KR102069196B1

KR102069196B1 - Organic light emitting display apparatus

Info

Publication number: KR102069196B1
Application number: KR1020190036207A
Authority: KR
Inventors: 황성주; 윤정이; 홍상민
Original assignee: 삼성디스플레이 주식회사
Priority date: 2019-03-28
Filing date: 2019-03-28
Publication date: 2020-01-23
Anticipated expiration: 2031-02-01
Also published as: KR20190036518A

Abstract

전기적 특성을 향상하도록 본 발명은 기판, 상기 기판상에 형성되고 관통공을 구비하는 절연층, 상기 절연층 상에 형성되는 제1 전극, 상기 제1 전극 상에 형성되고 유기 발광층을 구비하는 중간층, 상기 중간층상에 형성되는 제2 전극 및 상기 관통공 내에 형성되고 상기 제1 전극과 접하는 고정 부재를 포함하는 유기 발광 표시 장치를 제공한다. The present invention provides a substrate, an insulating layer formed on the substrate and having a through hole, a first electrode formed on the insulating layer, an intermediate layer formed on the first electrode and provided with an organic light emitting layer, An organic light emitting display device includes a second electrode formed on the intermediate layer and a fixing member formed in the through hole and in contact with the first electrode.

Description

Organic light emitting display apparatus

본 발명은 유기 발광 표시 장치에 관한 것으로 더 상세하게는 전기적 특성을 향상하는 유기 발광 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an organic light emitting display device, and more particularly, to an organic light emitting display device for improving electrical characteristics.

근래에 표시 장치는 휴대가 가능한 박형의 평판 표시 장치로 대체되는 추세이다. 평판 표시 장치 중에서도 유기 발광 표시 장치는 자발광형 표시 장치로서 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가져서 차세대 디스플레이 장치로 주목받고 있다. In recent years, display devices have been replaced by thin flat display devices that are portable. Among the flat panel display devices, the organic light emitting display device is a self-luminous display device, and has attracted attention as a next generation display device because of its advantages of having a wide viewing angle, excellent contrast, and fast response speed.

유기 발광 표시 장치는 중간층, 제1 전극 및 제2 전극을 구비한다. 중간층은 유기 발광층을 구비하고, 제1 전극 및 제2 전극에 전압을 가하면 유기 발광층에서 가시광선을 발생하게 된다.The organic light emitting diode display includes an intermediate layer, a first electrode, and a second electrode. The intermediate layer includes an organic emission layer, and when a voltage is applied to the first electrode and the second electrode, visible light is generated in the organic emission layer.

이 때 제1 전극이 전체 영역에 걸쳐 균일하게 형성되지 않는다. 특히 제1 전극이 박막으로 형성되므로 하부의 부재들로부터 박리되기도 한다.At this time, the first electrode is not formed uniformly over the entire area. In particular, since the first electrode is formed of a thin film, the first electrode may be peeled off from the lower members.

결과적으로 안정적이고 효율적인 전기적 특성을 갖는 유기 발광 표시 장치를 구현하는데 한계가 있다.As a result, there is a limit to implementing an organic light emitting display device having stable and efficient electrical characteristics.

본 발명은 전기적 특성을 용이하게 향상하는 유기 발광 표시 장치를 제공할 수 있다.The present invention can provide an organic light emitting display device which can easily improve electrical characteristics.

본 발명은 기판, 상기 기판상에 형성되고 관통공을 구비하는 절연층, 상기 절연층 상에 형성되는 제1 전극, 상기 제1 전극 상에 형성되고 유기 발광층을 구비하는 중간층, 상기 중간층상에 형성되는 제2 전극 및 상기 관통공 내에 형성되고 상기 제1 전극과 접하는 고정 부재를 포함하는 유기 발광 표시 장치를 개시한다.The present invention provides a substrate, an insulating layer formed on the substrate and having through holes, a first electrode formed on the insulating layer, an intermediate layer formed on the first electrode and having an organic light emitting layer, and formed on the intermediate layer. An organic light emitting display device including a second electrode to be formed and a fixing member formed in the through hole and in contact with the first electrode are disclosed.

본 발명에 있어서 상기 고정 부재는 상기 제1 전극과 동일한 재료로 형성될 수 있다.In the present invention, the fixing member may be formed of the same material as the first electrode.

본 발명에 있어서 상기 관통공은 복수 개 형성되고, 상기 복수 개의 관통공에 상기 제1 전극과 접하도록 상기 고정 부재가 형성될 수 있다.In the present invention, a plurality of through holes may be formed, and the fixing member may be formed to contact the first electrode in the plurality of through holes.

본 발명에 있어서 상기 고정 부재는 상기 제1 전극의 가장 자리에 대응하는 영역 중 소정의 영역에 배치된 유기 발광 표시 장치.In the present invention, the fixing member is disposed in a predetermined region among regions corresponding to an edge of the first electrode.

본 발명에 있어서 상기 기판과 상기 절연층 사이에 적어도 상기 관통공에 대응하도록 형성되고 상기 고정 부재와 접하는 지지 부재를 더 포함할 수 있다.In the present invention, the substrate may further include a support member formed between the substrate and the insulating layer to correspond to at least the through hole and in contact with the fixing member.

본 발명에 있어서 상기 기판과 상기 절연층 사이에 형성되고 활성층, 상기 활성층과 절연되는 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 구비하는 박막 트랜지스터를 더 포함하고, 상기 절연층은 비아홀을 구비하고, 상기 드레인 전극과 상기 제1 전극은 상기 비아홀을 통하여 전기적으로 연결될 수 있다.The semiconductor device may further include a thin film transistor formed between the substrate and the insulating layer, the thin film transistor including an active layer, a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode insulated from the active layer, wherein the insulating layer includes a via hole, and the drain An electrode and the first electrode may be electrically connected through the via hole.

본 발명에 있어서 상기 비아홀과 상기 관통공은 서로 이격될 수 있다.In the present invention, the via hole and the through hole may be spaced apart from each other.

본 발명에 있어서 상기 고정 부재와 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극은 이격될 수 있다.In the present invention, the fixing member, the source electrode and the drain electrode may be spaced apart.

본 발명에 있어서 상기 기판과 상기 절연층 사이에 적어도 상기 관통공에 대응하도록 형성되고 상기 고정 부재와 접하는 지지 부재를 더 포함하고, 상기 지지 부재는 상기 소스 전극 또는 상기 드레인 전극과 동일한 재료로 형성될 수 있다.In the present invention, further comprising a support member formed between the substrate and the insulating layer corresponding to at least the through hole and in contact with the fixing member, wherein the support member is formed of the same material as the source electrode or the drain electrode. Can be.

본 발명에 있어서 상기 지지 부재는 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극과 이격될 수 있다.In the present invention, the support member may be spaced apart from the source electrode and the drain electrode.

본 발명에 있어서 상기 절연막 상에 배치되고 상기 제1 전극을 노출하도록 형성된 개구부를 구비하는 화소 정의막을 더 포함하고, 상기 중간층은 상기 개구부를 통하여 노출된 상기 제1 전극 상에 형성될 수 있다.The pixel defining layer may further include a pixel defining layer disposed on the insulating layer and having an opening formed to expose the first electrode, and the intermediate layer may be formed on the first electrode exposed through the opening.

본 발명에 있어서 상기 제1 전극은 상기 개구부의 측면과 이격될 수 있다.In the present invention, the first electrode may be spaced apart from the side surface of the opening.

본 발명에 관한 유기 발광 표시 장치는 전기적 특성을 용이하게 향상할 수 있다. The organic light emitting diode display according to the present invention can easily improve electrical characteristics.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 유기 발광 표시 장치를 도시한 개략적인 단면도이다.
도 2는 도 1의 A 방향에서 본 개략적인 평면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 관한 유기 발광 표시 장치를 도시한 개략적인 단면도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 유기 발광 표시 장치를 도시한 개략적인 단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 유기 발광 표시 장치를 도시한 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view illustrating an organic light emitting display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic plan view seen from the direction A of FIG. 1.
3 is a schematic cross-sectional view illustrating an organic light emitting display device according to another exemplary embodiment of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view illustrating an organic light emitting display device according to still another embodiment of the present invention.
5 is a schematic cross-sectional view illustrating an organic light emitting display device according to still another embodiment of the present invention.

이하 첨부된 도면들에 도시된 본 발명에 관한 실시예를 참조하여 본 발명의 구성 및 작용을 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the embodiments of the present invention shown in the accompanying drawings will be described in detail the configuration and operation of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 유기 발광 표시 장치(100)를 도시한 개략적인 단면도이고, 도 2는 도 1의 A 방향에서 본 개략적인 평면도이다. 설명의 편의를 위하여 도 2는 도 1의 유기 발광 표시 장치(100) 중 제1 전극(110) 및 고정 부재(111)만 도시하고 있다.1 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting diode display 100 according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic plan view seen from the direction A of FIG. 1. For convenience of description, FIG. 2 illustrates only the first electrode 110 and the fixing member 111 of the OLED display 100 of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면 유기 발광 표시 장치(100)는 기판(101), 절연층(109), 박막 트랜지스터(TFT), 고정 부재(111), 제1 전극(110), 중간층(113) 및 제2 전극(114)을 포함한다. 1 and 2, the organic light emitting diode display 100 may include a substrate 101, an insulating layer 109, a thin film transistor TFT, a fixing member 111, a first electrode 110, and an intermediate layer 113. And a second electrode 114.

박막 트랜지스터(TFT)는 활성층(103), 게이트 전극(105), 소스 전극(107) 및 드레인 전극(108)을 구비한다. The thin film transistor TFT includes an active layer 103, a gate electrode 105, a source electrode 107, and a drain electrode 108.

각 부재의 구성에 대하여 구체적으로 설명하기로 한다.The structure of each member is demonstrated concretely.

기판(101)은 SiO₂를 주성분으로 하는 투명한 유리 재질로 이루어질 수 있다. 기판(101)은 반드시 이에 한정되는 것은 아니며 투명한 플라스틱 재질로 형성할 수도 있다. 이 때 기판(101)을 형성하는 플라스틱 재질은 다양한 유기물들 중 선택된 하나 이상일 수 있다. 또한 기판(101)은 금속 박막으로 형성할 수도 있다.The substrate 101 may be made of a transparent glass material mainly containing SiO ₂ . The substrate 101 is not necessarily limited thereto, and may be formed of a transparent plastic material. In this case, the plastic material forming the substrate 101 may be at least one selected from various organic materials. In addition, the substrate 101 may be formed of a metal thin film.

기판(101)상에 버퍼층(102)이 형성된다. 버퍼층(102)은 SiO₂또는 SiN_x 를 함유할 수 있다. 버퍼층(102)은 기판(101)의 상부에 평탄한 면을 제공하고 기판(101)방향으로 수분 및 이물이 침투하는 것을 방지한다. The buffer layer 102 is formed on the substrate 101. Buffer layer 102 is SiO ₂ or SiN _x It may contain. The buffer layer 102 provides a flat surface on the top of the substrate 101 and prevents moisture and foreign matter from penetrating into the substrate 101.

버퍼층(102)상에 소정 패턴의 활성층(103)이 형성된다. 활성층(103)은 아모퍼스 실리콘 또는 폴리 실리콘과 같은 무기 반도체나 유기 반도체로 형성될 수 있고 소스 영역, 드레인 영역 및 채널 영역을 포함한다. 활성층(103)의 소스 영역 및 드레인 영역은 아모퍼스 실리콘 또는 폴리 실리콘으로 형성한 후에 3족 또는 5족 불순물을 도핑하여 형성할 수 있다.An active layer 103 of a predetermined pattern is formed on the buffer layer 102. The active layer 103 may be formed of an inorganic semiconductor or an organic semiconductor such as amorphous silicon or polysilicon and includes a source region, a drain region, and a channel region. The source region and the drain region of the active layer 103 may be formed of amorphous silicon or polysilicon and then doped with group 3 or group 5 impurities.

활성층(103)의 상부에는 게이트 절연막(104)이 형성되고, 게이트 절연막(104)상부의 소정 영역에는 게이트 전극(105)이 형성된다. 게이트 절연막(104)은 활성층(103)과 게이트 전극(105)을 절연하기 위한 것으로 유기물 또는 SiNx, SiO₂같은 무기물로 형성할 수 있다. A gate insulating film 104 is formed on the active layer 103, and a gate electrode 105 is formed on a predetermined region on the gate insulating film 104. The gate insulating layer 104 may insulate the active layer 103 from the gate electrode 105, and may be formed of an organic material or an inorganic material such as SiNx or SiO ₂ .

게이트 전극(105)은 Au, Ag, Cu, Ni, Pt, Pd, Al, Mo, 또는 Al:Nd, Mo:W 합금 등과 같은 금속 또는 금속의 합금으로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않고 밀착성, 평탄성, 전기 저항 및 가공성 등을 고려하여 다양한 재료를 사용할 수 있다. The gate electrode 105 may be made of a metal or an alloy of a metal such as Au, Ag, Cu, Ni, Pt, Pd, Al, Mo, or Al: Nd, Mo: W alloy, and the like, but is not limited thereto. Various materials can be used in consideration of electrical resistance and workability.

게이트 전극(105)의 상부로는 층간 절연막(106)이 형성된다. 층간 절연막(106) 및 게이트 절연막(104)은 활성층(103)의 소스 영역 및 드레인 영역을 노출하도록 형성되고 이러한 활성층(103)의 노출된 소스 영역 및 드레인 영역과 접하도록 소스 전극(107) 및 드레인 전극(108)이 형성된다. An interlayer insulating layer 106 is formed on the gate electrode 105. The interlayer insulating film 106 and the gate insulating film 104 are formed to expose the source region and the drain region of the active layer 103 and the source electrode 107 and the drain to contact the exposed source region and the drain region of the active layer 103. Electrode 108 is formed.

소스 전극(107) 및 드레인 전극(108)을 이루는 물질은 Au, Pd, Pt, Ni, Rh, Ru, Ir, Os 외에도, Al, Mo, Al:Nd 합금, MoW 합금 등과 같은 2 종 이상의 금속으로 이루어진 합금을 사용할 수 있으며 이에 한정되지는 않는다. The material forming the source electrode 107 and the drain electrode 108 may be formed of two or more metals such as Al, Mo, Al: Nd alloy, MoW alloy, etc., in addition to Au, Pd, Pt, Ni, Rh, Ru, Ir, and Os. Alloys made may be used, but are not limited thereto.

박막 트랜지스터(TFT)상부에 절연층(109)이 형성된다. 구체적으로 소스 전극(107) 및 드레인 전극(108)을 덮도록 절연층(109)이 형성된다. 절연층(109)은 박막 트랜지스터(TFT)를 보호하는 패시베이션층일 수 있고, 박막 트랜지스터(TFT)상부를 평탄하게 하는 평탄화층일 수 있다. An insulating layer 109 is formed on the thin film transistor TFT. Specifically, the insulating layer 109 is formed to cover the source electrode 107 and the drain electrode 108. The insulating layer 109 may be a passivation layer that protects the thin film transistor TFT and may be a planarization layer that flattens the thin film transistor TFT.

절연층(109)은 다양한 종류의 절연물을 이용하여 형성할 수 있다. 구체적인 예로서 절연층(109)은 유기 절연물 또는 무기 절연물을 이용하여 형성할 수 있고, 유기 절연물과 무기 절연물의 복합 형태로 형성할 수도 있다. The insulating layer 109 may be formed using various kinds of insulators. As a specific example, the insulating layer 109 may be formed using an organic insulator or an inorganic insulator, or may be formed in a complex form of an organic insulator and an inorganic insulator.

절연층(109)은 드레인 전극(108)을 노출하도록 형성된 비아홀(109b)을 구비하고, 비아홀(109b)을 통하여 노출된 드레인 전극(108)과 연결되도록 제1 전극(110)이 형성된다.The insulating layer 109 includes a via hole 109b formed to expose the drain electrode 108, and the first electrode 110 is formed to be connected to the exposed drain electrode 108 through the via hole 109b.

한편 절연층(109)은 관통공(109a)을 구비하고, 관통공(109a)내에는 고정 부재(111)가 배치된다. 고정 부재(111)는 제1 전극(110)과 접하도록 형성된다. 고정 부재(111)는 하나 이상 형성되는데 복수 개로 형성되는 것이 바람직하다.On the other hand, the insulating layer 109 has a through hole 109a, and a fixing member 111 is disposed in the through hole 109a. The fixing member 111 is formed to contact the first electrode 110. At least one fixing member 111 may be formed, but a plurality of fixing members 111 may be formed.

또한 관통공(109a)은 비아홀(109b)과 이격되고, 이를 통하여 고정 부재(111)는 소스 전극(107) 및 드레인 전극(108)과 이격된다.In addition, the through hole 109a is spaced apart from the via hole 109b, through which the fixing member 111 is spaced apart from the source electrode 107 and the drain electrode 108.

고정 부재(111)는 제1 전극(110)이 절연층(109)에 고정되도록 한다. 즉 고정 부재(111)는 제1 전극(110)이 절연층(109)으로부터 박리되는 것을 방지한다. 특히 고정 부재(111)는 소정의 깊이를 갖는 관통공(109a)내에 배치되므로 고정 부재(111)는 관통공(109a)내에서 견고하게 절연층(109)과 결합하게 되고 이를 통하여 효과적으로 제1 전극(110)의 박리를 방지한다.The fixing member 111 allows the first electrode 110 to be fixed to the insulating layer 109. That is, the fixing member 111 prevents the first electrode 110 from being peeled from the insulating layer 109. In particular, since the fixing member 111 is disposed in the through hole 109a having a predetermined depth, the fixing member 111 is firmly combined with the insulating layer 109 in the through hole 109a, thereby effectively providing the first electrode. Peeling of 110 is prevented.

한편 제1 전극(110)과 절연층(109)간의 박리는 제1 전극(110)의 가장 자리에서 잘 일어나는데, 도 2에 도시한 것과 같이 제1 전극(110)의 가장 자리에 대응하도록 고정 부재(111)를 형성하여 제1 전극(110)의 가장 자리가 절연층(109)으로부터 박리되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다.On the other hand, peeling between the first electrode 110 and the insulating layer 109 occurs well at the edge of the first electrode 110, as shown in Figure 2 fixing member to correspond to the edge of the first electrode 110 By forming the 111, the edge of the first electrode 110 may be effectively prevented from being peeled from the insulating layer 109.

또한 고정 부재(111)와 제1 전극(110)이 접하는 면적이 늘어날수록 제1 전극(110)의 박리 방지 효과가 증대된다. 그러나 고정 부재(111)가 측면 방향으로 커지면 소스 전극(107) 또는 드레인 전극(108)과 접할 수 있으므로 소스 전극(107) 및 드레인 전극(108)과 이격되도록 적절한 크기로 형성한다.In addition, as the area between the fixing member 111 and the first electrode 110 increases, the peeling preventing effect of the first electrode 110 increases. However, when the fixing member 111 is enlarged in the lateral direction, the fixing member 111 may be in contact with the source electrode 107 or the drain electrode 108, so that the fixing member 111 may be formed in an appropriate size to be spaced apart from the source electrode 107 and the drain electrode 108.

도 2에는 제1 전극(110)의 두 개의 마주보는 가장 자리에만 고정 부재(111)가 형성된 것이 도시되어 있으나 본 발명은 이에 한정되지 않고 제1 전극(110)의 네 개의 가장 자리에 대응하도록 고정 부재(111)가 형성될 수 있음은 물론이다.2 illustrates that the fixing member 111 is formed only at two opposite edges of the first electrode 110, but the present invention is not limited thereto and fixed to correspond to four edges of the first electrode 110. Of course, the member 111 may be formed.

고정 부재(111)는 제1 전극(110)과 동일한 재질로 형성하는 것이 바람직하다. 동일한 재질로 고정 부재(111)와 제1 전극(110)을 형성하면 고정 부재(111)와 제1 전극(110)간 결합력이 향상되어 제1 전극(110)의 박리 방지 효과가 증대된다. 또한 별도의 마스크 없이 제1 전극(110)과 고정 부재(111)를 동시에 형성하는 것이 가능해진다. The fixing member 111 may be formed of the same material as the first electrode 110. When the fixing member 111 and the first electrode 110 are formed of the same material, the bonding force between the fixing member 111 and the first electrode 110 is improved, and the peeling preventing effect of the first electrode 110 is increased. In addition, it is possible to simultaneously form the first electrode 110 and the fixing member 111 without a separate mask.

제1 전극(110)상에 절연물로 화소 정의막(112)을 형성한다. 화소 정의막(112)은 제1 전극(110)의 소정의 영역을 노출하도록 개구부(112a)를 포함한다. 노출된 제1 전극(110)상에 중간층(113)을 형성한다. 그리고, 중간층(113)과 연결되도록 제2 전극(114)을 형성한다. The pixel defining layer 112 is formed of an insulator on the first electrode 110. The pixel defining layer 112 includes an opening 112a to expose a predetermined region of the first electrode 110. The intermediate layer 113 is formed on the exposed first electrode 110. The second electrode 114 is formed to be connected to the intermediate layer 113.

중간층(113)은 유기 발광층을 구비하고 제1 전극(110)과 제2 전극(114)을 통하여 전압이 인가되면 유기 발광층에서 가시 광선을 발생한다. The intermediate layer 113 includes an organic emission layer and generates visible light in the organic emission layer when a voltage is applied through the first electrode 110 and the second electrode 114.

제2 전극(114) 상에 밀봉 부재(미도시)가 배치될 수 있다. 밀봉 부재(미도시)는 외부의 수분이나 산소 등으로부터 중간층(113) 및 기타층을 보호하기 위해 형성하는 것으로 밀봉 부재(미도시)는 투명한 재질로 형성된다. 이를 위해 글라스, 플라스틱 또는 유기물과 무기물의 복수의 중첩된 구조일 수도 있다. A sealing member (not shown) may be disposed on the second electrode 114. The sealing member (not shown) is formed to protect the intermediate layer 113 and other layers from external moisture or oxygen, and the sealing member (not shown) is formed of a transparent material. For this purpose, a plurality of overlapping structures of glass, plastic or organic material and inorganic material may be used.

본 실시예의 유기 발광 표시 장치(100)는 절연층(109)이 관통공(109a)을 구비하고, 관통공(109a)내에 제1 전극(110)과 접하도록 고정 부재(111)가 형성된다. 고정 부재(111)는 제1 전극(110)을 고정시킨다. 즉 고정 부재(111)는 제1 전극(110)이 절연층(109)으로부터 박리되지 않도록 한다.In the organic light emitting diode display 100 according to the present exemplary embodiment, the insulating layer 109 includes a through hole 109a and a fixing member 111 is formed in the through hole 109a to contact the first electrode 110. The fixing member 111 fixes the first electrode 110. That is, the fixing member 111 prevents the first electrode 110 from being peeled from the insulating layer 109.

특히 고정 부재(111)를 제1 전극(110)과 동일 재질로 형성하여 고정 부재(111)와 제1 전극(110)간의 결합력을 향상하여 더 효과적으로 제1 전극(110)이 절연층(109)에 고정되고 박리되는 것을 방지한다.In particular, the fixing member 111 is formed of the same material as the first electrode 110 to improve the bonding force between the fixing member 111 and the first electrode 110, so that the first electrode 110 is more effectively insulated from the insulating layer 109. It is fixed to and prevents it from peeling off.

또한 제1 전극(110)의 박리가 잘 일어나는 가장 자리에 대응하도록 고정 부재(111)를 형성하고, 고정 부재(111)를 복수 개로 형성하여 제1 전극(110)의 박리 방지 효과를 증대한다.In addition, the fixing member 111 is formed to correspond to an edge where peeling of the first electrode 110 occurs well, and a plurality of fixing members 111 are formed to increase the peeling preventing effect of the first electrode 110.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 관한 유기 발광 표시 장치(200)를 도시한 개략적인 단면도이다.3 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting diode display 200 according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면 유기 발광 표시 장치(200)는 기판(201), 절연층(209), 박막 트랜지스터(TFT), 고정 부재(211), 제1 전극(210), 중간층(213), 제2 전극(214) 및 지지 부재(215)를 포함한다. Referring to FIG. 3, the OLED display 200 includes a substrate 201, an insulating layer 209, a thin film transistor (TFT), a fixing member 211, a first electrode 210, an intermediate layer 213, and a second. Electrode 214 and support member 215.

박막 트랜지스터(TFT)는 활성층(203), 게이트 전극(205), 소스 전극(207) 및 드레인 전극(208)을 구비한다. The thin film transistor TFT includes an active layer 203, a gate electrode 205, a source electrode 207, and a drain electrode 208.

기판(201)상에 버퍼층(202)이 형성된다. 버퍼층(202)상에 소정 패턴의 활성층(203)이 형성된다. 활성층(203)의 상부에는 게이트 절연막(204)이 형성되고, 게이트 절연막(204)상부의 소정 영역에는 게이트 전극(205)이 형성된다. 게이트 전극(205)의 상부로는 층간 절연막(206)이 형성된다. 층간 절연막(206) 및 게이트 절연막(204)은 활성층(203)의 소스 영역 및 드레인 영역을 노출하도록 형성되고 이러한 활성층(203)의 노출된 소스 영역 및 드레인 영역과 접하도록 소스 전극(207) 및 드레인 전극(208)이 형성된다. The buffer layer 202 is formed on the substrate 201. An active layer 203 having a predetermined pattern is formed on the buffer layer 202. A gate insulating film 204 is formed on the active layer 203, and a gate electrode 205 is formed on a predetermined region on the gate insulating film 204. An interlayer insulating film 206 is formed on the gate electrode 205. The interlayer insulating film 206 and the gate insulating film 204 are formed to expose the source region and the drain region of the active layer 203, and the source electrode 207 and the drain to contact the exposed source and drain regions of the active layer 203. An electrode 208 is formed.

층간 절연막(206)상부에 소스 전극(207) 및 드레인 전극(208)과 이격되도록 지지 부재(215)가 형성된다. 지지 부재(215)는 다양한 물질로 형성할 수 있으나 소스 전극(207) 또는 드레인 전극(208)과 동일한 재질로 형성하는 것이 공정의 편의상 바람직하다.The support member 215 is formed on the interlayer insulating layer 206 to be spaced apart from the source electrode 207 and the drain electrode 208. The support member 215 may be formed of various materials, but the support member 215 may be formed of the same material as the source electrode 207 or the drain electrode 208.

박막 트랜지스터(TFT)상부에 절연층(209)이 형성된다. 구체적으로 소스 전극(207) 및 드레인 전극(208)을 덮도록 절연층(209)이 형성된다. An insulating layer 209 is formed on the thin film transistor TFT. Specifically, the insulating layer 209 is formed to cover the source electrode 207 and the drain electrode 208.

절연층(209)은 드레인 전극(208)을 노출하도록 형성된 비아홀(209b)을 구비하고, 비아홀(209b)을 통하여 노출된 드레인 전극(208)과 연결되도록 제1 전극(210)이 형성된다.The insulating layer 209 has a via hole 209b formed to expose the drain electrode 208, and the first electrode 210 is formed to be connected to the drain electrode 208 exposed through the via hole 209b.

한편 절연층(209)은 관통공(209a)을 구비하고, 관통공(209a)내에는 고정 부재(211)가 배치된다. 관통공(209a)은 지지 부재(215)와 대응하도록 형성되어 지지 부재(215)는 고정 부재(211)와 접한다. On the other hand, the insulating layer 209 has a through hole 209a, and a fixing member 211 is disposed in the through hole 209a. The through hole 209a is formed to correspond to the support member 215 so that the support member 215 is in contact with the fixing member 211.

또한 고정 부재(211)는 제1 전극(210)과 접하도록 형성된다. 고정 부재(211)는 하나 이상 형성되는데 복수 개로 형성되는 것이 바람직하다.In addition, the fixing member 211 is formed to contact the first electrode 210. One or more fixing members 211 are formed, but preferably a plurality of fixing members 211 are formed.

또한 관통공(209a)은 비아홀(209b)과 이격되고, 이를 통하여 고정 부재(211)는 소스 전극(207) 및 드레인 전극(208)과 이격된다.In addition, the through hole 209a is spaced apart from the via hole 209b, through which the fixing member 211 is spaced apart from the source electrode 207 and the drain electrode 208.

고정 부재(211)는 제1 전극(210)의 가장 자리에 대응하도록 형성하는 것이 바람직하다. 고정 부재(211)는 제1 전극(210)과 동일한 재질로 형성하는 것이 바람직하다. The fixing member 211 may be formed to correspond to the edge of the first electrode 210. The fixing member 211 is preferably formed of the same material as the first electrode 210.

제1 전극(210)상에 절연물로 화소 정의막(212)을 형성한다. 화소 정의막(212)은 제1 전극(210)의 소정의 영역을 노출하도록 개구부(212a)를 포함한다. 노출된 제1 전극(210)상에 중간층(213)을 형성한다. 그리고, 중간층(213)과 연결되도록 제2 전극(214)을 형성한다. The pixel defining layer 212 is formed on the first electrode 210 with an insulator. The pixel defining layer 212 includes an opening 212a to expose a predetermined region of the first electrode 210. An intermediate layer 213 is formed on the exposed first electrode 210. The second electrode 214 is formed to be connected to the intermediate layer 213.

중간층(213)은 유기 발광층을 구비하고 제1 전극(210)과 제2 전극(214)을 통하여 전압이 인가되면 유기 발광층에서 가시 광선을 발생한다. The intermediate layer 213 includes an organic emission layer and generates visible light in the organic emission layer when a voltage is applied through the first electrode 210 and the second electrode 214.

제2 전극(214) 상에 밀봉 부재(미도시)가 배치될 수 있다. 밀봉 부재(미도시)는 외부의 수분이나 산소 등으로부터 중간층(213) 및 기타층을 보호하기 위해 형성하는 것으로 밀봉 부재(미도시)는 투명한 재질로 형성된다. 이를 위해 글라스, 플라스틱 또는 유기물과 무기물의 복수의 중첩된 구조일 수도 있다. A sealing member (not shown) may be disposed on the second electrode 214. The sealing member (not shown) is formed to protect the intermediate layer 213 and other layers from external moisture or oxygen, and the sealing member (not shown) is formed of a transparent material. For this purpose, a plurality of overlapping structures of glass, plastic or organic material and inorganic material may be used.

본 실시예의 유기 발광 표시 장치(200)는 절연층(209)이 관통공(209a)을 구비하고, 관통공(209a)내에 제1 전극(210)과 접하도록 고정 부재(211)가 형성된다. 고정 부재(211)는 제1 전극(210)을 고정시킨다. 즉 고정 부재(211)는 제1 전극(210)이 절연층(209)으로부터 박리되지 않도록 한다.In the organic light emitting diode display 200 according to the present exemplary embodiment, the insulating layer 209 includes a through hole 209a and a fixing member 211 is formed in the through hole 209a to contact the first electrode 210. The fixing member 211 fixes the first electrode 210. That is, the fixing member 211 prevents the first electrode 210 from being separated from the insulating layer 209.

또한 본 실시예의 유기 발광 표시 장치(200)는 관통공(209a)에 대응하도록 형성되고 고정 부재(211)와 접하는 지지 부재(215)를 포함한다. 지지 부재(215)는 고정 부재(211)와 접촉하여 고정 부재(211)가 박리되거나 파손되지 않고 안정적으로 형성되도록 한다. 결과적으로 제1 전극(210)의 박리 방지 효과를 증대한다.In addition, the organic light emitting diode display 200 according to the present exemplary embodiment includes a support member 215 formed to correspond to the through hole 209a and in contact with the fixing member 211. The support member 215 is in contact with the fixing member 211 so that the fixing member 211 is stably formed without peeling or breaking. As a result, the effect of preventing peeling of the first electrode 210 is increased.

또한 고정 부재(211)를 제1 전극(210)과 동일 재질로 형성하여 고정 부재(211)와 제1 전극(210)간의 결합력을 향상하여 더 효과적으로 제1 전극(210)이 절연층(209)에 고정되고 박리되는 것을 방지한다.In addition, the fixing member 211 is formed of the same material as the first electrode 210 to improve the bonding force between the fixing member 211 and the first electrode 210, so that the first electrode 210 is more effectively insulated from the insulating layer 209. It is fixed to and prevents it from peeling off.

또한 제1 전극(210)의 박리가 잘 일어나는 가장 자리에 대응하도록 고정 부재(211)를 형성하고, 고정 부재(211)를 복수 개로 형성하여 제1 전극(210)의 박리 방지 효과를 증대한다.In addition, the fixing member 211 is formed to correspond to an edge where peeling of the first electrode 210 occurs well, and a plurality of fixing members 211 are formed to increase the peeling preventing effect of the first electrode 210.

도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 유기 발광 표시 장치(300)를 도시한 개략적인 단면도이다.4 is a schematic cross-sectional view illustrating an organic light emitting display device 300 according to still another embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면 유기 발광 표시 장치(300)는 기판(301), 절연층(309), 박막 트랜지스터(TFT), 고정 부재(311), 제1 전극(310), 중간층(313) 및 제2 전극(314)을 포함한다. Referring to FIG. 4, the organic light emitting diode display 300 includes a substrate 301, an insulating layer 309, a thin film transistor TFT, a fixing member 311, a first electrode 310, an intermediate layer 313, and a second. Electrode 314.

박막 트랜지스터(TFT)는 활성층(303), 게이트 전극(305), 소스 전극(307) 및 드레인 전극(308)을 구비한다. The thin film transistor TFT includes an active layer 303, a gate electrode 305, a source electrode 307, and a drain electrode 308.

기판(301)상에 버퍼층(302)이 형성된다. 버퍼층(302)상에 소정 패턴의 활성층(303)이 형성된다. 활성층(303)의 상부에는 게이트 절연막(304)이 형성되고, 게이트 절연막(304)상부의 소정 영역에는 게이트 전극(305)이 형성된다. 게이트 전극(305)의 상부로는 층간 절연막(306)이 형성된다. 층간 절연막(306) 및 게이트 절연막(304)은 활성층(303)의 소스 영역 및 드레인 영역을 노출하도록 형성되고 이러한 활성층(303)의 노출된 소스 영역 및 드레인 영역과 접하도록 소스 전극(307) 및 드레인 전극(308)이 형성된다. A buffer layer 302 is formed on the substrate 301. The active layer 303 of a predetermined pattern is formed on the buffer layer 302. A gate insulating layer 304 is formed on the active layer 303, and a gate electrode 305 is formed on a predetermined region on the gate insulating layer 304. An interlayer insulating layer 306 is formed on the gate electrode 305. The interlayer insulating film 306 and the gate insulating film 304 are formed to expose the source region and the drain region of the active layer 303, and the source electrode 307 and the drain to contact the exposed source and drain regions of the active layer 303. An electrode 308 is formed.

박막 트랜지스터(TFT)상부에 절연층(309)이 형성된다. 구체적으로 소스 전극(307) 및 드레인 전극(308)을 덮도록 절연층(309)이 형성된다. An insulating layer 309 is formed on the thin film transistor TFT. In detail, the insulating layer 309 is formed to cover the source electrode 307 and the drain electrode 308.

절연층(309)은 드레인 전극(308)을 노출하도록 형성된 비아홀(309b)을 구비하고, 비아홀(309b)을 통하여 노출된 드레인 전극(308)과 연결되도록 제1 전극(310)이 형성된다.The insulating layer 309 includes a via hole 309b formed to expose the drain electrode 308, and the first electrode 310 is formed to be connected to the drain electrode 308 exposed through the via hole 309b.

한편 절연층(309)은 관통공(309a)을 구비하고, 관통공(309a)내에는 고정 부재(311)가 배치된다. 고정 부재(311)는 제1 전극(310)과 접하도록 형성된다. 고정 부재(311)는 하나 이상 형성되는데 복수 개로 형성되는 것이 바람직하다.On the other hand, the insulating layer 309 has a through hole 309a, and a fixing member 311 is disposed in the through hole 309a. The fixing member 311 is formed to contact the first electrode 310. At least one fixing member 311 may be formed, but a plurality of fixing members 311 may be provided.

또한 관통공(309a)은 비아홀(309b)과 이격되고, 이를 통하여 고정 부재(311)는 소스 전극(307) 및 드레인 전극(308)과 이격된다.In addition, the through hole 309a is spaced apart from the via hole 309b, through which the fixing member 311 is spaced apart from the source electrode 307 and the drain electrode 308.

고정 부재(311)는 제1 전극(310)의 가장 자리에 대응하도록 형성하는 것이 바람직하다. 고정 부재(311)는 제1 전극(310)과 동일한 재질로 형성하는 것이 바람직하다. The fixing member 311 may be formed to correspond to the edge of the first electrode 310. The fixing member 311 is preferably formed of the same material as the first electrode 310.

절연층(309)상에 절연물로 화소 정의막(312)을 형성한다. 화소 정의막(312)은 제1 전극(310)을 노출하도록 개구부(312a)를 포함한다. 개구부(312a)의 측면은 제1 전극(310)과 이격되도록 형성된다. 즉 화소 정의막(312)이 제1 전극(310)을 덮지 않도록 개구부(312a)를 형성한다. The pixel defining layer 312 is formed on the insulating layer 309 by using an insulating material. The pixel defining layer 312 includes an opening 312a to expose the first electrode 310. The side surface of the opening 312a is formed to be spaced apart from the first electrode 310. That is, the opening 312a is formed so that the pixel defining layer 312 does not cover the first electrode 310.

유기 발광 표시 장치(300)이 제조 공정 중 또는 사용 중 화소 정의막(312)등이 눌려서 제1 전극(310)과 제2 전극(314)이 접촉하여 쇼트(short)가 발생할 수 있다. 특히 개구부(312a)의 측면 근처에서 이러한 쇼트가 발생할 가능성이 크고 이는 암점과 같은 불량을 발생한다. 그러나 본 실시예에서는 제1 전극(310)을 개구부(312a)와 이격되도록 형성하여 설령 화소 정의막(312)이 눌리더라도 개구부(312a)측면 근처에서 제1 전극(310)과 제2 전극(314)이 접촉하여 쇼트가 발생하는 것을 효과적으로 방지한다.The pixel defining layer 312 may be pressed during the manufacturing process or during use of the organic light emitting diode display 300 to contact the first electrode 310 and the second electrode 314 to generate a short. In particular, such a short is likely to occur near the side of the opening 312a, which causes a defect such as a dark spot. However, in the present exemplary embodiment, the first electrode 310 is formed to be spaced apart from the opening 312a so that even if the pixel defining layer 312 is pressed, the first electrode 310 and the second electrode (not shown) near the side of the opening 312a may be formed. 314) effectively prevents a short from occurring by contact.

제1 전극(310)상에 중간층(313)을 형성한다. 그리고, 중간층(313)과 연결되도록 제2 전극(314)을 형성한다. An intermediate layer 313 is formed on the first electrode 310. The second electrode 314 is formed to be connected to the intermediate layer 313.

중간층(313)은 유기 발광층을 구비하고 제1 전극(310)과 제2 전극(314)을 통하여 전압이 인가되면 유기 발광층에서 가시 광선을 발생한다. The intermediate layer 313 includes an organic emission layer and generates visible light in the organic emission layer when a voltage is applied through the first electrode 310 and the second electrode 314.

제2 전극(314) 상에 밀봉 부재(미도시)가 배치될 수 있다. 밀봉 부재(미도시)는 외부의 수분이나 산소 등으로부터 중간층(313) 및 기타층을 보호하기 위해 형성하는 것으로 밀봉 부재(미도시)는 투명한 재질로 형성된다. 이를 위해 글라스, 플라스틱 또는 유기물과 무기물의 복수의 중첩된 구조일 수도 있다. A sealing member (not shown) may be disposed on the second electrode 314. The sealing member (not shown) is formed to protect the intermediate layer 313 and other layers from external moisture or oxygen, and the sealing member (not shown) is formed of a transparent material. For this purpose, a plurality of overlapping structures of glass, plastic or organic material and inorganic material may be used.

본 실시예의 유기 발광 표시 장치(300)는 절연층(309)이 관통공(309a)을 구비하고, 관통공(309a)내에 제1 전극(310)과 접하도록 고정 부재(311)가 형성된다. 고정 부재(311)는 제1 전극(310)을 고정시킨다. 즉 고정 부재(311)는 제1 전극(310)이 절연층(309)으로부터 박리되지 않도록 한다.In the organic light emitting diode display 300 according to the present exemplary embodiment, the insulating layer 309 includes a through hole 309a and a fixing member 311 is formed in the through hole 309a to contact the first electrode 310. The fixing member 311 fixes the first electrode 310. That is, the fixing member 311 prevents the first electrode 310 from being separated from the insulating layer 309.

또한 본 실시예의 유기 발광 표시 장치(300)는 화소 정의막(312)의 개구부(312a)의 측면과 이격되도록 제1 전극(310)을 형성하여 제1 전극(310)과 제2 전극(314)의 접촉으로 쇼트가 발생하는 것을 방지하고, 쇼트로 인하여 발생하는 암점과 같은 전기적 불량을 방지한다.Also, in the organic light emitting diode display 300 according to the present exemplary embodiment, the first electrode 310 and the second electrode 314 are formed by forming the first electrode 310 to be spaced apart from the side surface of the opening 312a of the pixel defining layer 312. The short circuit is prevented by the contact of, and electrical defects such as dark spots caused by the short circuit are prevented.

또한 고정 부재(311)를 제1 전극(310)과 동일 재질로 형성하여 고정 부재(311)와 제1 전극(310)간의 결합력을 향상하여 더 효과적으로 제1 전극(310)이 절연층(309)에 고정되고 박리되는 것을 방지한다.In addition, the fixing member 311 is formed of the same material as the first electrode 310 to improve the bonding force between the fixing member 311 and the first electrode 310 to more effectively prevent the first electrode 310 from the insulating layer 309. It is fixed to and prevents it from peeling off.

또한 제1 전극(310)의 박리가 잘 일어나는 가장 자리에 대응하도록 고정 부재(311)를 형성하고, 고정 부재(311)를 복수 개로 형성하여 제1 전극(310)의 박리 방지 효과를 증대한다.In addition, the fixing member 311 is formed to correspond to an edge where peeling of the first electrode 310 occurs well, and a plurality of fixing members 311 are formed to increase the peeling preventing effect of the first electrode 310.

도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 관한 유기 발광 표시 장치(400)를 도시한 개략적인 단면도이다.5 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting diode display 400 according to another exemplary embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면 유기 발광 표시 장치(400)는 기판(401), 절연층(409), 박막 트랜지스터(TFT), 고정 부재(411), 제1 전극(410), 중간층(413), 제2 전극(414) 및 지지 부재(415)를 포함한다. Referring to FIG. 5, the organic light emitting diode display 400 may include a substrate 401, an insulating layer 409, a thin film transistor TFT, a fixing member 411, a first electrode 410, an intermediate layer 413, and a second layer. Electrode 414 and support member 415.

박막 트랜지스터(TFT)는 활성층(403), 게이트 전극(405), 소스 전극(407) 및 드레인 전극(408)을 구비한다. The thin film transistor TFT includes an active layer 403, a gate electrode 405, a source electrode 407, and a drain electrode 408.

기판(401)상에 버퍼층(402)이 형성된다. 버퍼층(402)상에 소정 패턴의 활성층(403)이 형성된다. 활성층(403)의 상부에는 게이트 절연막(404)이 형성되고, 게이트 절연막(404)상부의 소정 영역에는 게이트 전극(405)이 형성된다. 게이트 전극(405)의 상부로는 층간 절연막(406)이 형성된다. 층간 절연막(406) 및 게이트 절연막(404)은 활성층(403)의 소스 영역 및 드레인 영역을 노출하도록 형성되고 이러한 활성층(403)의 노출된 소스 영역 및 드레인 영역과 접하도록 소스 전극(407) 및 드레인 전극(408)이 형성된다. A buffer layer 402 is formed on the substrate 401. The active layer 403 of a predetermined pattern is formed on the buffer layer 402. A gate insulating film 404 is formed on the active layer 403, and a gate electrode 405 is formed on a predetermined region on the gate insulating film 404. An interlayer insulating layer 406 is formed on the gate electrode 405. The interlayer insulating film 406 and the gate insulating film 404 are formed to expose the source region and the drain region of the active layer 403, and the source electrode 407 and the drain to contact the exposed source and drain regions of the active layer 403. An electrode 408 is formed.

층간 절연막(406)상부에 소스 전극(407) 및 드레인 전극(408)과 이격되도록 지지 부재(415)가 형성된다. 지지 부재(415)는 다양한 물질로 형성할 수 있으나 소스 전극(407) 또는 드레인 전극(408)과 동일한 재질로 형성하는 것이 공정의 편의상 바람직하다.A support member 415 is formed on the interlayer insulating layer 406 to be spaced apart from the source electrode 407 and the drain electrode 408. The support member 415 may be formed of various materials, but it is preferable to form the support member 415 with the same material as the source electrode 407 or the drain electrode 408 for the convenience of the process.

박막 트랜지스터(TFT)상부에 절연층(409)이 형성된다. 구체적으로 소스 전극(407) 및 드레인 전극(408)을 덮도록 절연층(409)이 형성된다. An insulating layer 409 is formed on the thin film transistor TFT. Specifically, the insulating layer 409 is formed to cover the source electrode 407 and the drain electrode 408.

절연층(409)은 드레인 전극(408)을 노출하도록 형성된 비아홀(409b)을 구비하고, 비아홀(409b)을 통하여 노출된 드레인 전극(408)과 연결되도록 제1 전극(410)이 형성된다.The insulating layer 409 has a via hole 409b formed to expose the drain electrode 408, and the first electrode 410 is formed to be connected to the drain electrode 408 exposed through the via hole 409b.

한편 절연층(409)은 관통공(409a)을 구비하고, 관통공(409a)내에는 고정 부재(411)가 배치된다. 관통공(409a)은 지지 부재(415)와 대응하도록 형성되어 지지 부재(415)는 고정 부재(411)와 접한다. On the other hand, the insulating layer 409 has a through hole 409a, and a fixing member 411 is disposed in the through hole 409a. The through hole 409a is formed to correspond to the supporting member 415 so that the supporting member 415 contacts the fixing member 411.

고정 부재(411)는 제1 전극(410)과 접하도록 형성된다. 고정 부재(411)는 하나 이상 형성되는데 복수 개로 형성되는 것이 바람직하다.The fixing member 411 is formed to contact the first electrode 410. At least one fixing member 411 is preferably formed in plural.

또한 관통공(409a)은 비아홀(409b)과 이격되고, 이를 통하여 고정 부재(411)는 소스 전극(307) 및 드레인 전극(308)과 이격된다.In addition, the through hole 409a is spaced apart from the via hole 409b, through which the fixing member 411 is spaced apart from the source electrode 307 and the drain electrode 308.

고정 부재(411)는 제1 전극(410)의 가장 자리에 대응하도록 형성하는 것이 바람직하다. 고정 부재(411)는 제1 전극(410)과 동일한 재질로 형성하는 것이 바람직하다. The fixing member 411 may be formed to correspond to the edge of the first electrode 410. The fixing member 411 may be formed of the same material as the first electrode 410.

절연층(409)상에 절연물로 화소 정의막(412)을 형성한다. 화소 정의막(412)은 제1 전극(410)을 노출하도록 개구부(412a)를 포함한다. 개구부(412a)의 측면은 제1 전극(410)과 이격되도록 형성된다. 즉 화소 정의막(412)이 제1 전극(410)을 덮지 않도록 개구부(412a)를 형성한다. The pixel defining layer 412 is formed of an insulating material on the insulating layer 409. The pixel defining layer 412 includes an opening 412a to expose the first electrode 410. The side surface of the opening 412a is formed to be spaced apart from the first electrode 410. That is, the opening 412a is formed so that the pixel defining layer 412 does not cover the first electrode 410.

제1 전극(410)상에 중간층(413)을 형성한다. 그리고, 중간층(413)과 연결되도록 제2 전극(414)을 형성한다. An intermediate layer 413 is formed on the first electrode 410. The second electrode 414 is formed to be connected to the intermediate layer 413.

*중간층(413)은 유기 발광층을 구비하고 제1 전극(410)과 제2 전극(414)을 통하여 전압이 인가되면 유기 발광층에서 가시 광선을 발생한다. The intermediate layer 413 includes an organic emission layer and generates visible light in the organic emission layer when a voltage is applied through the first electrode 410 and the second electrode 414.

제2 전극(414) 상에 밀봉 부재(미도시)가 배치될 수 있다. 밀봉 부재(미도시)는 외부의 수분이나 산소 등으로부터 중간층(413) 및 기타층을 보호하기 위해 형성하는 것으로 밀봉 부재(미도시)는 투명한 재질로 형성된다. 이를 위해 글라스, 플라스틱 또는 유기물과 무기물의 복수의 중첩된 구조일 수도 있다. A sealing member (not shown) may be disposed on the second electrode 414. The sealing member (not shown) is formed to protect the intermediate layer 413 and other layers from external moisture or oxygen, and the sealing member (not shown) is formed of a transparent material. For this purpose, a plurality of overlapping structures of glass, plastic or organic material and inorganic material may be used.

본 실시예의 유기 발광 표시 장치(400)는 절연층(409)이 관통공(409a)을 구비하고, 관통공(409a)내에 제1 전극(410)과 접하도록 고정 부재(411)가 형성된다. 고정 부재(411)는 제1 전극(410)을 고정시킨다. 즉 고정 부재(411)는 제1 전극(410)이 절연층(409)으로부터 박리되지 않도록 한다.In the organic light emitting diode display 400 according to the present exemplary embodiment, the insulating layer 409 includes a through hole 409a and a fixing member 411 is formed in the through hole 409a to contact the first electrode 410. The fixing member 411 fixes the first electrode 410. That is, the fixing member 411 prevents the first electrode 410 from being peeled from the insulating layer 409.

또한 본 실시예의 유기 발광 표시 장치(400)는 화소 정의막(412)의 개구부(412a)의 측면과 이격되도록 제1 전극(410)을 형성하여 화소 정의막(412)이 눌리더라도 개구부(412a)의 측면에서 제1 전극(410)과 제2 전극(414)의 접촉으로 쇼트가 발생하는 것을 방지하고, 쇼트로 인하여 발생하는 암점과 같은 전기적 불량을 방지한다.In addition, the organic light emitting diode display 400 of the present exemplary embodiment forms the first electrode 410 so as to be spaced apart from the side surface of the opening 412a of the pixel defining layer 412 so that the opening 412a is pressed even when the pixel defining layer 412 is pressed. The short circuit is prevented from occurring due to the contact between the first electrode 410 and the second electrode 414 at the side surface of the back panel, and electrical defects such as dark spots caused by the short circuit are prevented.

또한 본 실시예의 유기 발광 표시 장치(400)는 관통공(409a)에 대응하도록 형성되고 고정 부재(411)와 접하는 지지 부재(415)를 포함한다. 지지 부재(415)는 고정 부재(411)와 접촉하여 고정 부재(411)가 박리되거나 파손되지 않고 안정적으로 형성되도록 한다. 결과적으로 제1 전극(410)의 박리 방지 효과를 증대한다.In addition, the organic light emitting diode display 400 of the present exemplary embodiment includes a support member 415 formed to correspond to the through hole 409a and in contact with the fixing member 411. The support member 415 is in contact with the fixing member 411 so that the fixing member 411 is stably formed without peeling or breaking. As a result, the peeling preventing effect of the first electrode 410 is increased.

또한 고정 부재(411)를 제1 전극(410)과 동일 재질로 형성하여 고정 부재(411)와 제1 전극(410)간의 결합력을 향상하여 더 효과적으로 제1 전극(410)이 절연층(409)에 고정되고 박리되는 것을 방지한다.In addition, the fixing member 411 is formed of the same material as the first electrode 410 to improve the bonding force between the fixing member 411 and the first electrode 410, so that the first electrode 410 is more effectively insulated from the insulating layer 409. It is fixed to and prevents it from peeling off.

또한 제1 전극(410)의 박리가 잘 일어나는 가장 자리에 대응하도록 고정 부재(411)를 형성하고, 고정 부재(411)를 복수 개로 형성하여 제1 전극(410)의 박리 방지 효과를 증대한다.In addition, the fixing member 411 is formed so as to correspond to an edge where peeling of the first electrode 410 occurs well, and a plurality of fixing members 411 are formed to increase the peeling preventing effect of the first electrode 410.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, these are merely exemplary and will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

100, 200, 300, 400: 유기 발광 표시 장치
101, 201, 301, 401: 기판
103, 203, 303, 403: 활성층
105, 205, 305, 405: 게이트 전극
107, 207, 307, 407: 소스 전극
108, 208, 308, 408: 드레인 전극
109, 209, 309, 409: 절연층
109a, 209a, 309a, 409a: 관통공
109b, 209b, 309b, 409b: 비아홀
110, 210, 310, 410: 제1 전극
111, 211, 311, 411: 고정 부재
112, 212, 312, 412: 화소 정의막
112a, 212a, 312a, 412a: 개구부
113, 213, 313, 413: 중간층
114, 214, 314, 414: 제2 전극
215, 415: 지지 부재
TFT: 박막 트랜지스터100, 200, 300, 400: organic light emitting display device
101, 201, 301, 401: substrate
103, 203, 303, 403: active layer
105, 205, 305, 405: gate electrode
107, 207, 307, 407: source electrode
108, 208, 308, 408: drain electrode
109, 209, 309, 409: insulation layer
109a, 209a, 309a, and 409a: through holes
109b, 209b, 309b, 409b: Via Hole
110, 210, 310, and 410: first electrode
111, 211, 311, 411: fixing member
112, 212, 312, and 412: pixel defining layer
112a, 212a, 312a, 412a: opening
113, 213, 313, 413: mezzanine
114, 214, 314, and 414: second electrode
215, 415: support member
TFT: thin film transistor

Claims

Board;
An insulating layer formed on the substrate and having a through hole;
A first electrode formed on the insulating layer;
An intermediate layer formed on the first electrode and having an organic emission layer;
A second electrode formed on the intermediate layer; And
A fixing member formed in the through hole and in contact with the first electrode,
A thin film transistor formed between the substrate and the insulating layer and having an active layer, a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode;
The insulating layer includes a via hole, and the drain electrode and the first electrode are electrically connected through the via hole.
The via hole and the through hole are spaced apart from each other,
The through hole of the insulating layer is disposed between the substrate and the first electrode,
The fixing member is disposed between the substrate and the first electrode, and the fixing member is spaced apart from the via hole and spaced apart from the source electrode or the drain electrode.

According to claim 1,
The fixing member is formed of the same material as the first electrode.

According to claim 1,
The plurality of through holes are formed, and the fixing member is formed in the plurality of through holes so as to contact the first electrode.

According to claim 1,
The fixing member is disposed in a predetermined region among regions corresponding to an edge of the first electrode.

According to claim 1,
And a support member formed between the substrate and the insulating layer so as to correspond to at least the through hole and in contact with the fixing member.

According to claim 1,
The fixing member, the source electrode and the drain electrode are spaced apart from each other.

According to claim 1,
A support member formed between the substrate and the insulating layer to correspond to at least the through hole and in contact with the fixing member;
The support member is formed of the same material as the source electrode or the drain electrode.

The method of claim 7, wherein
The support member is spaced apart from the source electrode and the drain electrode.

According to claim 1,
A pixel defining layer disposed on the insulating layer and having an opening formed to expose the first electrode;
The intermediate layer is formed on the first electrode exposed through the opening.

The method of claim 9,
The first electrode is spaced apart from the side of the opening.