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KR102156743B1 - apparatus for treating substrate and method for sensing substrate transfer - Google Patents

apparatus for treating substrate and method for sensing substrate transfer Download PDF

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KR102156743B1
KR102156743B1 KR1020130165415A KR20130165415A KR102156743B1 KR 102156743 B1 KR102156743 B1 KR 102156743B1 KR 1020130165415 A KR1020130165415 A KR 1020130165415A KR 20130165415 A KR20130165415 A KR 20130165415A KR 102156743 B1 KR102156743 B1 KR 102156743B1
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horizontal
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magnet
transferred
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이우송
이치영
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세메스 주식회사
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Abstract

본 발명은 기판의 이송 여부를 감지하는 센서를 구비하는 기판 처리 장치 및 기판 이송 감지 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치는, 기판이 이송되는 제1 방향을 따라 나란하게 배열되며, 기판의 하면과 접촉되는 다수의 롤러가 설치된 회전가능한 복수의 이송 샤프트를 갖는 이송 유닛과, 상기 이송 유닛의 일측에 상부에서 바라볼 때 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향으로 설치되어, 이송되는 기판을 감지하는 감지 센서를 포함하되, 상기 감지 센서는, 몸체와, 상기 몸체의 내부에 수직축을 중심으로 수평 방향으로 회동 가능하게 설치되고, 일단에 자석을 갖는 수평 회동 부재와, 이송되는 기판 측으로 상기 수평 회동 부재의 타단에 설치되어 이송되는 기판과 접촉하여 회전되는 수평 롤러와, 상기 몸체에 배치되어 상기 자석과의 상호작용으로 발생된 척력으로 상기 수평 회동 부재를 회동 상태에서 정지 상태로 복귀시키는 자성체와, 상기 수평 회동 부재의 일단에서 이격되어 상기 몸체에 배치되는 자기센서를 포함하고, 기판이 상기 수평 롤러에 접촉되는 경우 상기 수평 회동 부재는 정지 상태에서 수평 방향으로 회동한다.The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate transfer detection method including a sensor for detecting whether a substrate is transferred. A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a transfer unit having a plurality of rotatable transfer shafts arranged side by side along a first direction in which a substrate is transferred, and provided with a plurality of rollers contacting a lower surface of the substrate, A detection sensor installed on one side of the transfer unit in a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above to detect a transferred substrate, wherein the detection sensor includes a body and an inside of the body A horizontal rotating member installed to be rotatable in a horizontal direction about a vertical axis and having a magnet at one end, a horizontal roller installed at the other end of the horizontal rotating member toward the substrate to be transferred and rotated in contact with the transferred substrate, and the body And a magnetic body disposed in and returning the horizontal rotating member from a rotating state to a stationary state by a repulsive force generated by interaction with the magnet, and a magnetic sensor spaced apart from one end of the horizontal rotating member and disposed in the body, When the substrate is in contact with the horizontal roller, the horizontal rotating member rotates in a horizontal direction in a stationary state.

Description

기판 처리 장치 및 기판 이송 감지 방법{apparatus for treating substrate and method for sensing substrate transfer}Substrate processing apparatus and substrate transfer detection method TECHNICAL FIELD [1] Apparatus for treating substrate and method for sensing substrate transfer

본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 이송 감지 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 기판의 이송 여부를 감지하는 센서를 구비하는 기판 처리 장치 및 기판 이송 감지 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate transfer detection method, and more particularly, to a substrate processing apparatus and a substrate transfer detection method including a sensor for detecting whether a substrate is transferred.

액정 디스플레이와 플라즈마 디스플레이와 같은 디스플레이 장치에는 평판형 글라스 기판이 일반적으로 사용된다. 이러한 평판 기판에 대한 여러 가지 처리 공정을 차례로 진행하는 경우에 기판은 처리실간에 이송된다. 이 경우 처리실간 기판의 이송 여부를 감지하기 위해 진자 센서가 이용되는 것이 종래이다. In display devices such as liquid crystal displays and plasma displays, flat glass substrates are generally used. In the case of sequentially performing various processing processes for such a flat substrate, the substrate is transferred between processing chambers. In this case, conventionally, a pendulum sensor is used to detect whether a substrate is transferred between processing chambers.

그러나, 종래의 진자 센서는 처리실 내부의 중앙 또는 조작측에 수직으로 설치되어 글라스 반송시 기판을 감지한다. 즉, 글라스 감지 센서를 수직으로 설치하며 별도의 세팅용 지그(jig)를 이용한다. 이러한 세팅 불량시 글라스 파손 또는 미감지로 정상적인 프로세스가 진행되지 않고, 특히 경사반송 구조에는 각도에 맞게 추가 조정을 해야하는 번거로움이 있었다. However, the conventional pendulum sensor is installed vertically in the center of the processing chamber or on the operation side to detect the substrate during glass transfer. That is, the glass detection sensor is installed vertically and a separate setting jig is used. If such a setting is defective, the normal process does not proceed due to glass breakage or non-sensing, and in particular, there is a hassle to make additional adjustments according to the angle in the inclined transport structure.

또한, 종래 글라스 반송 감지 센서는 수직으로 설치하여 글라스와 센서 간에 별도로 높이 세팅을 한다. 센서의 세팅 높이에 따라 글라스의 파손 또는 미감지로 인한 공정불량이 발생하는 문제가 있었다.In addition, the conventional glass conveyance detection sensor is installed vertically to separately set the height between the glass and the sensor. There is a problem in that a process defect occurs due to damage or not detection of the glass depending on the setting height of the sensor.

본 발명은 설치가 용이하면서도 기판의 이송 여부를 양호하게 감지할 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method that are easy to install and can detect whether or not a substrate is transferred.

또한, 본 발명은 기판의 파손 또는 기판 이송의 미감지로 인한 공정 불량이 발생하는 것을 방지하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method for preventing the occurrence of process defects due to damage to the substrate or failure to detect the transfer of the substrate.

상기와 같은 기술적 과제를 해결하기 위해 본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치는, 기판이 이송되는 제1 방향을 따라 나란하게 배열되며, 기판의 하면과 접촉되는 다수의 롤러가 설치된 회전가능한 복수의 이송 샤프트를 갖는 이송 유닛과, 상기 이송 유닛의 일측에 상부에서 바라볼 때 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향으로 설치되어, 이송되는 기판을 감지하는 감지 센서를 포함하되, 상기 감지 센서는, 몸체와, 상기 몸체의 내부에 수직축을 중심으로 수평 방향으로 회동 가능하게 설치되고, 일단에 자석을 갖는 수평 회동 부재와, 이송되는 기판 측으로 상기 수평 회동 부재의 타단에 설치되어 이송되는 기판과 접촉하여 회전되는 수평 롤러와, 상기 몸체에 배치되어 상기 자석과의 상호작용으로 발생된 척력으로 상기 수평 회동 부재를 회동 상태에서 정지 상태로 복귀시키는 자성체와, 상기 수평 회동 부재의 일단에서 이격되어 상기 몸체에 배치되는 자기센서를 포함하고, 기판이 상기 수평 롤러에 접촉되는 경우 상기 수평 회동 부재는 정지 상태에서 수평 방향으로 회동한다.In order to solve the above technical problem, the present invention provides a substrate processing apparatus. A substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention includes a transfer unit having a plurality of rotatable transfer shafts arranged side by side along a first direction in which a substrate is transferred, and provided with a plurality of rollers contacting a lower surface of the substrate, A detection sensor installed on one side of the transfer unit in a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above to detect a transferred substrate, wherein the detection sensor includes a body and an inside of the body A horizontal rotating member installed to be rotatable in a horizontal direction about a vertical axis and having a magnet at one end, a horizontal roller installed at the other end of the horizontal rotating member toward the substrate to be transferred and rotated in contact with the transferred substrate, and the body A magnetic body disposed on and returning the horizontal rotating member from a rotating state to a stationary state by a repulsive force generated by interaction with the magnet, and a magnetic sensor spaced apart from one end of the horizontal rotating member and disposed on the body, When the substrate is in contact with the horizontal roller, the horizontal rotating member rotates in a horizontal direction in a stationary state.

일 예에 의하면, 상기 자성체는, 상기 수평 회동 부재의 회동 운동의 전후 방향에 각각 배치된 제1 자석과 제2 자석을 포함한다. According to an example, the magnetic body includes a first magnet and a second magnet respectively disposed in a front-rear direction of a rotational motion of the horizontal rotating member.

일 예에 의하면, 상기 제1 자석 및 상기 제2 자석은, 상기 수평 회동 부재의 일단에 구비된다.According to an example, the first magnet and the second magnet are provided at one end of the horizontal rotating member.

또한, 본 발명은 기판 이송 감지 방법을 제공한다. 본 발명의 일실시예에 따른 기판 감지 방법은, 일단에 자석을 갖는 수평 회동 부재의 타단에 설치된 수평 롤러가 이송되는 기판과 접촉하여 상기 수평 회동 부재가 수평 방향으로 회동하고, 상기 수평 회동 부재의 측부에 배치된 자기센서가 상기 자석의 움직임에 따른 자기의 변화를 감지하여 기판의 이송 여부를 센싱하며, 수평 회동시 상기 수평 회동 부재에 자기적 척력을 작용시켜 상기 수평 회동 부재를 초기의 수평 정지 상태로 복원시킨다.In addition, the present invention provides a substrate transfer detection method. In the method for detecting a substrate according to an embodiment of the present invention, a horizontal roller installed at the other end of a horizontal rotating member having a magnet at one end contacts a substrate to be transferred, so that the horizontal rotating member rotates in a horizontal direction, and the horizontal rotating member A magnetic sensor disposed on the side detects a change in magnetism according to the movement of the magnet and senses whether the substrate is transferred, and when the horizontal rotation is rotated, a magnetic repulsive force is applied to the horizontal rotation member to initially stop the horizontal rotation member. Restore it to the state.

일 예에 의하면, 상기 자기적 척력은 상기 수평 회동 부재의 수평 회동의 전후 방향에서 작용한다.According to an example, the magnetic repulsive force acts in a front-rear direction of the horizontal rotation of the horizontal rotating member.

본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치 및 기판 이송 감지 방법은 설치가 용이하면서도 기판의 이송 여부를 양호하게 감지할 수 있다. The substrate processing apparatus and the substrate transfer detection method according to an embodiment of the present invention are easy to install and can detect whether the substrate is transferred or not.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치 및 기판 이송 감지 방법은 기판의 파손 또는 기판 이송의 미감지로 인한 공정 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다. In addition, the substrate processing apparatus and the substrate transfer detection method according to an embodiment of the present invention can prevent the occurrence of process defects due to damage to the substrate or non-detection of the substrate transfer.

본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 청구범위의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the present invention are not limited to the effects mentioned above, and other effects that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description of the claims.

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 전술한 발명의 내용과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략적인 모습을 도시한 측면도이다.
도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 사시도이다.
도 3은 도 2의 수평 회동 부재가 회동하는 모습을 보여주는 도면이다. The following drawings attached to the present specification illustrate preferred embodiments of the present invention, and serve to further understand the technical idea of the present invention together with the contents of the present invention. It is limited and should not be interpreted.
1 is a side view showing a schematic view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view of the substrate processing apparatus of FIG. 1.
FIG. 3 is a view showing a state in which the horizontal rotating member of FIG. 2 rotates.

이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 처리 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다. 따라서 도면에서의 도시된 구성 요소의 형상 등은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장된 것이다. Hereinafter, a substrate processing apparatus according to a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In describing the present invention, when it is determined that a detailed description of a related known configuration or function may obscure the subject matter of the present invention, a detailed description thereof will be omitted. Accordingly, the shapes of the components illustrated in the drawings are exaggerated to emphasize a clearer description.

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치의 개략적인 모습을 도시한 측면도이고, 도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 사시도이고, 도 3은 도 2의 수평 회동 부재가 회동하는 모습을 보여주는 도면이다. 1 is a side view showing a schematic view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of the substrate processing apparatus of FIG. 1, and FIG. 3 is a view in which the horizontal rotating member of FIG. 2 rotates It is a drawing showing.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 기판 처리 장치(10)는 이송 유닛(100)과 감지 센서(200)를 포함한다. 1 to 3, the substrate processing apparatus 10 includes a transfer unit 100 and a detection sensor 200.

이송 유닛(100)은 이송 샤프트(140)를 갖는다. 이송 샤프트(140)는 기판(S)이 이송되는 제1 방향(D1)을 따라 서로 나란하게 이격되어 복수개가 배열된다. 각각의 이송 샤프트(140)의 외주면에는 그 길이 방향을 따라 다수의 롤러(120)가 설치된다. 롤러(120)는 이송 샤프트(140)에 균등한 간격으로 배치될 수 있다. 롤러(120)는 이송 샤프트(140)에 고정결합된다. 이송 샤프트(140)는 그 중심축을 기준으로 구동부에 의해 회전된다. 이송 샤프트(140)가 회전하면 복수의 롤러(120)도 함께 회전한다. 구동부에 의해 이송 샤프트(140)와 롤러(120)가 회전되면, 기판(S)은 그 하면이 롤러(120)에 접촉된 상태로 이송 샤프트(140)를 따라 직선 이동된다.The transfer unit 100 has a transfer shaft 140. A plurality of transfer shafts 140 are arranged parallel to each other along the first direction D1 in which the substrate S is transferred. A plurality of rollers 120 are installed on the outer circumferential surface of each transfer shaft 140 along its longitudinal direction. The rollers 120 may be disposed on the transfer shaft 140 at equal intervals. The roller 120 is fixedly coupled to the transfer shaft 140. The transfer shaft 140 is rotated by a driving unit about its central axis. When the transfer shaft 140 rotates, the plurality of rollers 120 rotate together. When the transfer shaft 140 and the roller 120 are rotated by the driving unit, the substrate S is linearly moved along the transfer shaft 140 with its lower surface in contact with the roller 120.

감지 센서(200)는 이송되는 기판(S)을 감지한다. 감지 센서(200)는 이송 유닛(100)의 일측에 상부에서 바라볼 때 제1 방향(D1)과 수직한 제2 방향(D2)으로 설치된다. The detection sensor 200 detects the transferred substrate S. The detection sensor 200 is installed on one side of the transfer unit 100 in a second direction D2 perpendicular to the first direction D1 when viewed from above.

감지 센서(200)는 몸체(210), 수평 회동 부재(220), 수평 롤러(230), 자성체(240), 그리고 자기센서(250)를 포함한다. The detection sensor 200 includes a body 210, a horizontal rotating member 220, a horizontal roller 230, a magnetic body 240, and a magnetic sensor 250.

몸체(210)에는 감지 센서(200)의 각 구성 요소들이 설치된다. 몸체(210)는 일측면이 개구된 직육면체 형상으로 제공될 수 있다. 몸체(210)의 하부에는 결합부재(260)가 배치된다. 결합부재(250)는 이송 샤프트(140)의 일단이 위치되는 프레임(미도시)상에 결합되어 몸체(210)가 프레임상에 설치될수 있도록 한다.Each component of the detection sensor 200 is installed in the body 210. The body 210 may be provided in a rectangular parallelepiped shape with one side open. A coupling member 260 is disposed under the body 210. The coupling member 250 is coupled on a frame (not shown) in which one end of the transfer shaft 140 is positioned so that the body 210 can be installed on the frame.

도 3에 도시된 바와 같이, 수평 회동 부재(220)는 몸체(210)의 내부에 수직축(222)을 중심으로 수평 방향으로 회동 가능하게 설치된다. 수평 회동 부재(220)의 일단에는 자석(224)을 갖는다. 자석(224)은 수평 회동 부재(222)의 일단의 양측면에 각각 배치될 수 있다. 또한, 자석(224)은 수평 회동 부재(222)의 일단에 삽입되어 양측면이 외부로 드러나게 위치될 수도 있다. As shown in FIG. 3, the horizontal rotating member 220 is installed in the body 210 so as to be rotatable in a horizontal direction around a vertical axis 222. One end of the horizontal rotating member 220 has a magnet 224. Magnets 224 may be disposed on both side surfaces of one end of the horizontal rotation member 222, respectively. Further, the magnet 224 may be inserted into one end of the horizontal rotating member 222 so that both sides thereof are exposed to the outside.

수평 롤러(230)는 이송되는 기판(S) 측으로 수평 회동 부재(220)의 타단에 설치된다. 도 1을 참조하면, 수평 롤러(230)는 이송되는 기판(S)과 접촉하여 회전된다. 수평 롤러(230)는 먼저 이송되는 기판(S)의 정면과 접촉된 후, 점점 기판(S)이송됨에 따라 수평 회동 부재(22)가 수평 회전과 동시에 기판(S)의 측면과 접촉되면서 회전한다. 수평 롤러(230)는 이송되는 기판(S)과 접촉되는 부분의 폭을 넓게 형성한다. 이는 수평 롤러(230)와 기판(S)의 접촉을 용이하게 하여 감지 센서(200)의 성능을 향상시키기 위함이다. The horizontal roller 230 is installed at the other end of the horizontal rotating member 220 toward the substrate S to be transferred. Referring to Figure 1, the horizontal roller 230 is rotated in contact with the substrate (S) to be transferred. The horizontal roller 230 first contacts the front surface of the substrate S to be transferred, and then gradually rotates while the horizontal rotation member 22 contacts the side of the substrate S at the same time as the horizontal rotation as the substrate S is transferred. . The horizontal roller 230 forms a wider width of a portion in contact with the substrate S to be transferred. This is to improve the performance of the detection sensor 200 by facilitating contact between the horizontal roller 230 and the substrate S.

자성체(240)는 수평 회동 부재(220)에 위치되는 자석(240)과 대응되도록 몸체(210)의 양 측벽에 배치된다. 즉, 자성체(240)는 제1 자석(241)과 제2 자석(242)을 포함한다. 도시된 바와 같이, 제1 자석(241)과 제2 자석(242)은 수평 회동 부재(220)의 회동 운동의 전후 방향에 각각 배치된다. 자성체(240)는 자석(240)과의 상호작용으로 발생된 척력으로 수평 회동 부재를 회동 상태(S2)에서 정지 상태(S1)로 복귀시킨다. 따라서, 제1 자석(241) 및 제2 자석(242)은 수평 회동 부재(220)의 일단에 구비되는 자석(224)의 극성과 동일한 극성을 갖도록 배치된다. The magnetic body 240 is disposed on both side walls of the body 210 so as to correspond to the magnet 240 located on the horizontal rotating member 220. That is, the magnetic body 240 includes a first magnet 241 and a second magnet 242. As shown, the first magnet 241 and the second magnet 242 are disposed in the front and rear directions of the horizontal rotation member 220, respectively. The magnetic body 240 returns the horizontal rotating member from the rotating state (S2) to the stationary state (S1) by the repulsive force generated by the interaction with the magnet (240). Accordingly, the first magnet 241 and the second magnet 242 are disposed to have the same polarity as that of the magnet 224 provided at one end of the horizontal rotating member 220.

자기센서(250)는 수평 회동 부재(220)의 일단에서 이격되어 몸체(210)에 배치된다. 도 3을 참조하면, 수평 회동 부재(220)가 일측의 수평 방향으로 회전되면(S2), 수평 회동 부재(220)의 일단에 위치한 자석(224)은 타측의 수평 방향으로 회전된다. 자석(224)이 회전됨에 따라 자기센서(250)에 자기장의 변화가 발생되며, 그 결과 기판(S)이 감지 센서(200)가 설치된 위치에 도달한 것이 감지된다. The magnetic sensor 250 is spaced apart from one end of the horizontal rotating member 220 and is disposed on the body 210. 3, when the horizontal rotation member 220 is rotated in the horizontal direction on one side (S2), the magnet 224 located at one end of the horizontal rotation member 220 is rotated in the horizontal direction on the other side. As the magnet 224 rotates, a change in the magnetic field occurs in the magnetic sensor 250, and as a result, it is sensed that the substrate S reaches the position where the detection sensor 200 is installed.

즉, 감지된 신호는 자기센서(250)에 의해 증폭되어 원거리에 위치한 제어부(미도시)로 전달되고, 상기 제어부에서는 이를 표시장치 등에 표시하여 기판(S)의 이송 여부를 체크할 수 있다.That is, the detected signal is amplified by the magnetic sensor 250 and transmitted to a remote control unit (not shown), and the control unit displays the detected signal on a display device or the like to check whether the substrate S is transferred.

기판(S)의 이송이 완료되면 수평 회동 부재(220)는 자석(224)과 자성체(240)의 제2 자석(242)의 척력에 의해, 다시 원위치인 정지 상태(S1)로 복귀한다. 제1 자석(241)은 수평 회동 부재(220)가 원래 정지 상태(S1)이상으로 지나치게 복귀되었을 때, 다시 척력을 통해 원래의 정지 상태(S1)에 위치할 수도 있도록 작용한다. When the transfer of the substrate S is completed, the horizontal rotating member 220 returns to its original position in the stopped state S1 by the repulsive force of the magnet 224 and the second magnet 242 of the magnetic body 240. The first magnet 241 acts so that when the horizontal rotating member 220 is excessively returned to the original stop state (S1) or more, it may be located in the original stop state (S1) through repulsive force again.

따라서, 본 발명은 수평 회동 부재(220)는 자력에 의해 강제적으로 수평 정지 상태(S1)로 복귀하게 된다. Accordingly, in the present invention, the horizontal rotating member 220 is forcibly returned to the horizontal stop state (S1) by magnetic force.

본 발명에 따라 기판의 이송 여부를 감지하는 방법은 다음과 같다. A method of detecting whether a substrate is transferred according to the present invention is as follows.

먼저, 일단에 자석(224)을 갖는 수평 회동 부재(220)의 타단에 설치된 수평 롤러(230)가 이송되는 기판(S)과 접촉하여 수평 회동 부재(220)가 일측의 수평 방향으로 회동한다. 이후, 수평 회동 부재(220)의 일단에서 이격되어 몸체(210)에 배치된 자기센서(250)가 자석(224)의 움직임에 따른 자기의 변화를 감지하여 기판의 이송 여부를 센싱한다. 그 다음에는, 수평 회동시 수평 회동 부재(220)에 자성체(240)를 통해 자기적 척력을 발생시켜 수평 회동 부재(220)를 초기의 수평 정지 상태(S1)로 복귀시킨다. First, the horizontal roller 230 installed at the other end of the horizontal rotating member 220 having a magnet 224 at one end contacts the substrate S to be transferred, and the horizontal rotating member 220 rotates in the horizontal direction on one side. Thereafter, the magnetic sensor 250 spaced from one end of the horizontal rotating member 220 and disposed on the body 210 detects a change in magnetism according to the movement of the magnet 224 to sense whether the substrate is transferred. Then, when the horizontal rotation member 220 generates a magnetic repulsive force through the magnetic body 240, the horizontal rotation member 220 returns to the initial horizontal stop state (S1).

상기 자기적 척력은 수평 회동 부재(220)의 수평 회동의 전후 방향에서 작용한다. The magnetic repulsive force acts in the front-rear direction of the horizontal rotation of the horizontal rotation member 220.

상술한 바와 같이, 본 발명은 기판의 이송 여부를 감지하는 감지 센서(200)를 종래의 수직 설치와 달리, 수평 방향으로 설치하여 기판의 측면을 감지할 수 있도록 한다. 이러한 감지 센서(200)의 수평 배치는 기판 이송의 경사 각도 및 높이에 따른 세팅용 지그가 불필요하며 최단거리 조작측에 설치하여 유지관리가 용이하다. 이와 같이, 본 발명은 설치가 용이하면서도 기판의 이송 여부를 양호하게 감지할 수 있다. 또한, 본 발명은 기판의 파손 또는 기판 이송의 미감지로 인한 공정 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다. As described above, in the present invention, unlike the conventional vertical installation, the detection sensor 200 for detecting whether the substrate is transferred is installed in a horizontal direction so that the side surface of the substrate can be detected. The horizontal arrangement of the detection sensor 200 does not require a jig for setting according to the inclination angle and height of the substrate transfer, and is installed at the shortest distance operation side to facilitate maintenance. As described above, the present invention is easy to install and can detect whether or not the substrate is transferred. In addition, the present invention can prevent the occurrence of process defects due to damage to the substrate or failure to detect the transfer of the substrate.

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다. The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains will be able to make various modifications and variations without departing from the essential characteristics of the present invention. Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain the technical idea, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

10 : 기판 처리 장치 100 : 이송 유닛
120 : 롤러 140 : 이송 샤프트
200 : 감지 센서 210 : 몸체
220 : 수평 회동 부재 222 : 수직축
224 : 자석 230 : 수평 롤러
240 : 자성체 241 : 제1 자석
242 : 제2 자석 250 : 자기센서10 substrate processing apparatus 100 transfer unit
120: roller 140: transfer shaft
200: detection sensor 210: body
220: horizontal rotating member 222: vertical axis
224: magnet 230: horizontal roller
240: magnetic body 241: first magnet
242: second magnet 250: magnetic sensor

Claims (5)

기판을 처리하는 장치에 있어서,
기판이 이송되는 제1 방향을 따라 나란하게 배열되며, 기판의 하면과 접촉되는 다수의 롤러가 설치된 회전가능한 복수의 이송 샤프트를 갖는 이송 유닛과,
상기 이송 유닛의 일측에 상부에서 바라볼 때 상기 제1 방향과 수직한 제2 방향으로 설치되어, 이송되는 기판을 감지하는 감지 센서를 포함하되,
상기 감지 센서는,
몸체와,
상기 몸체의 내부에 수직축을 중심으로 수평 방향으로 회동 가능하게 설치되고, 일단에 자석을 갖는 수평 회동 부재와,
이송되는 기판 측으로 상기 수평 회동 부재의 타단에 설치되어 이송되는 기판과 접촉하여 회전되는 수평 롤러와,
상기 몸체에 배치되어 상기 자석과의 상호작용으로 발생된 척력으로 상기 수평 회동 부재를 회동 상태에서 정지 상태로 복귀시키는 자성체와,
상기 수평 회동 부재의 일단에서 이격되어 상기 몸체에 배치되는 자기센서를 포함하고,
기판이 상기 수평 롤러에 접촉되는 경우 상기 수평 회동 부재는 정지 상태에서 수평 방향으로 회동하는 기판 처리 장치.In the apparatus for processing a substrate,
A transfer unit having a plurality of rotatable transfer shafts arranged side by side along a first direction in which the substrate is transferred, and having a plurality of rollers in contact with the lower surface of the substrate;
It includes a detection sensor installed on one side of the transfer unit in a second direction perpendicular to the first direction when viewed from above, and senses a transferred substrate,
The detection sensor,
Body,
A horizontal rotating member installed in the body to be rotatable in a horizontal direction around a vertical axis and having a magnet at one end,
A horizontal roller installed at the other end of the horizontal rotating member toward the substrate to be transported and rotated in contact with the transported substrate;
A magnetic body disposed on the body to return the horizontal rotating member from a rotating state to a stationary state by a repulsive force generated by an interaction with the magnet;
And a magnetic sensor spaced apart from one end of the horizontal rotating member and disposed on the body,
When the substrate is in contact with the horizontal roller, the horizontal rotation member rotates in a horizontal direction from a stationary state. 제 1항에 있어서,
상기 자성체는,
상기 수평 회동 부재의 회동 운동의 전후 방향에 각각 배치된 제1 자석과 제2 자석을 포함하는 기판 처리 장치.The method of claim 1,
The magnetic body,
A substrate processing apparatus comprising: a first magnet and a second magnet respectively disposed in a front-rear direction of the rotational motion of the horizontal rotation member. 제 2항에 있어서,
상기 제1 자석 및 상기 제2 자석은,
상기 수평 회동 부재의 일단에 구비되는 상기 자석의 극성과 동일한 극성을 갖는 기판 처리 장치.The method of claim 2,
The first magnet and the second magnet,
A substrate processing apparatus having the same polarity as that of the magnet provided at one end of the horizontal rotating member. 삭제delete 삭제delete
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