KR102201295B1

KR102201295B1 - Vapor filter

Info

Publication number: KR102201295B1
Application number: KR1020190049319A
Authority: KR
Inventors: 김시습; 곽재찬
Original assignee: 주식회사 플레이티지
Priority date: 2019-04-26
Filing date: 2019-04-26
Publication date: 2021-01-12
Anticipated expiration: 2039-04-26
Also published as: KR20200125276A

Abstract

본 발명은 증기 여과장치를 개시한다. 본 발명은 소스 가스의 출입을 위한 입구와 출구를 양단에 인라인상으로 갖는 실린더형 하우징; 이 하우징과의 사이에 소스 가스의 유동공간을 형성하도록 하우징의 내부에 동심원 상으로 구비되는 실린더형 필터 여재; 이 필터 여재를 소정온도로 가열 유지시키는 히터; 및 필터 여재의 온도를 감지하여 히터의 작동을 제어하기 위한 온도센서;를 포함한다. 필터 여재의 내부에는 히터에서 발생된 열을 필터 여재로 전달하는 열전달부재를 더 포함하여 필터 여재의 균일하고 효율적인 가열을 확보할 수 있다. 열전달부재는 일단에 하우징의 출구와 연통하는 가스통로를 가지고, 외주에 가스통로와 연통하는 다수의 통공을 갖는 알루미늄으로 이루어질 수 있다.
본 발명은, 기판상에 박막 증착을 위하여 반응챔버로 이송되는 공정가스 등으로부터 기화가 부족한 미스트나 미세한 불순물을 확실하게 제거할 수 있음은 물론 소정의 설정온도를 정확히 유지함으로써 이를 지나는 소스 가스가 온도저하로 인해 액화되는 현상을 확실하게 방지할 수 있다.The present invention discloses a vapor filtering device. The present invention is a cylindrical housing having an inlet and an outlet for inlet and out of the source gas inline at both ends; A cylindrical filter media provided concentrically inside the housing to form a flow space of the source gas between the housing; A heater for heating and maintaining the filter media at a predetermined temperature; And a temperature sensor for controlling the operation of the heater by sensing the temperature of the filter media. The inside of the filter media may further include a heat transfer member for transferring heat generated from the heater to the filter media to ensure uniform and efficient heating of the filter media. The heat transfer member may be made of aluminum having a gas passage at one end communicating with the outlet of the housing, and having a plurality of through holes communicating with the gas passage at the outer periphery.
The present invention can reliably remove mist or fine impurities lacking vaporization from the process gas transferred to the reaction chamber for deposition of a thin film on a substrate, as well as accurately maintaining a predetermined set temperature so that the source gas passing through it is The phenomenon of liquefaction due to deterioration can be reliably prevented.

Description

Vapor filter {Vapor filter}

본 발명은 가스류에 포함되어 있는 극히 작은 입자를 제거하기 위한 증기 여과장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 예컨대 기판상에 박막 증착을 위하여 반응챔버로 가열 이송되는 공정가스 등으로부터 기화가 부족한 미스트(mist)나 미세한 불순물을 필터링하는 장치가 소정의 설정온도를 정확히 유지토록 함으로써 이를 지나는 가스가 온도저하로 인해 액화되는 현상을 확실하게 방지할 수 있는 증기 여과장치에 관한 것이다.The present invention relates to a vapor filtration device for removing extremely small particles contained in a gas stream, and more particularly, mist that lacks vaporization from a process gas heated and transferred to a reaction chamber for deposition of a thin film on a substrate. The present invention relates to a vapor filtering device capable of reliably preventing a phenomenon in which a gas passing through it is liquefied due to a decrease in temperature by accurately maintaining a predetermined set temperature by a device for filtering mist or fine impurities.

반도체 제조공정이나 디스플레이패널 제조공정에서는 기판 위에 박막(薄膜)을 증착시킨 후 패턴을 식각하는 방법이 사용되고 있다. 이러한 박막 증착은 화학적 기상증착(CVD), 플라즈마 강화 화학적 기상증착(PECVD) 또는 원자 층 증착(ALD) 등과 같은 가스 상(gas phase) 공정을 통하여 수행되는 것이 일반적이다.In a semiconductor manufacturing process or a display panel manufacturing process, a method of etching a pattern after depositing a thin film on a substrate is used. Such thin film deposition is generally performed through a gas phase process such as chemical vapor deposition (CVD), plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), or atomic layer deposition (ALD).

예를 들어 반도체 제조과정은 공정이 수행될 수 있는 공간을 제공하는 프로세스 챔버의 내부에 웨이퍼(wafer)를 투입하고, 이 웨이퍼 상에 박막의 증착과 식각을 수행하기 위해서 작업분위기를 형성하는 실란(silane), 아르신(arsine) 및 염화붕소와 수소 등의 공정가스를 챔버 내부로 주입한 후 칩 제조 프로세스를 수행하게 된다.For example, in the semiconductor manufacturing process, a wafer is put into a process chamber that provides a space in which the process can be performed, and silane (silane) that forms a working atmosphere in order to deposit and etch a thin film on the wafer. After injecting process gases such as silane, arsine, boron chloride and hydrogen into the chamber, a chip manufacturing process is performed.

이와 같이 박막 증착을 위해 사용되는 공정가스는 반도체 공정의 미세화에 따라 높아지는 종횡비(aspect ratio)를 갖는 패턴(pattern)의 단차 피복성을 좋게 하기 위하여 리퀴드 소스(liquide source)가 많이 사용되고 있다. 리퀴드 소스들은 증기압이 낮기 때문에 증발기(vaporizer)를 통해 기화시킨 뒤, 기화된 가스를 프로세스 챔버까지 가스라인을 통하여 이동시킨다.As for the process gas used for thin film deposition as described above, a liquid source is widely used in order to improve the step coverage of a pattern having an aspect ratio that increases with the miniaturization of a semiconductor process. Since liquid sources have low vapor pressure, they vaporize through an evaporator and then move the vaporized gas to the process chamber through a gas line.

이때, 가스라인의 온도가 낮으면 기화된 소스 가스가 다시 응축되어 챔버로 공급되는 소스 가스의 양이 감소하게 됨으로써 박막 증착에 불량을 유발하게 되는 바, 가스라인을 히터재킷(heater jacket)으로 감싸서 온도를 유지시키고 있다.At this time, if the temperature of the gas line is low, the vaporized source gas is condensed again and the amount of the source gas supplied to the chamber decreases, causing defects in thin film deposition.The gas line is wrapped with a heater jacket. Maintaining the temperature.

한편, 반도체 소자의 불량을 야기시키는 원인으로 파티클(particle)이 지목되면서 불량을 방지하기 위해 기화시킨 소스 가스를 챔버까지 이송하는 중간에 기화가 부족한 미스트나 불순물 등을 걸러주기 위한 여과장치를 많이 사용하고 있다.On the other hand, in order to prevent defects as particles are pointed out as a cause of defects in semiconductor devices, a filtration device is often used to filter out mist or impurities that lack vaporization in the middle of transferring the vaporized source gas to the chamber. Are doing.

이 여과장치는 전후단의 차압이 클 경우 기화되었던 소스 가스가 필터 소자를 통과히기 전에 압력상승으로 인해 액화가 진행되므로 차압이 작으면서도 충분한 여과기능을 갖는 장치가 사용된다.In this filtration device, when the differential pressure at the front and rear ends is large, liquefaction proceeds due to the pressure increase before the vaporized source gas passes through the filter element, so a device having a small differential pressure and sufficient filtration function is used.

특허문헌 1에는 공급되는 공정 가스 중의 불순물을 제거하기 위한 종래 가스 여과장치로서의 직렬형 필터가 개시되어 있다.Patent Document 1 discloses a series-type filter as a conventional gas filtering device for removing impurities in a supplied process gas.

특허문헌 1의 내용을 살펴보면, 하우징의 길이를 따라 연장하는 챔버와, 일단부에, 상기 챔버로의 유입을 위한 흐름 통로를 제공하는 유입 단부와, 타단부에, 상기 챔버로부터의 유출을 위한 흐름 통로를 제공하는 유출 단부를 포함하는 하우징과, 상기 하우징의 유입 단부에 인접한 단부측에서 개방되어 있는 관형 본체와 상기 하우징의 유출 단부에 인접한 타단부측에 단부벽을 포함하며, 상기 챔버 내에 배치되어 있는 다공질의 소결 금속 필터 요소와, 상기 필터 요소의 외주와 입구에 인접한 하우징 사이를 기밀하게 밀봉하는 용접부를 구비하는 직렬형 필터로서, 상기 관형 본체의 개방 단부는 유입 단부측에 있으며, 상기 필터 요소의 내부에는 입구로부터 단부벽에 이르기까지 연장하는 내부 흐름 통로가 마련되어 있으며, 상기 필터 요소는 챔버의 벽으로부터 일정 간격을 두고 배치되어 그 주변에 플리넘 공간이 마련되며, 이에 따라 상기 필터의 입구로 유입되는 가스류는 필터 요소의 내부 흐름 통로를 통하여, 필터 요소의 본체로부터 외측으로 플리넘 공간내로 향하고, 그 후 필터의 출구로부터 외측으로 흐르는 것을 특징으로 하는 직렬형 필터임을 알 수 있다.Looking at the contents of Patent Document 1, a chamber extending along the length of the housing, at one end, an inlet end providing a flow path for entering the chamber, and at the other end, a flow for outflow from the chamber. A housing including an outlet end providing a passage, a tubular body opened at an end side adjacent to the inlet end of the housing, and an end wall at the other end side adjacent to the outlet end of the housing, and disposed in the chamber A series-type filter having a porous sintered metal filter element and a weld hermetically sealing an outer periphery of the filter element and a housing adjacent to the inlet, wherein the open end of the tubular body is at the inlet end side, and the filter element Is provided with an internal flow passage extending from the inlet to the end wall, and the filter element is disposed at a predetermined distance from the wall of the chamber to provide a plenum space around it, and thus to the inlet of the filter. It can be seen that the incoming gas flow is a serial type filter characterized in that it flows outward from the body of the filter element into the plenum space through the inner flow passage of the filter element, and then flows outward from the outlet of the filter.

이러한 특허문헌 1은, 필터의 입구로 유입되는 가스류는 필터 요소의 내부 흐름 통로를 통하여, 필터 요소의 본체로부터 외측으로 플리넘 공간내로 향하고, 그 후 필터의 출구로부터 외측으로 흐르게 된다.In this patent document 1, the gas flow flowing into the inlet of the filter flows outward from the main body of the filter element into the plenum space through the internal flow passage of the filter element, and then flows outward from the outlet of the filter.

이와 같은 특허문헌 1 역시 여과장치로서의 필터의 구조상 필터가 충분한 온도를 유지하기 어려워 소스 가스에 온도저하가 유발될 수 있고, 이와 함께 여과장치가 갖는 차압의 복합작용으로 소스 가스가 여과장치에서 액화되는 경우가 종종 발생하기도 한다.Patent Document 1, too, may cause a temperature drop in the source gas due to the fact that the filter is difficult to maintain a sufficient temperature due to the structure of the filter as a filtration device. Sometimes it happens.

이 경우, 전술한 바와 같이 챔버내로 공급되는 소스 가스의 양이 감소하여 웨이퍼에 대한 증착불량이 야기되는 등 반도체 제조에 여러 가지 트러블을 발생시킬 수 있다.In this case, as described above, the amount of the source gas supplied into the chamber is reduced, resulting in defective deposition on the wafer, and various problems may occur in semiconductor manufacturing.

1. 한국 공개특허 제10-2001-0021769호.1. Korean Patent Application Publication No. 10-2001-0021769.

본 발명은 전술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로서, 예를 들어 기판상에 박막 증착을 위하여 반응챔버로 이송되는 공정가스 등으로부터 기화가 부족한 미스트나 미세한 불순물을 확실하게 제거할 수 있음은 물론 소정의 설정온도를 정확히 유지함으로써 이를 지나는 소스 가스가 온도저하로 인해 액화되는 현상을 확실하게 방지할 수 있는 증기 여과장치를 제공함에 그 목적이 있다.The present invention was devised to solve the above-described conventional problem, and it is possible to reliably remove mist or fine impurities lacking vaporization from the process gas transferred to the reaction chamber for thin film deposition on a substrate. Of course, it is an object of the present invention to provide a vapor filtering device capable of reliably preventing a phenomenon in which a source gas passing through it is liquefied due to a decrease in temperature by accurately maintaining a predetermined set temperature.

이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 증기 여과장치는, 소스 가스의 출입을 위한 입구와 출구를 양단에 인라인상으로 갖는 실린더형 하우징; 상기 하우징과의 사이에 소스 가스의 유동공간을 형성하도록 상기 하우징의 내부에 동심원 상으로 구비되는 실린더형 필터 여재; 상기 필터 여재를 소정온도로 가열 유지시키는 히터; 상기 필터 여재의 온도를 감지하여 상기 히터의 작동을 제어하기 위한 온도센서; 및 상기 필터 여재의 내부에 설치되고, 일단에 상기 하우징의 출구와 연통하는 가스통로를 가지고, 외주에 상기 가스통로와 연통하는 다수의 통공을 갖는 알루미늄으로 이루어져서, 상기 히터에서 발생된 열을 필터 여재로 전달하는 열전달부재; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.A vapor filtering apparatus according to the present invention for achieving this object includes: a cylindrical housing having an inlet and an outlet for entering and exiting a source gas in an inline shape at both ends; A cylindrical filter media provided concentrically in the housing to form a flow space of the source gas between the housing; A heater for heating and maintaining the filter media at a predetermined temperature; A temperature sensor for controlling the operation of the heater by sensing the temperature of the filter media; And aluminum installed inside the filter media, having a gas passage at one end communicating with the outlet of the housing, and having a plurality of through holes communicating with the gas passage at an outer periphery, so that heat generated from the heater A heat transfer member for transferring to; It characterized in that it comprises a.

이러한 본 발명은, 필터 여재의 내부에 히터에서 발생된 열을 필터 여재로 전달하는 열전달부재를 더 포함하여 필터 여재의 균일하고 효율적인 가열을 확보할 수 있다.The present invention may further include a heat transfer member for transferring heat generated from the heater to the filter media in the filter media, thereby ensuring uniform and efficient heating of the filter media.

본 발명의 다른 바람직한 특징에 의하면, 히터가 열전달부재의 외주에 방사상으로 배치되는 복수개로 이루어져서 필터 여재를 보다 균일하게 가열할 수 있다.According to another preferred feature of the present invention, a plurality of heaters are arranged radially on the outer periphery of the heat transfer member, so that the filter media can be heated more uniformly.

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본 발명의 또 다른 바람직한 특징에 의하면, 온도센서는 고온에 적합한 서모커플(thermocouple)이 사용될 수 있다.According to another preferred feature of the present invention, a thermocouple suitable for high temperature may be used as the temperature sensor.

이와 같이 구성된 본 발명에 의한 증기 여과장치에 의하면, 필터 여재의 온도를 감지하여 히터의 작동을 적절히 제어할 수 있으므로 기판상에 박막 증착을 위하여 반응챔버로 이송되는 공정가스 등으로부터 반도체 소자의 불량을 야기시키는 미스트나 미세한 불순물을 확실하게 제거할 수 있으면서 필터 여재의 온도를 소정의 설정온도로 정확히 유지시킬 수 있게 된다.According to the vapor filtration apparatus according to the present invention configured as described above, since the operation of the heater can be properly controlled by sensing the temperature of the filter media, defects of the semiconductor element are prevented from the process gas transferred to the reaction chamber for thin film deposition on the substrate. While it is possible to reliably remove the resulting mist or fine impurities, the temperature of the filter media can be accurately maintained at a predetermined set temperature.

이에 따라 여과장치를 지나는 소스 가스의 온도저하를 효과적으로 방지할 수 있어 소스 가스가 이송라인을 가열하는 히팅자켓의 존재에도 불구하고 여과장치에서 종종 액화되는 현상을 확실하게 방지할 수 있다.Accordingly, it is possible to effectively prevent a temperature drop of the source gas passing through the filtering device, and thus it is possible to reliably prevent the phenomenon that the source gas is often liquefied in the filtering device despite the presence of a heating jacket for heating the transfer line.

도 1은 본 발명에 의한 증기 여과장치의 정면도,
도 2는 본 발명에 의한 증기 여과장치의 측면도,
도 3은 도 2의 A-A선을 따라 취한 단면도,
도 4는 도 3의 B-B선을 따라 취한 단면도,
도 5는 본 발명에 의한 증기 여과장치의 열전달부재의 다른 형태를 보인 단면도이다.1 is a front view of a vapor filtering device according to the present invention,
2 is a side view of the vapor filtering device according to the present invention,
3 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 2;
4 is a cross-sectional view taken along line BB of FIG. 3;
5 is a cross-sectional view showing another form of the heat transfer member of the vapor filtering device according to the present invention.

이와 같은 본 발명의 구체적 특징과 다른 이점들은 첨부된 도면을 참조한 이하의 바람직한 실시예의 설명으로 더욱 명확해질 것이다.These specific features and other advantages of the present invention will become more apparent from the description of the following preferred embodiments with reference to the accompanying drawings.

도 1 내지 도 4에서, 본 발명에 의한 증기 여과장치(1)는, 소스 가스의 출입을 위한 입구(14)와 출구(15)를 양단에 인라인상으로 갖는 실린더형 하우징(10)과, 이 하우징(10)과의 사이에 소스 가스의 유동공간(18)을 형성하도록 하우징(10)의 내부에 동심원 상으로 구비되는 실린더형 필터 여재(20)와, 이 필터 여재(20)를 소정온도로 가열 유지시키는 히터(30) 및 필터 여재(20)의 온도를 감지하여 히터(30)의 작동을 제어하기 위한 온도센서(40)를 포함하여 구성된다.1 to 4, the vapor filtering device 1 according to the present invention comprises a cylindrical housing 10 having an inlet 14 and an outlet 15 for inlet and outlet of a source gas in line at both ends, and A cylindrical filter media 20 provided concentrically inside the housing 10 so as to form a flow space 18 of the source gas between the housing 10 and the filter media 20 to a predetermined temperature. It is configured to include a temperature sensor 40 for controlling the operation of the heater 30 by sensing the temperature of the heater 30 and the filter media 20 to maintain heating.

하우징(10)은 원통형의 몸체(11) 양단에 이를 차폐하는 엔드피스(end pieces:12)(13)를 각각 구비하고, 이들 엔드피스(12)(13)의 중앙에 소스 가스를 이송하는 가스라인(L)에 연결되어서 소스 가스가 출입할 수 있는 입구(14)(15)를 각각 갖는다.The housing 10 is provided with end pieces 12 (13) shielding it at both ends of the cylindrical body 11, and gas for transferring the source gas to the center of these end pieces 12 and 13 It is connected to the line (L) and has an inlet (14, 15) through which the source gas can enter.

그리고 출구(15)가 형성된 엔드피스(13)의 내측면에는 히터(30)가 삽입 장착되는 복수의 히터포켓(16)과 온도센서(40)가 삽입 장착되는 하나의 센서포켓(17)이 일정각도 간격으로 구비된다.In addition, a plurality of heater pockets 16 into which the heater 30 is inserted and mounted and one sensor pocket 17 into which the temperature sensor 40 is inserted are fixed on the inner surface of the end piece 13 on which the outlet 15 is formed. It is provided at angular intervals.

히터포켓(16)과 센서포켓(17)은 원통형으로 이루어진 필터 여재(20)의 내주에 접촉하며, 필터 여재(20)의 온도를 정확히 감지하고 균일하게 가열할 수 있도록 대략 필터 여재(20)의 길이에 대응하는 충분한 길이로 형성된다.The heater pocket 16 and the sensor pocket 17 are in contact with the inner circumference of the filter media 20 made of a cylindrical shape, and approximately the filter media 20 so that the temperature of the filter media 20 can be accurately sensed and heated uniformly. It is formed with a sufficient length corresponding to the length.

필터 여재(20)는 여러 가지 형태로 이루어질 수 있으며, 예를 들어 스테인리스강 등의 금속분말이나 파이버(Fyber)를 소결하여 소스 가스를 여과할 수 있도록 미세기공을 갖는 다공성 필터 여재로 구성될 수 있다.The filter media 20 may be formed in various forms, for example, may be composed of a porous filter media having micropores to filter the source gas by sintering a metal powder or fiber such as stainless steel. .

원통형의 필터 여재(20)는 후단, 즉 하우징(10)의 출구(15) 쪽에 위치한 단부가 출구(15)를 갖는 하우징(10)의 엔드피스(13)에 고정됨으로써 하우징(10)의 내부에 동심원 상으로 설치된다.The cylindrical filter media 20 is fixed to the end piece 13 of the housing 10 having the outlet 15 at the rear end, that is, the end located at the outlet 15 side of the housing 10. It is installed in a concentric circle.

그리고 하우징(10)의 입구(13) 쪽에 위치한 원통형 필터 여재(20)의 단부는 하우징(10)의 내부로 유입된 소스 가스가 하우징(10)과 필터 여재(20) 사이에 형성된 유동공간(18)을 통해 필터 여재(20)의 둘레 쪽으로 흐를 수 있도록 엔드캡(21)으로 폐쇄된다.And the end of the cylindrical filter media 20 located on the inlet 13 side of the housing 10 is a flow space 18 formed between the housing 10 and the filter media 20 by the source gas flowing into the housing 10. It is closed with the end cap 21 so that it can flow toward the circumference of the filter media 20 through ).

히터(30)는 복수개, 도시된 예에서는 3개가 구비되어서 하우징(10)의 후단쪽 엔드피스(13)에 형성된 복수의 히터포켓(16)에 각각 삽입됨으로써 필터 여재(20)의 내주에 소정각도 간격으로 배열 접촉된다.A plurality of heaters 30, in the illustrated example, three are provided, and are inserted into a plurality of heater pockets 16 formed on the end piece 13 at the rear end of the housing 10 at a predetermined angle to the inner periphery of the filter media 20 Arranged contacts at intervals.

각 히터(30)는 외부의 전원에 접속되고, 소정의 제어신호에 따라 작동됨으로써 필터 여재(20)를 소정의 설정온도로 가열 유지시킨다.Each heater 30 is connected to an external power source and is operated according to a predetermined control signal to heat and maintain the filter media 20 at a predetermined set temperature.

온도센서(40) 역시 하우징(10)의 출구(15) 쪽 엔드피스(13)에 구비된 하나의 센서포켓(17)에 삽입됨으로써 필터 여재(20)의 내주에 접촉되어 그 온도를 측정하고, 측정된 필터 여재(20)의 온도에 따라 각 히터(30)의 작동을 제어한다.The temperature sensor 40 also contacts the inner periphery of the filter media 20 by being inserted into one sensor pocket 17 provided in the end piece 13 at the outlet 15 side of the housing 10 to measure the temperature, The operation of each heater 30 is controlled according to the measured temperature of the filter media 20.

즉, 온도센서(40)에 의해 감지된 필터 여재(20)의 온도가 설정된 온도보다 낮아지면, 히터(30)를 작동시켜 필터 여재(20)를 가열함으로써 온도저하를 효과적으로 방지할 수 있는 것이며, 이에 따라 소스 가스가 여과장치(1)에서 온도저하로 액화되는 현상이 발생되지 않게 된다.That is, when the temperature of the filter media 20 sensed by the temperature sensor 40 is lower than the set temperature, the heater 30 is operated to heat the filter media 20 to effectively prevent a decrease in temperature, Accordingly, a phenomenon in which the source gas is liquefied due to a decrease in temperature in the filtering device 1 does not occur.

이와 같은 온도센서(40)는 여러 가지가 사용될 수 있는데, 고온에 적합한 써모커플로 이루어지는 것이 바람직할 수 있다.The temperature sensor 40 may be used in various ways, and it may be preferable to use a thermocouple suitable for high temperature.

한편, 본 발명의 증기 여과장치(1)는 바람직하기로 필터 여재(20)의 내부에 각 히터(30)에서 발생된 열이 원통형의 필터 여재(20)에 효율적으로 전달될 수 있도록 유도하는 열전달부재(50)를 더 포함할 수 있다.On the other hand, the steam filtration device 1 of the present invention is preferably a heat transfer that induces heat generated from each heater 30 inside the filter media 20 to be efficiently transferred to the cylindrical filter media 20 It may further include a member 50.

열전달부재(50)는 필터 여재(20)와의 사이에 소스 가스가 유동될 수 있는 공간(22)을 형성하도록 원형으로 구성되어 동축으로 설치되며, 후단이 출구(15)를 갖는 하우징(10)의 엔드피스(13)에 고정된다.The heat transfer member 50 is configured in a circular shape to form a space 22 through which the source gas can flow between the filter media 20 and installed coaxially, and the rear end of the housing 10 having an outlet 15 It is fixed to the end piece (13).

열전달부재(50)는 하우징(10)의 출구(15)와 연통하는 가스통로(51)를 중앙에 가지며, 몸체의 둘레에는 소스 가스가 지나갈 수 있도록 필터 여재(20)의 내부공간(22)과 열전달부재(50)의 가스통로(51)를 연통시키는 다수의 통공(52)이 형성되어 있다.The heat transfer member 50 has a gas passage 51 communicating with the outlet 15 of the housing 10 in the center, and the inner space 22 of the filter media 20 so that the source gas can pass through the body. A plurality of through holes 52 for communicating the gas passage 51 of the heat transfer member 50 are formed.

이러한 열전달부재(50)는 우수한 열전도율을 갖는 금속, 예컨대 알루미늄으로 구성되는 것이 바람직할 수 있다.The heat transfer member 50 may be preferably made of a metal having excellent thermal conductivity, such as aluminum.

본 발명은 이와 같은 열전달부재(50)를 함께 구비함에 따라 복수의 히터(30)가 일정각도 간격으로 배치되어 있음에도 불구하고 원통형으로 구성된 필터 여재(20)의 전 부위를 비교적 균일하게 가열할 수 있게 된다.According to the present invention, since the heat transfer member 50 is provided together, the entire portion of the filter media 20 configured in a cylindrical shape can be heated relatively evenly despite the plurality of heaters 30 being disposed at regular intervals. do.

도 5에는 본 발명에 의한 증기 여과장치(1)의 열전달부재(60)의 다른 형태가 도시되어 있다.5 shows another form of the heat transfer member 60 of the vapor filtering device 1 according to the present invention.

이 실시예는 전술한 실시예의 구성에서, 열전달부재(60)가 대략 열십자(+) 형태의 단면을 갖도록 형성되고, 각 히터(30)와 온도센서(40)가 열전달부재(60)의 각 돌기부 선단에 내장된 구성이다.In this embodiment, in the configuration of the above-described embodiment, the heat transfer member 60 is formed to have an approximately heat cross (+) cross section, and each heater 30 and the temperature sensor 40 are each of the heat transfer member 60 It is built in the tip of the protrusion.

이러한 열전달부재(60)도 중앙에 하우징(10)의 출구(15)와 연통하는 가스통로(61)가 구비되고, 그 몸체에는 필터 여재(20)의 내부공간(22)과 가스통로(61)를 연통시키는 다수의 통공(62)이 구비되어 있다.The heat transfer member 60 is also provided with a gas passage 61 communicating with the outlet 15 of the housing 10 in the center, and the inner space 22 and the gas passage 61 of the filter media 20 in the body. A number of through-holes 62 to communicate with each other are provided.

이와 같은 실시예도 전술한 실시예와 마찬가지의 작용효과를 가지며, 하우징(10)의 후단쪽 엔드피스(13)에 형성되는 복수의 히터포켓(16)과 센서포켓(17)을 배제시킬 수 있다.This embodiment also has the same effect as the above-described embodiment, and a plurality of heater pockets 16 and sensor pockets 17 formed on the end piece 13 at the rear end of the housing 10 can be eliminated.

10 ; 하우징 12, 13 : 엔드피스
14 ; 입구 15 ; 출구
16 : 히터포켓 17 : 센서포켓
18 : 유동공간 20 : 필터 여재
21 ; 엔드캡 22 ; 내부공간
30 ; 히터 40 ; 온도센서
50, 60 ; 열전달부재 51, 61 ; 가스통로
52, 62 : 통공 L ; 가스라인10; Housing 12, 13: end piece
14; Inlet 15; exit
16: heater pocket 17: sensor pocket
18: flow space 20: filter media
21; End cap 22; Internal space
30; Heater 40; temperature Senser
50, 60; Heat transfer members 51 and 61; Gas passage
52, 62: through hole L; Gas line

Claims

A cylindrical housing having an inlet and an outlet for entering and exiting the source gas inline at both ends;
A cylindrical filter media provided concentrically in the housing to form a flow space of the source gas between the housing;
A heater for heating and maintaining the filter media at a predetermined temperature;
A temperature sensor for controlling the operation of the heater by sensing the temperature of the filter media; And
It is installed inside the filter media, has a gas passage at one end in communication with the outlet of the housing, and is made of aluminum having a plurality of through holes communicating with the gas passage at an outer periphery, so that the heat generated from the heater is transferred to the filter media. A heat transfer member for transmitting;
Vapor filtering device comprising a.

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The method of claim 1,
A vapor filtering device comprising a plurality of heaters arranged radially on the outer periphery of the heat transfer member.

The method of claim 1,
Steam filtering device, characterized in that the temperature sensor is configured as a thermocouple.