조성물은 대전방지제 등의 통상의 첨가제를 더 포함할 수 있다. 대전방지제는 반사방지 필름의 표면 저항을 낮추는 것으로, 4급 암모늄 양이온과 음이온을 구비하는 재료를 포함할 수 있다. 음이온으로는 할로겐 이온, HSO4 -, SO4 2-, NO3 -, PO4 3- 등이 될 수 있다. 대전방지제는 4급 암모늄 양이온을 포함할 수도 있으나, 4급 암모늄 양이온을 관능기로서 분자 내에 포함하는 아크릴계 재료를 포함할 수 있다. 이 경우 반사방지 필름은 제2층에서의 표면저항이 9 x 1010Ω/□ 이하 예를 들면 7 x 109Ω/□ 이하가 될 수 있다.The composition may further include conventional additives such as antistatic agents. The antistatic agent lowers the surface resistance of the antireflective film, and may include a material having a quaternary ammonium cation and an anion. Anion include a halogen ion, HSO 4 - and the like can be, PO 4 3- -, SO 4 2-, NO 3. The antistatic agent may include a quaternary ammonium cation, but may include an acrylic material containing a quaternary ammonium cation as a functional group in the molecule. In this case, the antireflection film may have a surface resistance of 9 × 10 10 Pa / □ or less, for example, 7 × 10 9 Pa / □ or less in the second layer.
상기 조성물은 대전방지제 이외에 소포제, 산화방지제, 자외선흡수제, 광안정제 등의 통상의 첨가제를 더 포함할 수도 있다.In addition to the antistatic agent, the composition may further include conventional additives such as an antifoaming agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer.
다른 구체예에서, 제1층은 상기 표면 에너지 조절제에, 상기 비 불소계 경화성 화합물, 고굴절률 경화성 화합물, 및 상기 개시제를 포함하는 조성물로 형성된 고굴절률층일 수 있다. 상기 고굴절률 경화성 화합물은 상기 비 불소계 경화성 화합물보다 굴절률이 높다. 따라서, 제1층의 굴절률을 높여줌으로써 반사방지 필름의 반사율을 더 낮출 수 있다. 제1층의 굴절률은 제2층 대비 높다. 구체적으로, 제1층의 굴절률은 1.50 이상 예를 들면 1.51 내지 1.57가 될 수 있다. 상기 범위에서, 제2층과 함께 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다.In another embodiment, the first layer may be a high refractive index layer formed of the composition including the non-fluorine-based curable compound, the high refractive index curable compound, and the initiator on the surface energy modifier. The high refractive index curable compound has a higher refractive index than the non-fluorine curable compound. Therefore, by increasing the refractive index of the first layer it is possible to further lower the reflectance of the antireflection film. The refractive index of the first layer is higher than that of the second layer. Specifically, the refractive index of the first layer may be 1.50 or more, for example 1.51 to 1.57. In the above range, it is possible to lower the reflectance of the antireflection film together with the second layer.
상기 고굴절률 경화성 화합물은 굴절률이 1.65 이상 예를 들면 1.70 내지 1.75이 될 수 있다. 상기 범위에서, 제1층의 굴절률을 높이는 효과가 있을 수 있다. 구체적으로, 고굴절률 경화성 화합물은 플루오렌계 경화성 화합물, 바이페닐계 경화성 화합물, 비스페놀계 경화성 화합물, 티오페닐계 경화성 화합물, 티오벤질계 경화성 화합물, 페닐설파이드계 경화성 화합물, 티오나프탈렌계 경화성 화합물 중 하나 이상을 포함할 수 있다.The high refractive index curable compound may have a refractive index of 1.65 or more, for example, 1.70 to 1.75. In the above range, there may be an effect of increasing the refractive index of the first layer. Specifically, the high refractive index curable compound is one of a fluorene curable compound, a biphenyl curable compound, a bisphenol curable compound, a thiophenyl curable compound, a thiobenzyl curable compound, a phenyl sulfide curable compound, a thionaphthalene curable compound It may contain the above.
일 구체예에서, 고굴절률 경화성 화합물은 하기 화학식 1의 화합물과 하기 화학식 2의 화합물을 포함할 수 있다.In one embodiment, the high refractive index curable compound may include a compound of Formula 1 and a compound of Formula 2.
하기 화학식 1의 화합물은 굴절률이 1.6 이상 구체적으로 1.615 내지 1.635 더 구체적으로 1.62 내지 1.63가 될 수 있다. 상기 범위에서, 경화 생성물의 굴절률을 높여 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다:The compound of Formula 1 may have a refractive index of 1.6 or more, specifically 1.615 to 1.635, and more specifically 1.62 to 1.63. Within this range, the refractive index of the cured product can be increased to lower the reflectance of the antireflective film:
<화학식 1><Formula 1>
(상기 화학식 1에서, m, n은 각각 1 이상의 정수, m+n은 2 내지 8의 정수이고, R은 수소 또는 메틸기이다). 바람직하게는, m+n은 4가 될 수 있다. (In Chemical Formula 1, m and n are each an integer of 1 or more, m + n is an integer of 2 to 8, and R is hydrogen or a methyl group). Preferably, m + n may be four.
하기 화학식 2의 화합물은 굴절률이 1.55 이상 구체적으로 1.56 내지 1.59 더 구체적으로 1.57 내지 1.58이 될 수 있다. 상기 범위에서, 경화 생성물의 굴절률을 높여 반사방지 필름의 반사율을 낮출 수 있다:The compound of Formula 2 may have a refractive index of 1.55 or more specifically 1.56 to 1.59 and more specifically 1.57 to 1.58. Within this range, the refractive index of the cured product can be increased to lower the reflectance of the antireflective film:
<화학식 2><Formula 2>
(상기 화학식 2에서, n은 1 내지 4의 정수, R은 수소 또는 메틸기이다).(In Formula 2, n is an integer of 1 to 4, R is hydrogen or a methyl group).
상기 화학식 1, 화학식 2의 화합물은 통상의 방법으로 합성하거나, 상업적으로 판매되는 상품을 이용할 수 있다.The compounds of Formula 1 and Formula 2 may be synthesized by a conventional method, or may use a commercially available product.
표면 에너지 조절제는 상기 비 불소계 경화성 화합물, 상기 고굴절률 경화성 화합물, 상기 개시제 및 용매의 총합 100중량부에 대해 0.001중량부 이상 0.3중량부 미만으로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 제1층의 표면에너지를 확보할 수 있다.The surface energy modifier may be included in an amount of 0.001 parts by weight or more and less than 0.3 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the non-fluorine-based curable compound, the high refractive index curable compound, the initiator, and the solvent. Within this range, the surface energy of the first layer can be secured.
상기 비 불소계 경화성 화합물, 상기 고굴절률 경화성 화합물 및 상기 개시제의 총합 100중량부 중 상기 비 불소계 경화성 화합물은 40중량부 내지 70중량부, 상기 고굴절률 경화성 화합물 25중량부 내지 59중량부, 상기 개시제는 1중량부 내지 5중량부로 포함될 수 있다. 상기 비 불소계 경화성 화합물이 비 우레탄계 다관능 (메트)아크릴레이트와 다관능 우레탄 (메트)아크릴레이트 혼합물을 포함하는 경우, 비 우레탄계 다관능 (메트)아크릴레이트, 다관능 우레탄 (메트)아크릴레이트 혼합물, 고굴절률 경화성 화합물 및 개시제의 총합 100중량부 중 비 우레탄계 다관능 (메트)아크릴레이트 20중량부 내지 40중량부, 다관능 우레탄 (메트)아크릴레이트 60중량부 내지 80중량부, 고굴절률 경화성 화합물 25중량부 내지 59중량부 및 개시제 1중량부 내지 5중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 높은 굴절률과 우수한 경도 효과가 있을 수 있다.The total amount of the non-fluorine-based curable compound, the high refractive index curable compound and the initiator is 40 parts by weight to 70 parts by weight, 25 parts by weight to 59 parts by weight of the high refractive index curable compound, the initiator It may be included in 1 part by weight to 5 parts by weight. In the case where the non-fluorine-based curable compound includes a non-urethane-based polyfunctional (meth) acrylate and a polyfunctional urethane (meth) acrylate mixture, a non-urethane-based polyfunctional (meth) acrylate, a polyfunctional urethane (meth) acrylate mixture, 20 to 40 parts by weight of the non-urethane polyfunctional (meth) acrylate, 60 to 80 parts by weight of the polyfunctional urethane (meth) acrylate, 100 parts by weight of the high refractive index curable compound and the initiator, 25 It may be included in parts by weight to 59 parts by weight and 1 part by weight to 5 parts by weight of the initiator. In the above range, there can be a high refractive index and excellent hardness effect.
상기 조성물도 상술한 대전방지제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.The composition may further include additives such as the antistatic agent described above.
또 다른 구체예에서, 제1층은 상기 표면 에너지 조절제에, 상기 비 불소계 경화성 화합물, 상기 고굴절률 경화성 화합물, 상기 개시제 및 지르코니아를 포함하는 조성물로 형성된 고굴절층일 수 있다. 상기 지르코니아는 제1층에 굴절률 증가 및 코팅 막의 경도 증가 기능을 부가할 수 있다. 지르코니아는 표면 처리되지 않은 것일 수도 있으나 표면 처리(예:(메트)아크릴레이트기)됨으로써 조성물 중 다른 성분과의 상용성을 좋게 하고 고굴절층의 경도를 더 높일 수 있다. 표면 처리는 지르코니아의 전체 표면적 중 5% 내지 50%가 될 수 있다. 상기 범위에서경화성 화합물, 고굴절률 경화성 화합물과 결합을 통해 경도 증가 효과가 있을 수 있다. 지르코니아는 평균 입경(D50)이 1nm 내지 50nm, 구체적으로 5nm 내지 20nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지필름의 광 특성 저하가 없으면서 경도 증가 효과가 있을 수 있다. 지르코니아 대신에 알루미나(Al2O3) 입자를 포함할 수도 있다.In another embodiment, the first layer may be a high refractive layer formed of a composition including the non-fluorine-based curable compound, the high refractive index curable compound, the initiator, and zirconia in the surface energy modifier. The zirconia may add a refractive index increase and a hardness increase of the coating film to the first layer. The zirconia may be untreated but may be surface treated (eg, a (meth) acrylate group) to improve compatibility with other components in the composition and further increase the hardness of the high refractive layer. Surface treatment may be from 5% to 50% of the total surface area of zirconia. In the above range may be the effect of increasing the hardness through bonding with the curable compound, high refractive index curable compound. Zirconia may have an average particle diameter (D50) of 1 nm to 50 nm, specifically 5 nm to 20 nm. In the above range, there may be a hardness increase effect without deterioration of the optical properties of the antireflection film. Instead of zirconia may comprise alumina (Al 2 O 3 ) particles.
상기 표면 에너지 조절제는 상기 비 불소계 경화성 화합물, 상기 고굴절률 경화성 화합물, 상기 개시제, 상기 지르코니아 및 용매의 총합 100중량부에 대해 0.001중량부 이상 0.3중량부 미만으로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 제1층의 표면에너지를 확보할 수 있다.The surface energy modifier may be included in an amount of 0.001 parts by weight or more and less than 0.3 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the non-fluorine-based curable compound, the high refractive index curable compound, the initiator, the zirconia and the solvent. Within this range, the surface energy of the first layer can be secured.
상기 비 불소계 경화성 화합물, 상기 고굴절률 경화성 화합물, 상기 개시제 및 상기 지르코니아의 총합 100중량부 중 상기 비 불소계 경화성 화합물은 50중량부 내지 70중량부, 상기 고굴절률 경화성 화합물 0중량부 내지 45중량부, 상기 개시제는 1중량부 내지 5중량부, 상기 지르코니아 5중량부 내지 25중량부 포함될 수 있다. 상기 비 불소계 경화성 화합물이 비 우레탄계 다관능 (메트)아크릴레이트와 다관능 우레탄 (메트)아크릴레이트 혼합물을 포함하는 경우, 비 우레탄계 다관능 (메트)아크릴레이트, 다관능 우레탄 (메트)아크릴레이트 혼합물, 고굴절률 경화성 화합물 및 개시제의 총합 100중량부 중 비 우레탄계 다관능 (메트)아크릴레이트 20중량부 내지 40중량부, 다관능 우레탄 (메트)아크릴레이트 60중량부 내지 80중량부, 고굴절률 경화성 화합물 0중량부 내지 45중량부, 개시제 1중량부 내지 5중량부, 상기 지르코니아 5중량부 내지 25중량부 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 굴절률 상승 및 UV 빛에 대한 신뢰성 향상 효과가 있을 수 있다.50 parts by weight to 70 parts by weight of the non-fluorine curable compound, 100 parts by weight of the high refractive index curable compound, the initiator and the zirconia, and 0 parts by weight to 45 parts by weight of the high refractive index curable compound, The initiator may include 1 part by weight to 5 parts by weight, and 5 parts by weight to 25 parts by weight of the zirconia. When the non-fluorine-based curable compound includes a non-urethane-based polyfunctional (meth) acrylate and a polyfunctional urethane (meth) acrylate mixture, a non-urethane-based polyfunctional (meth) acrylate, a polyfunctional urethane (meth) acrylate mixture, 20 to 40 parts by weight of the non-urethane polyfunctional (meth) acrylate, 60 to 80 parts by weight of the polyfunctional urethane (meth) acrylate, 100 parts by weight of the high refractive index curable compound and the initiator, high refractive index curable compound 0 5 parts by weight to 45 parts by weight, 1 part by weight to 5 parts by weight of initiator, 5 parts by weight to 25 parts by weight of the zirconia may be included. In the above range, there may be an effect of increasing the refractive index and improving the reliability for UV light.
상기 조성물도 상술한 대전방지제 등의 첨가제를 더 포함할 수 있다.The composition may further include additives such as the antistatic agent described above.
제1층은 상기 제1층용 조성물로 형성된 단일층일 수 있다. The first layer may be a single layer formed of the first layer composition.
또는 제1층은 다중층일 수도 있고 상기 다중층은 제2층에 직접적으로 형성되는 층으로서 최상층은 25℃에서 표면에너지가 20dyne/cm 내지 23dyne/cm가 될 수 있다. 상기 최상층은 상기 제1층용 조성물로 형성될 수 있다. 일 구체예에서, 제1층은 상기 최상층 및 상기 하드코팅층이 순차적으로 형성된 2층일 수 있다. 다른 구체예에서, 제1층은 상기 최상층 및 통상의 하드코팅층이 순차적으로 형성된 2층일 수 있다.Alternatively, the first layer may be a multilayer, and the multilayer may be formed directly on the second layer, and the uppermost layer may have a surface energy of 20 dyne / cm to 23 dyne / cm at 25 ° C. The uppermost layer may be formed of the composition for the first layer. In one embodiment, the first layer may be two layers in which the uppermost layer and the hard coating layer are sequentially formed. In another embodiment, the first layer may be two layers in which the uppermost layer and the normal hard coating layer are sequentially formed.
제1층은 두께가 20㎛ 이하, 예를 들면 5㎛ 내지 15㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 반사방지 필름에 사용될 수 있다.The first layer may have a thickness of 20 μm or less, for example 5 μm to 15 μm. In the above range, it can be used for the antireflection film.
기재층Substrate layer
기재층은 반사방지 필름을 지지하고 반사방지 필름의 기계적 강도를 높일 수 있다.The base layer may support the antireflection film and increase the mechanical strength of the antireflection film.
기재층은 광학적으로 투명한 수지로 형성된 필름을 포함할 수 있다. 구체적으로, 수지는 트리아세틸셀룰로스 등을 포함하는 셀룰로스 에스테르 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌나프탈레이트 등을 포함하는 폴리에스테르 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리메틸메타아크릴레이트 등을 포함하는 폴리(메트)아크릴레이트 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지 중 하나 이상을 포함할 수 있다. The base layer may include a film formed of an optically transparent resin. Specifically, the resin may be a cellulose ester resin including triacetyl cellulose, a polyethylene terephthalate, a polyethylene naphthalate, a polybutylene terephthalate, a polyester resin including a polybutylene naphthalate, and the like, a polycarbonate resin, a polymethylmethacryl And one or more of poly (meth) acrylate resins, polystyrene resins, polyamide resins, polyimide resins, including rates and the like.
기재층은 굴절률이 1.40 내지 1.80, 예를 들면 1.45 내지 1.70이 될 수 있다. 상기 범위에서, 제1층과 제2층이 순차적으로 적층될 경우 반사율을 낮출 수 있다.The base layer may have a refractive index of 1.40 to 1.80, for example, 1.45 to 1.70. In the above range, when the first layer and the second layer are sequentially stacked, the reflectance can be lowered.
기재층은 두께가 10㎛ 내지 150㎛, 구체적으로 30㎛ 내지 100㎛, 더 구체적으로 40㎛ 내지 90㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서 반사방지 필름에 사용될 수 있다.The base layer may have a thickness of 10 μm to 150 μm, specifically 30 μm to 100 μm, and more specifically 40 μm to 90 μm. It can be used in the antireflection film in the above range.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학부재를 설명한다.Hereinafter, an optical member according to an embodiment of the present invention will be described.
광학부재는 본 발명의 반사방지 필름을 포함할 수 있다. 광학부재는 편광자, 편광판, 위상차필름, 보호필름, 도전성 필름, 윈도우 필름, 패널 등을 포함할 수 있다. 예를 들면, 편광판은 편광자, 상기 편광자의 적어도 일면에 형성된 반사방지 필름을 포함하고, 상기 반사방지 필름은 본 실시예에 따른 반사방지 필름을 포함할 수 있다. 상기 편광판은 반사방지 필름 이외에 통상의 광학보상 필름, 보호 필름 등을 더 포함할 수 있다. The optical member may include the antireflective film of the present invention. The optical member may include a polarizer, a polarizing plate, a retardation film, a protective film, a conductive film, a window film, a panel, and the like. For example, the polarizing plate may include a polarizer, an antireflection film formed on at least one surface of the polarizer, and the antireflection film may include an antireflection film according to the present embodiment. The polarizing plate may further include a conventional optical compensation film, a protective film, etc. in addition to the antireflection film.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 광학표시장치를 설명한다. Hereinafter, an optical display device according to an embodiment of the present invention will be described.
본 실시예에 다른 광학표시장치는 본 실시예에 따른 반사방지 필름 또는 편광판을 포함할 수 있다. 상기 광학표시장치는 액정표시장치, 유기발광표시장치 등을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.The optical display device according to the present embodiment may include an antireflection film or a polarizing plate according to the present embodiment. The optical display device may include a liquid crystal display device, an organic light emitting display device, and the like, but is not limited thereto.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.Hereinafter, the configuration and operation of the present invention through the preferred embodiment of the present invention will be described in more detail. However, this is presented as a preferred example of the present invention and in no sense can be construed as limiting the present invention.
실시예Example 1 One
제1층용For first floor 조성물 제조 Composition preparation
경화성 화합물 UP111(Entis사, 다관능 우레탄 아크릴레이트) 25중량%, 경화성 화합물 HDDA(Entis사, 헥산디올디아크릴레이트) 10중량%, 개시제 Irgacure 184(Ciba specialty chemical) 5중량%, 메틸이소부틸케톤 60중량%를 혼합하였다. 하기 표 1과 같이, 상기 얻은 용액 100중량부에 대하여 표면에너지 조절제 UV 3500(BYK chem사) 0.005중량부를 첨가하여 제1층용 조성물을 제조하였다. 제1층용 조성물 중 표면에너지 조절제는 고형분 기준으로 0.0125중량%로 포함되었다.25 weight% of curable compound UP111 (Entis, polyfunctional urethane acrylate), 10 weight% of curable compound HDDA (Entis, hexanediol diacrylate), 5 weight% of initiator Irgacure 184 (Ciba specialty chemical), methyl isobutyl ketone 60% by weight was mixed. As shown in Table 1, 0.005 parts by weight of the surface energy regulator UV 3500 (BYK chem) was added to 100 parts by weight of the solution to prepare a composition for the first layer. The surface energy modifier in the first layer composition was included as 0.0125% by weight based on solids.
제2층용For the second floor 조성물 제조 Composition preparation
중공 실리카 함유 졸인 THRULYA 5320(JGC Catalyst and chemicals LTD) 1중량%, 불소계 경화성 화합물인 AR-110(DAIKIN) 0.6중량%, 비 불소계 경화성 화합물인 PETA(Entis사) 0.36중량%, 개시제 Irgacure 127(Ciba specialty chemical) 0.04중량%, 및 용매 메틸이소부틸케톤 98중량%를 혼합하여 제2층용 조성물을 제조하였다.1% by weight of THRULYA 5320 (JGC Catalyst and chemicals LTD), a hollow silica-containing sol, 0.6% by weight of AR-110 (DAIKIN), a fluorine-based curable compound, 0.36% by weight of PETA (Entis), a non-fluorine-based curable compound, initiator Irgacure 127 (Ciba specialty chemical) 0.04% by weight and 98% by weight of solvent methyl isobutyl ketone were mixed to prepare a composition for a second layer.
반사방지 필름 제조Anti-reflective film manufacturing
기재층으로 TAC 필름(Fujifilm, TG60UL, 두께:60㎛)에 상기 제조한 제1층용 조성물을 와이어 바 코터 #14로 도포하고 80℃에서 2분 동안 건조시킨 다음 질소 분위기에서 300mJ/cm2의 광량으로 경화시켜 제1층(두께:10㎛)을 형성하였다. 제1층에 대해 25℃에서 접촉각 측정기 Phoenix 2000으로 접촉각을 측정하였고 이를 사용해서 환산하여 표면 에너지를 얻었다. 제1층의 표면 에너지는 하기 표 1에 나타내었다. 제1층에 상기 제조한 제2층용 조성물을 와이어 바 코터 #14로 도포하고 80℃에서 1분 동안 건조시킨 후 질소 분위기에서 300mJ/cm2의 광량으로 경화시켜 제2층(두께:100nm)을 형성하여 기재층, 제1층, 제2층이 순차적으로 적층된 3층 구조의 반사방지 필름을 제조하였다. The first layer composition prepared above was applied to a TAC film (Fujifilm, TG60UL, thickness: 60 μm) as a base layer using a wire bar coater # 14, dried at 80 ° C. for 2 minutes, and then light quantity of 300 mJ / cm 2 in a nitrogen atmosphere. It hardened | cured and formed the 1st layer (thickness: 10micrometer). The contact angle was measured with a contact angle meter Phoenix 2000 at 25 ° C. for the first layer and converted into surfaces to obtain surface energy. The surface energy of the first layer is shown in Table 1 below. The second layer composition prepared above was applied to the first layer using a wire bar coater # 14, dried at 80 ° C. for 1 minute, and cured at a light amount of 300 mJ / cm 2 in a nitrogen atmosphere to prepare a second layer (thickness: 100 nm). The antireflection film having a three-layer structure in which the base layer, the first layer, and the second layer were sequentially formed was prepared by forming.
실시예Example 2 2
제1층용For first floor 조성물 제조 Composition preparation
경화성 화합물 UP111(Entis사, 다관능 우레탄 아크릴레이트) 25중량%, 경화성 화합물 HDDA(Entis사, 헥산디올디아크릴레이트) 10중량%, 개시제 Irgacure 184(Ciba specialty chemical) 5중량%, 메틸이소부틸케톤 60중량%를 혼합하였다. 얻은 용액 100중량부에 대하여 표면에너지 조절제 UV 3500(BYK chem사) 0.001중량부를 첨가하여 제1층용 조성물을 제조하였다. 제1층용 조성물 중 표면에너지 조절제는 고형분 기준으로 0.0025중량%로 포함되었다. 제조한 제1층용 조성물을 사용하여 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하였다.25 weight% of curable compound UP111 (Entis, polyfunctional urethane acrylate), 10 weight% of curable compound HDDA (Entis, hexanediol diacrylate), 5 weight% of initiator Irgacure 184 (Ciba specialty chemical), methyl isobutyl ketone 60% by weight was mixed. 0.001 parts by weight of a surface energy modifier UV 3500 (BYK chem) was added to 100 parts by weight of the resulting solution to prepare a composition for a first layer. The surface energy modifier in the composition for the first layer was included at 0.0025% by weight based on solids. An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 using the prepared first layer composition.
실시예Example 3 3
제2층용For the second floor 조성물 제조 Composition preparation
중공 실리카 함유 졸인 THRULYA 5320(JGC Catalyst and chemicals LTD) 1중량%, 불소계 경화성 화합물인 AR-110(DAIKIN) 0.6중량%, 비 불소계 경화성 화합물인 PETA(Entis사) 0.36중량%, 개시제 Irgacure 127(Ciba specialty chemical) 0.04중량%, 및 용매 메틸이소부틸케톤 98중량%를 혼합하였다. 얻은 혼합액 100중량부에 대해 구형(비 중공) 실리카 함유 졸인 SST250U(Ranco사) 0.0002중량부를 첨가하여 제2층용 조성물을 제조하였다. 상기 제조한 제2층용 조성물을 사용하여 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하였다.1% by weight of THRULYA 5320 (JGC Catalyst and chemicals LTD), a hollow silica-containing sol, 0.6% by weight of AR-110 (DAIKIN), a fluorine-based curable compound, 0.36% by weight of PETA (Entis), a non-fluorine-based curable compound, initiator Irgacure 127 (Ciba specialty chemical) 0.04% by weight, and 98% by weight of solvent methyl isobutyl ketone. 0.0002 parts by weight of SST250U (Ranco), a spherical (non-hollow) silica-containing sol, was added to 100 parts by weight of the obtained liquid mixture to prepare a composition for a second layer. An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 using the prepared second layer composition.
비교예Comparative example 1 One
실시예 1에서, 표면에너지 조절제 UV 3500(BYK chem사) 0.001중량부를 첨가하지 않고 제1층용 조성물을 제조하였다. 제조한 제1층용 조성물을 사용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하였다.In Example 1, the composition for a first layer was prepared without adding 0.001 parts by weight of a surface energy modifier UV 3500 (BYK chem). An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 using the prepared first layer composition.
비교예Comparative example 2 2
실시예 1에서, 표면에너지 조절제 UV 3500(BYK chem사) 0.005중량부 대신에, 표면에너지 조절제 UV 3500(BYK chem사) 0.0001중량부를 첨가한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 제1층용 조성물을 제조하였다. 제조한 제1층용 조성물을 사용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하였다.In Example 1, the composition for the first layer was prepared in the same manner except that 0.0001 parts by weight of the surface energy modifier UV 3500 (BYK chem) was added instead of 0.005 parts by weight of the surface energy modifier UV 3500 (BYK chem). . An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 using the prepared first layer composition.
비교예Comparative example 3 3
실시예 1에서, 표면에너지 조절제 UV 3500(BYK chem사) 0.005중량부 대신에, 표면에너지 조절제 UV 3500(BYK chem사) 0.3중량부를 첨가한 것을 제외하고는 동일한 방법으로 제1층용 조성물을 제조하였다. 제조한 제1층용 조성물을 사용하여 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하였다.In Example 1, the composition for the first layer was prepared in the same manner except that 0.35 part by weight of the surface energy modifier UV 3500 (BYK chem) was added instead of 0.005 part by weight of the surface energy modifier UV 3500 (BYK chem). . An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 using the prepared first layer composition.
실시예와 비교예의 제2층용 조성물, 반사방지 필름에 대하여 하기 물성을 평가하고 그 결과를 하기 표 1, 도 3에 나타내었다.The following physical properties were evaluated about the composition for 2nd layers of an Example and a comparative example, and an antireflection film, and the result is shown in following Table 1, FIG.
(1)제2층용 조성물의 젖음성: 제 1층 경화물에 제 2층용 조성물을 각 실시예와 비교예에 따라 코팅 및 건조 후 육안으로 평가한다. 전체 코팅면에서 젖음이 이루어지지 않은 곳의 면적 비율로 평가한다. 젖음이 이루어지지 않은 곳의 면적 비율이 10% 이하인 경우 ○, 10% 초과 30% 미만인 경우 △, 30% 이상인 경우 X로 평가한다.(1) Wetting property of the composition for the second layer: The composition for the second layer was evaluated visually after coating and drying the composition for the second layer on the cured product of the first layer. It is evaluated by the ratio of the area of the entire coating surface where no wetting occurs. ○ If the area ratio of the non-wetting is less than 10%, ○ is over 10% and less than 30%, △, if more than 30% is evaluated as X.
(2)제2층 중 에어 홀 발생 여부: 실시예와 비교예의 반사방지 필름에 대하여 SEM 측정하여 에어 홀 발생 여부를 평가한다. SEM 분석하여 25.0K 배율로 확인하였을 때, 에어 홀(에어 기둥)이 3개 이상인 경우 ○, 3개 미만 1개 이하인 경우 △, 에어 홀이 전혀 형성되지 않은 경우 X로 평가한다.(2) Whether or not air holes were generated in the second layer: SEM measurement was performed on the antireflection films of Examples and Comparative Examples to evaluate whether or not air holes were generated. When it is confirmed by 25.0K magnification by SEM analysis, it evaluates as (circle) when there are three or more air holes (air column), (triangle | delta) when less than three one or less, and X when no air hole is formed.
(3)반사율: 실시예와 비교예의 반사방지 필름 중 기재층 하부면에 블랙 아크릴 시트(Nitto Jushi Kogyo, CLAREX)를 라미네이트하여 제조된 시편에 대하여 분광광도계(Spectrophotometer, Konica Minolta, CM-3600A)로 SCI 반사 모드(광원: D65 광원, 광원 구경:φ8mm)에서 파장 360nm 내지 파장 740nm에서 측정된 반사율 중 Y값을 의미한다.(3) Reflectance: Spectrophotometer (Konica Minolta, CM-3600A) on a specimen prepared by laminating a black acrylic sheet (Nitto Jushi Kogyo, CLAREX) on the lower surface of the base layer of the antireflection films of Examples and Comparative Examples The Y value represents the reflectance measured at a wavelength of 360 nm to a wavelength of 740 nm in the SCI reflection mode (light source: D65 light source, light source aperture: φ 8 mm).
(4)연필경도: HEIDON 기기를 이용하여 측정하며, 0.5mm/sec의 속도, 500g의 무게추, 1H, 2H 등의 해당 경도를 갖는 미쯔비시 연필을 이용하여 측정한다. 2H의 미쯔비시 연필을 이용하여 검사를 진행한 후 필름의 표면이 긁히지 않은 경우, 2H의 경도를 갖는다고 본다. 각 5회 측정한다. 반사방지 필름 중 제2층 표면에 대해 연필경도를 측정한다.(4) Pencil hardness: Measured using a HEIDON instrument, using a Mitsubishi pencil with a hardness of 0.5mm / sec, weight of 500g, corresponding hardness such as 1H, 2H, etc. If the surface of the film is not scratched after inspecting with a 2H Mitsubishi pencil, it is considered to have a hardness of 2H. Measure 5 times each. Pencil hardness is measured with respect to the surface of the second layer in the antireflective film.
(5)밀착력: 실시예와 비교예의 반사방지 필름 중 제2층의 표면을 가로 11줄 세로 11줄을 각 1cm안에 커터칼로 긁는다. 커터칼의 굵기는 0.6mm 이하의 것으로 한다. 총 1cm2의 면적에 100개의 사각형이 만들어지게 된다. 이 부분을 3M 801 스카치테이프로 완벽하게 부착시킨 후 뜯어낸 후, 총 100개의 박편 중 반사방지 필름에 남아있는 박편 개수를 얻는다. 남아있는 박편 개수가 많을수록 제1층과 제2층 간의 밀착력이 우수함을 의미한다.(5) Adhesion: In the antireflection films of Examples and Comparative Examples, 11 horizontal lines and 11 vertical lines were scraped with a cutter knife in 1 cm each. The thickness of the cutter knife should be 0.6 mm or less. 100 squares will be created in total area of 1cm 2 . This part is completely attached with 3M 801 scotch tape and then torn off to obtain the number of flakes remaining on the antireflective film out of a total of 100 flakes. The greater the number of flakes remaining, the better the adhesion between the first layer and the second layer.
(6)내스크래치성: HEIDON 14F기기, steel wool은 LIBERON사 0000 제품을 이용한다. 실시예와 비교예의 반사방지필름을 평평한 glass판 위에 평평하게 테이프를 이용해 저굴절률층이 위로 가도록 붙인다. 내스크래치 측정에서 무게추가 필름과 닿는 부위는 원 형태이며, 직경은 10±2mm가 되도록 한다. 속도는 4000mm/min, 이동거리는 50mm, 이동횟수는 10회로 한다. 무게추의 질량수를 증가시키면서 평가한다. 무게추 질량수가 클수록 내스크래치성이 큼을 의미한다.(6) Scratch resistance: For HEIDON 14F machine, steel wool uses LIBERON's 0000 product. The antireflection film of Example and Comparative Example is stuck on a flat glass plate so that the low refractive index layer faces upward using a tape. In the scratch resistance, the weight contact area with the film should be circular and the diameter should be 10 ± 2mm. The speed is 4000mm / min, the travel distance is 50mm and the number of movements is 10 times. Evaluate while increasing the weight of the weight. The greater the weight mass, the greater the scratch resistance.
(중량부)Surface energy regulator content used in the first layer
(Parts by weight)
(중량%)Surface energy regulator content in the first layer
(weight%)
(dyne/cm)Surface energy of the first layer
(dyne / cm)
(%)reflectivity
(%)
상기 표 1에서와 같이, 본 발명의 반사방지 필름은 에어 홀을 포함하는 제2층과 제1층 간의 밀착력이 우수하고 반사율이 현저하게 낮았다. 또한, 도 3에서와 같이, 본 발명의 반사방지 필름은 에어 홀(에어 기둥)이 잘 형성되었음을 확인할 수 있다. As shown in Table 1, the antireflection film of the present invention was excellent in the adhesion between the second layer and the first layer including the air hole and significantly low reflectance. In addition, as shown in Figure 3, the anti-reflection film of the present invention can be confirmed that the air hole (air pillar) is well formed.
반면에, 본원발명의 표면 에너지 범위를 벗어나는 비교예 1 내지 비교예 3은 밀착성은 실시예와 유사하지만 반사율이 현저하게 높았다. 특히, 비교예 2 내지 비교예 3은 본 발명의 표면 에너지를 벗어나는데 이 경우 에어 홀이 전혀 형성되지 않거나 약간 생겼는데 비하여 본 발명의 실시예는 에어 홀이 잘 형성됨으로써 반사율을 낮출 수 있었다.On the other hand, Comparative Examples 1 to 3, which deviate from the surface energy range of the present invention, are similar to those of Examples, but have a significantly high reflectance. Particularly, Comparative Examples 2 to 3 deviate from the surface energy of the present invention, in which case no air holes are formed or slightly formed, whereas the embodiment of the present invention can lower the reflectance by forming air holes well.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.Simple modifications and variations of the present invention can be easily made by those skilled in the art, and all such modifications or changes can be seen to be included in the scope of the present invention.
Claims (17)
상기 제2층은 에어 홀을 포함하고 상기 제1층에 직접적으로 형성되고,
상기 제1층은 25℃에서 표면에너지가 20dyne/cm 내지 23dyne/cm이고,
상기 반사방지 필름은 반사율이 0.3% 이하이고,
상기 제2층은 중공 입자를 포함하고, 상기 제2층은 상기 중공 입자를 40중량% 내지 60중량%로 포함하는 것인, 반사방지 필름.
The base layer, the first layer and the second layer is an antireflection film sequentially laminated,
The second layer includes an air hole and is directly formed in the first layer,
The first layer has a surface energy of 20 dyne / cm to 23 dyne / cm at 25 ℃,
The antireflection film has a reflectance of 0.3% or less,
The second layer comprises a hollow particle, the second layer is the anti-reflection film, which comprises 40% to 60% by weight of the hollow particles.
The antireflection film of claim 1, wherein the antireflection film has a pencil hardness of 2H or more measured at the second layer.
The antireflective film of claim 1, wherein the antireflective film has a surface roughness of 50 nm or less measured in the second layer.
The antireflective film of claim 1, wherein the air hole comprises an air pillar.
The antireflection film of claim 1, wherein the air hole is formed surrounded by the hollow particles.
The antireflective film of claim 1, wherein the hollow particles comprise hollow silica.
The antireflective film of claim 1, wherein the second layer further comprises non-hollow particles.
The antireflection film of claim 9, wherein the second layer comprises 1 wt% to 5 wt% of the non-hollow particles.
The antireflection film according to claim 1, wherein the first layer is formed of a composition containing a fluorine-based curable monomer.
The antireflection film of claim 1, wherein the second layer has a refractive index of 1.30 or less.
The antireflective film of claim 1, wherein the first layer comprises a silicon-based surface energy modifier.
The antireflection film of claim 1, wherein the refractive index of the first layer is higher than the refractive index of the second layer.
The antireflection film according to claim 1, wherein an average particle diameter of the air hole is larger than an average particle diameter of the hollow particles.
The polarizing plate containing the antireflection film of any one of Claims 1-4, 6, 8-15.
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