KR20050051072A - Method for preparing an organic light emitting display device comprising a method for forming a pixel defined layer - Google Patents
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Abstract
본 발명은 화소 정의막을 형성하는 방법을 포함하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법에 관한 것으로, a) 기판 위에 제 1 전극을 패턴하여 형성하는 단계, b) 상기 제 1 전극 상부에 기판 전면에 걸쳐 화소 정의막을 형성하는 단계, c) 상기 화소 정의막 상부에서 상기 제 1 전극과 화소 정의막이 중첩되어 있는 부분을 포함하여 레이저를 조사하여 화소 정의막을 박리하여 상기 제 1 전극의 상부 일부를 오픈하는 단계, d) 상기 오픈된 제 1 전극 상부에 발광층을 형성하는 단계, 및 e) 상기 발광층 상부에 제 2 전극을 적층하여 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 제공함으로써 화소 정의막이 분해되어 유기 전계 발광 소자에 영향을 미치는 것을 방지할 수 있으므로 수명 특성 및 안정성이 향상되고 별도의 정밀할 마스크가 없이도 미리 패터닝된 하부 전극의 상부만 선택적으로 미세하게 패터닝할 수 있고, 또한, 조사하는 레이저의 에너지 파워를 조절할 수 있으므로 이에 따라 박리되는 화소 정의막의 두께를 조절할 수 있고 또한 화소 정의막의 표면 특성 역시 조절이 용이하므로 이 이후에 공정을 적용할 수 있는 방법이 많게 되어 공정적인 제한이 없다는 장점이 있다. The present invention relates to a method of manufacturing an organic electroluminescent device comprising a method of forming a pixel defining layer, comprising the steps of: a) patterning and forming a first electrode on a substrate; b) a pixel over the entire surface of the substrate on the first electrode; Forming a defining layer, c) opening a portion of the upper part of the first electrode by peeling the pixel defining layer by irradiating a laser including a portion of the pixel defining layer overlapping the first electrode and the pixel defining layer; and d) forming a light emitting layer on the open first electrode, and e) stacking a second electrode on the light emitting layer to form a light emitting layer. It is possible to prevent the positive film from being decomposed and affect the organic electroluminescent device, which improves lifespan characteristics and stability. It is possible to selectively finely pattern only the upper portion of the lower patterned lower electrode without a scratch, and to control the energy power of the laser to be irradiated. It is also easy to adjust, there are many ways to apply the process after this has the advantage that there is no process limitation.
Description
[산업상 이용분야][Industrial use]
본 발명은 유기 전계 발광 소자의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 유기 전계 발광 소자 패널(Organic Light Emitting Device Panel)을 제조하는데 있어 발광을 위한 화소를 정의하기 위한 화소 정의막을 형성하는 방법을 포함하는 유기 전계 발광 소자 패널의 제작 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing an organic electroluminescent device, and more particularly, to a method of forming a pixel defining layer for defining a pixel for emitting light in manufacturing an organic light emitting device panel. It relates to a method for producing an organic electroluminescent device panel.
[종래 기술][Prior art]
일반적으로 종래의 유기 전계 발광 소자는 능동 발광형 표시 소자로서 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가지고 있어서 차세대 표시 소자로서 주목받고 있다. 2. Description of the Related Art In general, an organic light emitting display device is an active light emitting display device, and has been attracting attention as a next generation display device because of its advantages of wide viewing angle, excellent contrast, and fast response speed.
유기 전계 발광 소자는 발광층(emitting layer) 형성용 물질에 따라 무기 EL 소자와 유기 EL 소자로 구분된다. 여기에서 유기 EL 소자는 무기 EL 소자에 비하여 휘도, 구동 전압 및 응답 속도 특성이 우수하고 다색화가 가능하다는 장점을 가지고 있다. The organic electroluminescent device is classified into an inorganic EL device and an organic EL device according to a material for forming an emitting layer. Herein, the organic EL device has an advantage of excellent luminance, driving voltage, and response speed characteristics, and multicoloring, in comparison with the inorganic EL device.
도 1a 내지 도 1e는 종래의 화소 정의막을 제조하는 방법을 사용하여 유기 전계 발광 소자를 제조하는 방법을 순서적으로 도시한 단면도들이다. 1A through 1E are cross-sectional views sequentially illustrating a method of manufacturing an organic EL device using a conventional method of manufacturing a pixel defining layer.
도 1a를 참조하면, 절연 기판(100) 상에 제 1 전극, 즉 하부 전극(110)을 적층하여 패터닝하여 형성한다. Referring to FIG. 1A, a first electrode, that is, a lower electrode 110, is stacked and patterned on an insulating substrate 100.
그리고 나서, 도 1b에 도시된 바와 같이 발광층이 형성될 화소 영역을 정의하기 위하여 기판 전면에 걸쳐 화소 정의막(120)을 형성하기 위한 물질을 적층한다. 화소 정의막(120)을 형성하기 위한 물질로는 절연물질인 유기막을 사용할 수 있으며, 후속 포토리소그래피 공정에 의하여 광 반응을 한 곳은 제거가 되어야 하므로 광반응성 물질이어야 한다. 따라서, 통상적으로 포토레지스트 물질로 사용되는 유기물로는 폴리아크릴레이트 등을 사용한다.Subsequently, as illustrated in FIG. 1B, a material for forming the pixel defining layer 120 is stacked over the entire surface of the substrate to define a pixel region in which the emission layer is to be formed. As the material for forming the pixel defining layer 120, an organic film, which is an insulating material, may be used. Since the place where the photoreaction is performed by a subsequent photolithography process should be removed, the material may be a photoreactive material. Therefore, polyacrylate or the like is generally used as an organic material used as a photoresist material.
화소 정의막(120) 물질을 적층한 후 화소 정의막(120)을 패터닝하기 위하여 상부에 포토 마스크(10)를 사용하여 UV 광을 조사하여 화소 영역(A)의 화소 정의막(120)을 제거하여 제 1 전극을 오픈시킨다. After the material of the pixel defining layer 120 is laminated, the pixel defining layer 120 of the pixel area A is removed by irradiating UV light using a photo mask 10 on the top to pattern the pixel defining layer 120. To open the first electrode.
이후, 도 1e에 도시된 바와 같이, 제 1 전극이 오픈된 화소가 정의된 화소 영역(A)에 발광 물질을 적층하여 발광층을 형성하고, 그 상부에 제 2 전극을 적층하여 형성하고 봉지함으로써 유기 전계 발광 소자를 완성한다. Thereafter, as shown in FIG. 1E, a light emitting layer is formed by stacking a light emitting material in the pixel region A in which the first electrode is opened, and forming a light emitting layer. Complete the electroluminescent element.
그러나, 종래의 화소 정의막(120)은 광반응형의 물질이기 때문에 광안정성이 낮고, 단기적 또는 장기적인 화학적 분해로 인한 불순물의 발생으로 소자 특성에 치명적인 영향을 줄 수 있다는 문제점이 있다. However, since the conventional pixel defining layer 120 is a photoreactive material, there is a problem in that the light stability is low, and the generation of impurities due to short-term or long-term chemical decomposition may adversely affect device characteristics.
본 발명은 위에서 설명한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 물리-화학적으로 안정하면서 두께 및 표면 특성의 조절이 용이한 방법으로 화소 정의막을 형성하는 방법을 포함하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 제공하는 것이다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the problems described above, and an object of the present invention is to provide an organic electroluminescence comprising a method of forming a pixel defining layer in a physical-chemically stable manner and easily adjusting the thickness and surface properties. It is to provide a method of manufacturing the device.
본 발명은 상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은The present invention to achieve the above object, the present invention
a) 기판 위에 제 1 전극을 패턴하여 형성하는 단계,a) patterning and forming a first electrode on the substrate,
b) 상기 제 1 전극 상부에 기판 전면에 걸쳐 화소 정의막을 형성하는 단계,b) forming a pixel defining layer over the entire substrate on the first electrode,
c) 상기 화소 정의막 상부에서 상기 제 1 전극과 화소 정의막이 중첩되어 있는 부분을 포함하여 레이저를 조사하여 화소 정의막을 박리하여 상기 제 1 전극의 상부 일부를 오픈하는 단계,c) peeling the pixel defining layer by irradiating a laser including a portion of the pixel defining layer overlapping the first electrode and the pixel defining layer to open a portion of the upper part of the first electrode;
d) 상기 오픈된 제 1 전극 상부에 발광층을 형성하는 단계, 및d) forming a light emitting layer on the open first electrode, and
e) 상기 발광층 상부에 제 2 전극을 적층하여 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법을 제공한다. e) providing a method of manufacturing an organic electroluminescent device, comprising forming a second electrode on the emission layer.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described the present invention in more detail.
도 2a 내지 도 2f는 본 발명의 실시예들에 따라 화소 정의막을 제조하는 방법을 사용하여 유기 전계 발광 소자를 제조하는 방법을 순서적으로 도시한 단면도들이다. 2A through 2F are cross-sectional views sequentially illustrating a method of manufacturing an organic EL device using a method of manufacturing a pixel defining layer, according to example embodiments.
도 2a를 참조하면, 먼저, 기판(100) 상에 도전성막을 적층한 후 패터닝하여 제 1 전극(110)을 형성한다. Referring to FIG. 2A, first, a conductive film is stacked on a substrate 100 and then patterned to form a first electrode 110.
도 2b에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 전극(110) 상부에 화소 정의막(120)을 형성하는 절연성 물질을 적층한다. As illustrated in FIG. 2B, an insulating material for forming the pixel defining layer 120 is stacked on the first electrode 110.
상기 적층 방법으로는 용액 코팅, 화학 기상 증착법, 및 스퍼터링으로 이루어진 군에서 선택되는 1종의 방법을 사용하는 것이 바람직하다. As the lamination method, it is preferable to use one method selected from the group consisting of solution coating, chemical vapor deposition, and sputtering.
그리고 나서, 도 2c에 도시된 바와 같이, 화소 영역이 정의될 부분에 레이저를 조사한다. 이때, 레이저에 의하여 에너지가 상기 기판(100), 제 1 전극(110) 및 화소 정의막을 형성하는 절연성 물질(120)에 전달된다. 상기 절연성 물질은 상 기 절연성 물질을 통과하여 1 전극(110)에 전달된 에너지에 의하여 박리된다. 그리고, 상기 절연성 물질의 종류에 따라 상기 절연성 물질이 박리되는 형태가 상이하게 된다. Then, as shown in FIG. 2C, the laser is irradiated to the portion where the pixel region is to be defined. In this case, energy is transmitted to the insulating material 120 forming the substrate 100, the first electrode 110, and the pixel defining layer by a laser. The insulating material is peeled off by the energy transferred to the first electrode 110 through the insulating material. In addition, the form in which the insulating material is peeled off differs depending on the type of the insulating material.
즉, 도 2c는 절연성 물질이 레이저의 파장 영역에서 흡수가 적은 경우를 나타내는 것으로 따라서 제 1 전극(110)과 접촉하고 있는 부분에서는 에너지 전달이 점차 작아져서 도 2e에 도시된 바와 같이, 사다리꼴 형태로 제 1 전극(110)이 오픈되어 화소 영역(A)이 형성된다. That is, FIG. 2C illustrates a case in which the insulating material has a low absorption in the wavelength region of the laser. Therefore, energy transfer is gradually decreased in the portion in contact with the first electrode 110, so that the insulating material has a trapezoidal shape. The first electrode 110 is opened to form a pixel area A.
이러한 경우 레이저 빔(200)을 제 1 전극(110)과 화소 정의막(120)이 중첩되어 있는 부분을 모두 포함하고 이보다 더 넓은 영역에 에너지를 조사하여야 한다. In this case, the laser beam 200 includes all portions where the first electrode 110 and the pixel defining layer 120 overlap each other, and energy must be irradiated to a wider area.
이와는 달리 본 발명의 다른 실시예로는 상기 절연성 물질이 레이저의 파장 영역에서 에너지 흡수가 큰 경우에는 레이저 에너지가 하부 제 1 전극(11O)으로 전달이 잘 되기 때문에 굳이 도 2c와 같이 제 1 전극(110)과 화소 정의막(120)이 중첩되어 있는 부분을 모두 포함하고 이보다 더 넓은 영역에 레이저를 조사할 필요가 없이, 도 2d에 도시된 바와 같이, 화소 영역(A)이 정의되는 부분에 대해서만 레이저를 조사한다. In contrast, in another embodiment of the present invention, when the insulating material has high energy absorption in the wavelength region of the laser, since the laser energy is well transmitted to the lower first electrode 110, the first electrode (see FIG. As shown in FIG. 2D, only the portion where the pixel region A is defined, as shown in FIG. Irradiate the laser.
그러면, 도 2f에 도시된 바와 같이, 화소 정의막(120) 중 화소 영역에 형성되는 화소 정의막(120)은 수직한 형태로 화소 정의막(120)이 박리되어 제 1 전극이 오픈되어 화소 영역(A)이 형성된다. Then, as shown in FIG. 2F, the pixel defining layer 120 formed in the pixel region of the pixel defining layer 120 has a vertical shape in which the pixel defining layer 120 is peeled off to open the first electrode. (A) is formed.
그리고 나서, 도 2g에 도시된 바와 같이, 상기 화소 영역(A) 상에 발광 물질을 적층한 후 그 상부에 제 2 전극을 기판 전면에 걸쳐 형성하고 봉지함으로써 유기 전계 발광 소자를 제조한다. Then, as illustrated in FIG. 2G, an organic electroluminescent device is manufactured by stacking a light emitting material on the pixel region A and forming and encapsulating a second electrode over the entire surface of the substrate.
이때, 사용되는 화소 정의막(120)을 형성하는 절연 물질로는 유기 물질을 사용하는 것이 바람직하다. In this case, it is preferable to use an organic material as the insulating material for forming the pixel defining layer 120 to be used.
상기 유기 물질로는 폴리스티렌(polystylene), 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리아크릴로니트릴(PAN), 폴리아미드(polyamide), 폴리이마이드(polyimide), 폴리아릴에테르(polyarylether), 헤테로사이클릭 폴리머(heterocyclic polymer), 파릴렌(parylene), 불소계 고분자, 에폭시 수지(epoxy resin), 벤조사이클로부틴계 수지(benzocyclobutene series resin), 실록세인계 수지(siloxane series resin) 및 실란 수지(silane)로 이루어진 군에서 선택되는 1종의 물질을 사용한다. The organic material may be polystyrene, polymethyl methacrylate (PMMA), polyacrylonitrile (PAN), polyamide, polyimide, polyarylether, heterocyclic polymer. (heterocyclic polymer), parylene, fluorine-based polymer, epoxy resin, benzocyclobutene series resin, siloxane series resin and silane resin Use one substance selected from
도 3a는 화소 정의막(120)을 이루는 유기 절연막이 레이저 에너지 파장에서의 흡수가 작은 경우에 레이저를 조사하는 방법을 나타내는 화소부의 레이 아웃의 평면도이다. 3A is a plan view of a layout of a pixel portion showing a method of irradiating a laser when the organic insulating film constituting the pixel defining layer 120 has a small absorption at a laser energy wavelength.
도 3a를 참조하면, 본 발명의 제 1 실시예의 경우 화소부 중 화소 영역(A)을 레이저로 전체적으로 노광하고 제 1 전극이 형성되어 있는 부분을 모두 포함하여 레이저를 스캔하는 방법으로 순차적으로 조사하여 제 1 전극을 오픈하여 화소 영역(A)을 형성한다. Referring to FIG. 3A, in the first exemplary embodiment of the present invention, the pixel area A of the pixel portion is entirely exposed with a laser and sequentially irradiated with a laser scanning method including all portions where the first electrode is formed. The first electrode is opened to form the pixel region A. FIG.
도 3b는 화소 정의막(120)을 이루는 유기 절연막이 레이저 에너지 파장에서의 흡수가 큰 경우에 레이저를 조사하는 방법을 나타내는 화소부의 레이 아웃의 평면도이다. 3B is a plan view of a layout of a pixel portion showing a method of irradiating a laser when the organic insulating film forming the pixel defining layer 120 has a large absorption at a laser energy wavelength.
도 3b를 참조하면, 이러한 경우에는 화소 영역(A)의 모양의 포토 마스크 이미지(10)를 프로젝션 렌즈로 기판에 투영함으로써 일정 면적의 화소 영역에 대하여는 동시에 화소 영역을 형성할 수 있다. Referring to FIG. 3B, in this case, the photomask image 10 having the shape of the pixel region A may be projected onto the substrate using a projection lens to simultaneously form the pixel region with respect to the pixel region having a predetermined area.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 화소 정의막을 형성하는 방법을 포함하는 유기 전계 발광 소자의 제조 방법은 종래의 방법에 비하여 화소 정의막이 분해되어 유기 전계 발광 소자에 영향을 미치는 것을 방지할 수 있으므로 수명 특성 및 안정성이 향상되고 별도의 정밀한 마스크가 없이도 미리 패터닝된 하부 전극의 상부만 선택적으로 미세하게 패터닝할 수 있다. As described above, the method of manufacturing the organic EL device including the method of forming the pixel defining layer according to the present invention can prevent the pixel defining layer from being decomposed and affecting the organic EL device as compared with the conventional method. It is possible to selectively and finely pattern only the upper part of the pre-patterned lower electrode without the need for a separate precise mask.
또한, 조사하는 레이저의 에너지 파워를 조절할 수 있으므로 이에 따라 박리되는 화소 정의막의 두께를 조절할 수 있고 또한 화소 정의막의 표면 특성 역시 조절이 용이하므로 이 이후에 공정을 적용할 수 있는 방법이 많게 되어 공정적인 제한이 없다는 장점이 있다. In addition, since the energy power of the irradiated laser can be adjusted, the thickness of the pixel defining layer can be adjusted accordingly, and the surface characteristics of the pixel defining layer can also be easily adjusted, so there are many methods to apply the process thereafter. The advantage is that there is no limit.
도 1a 내지 도 1e는 종래의 화소 정의막을 제조하는 방법을 사용하여 유기 전계 발광 소자를 제조하는 방법을 순서적으로 도시한 단면도들이다. 1A through 1E are cross-sectional views sequentially illustrating a method of manufacturing an organic EL device using a conventional method of manufacturing a pixel defining layer.
도 2a 내지 도 2g는 본 발명의 일실시예에 따라 화소 정의막을 제조하는 방법을 사용하여 유기 전계 발광 소자를 제조하는 방법을 순서적으로 도시한 단면도들이다. 2A through 2G are cross-sectional views sequentially illustrating a method of manufacturing an organic EL device using a method of manufacturing a pixel defining layer according to an exemplary embodiment of the present invention.
도 3a는 본 발명의 제 1 실시예에 따라 화소 정의막을 형성한 경우 유기 전계 발광 소자의 화소 영역을 상부에서 본 평면도이다. 3A is a plan view of a pixel area of an organic light emitting diode viewed from above when a pixel defining layer is formed according to the first exemplary embodiment of the present invention.
도 3b는 본 발명의 제 2 실시예에 따라 화소 정의막을 형성한 경우 유기 전계 발광 소자의 화소 영역을 상부에서 본 평면도이다.3B is a plan view of a pixel area of an organic light emitting diode viewed from above when a pixel defining layer is formed according to the second exemplary embodiment of the present invention.
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