KR20070086176A

KR20070086176A - 모발 성장 감소

Info

Publication number: KR20070086176A
Application number: KR1020077013406A
Authority: KR
Inventors: 제임스 피 헨리; 싱-메이 위; 더글라스 샌더
Original assignee: 더 지렛트 캄파니
Priority date: 2004-12-22
Filing date: 2005-12-21
Publication date: 2007-08-27
Also published as: AU2005319290A1; WO2006069048A2; US20070032781A1; CN101087568A; WO2006069048A3; JP2008523158A; CA2589875A1; BRPI0519218A2; MX2007007623A; EP1827280A2

Abstract

모발의 성장은 모발 성장 주기의 변경 없이 모발 성장을 지연시키기 위하여 피부를 충분히 가열함으로써 감소될 수 있다.

모발, 성장, 감소, 지연, 피부, 가열

Description

모발 성장 감소{REDUCTION OF HAIR GROWTH}

우선권 주장

본 출원은 본 명세서에 그 내용 전체가 참고로 포함된, 2004년 12월 22일자로 출원된 미국 특허 출원 제60/639,082호에 대해 35 U.S.C §119(e) 하의 우선권을 주장한다.

본 발명은 특히 화장 목적을 위한, 포유류에서의 모발 성장 감소에 관한 것이다.

포유류 모발의 주요 기능은 환경에 대한 보호를 제공하는 것이다. 그러나, 이 기능은 모발이 본질적으로 화장 상의 이유 때문에 신체의 여러 부위로부터 억제되거나 제거되는 인간에게서는 크게 손실되었다. 예를 들어, 두피 상에는 모발이 있지만 안면 상에는 없는 것이 일반적으로 바람직하다.

면도, 전기 분해 요법, 탈모용 크림 또는 로션, 왁싱(waxing), 잡아뽑기(plucking), 및 치료용 항안드로겐을 포함한 다양한 절차를 이용하여 원하지 않는 모발을 제거하였다. 이들 종래의 절차는 그와 관련된 단점을 일반적으로 갖는다. 예를 들어, 면도는 상처 및 베임을 야기할 수 있으며, 모발 재성장 속도 및 모발 거칠어짐의 증가에 대한 인식을 남길 수 있다. 면도는 또한 바람직하지 못한 짧은 수염(stubble)을 남길 수 있다. 한편, 전기 분해 요법은 처리된 영역에 모발이 장기간 동안 계속하여 없도록 할 수 있지만, 비용이 많이 들고 고통스러울 수 있으며 때로 흉터를 남긴다. 제모용 크림은, 매우 효과적이기는 하지만 높은 자극 가능성으로 인하여 전형적으로는 빈번한 사용이 권고되지 않는다. 왁싱 및 잡아뽑기는 고통, 불편함, 및 짧은 모발의 불충분한 제거를 야기할 수 있다. 마지막으로, 항안드로겐 -- 이는 여성 조모증의 치료에 사용됨 -- 은 원하지 않는 부작용이 있을 수 있다.

모발 성장의 속도 및 특징은 소정 효소의 저해제의 피부에의 도포에 의해 변경될 수 있다는 것이 이전에 개시되었다. 이들 저해제는 5-알파 리덕타제, 오르니틴 데카르복실라제, S-아데노실메티오닌 데카르복실라제, 감마-글루타밀 트랜스펩티다제 및 트랜스글루타미나제의 저해제들을 포함한다. 예를 들어, 브로이어(Breuer) 등의 미국 특허 제4,885,289호; 샨더(Shander)의 미국 특허 제4,720,489호; 알루왈리아(Ahluwalia)의 미국 특허 제5,095,007호; 알루왈리아 등의 미국 특허 제5,096,911호; 및 샨더 등의 미국 특허 제5,132,293호를 참조한다.

모낭 가열에 의한 모발 성장의 일시적인 혹은 영구적인 감소를 위한 다양한 물리적 방법들은 조직 멜라닌이 빛을 흡수하여 큰 온도 증가를 발생시켜 단백질 변성과 관련된 조직 손상을 초래하는 광-열(photo-thermal) 기작에 의존한다. 이 방법에 사용되는 장치들(예컨대, 레이저)은 안정성 문제를 야기할 수 있고 사용 중에 의료진의 참석을 종종 요구할 수 있다. 또한, 이 장치들은 짙은 모발이 일반적으로 더 많은 멜라닌을 함유하고 있기 때문에, 밝은 모발에 비해 짙은 모발에 종종 더 효과적이다.

모구(hair bulb), 협부(isthmus) 및 누두(infundibulum)는 모낭의 수직 부분을 구성하는 3개의 단위이다. 모구는 모구의 기저부에서 시작하여 입모근(arrector pili muscle)의 삽입부까지 연속한다. 모발의 이 부분은 일반적으로 피부 표면 아래 3-7 mm이고 진피에 존재한다. 모발의 이 부분은 기질세포, 멜라닌세포 및 진피유두(dermal papilla)로 이루어진다. 기질세포는 외모근초, 내모근초의 3개 층 및 모간을 형성하는 배아 섬유아세포(germinative fibroblasts cell)이고, 모발 성장을 변화시키기 위해 사용되는 많은 효소 저해제들은 배아 섬유아세포군에 작용하여 모발 성장의 속도를 감소시킬 수도 있다. 멜라닌 (색소) 생성 세포들이 또한 이 기질 부위에서 발견된다. 진피유두는 모낭 성장의 조절을 담당하는 인자들을 제공한다. 협부는 입모근의 삽입부로부터 피지선관의 입구까지에서 발견된다. 협부는 성장기(anagen phase)에서 휴지기(telogen phase)로 들어감에 따라 모낭을 재형성하는 데 필요한 만능 줄기세포(pleuripotent stem cell)를 포함하는 모낭의 불룩한 영역을 포함한다. 이들 시기들은 하기에서 추가로 기술된다. 누두는 모낭의 나머지 부분이다.

모발은 세 개의 성장기를 갖는다. 성장기는 기질세포의 급속한 성장을 특징으로 한다. 이들 세포들은 이들이 모낭을 상승시키며 분화함에 따라 모간을 형성한다. 이는 모발 성장의 가장 긴 시기이며 수 개월에서 수 년간 지속될 수 있다. 성장기 이후에, 모발은 퇴행기(catagen)라고 불리는 단기 퇴행 단계로 진입한다. 퇴행기 동안에 멜라닌세포를 포함하는 모낭의 하부가 아팝토시스(apoptosis)를 거쳐 퇴화된다. 모낭의 하부는 가는 상피삭(epithelial cord)으 로 수축하고, 이는 상방으로 오그라든다. 퇴행기 동안에 모낭의 길이는 현저히 줄어들 것이다 (예를 들어, 최초 길이의 약 2/3만큼). 진피유두는 입모근의 수준 정도에서 사멸될 것이다. 퇴행기는 일반적으로 약 3주간 지속되는데, 모낭 하부의 유사분열 및 재흡수의 정지를 특징으로 한다. 유두성 혈액 공급에 의해 공급되는 영양분은 이 단계에서 급격히 줄어들며, 모발 성장을 조절하기 위한 생물학적 접근은 모발 성장의 성장기 및 실행가능한 모발 성장 속도를 유지하는 데 결정적인 혈액 공급에 영향을 미치는 제제를 포함한다. 모발 주기의 최종 시기는 휴지기 또는 휴식기이다. 이 시기는 수 주 내지 수 개월간 지속될 수 있다. 모발은 기질 영역을 재형성할 상피세포 분열에서 큰 증가를 보이는 성장기로 재진입할 것이다. 각 시기에서의 모발의 개수뿐만 아니라 성장기 및 휴지기의 지속 기간은 몸 전체에 걸쳐 상이하다. 두피에 생성된 긴 모발은 긴 성장기에 의해 생성되는 반면에, 다리의 모발은 이들이 훨씬 짧은 성장기 및 훨씬 긴 휴지기를 보내기 때문에 길이가 더 짧다.

발명의 개요

하나의 태양에서, 본 발명은 원하지 않는 포유류(바람직하게는 인간) 모발 성장을 감소시키는 방법(전형적으로는 화장 방법)을 제공한다. 본 방법은 감소된 모발 성장이 요구되는 피부 영역을 포유류 상에서 선택하는 단계와, 모발의 성장 주기를 변경시키지 않으면서 모발의 성장을 지연시키기 위하여 피부 영역을 가열하는 단계를 포함한다. 본 방법은 모낭 또는 주변 조직에 손상을 주지 않고(예를 들어, 단백질의 현저한 변성을 유발하지 않음) 퇴행기 형성을 유발하지 않는다.

다른 태양에서, 본 발명은 원하지 않는 포유류(바람직하게는 인간) 모발 성장을 감소시키는 다른 방법(전형적으로는 화장 방법)을 제공한다. 본 방법은 감소된 모발 성장이 요구되는 피부 영역을 포유류 상에서 선택하는 단계와, 모발 성장의 감소를 유발하기 위하여 피부 영역을 40℃ 내지 55℃의 온도에 도달하도록 가열하는 단계를 포함한다.

다른 태양에서, 본 발명은 원하지 않는 포유류 모발 성장을 감소시키는 다른 방법(전형적으로는 화장 방법)을 제공한다. 본 방법은 감소된 모발 성장이 요구되는 피부 영역을 포유류 상에서 선택하는 단계와, 모발 성장의 감소를 유발하기 위하여 피부 영역을 피부 표면 아래 약 5 ㎜에서 측정할 때 40℃ 내지 50℃의 온도로 가열하는 단계를 포함한다.

원하지 않는 모발 성장은 화장 견지에서 바람직하지 않을 수 있거나, 예를 들어, 질환 또는 비정상적인 상태로부터 야기될 수도 있다. 피부 영역은 일반적으로 적어도 2, 5 또는 10초간 가열된다. 더욱 통상적으로, 피부 영역은 적어도 30초 또는 1분간, 그리고 최대 10분 또는 30분간 가열된다.

본 방법들은 통상의 몸단장 계획의 일부분으로서 매일 수행될 수 있다. 바람직한 적용에서, 이러한 처치는 7일간 적어도 2회 또는 적어도 5회, 예를 들어, 적어도 1주일간 1일 1회 제공된다. 처치의 빈도 및 지속 기간은 모발 성장 감소가 요구되는 피부 부위, 모발의 유형(거칠기 또는 가늘기) 및 처치 방법에 따를 수도 있다. 본 방법들은 다른 모발 제거 절차, 예컨대 레이저 모발 제거와 함께 사용되어 이 절차의 탈모 효과를 연장시킬 수 있다.

본 방법들은 일반적으로 안전하며, 예를 들어 포유류의 피부 또는 눈에 손상을 주지 않는다. 본 방법은 전형적으로 의료진의 감독 없이 수행될 수 있다. 예를 들어, 히터가 면도기 내에 포함될 수 있어 피부가 일상적으로 면도 동안에 가열될 수 있다. 또한, 가열을 위해 사용되는 메커니즘에 따라, 피부의 넓은 영역이 하나의 절차로 가열될 수 있다. 더욱이, 가열을 위해 사용되는 메커니즘에 따라, 본 방법은 짙은 모발 및 밝은 모발, 그리고 짙은 피부 및 밝은 피부에 동등하게 잘 작용할 수 있다. 피부 영역이 가열될 수 있는 다양한 방식들이 본 발명의 실시 형태이며, 상세한 설명 부분에 논의된다.

일부 실시 형태에서, 본 방법들은 모발 성장을 감소시키는 화합물을 포함하는 피부학적으로 허용가능한 조성물을 피부 영역에 도포하는 단계를 추가로 포함한다. 화합물은, 예를 들어, α-다이플루오로메틸오르니틴, 트라이프톨라이드, 혈관형성(angiogenesis) 저해제, 또는 금속성 단백질 분해효소(metalloproteinase) 저해제를 포함한다.

다른 태양에서, 본 발명은 원하지 않는 포유류 (바람직하게는 인간) 모발 성장을 감소시키는 다른 방법(전형적으로는 화장 방법)을 제공한다. 본 방법은 감소된 모발 성장이 요구되는 피부 영역을 포유류 상에서 선택하는 단계와, 모발 성장의 감소를 유발하기 위하여 피부 영역을 40℃ 내지 55℃의 온도로 가열하는 단계를 포함한다.

다른 태양에서, 본 발명은 원하지 않는 포유류 (바람직하게는 인간) 모발 성장을 감소시키는 다른 방법(전형적으로는 화장 방법)을 제공한다. 본 방법은 (a) 감소된 모발 성장이 요구되는 피부 영역을 포유류 상에서 선택하는 단계와; (b) 모발 성장을 감소시키는 화합물을 포함하는 피부학적으로 허용가능한 조성물을 피부 영역에 도포하는 단계와; (c) 단계 (b)의 24시간 이내에, 피부 영역을, 상기 조성물이 도포되지 않는 경우에 모발 성장이 현저히 감소되지 않는 충분히 낮은 에너지(예를 들어, 10 J/㎠ 미만, 바람직하게는 5 J/㎠ 미만)에서 작동하는 레이저, 섬광등 또는 IPL 장치로 가열하는 단계를 포함한다.

다른 태양에서, 본 발명은 원하지 않는 포유류 (바람직하게는 인간) 모발 성장을 감소시키는 다른 방법(전형적으로는 화장 방법)을 제공한다. 본 방법은 (a) 감소된 모발 성장이 요구되는 피부 영역을 포유류 상에서 선택하는 단계와; (b) 자성 산화물 나노입자를 포함하는 피부학적으로 허용가능한 조성물을 피부 영역에 도포하는 단계와; (c) 1주일 이내에(예를 들어, 24시간 또는 1시간 이내에), 열을 발생시키기 위하여 피부 영역을 교번 자기장으로 처리하는 단계를 포함한다. 가열은 상기에 기술된 효과들을 얻기 위하여 피부 및/또는 모낭의 온도를, 예를 들어 40℃-55℃까지 상승시킬 수도 있거나, 대안적으로는 피부 및/또는 모낭의 온도를 모발을 손상시킬 수 있는 보다 높은 온도까지 상승시킬 수도 있다.

다른 태양에서, 본 발명은 원하지 않는 포유류 (바람직하게는 인간) 모발 성장을 감소시키는 다른 방법(전형적으로는 화장 방법)을 제공한다. 본 방법은 (a) 감소된 모발 성장이 요구되는 피부 영역을 포유류 상에서 선택하는 단계와; (b) 적외선을 흡수하는 나노쉘을 포함하는 피부학적으로 허용가능한 조성물을 피부 영역에 도포하는 단계와; (c) 1주일 이내에(예를 들어, 24시간 또는 1시간 이 내에), 열을 발생시키기 위하여 피부 영역을 적외선으로 처리하는 단계를 포함한다. 가열은 상기에 기술된 효과들을 얻기 위하여 피부 및/또는 모낭의 온도를, 예를 들어 40℃-55℃까지 상승시킬 수도 있거나, 대안적으로는 피부 및/또는 모낭의 온도를 모발을 손상시킬 수 있는 보다 높은 온도까지 상승시킬 수도 있다.

감소된 모발 성장은 처리된 영역에서의 감소된 모발 길이, 모발 직경, 모발 색소 침착, 및/또는 모발 밀도에 의해 정량적으로 입증될 수 있다. 감소된 모발 성장은 처리된 영역에서의 보다 적은 가시적인 모발, 더 짧아진 모발, 더 가늘고/얇아진 모발, 더 부드러워진 모발, 및/또는 더 길게 지속되는 면도에 의해 미용적으로 입증될 수 있다.

본 발명의 기타 특징, 목적 및 장점은 상세한 설명, 도면, 및 청구의 범위로부터 명백해질 것이다.

피부를 40℃ 내지 55℃의 온도로 가열하기 위해 다양한 메커니즘이 사용될 수 있다.

하나의 메커니즘은 피부에 가열 장치를 적용하는 것이다. 가열 장치는, 예를 들어, 배터리 또는 전기로 작동될 수도 있다. 이러한 장치의 예가 미국 특허 제3,569,666호; 미국 특허 제4,021,640호; 및 미국 특허 제4,950,868호에 설명되어 있다. 이들 특허에서의 이 장치들의 설명이 참고로 포함된다. 이 장치는 또한 단순히 피부에 적용되기 전에 그 자체가, 예를 들어 오븐 안에서 가열되는 물체일 수도 있다. 일부 실시 형태에서, 가열 장치가 배터리 또는 전기로 작동되는 경우에, 이 장치는 또한 냉각 유닛을 포함하지 않는다.

이 장치는, 예를 들면, 면도하는 동안에 사용될 수도 있고, 건식 또는 습식 면도기 내에 포함될 수도 있다. 건식 면도기 자체는 배터리 또는 전기로 작동될 수도 있다. 예를 들면, 가열 장치는 피부에 접촉하는 가열 소자에 연결되는 저항기를 가열하기 위하여 배터리를 사용하는 면도/제모 장치의 일부분일 수 있다.

레이저, 섬광등, 또는 IPL 장치가 또한 피부를 가열하기 위하여 사용될 수도 있다. 레이저는 다이오드 레이저, 또는 고체 레이저, 예를 들면, 양자 폭포 레이저(quantum cascade laser); 가스 레이저, 예를 들면, 이온 레이저 (금속 증기 레이저 포함); 및 염료 레이저일 수 있다. 레이저는 연속파 모드, 펄스 모드, 또는 초고속 모드로 작동될 수도 있다. 레이저는, 예를 들면, 전류, 램프, 또는 다른 레이저에 의해 펌핑될 수 있다. 빛은 광섬유 또는 광도파로(light guide)에 의해 피부에 전달될 수도 있다. 레이저는 출력 수준을 감소시키기 위하여 광 필터를 포함할 수도 있다. 사용될 수 있는 레이저의 예로는 저 에너지 헬륨-네온 레이저 (632.8 ㎚)가 있다.

피부를 가열하기 위해 사용될 수 있는 광원 또는 광열원(photothermal source)의 예로는 700 - 1300 ㎠(예컨대, 810 ± 25 ㎚)의 파장 범위 내의 다이오드 레이저, 654 ㎚의 루비 레이저, 755 ㎚의 알렉산드라이트(Alexandrite) 레이저, 1064 ㎚의 Nd:YAG 레이저, 600 - 850 ㎚ 범위의 Nd:YAG 레이저, 펄스광(Pulsed Light), IPL(Intense Pulsed Light), 또는 400 - 1200 ㎚ 파장 범위 내의 섬광등, 550, 580, 또는 615 - 1200 ㎚의 형광 펄스광, 400 - 700 ㎚ 파장 범위 내의 발광 다이오드(LED), 및 무선 주파수 전기 에너지와 결합된 광학(580 내지 980 ㎚) 또는 다이오드(800 + 25 ㎚) 에너지를 포함한다. 상기에 열거된 장치들의 에너지 출력(J/㎠)은, 예를 들어, 0.5 내지 50 J/㎠, 2 내지 20 J/㎠, 또는 1 내지 10 J/㎠일 수 있다.

피부 및 모낭 가열을 수행하는 기타 레이저원(laser source) 및 광원 파라미터로는 펄스 지속 시간, 스폿(spot) 크기, 및 반복율을 포함한다. 이러한 매개변수들의 범위는 사용되는 광원 또는 레이저원에 의존적이다. 펄스 지속 시간은, 예를 들어 0.1 ms부터 500 ms까지의 범위일 수 있고, 또는 미국 특허 제6,273,884호에 기술된 바와 같이 연속파(CW)일 수 있다.

피부 및/또는 모낭은 또한 피부에 자성 산화물 나노입자를 도포하고 이어서 열을 발생시키기 위하여 교번 자기장에 피부를 노출시킴으로써 가열될 수도 있다 (문헌(Acad Radiol 2002 , 9:198-202)). 산화물 나노입자의 예로는 무독성 자철광(magnetite)(Fe₃O₄)의 철 산화물, 강자성 미세 분말, 초 상자성 액체자성체(super paramagnetic ferrofluid)(상업적으로 이용가능한 조영제 페럼옥사이드(Ferrumoxide) 주입가능 용액, 엔도엄(Endoerm))을 포함한다. 액체자성체는 코팅된 자성 입자들의 수계(water based) 콜로이드 현탁액이다(코팅은 음이온성 계면활성제, 전분 또는 덱스트란을 포함함). 코팅된 입자는 물, 수성 제형, 및 액체 또는 고형화된 겔 내에 현탁될 수 있다. 전형적인 입자 크기는 10 내지 350 ㎚이다. 또한, 양이온성 리포솜 막을 갖는 서브미크론 자성 입자(자성 양이온성 리포솜) 또는 중성 리포솜 막을 갖는 자성 입자(자성 리포솜)이 주변 조직에 손상을 주지 않으면서 모낭과 같은 표적 조직을 선택적으로 가열하는 데 사용될 수 있다 (문헌(Cancer Sci. vol. 94, no. 9, pp. 834-39, 2003)). 정확한 온도 조절은 자기장 세기를 정밀하게 조작함으로써 달성될 수 있다 (문헌(Cancer Sci. Vol. 94, No. 3, pp. 311-313, 2003)). 자기적으로 민감한 입자들을 이용하여 모낭 조직을 약화시키는 방법은 미국 특허 제6,074,385호에 기술되어 있다. 피부는 또한 나노입자와는 달리 빛을 흡수하는 나노쉘을 도포함으로써 가열될 수도 있는데, 예를 들어 금속 나노쉘은 적외선 및 근적외선의 강력한 흡수체이다. 나노쉘은 적외선을 흡수하여 나노쉘로 먼저 처리된 피부 영역의 조절된 국부적인 가열을 제공한다. 나노쉘 및 나노쉘 가열 방법은, 예를 들어, 본 명세서에 참고된 포함된 미국 특허 출원 공개 제2002/0169235호, 제2002/0103517호, 및 제2003/0118657호에 기술되어 있다. 또한, 문헌 (Hirsch et al., PNAS, vol. 100, no. 23, pp. 13549-54)을 참조하라. 적외선을 흡수하는 나노쉘의 구체적인 예로는 전형적으로 금인 얇은 금속 코어에 의해 덮인 유전체 코어로 이루어진 복합 구형 나노입자를 포함한다 (문헌(Technology in Cancer Research and Treatment Vol. 3, No. 1, 2004, pp. 33-40)). 나노입자 또는 나노쉘은 일반적으로 적당한 비히클로 피부에 도포된다. 비히클은, 예를 들어, 콜로이드 현탁액, 리포솜 제형, 연고, 크림 또는 겔일 수도 있다. 비히클은 또한 균일한 현탁액 내에서 나노입자 또는 나노쉘을 유지하기 위하여 나노입자 또는 나노쉘의 밀도와 부합하는 점도로 제형화된 수중유 또는 유중수 에멀젼일 수도 있다. 비히클은, 예를 들어 중량 기준으로 0.1% 내지 20%의 나노입자 또는 나노쉘을 포함할 수도 있다.

피부는 또한 피부와 접촉하기 전에 활성화되는 발열성 열 발산 물질을 이용하여 가열될 수 있다. 이러한 물질은 공지되어 있으며, 화학 반응을 개시하기 위하여 반죽(kneading)함으로써 또는 공기에 노출시킴으로써(예를 들어, 이 물질을 포함하는 내부 백(bag)을 찔러 구멍을 냄으로써) 활성화될 수도 있다. 이 물질은, 예를 들어 철 분말, 물, 셀룰로오스, 질석 활성탄 및 염의 혼합물을 포함할 수도 있다. 이 물질은 공기 투과성 천(cloth) 층과, 통기 구멍을 갖는 불투과성 필름층을 구비하는 라미네이트 백 내에 수납될 수 있다; 참고로 포함된 미국 특허 제3,976,049호를 참조하라. 이 물질은 선택적으로 면도기 또는 제모기에 포함될 수도 있다.

피부를 가열하기 위한 기타 메커니즘은 마이크로파 장치; 초음파 장치; 초음파 고주파(무선 주파수) 장치; 가요성 서모포일(thermofoil)을 포함하는 장치; 발광 다이오드 장치; 제모 장치에 포함된 히터; 배터리 작동식 히터 장치; 및 피부와 접촉하는 따뜻한 공기 또는 액체를 발생시키는 장치를 이용하는 것을 포함한다.

피부 영역은, 예를 들어 안면 상에 있을 수도 있고, 안면의 턱수염 영역, 즉 뺨, 목, 윗입술 및 턱; 다리; 팔; 몸통; 겨드랑이; 또는 음부 영역을 포함할 수도 있다. 본 방법은 모발의 가시성, 즉 오후 5시경에 나타나는 짧은 수염(five o clock shadow)을 감소시킴으로써 면도의 효과를 향상시키고, 훨씬 길게 지속되는 면도 또는 보다 부드러운 피부의 인식을 증진시키는 방법뿐만 아니라, 다모증을 갖거나 다른 병을 갖는 여성에게서 원하지 않는 모발의 성장을 감소시키기 위해 사용될 수 있다. 본 방법은 모발의 성장 속도를 감소시키는 것에 더하여 모발을 더 가늘고, 더 부드럽고, 덜 색소 침착되게 함으로써 모발의 외양 및/또는 느낌을 감소시키는 데 사용될 수 있다. 본 방법은 왁싱, 기계적 제모, 화학적 제모, 전기분해 및 레이저-보조 모발 제거를 포함하는 기타 모발 제거 방법들에 대한 보조수단으로 사용될 수도 있다.

인간에게 있어서, 본 방법은 모발 성장에서의 인식되는 감소를 달성하기 위하여, 예를 들어, 1일 1회 또는 2회 사용될 수 있다. 모발 성장 감소의 인식은 사용 후 24시간 또는 48시간 만큼 일찍(예를 들어, 보통의 면도 간격 사이) 일어날 수 있거나 예를 들어, 최대 3개월이 걸릴 수 있다. 모발 성장 감소는, 예를 들어, 모발 성장 속도가 느려지거나, 제거 필요성이 감소되거나, 대상이 처리 부위 상에서 보다 적은 모발을 인식하거나, 정량적으로는 제거되는 모발의 중량(즉, 모발 질량)이 감소될 때 입증된다.

특정 메커니즘에 의한 가열에 의해 얻어지는 피부의 온도는 일반적으로 다음과 같이 결정될 수 있다. 정상 체온을 갖는 대상을 온도가 25℃인 방에 위치하게 한다. 0.23 ㎜(0.009 인치) 직경의 열전대를 피부의 소정 영역에 배치한다. 열전대 출력은 내셔널 인스트루먼츠 SCXI-1112 열전대 신호 컨디셔너에 연결된다. 최대 획득율이 초당 333 킬로-샘플인 내셔널 인스트루먼츠 6052E 데이터 획득 보드가 데이터 획득 및 신호 이득을 제어하였다. SCXI-1112 및 NI 6052E DAQ 조합은 초당 42 킬로-샘플의 속도로 최대 8개의 열전대 출력을 동시에 검출할 수 있다. 샘플링 속도는 예를 들어, 1000 샘플/초로 수행될 수 있다.

유사한 방법이 피하 영역에서의 온도 범위를 결정하기 위하여 사용된다. 이 경우에, 열전대는 체외 인간 피부에서 약 5 ㎜ 깊이로 삽입되고 처치가 피부 표면에서 적용된다.

본 방법은 또한 모발 성장 속도를 감소시키는 하나 이상의 화합물을 함유하는 조성물의 도포와 함께 사용될 수 있다. 모발 성장 억제 조성물은 열 처리 전에, 동시에, 또는 후에 도포될 수 있다. 예를 들어, 모발 성장 억제 조성물은 열 처리 전 24시간부터 1주일 내에 도포될 수 있다.

본 조성물은 화합물(들) 및 피부학적으로 허용가능한 비히클을 포함한다. 조성물은 고체, 반고체 또는 액체일 수도 있다. 예를 들어, 조성물은 예를 들어 연고, 로션, 폼, 크림, 겔 또는 용액 형태의 화장 및 피부 과학 제품일 수도 있다. 또한 조성물은 면도용 제제 또는 애프터쉐이브(aftershave)의 형태로 존재할 수도 있다. 비히클 그 자체는 불활성일 수 있거나 비히클은 그 자신의 화장 효과, 생리학적 효과 및/또는 약학적 효과를 가질 수 있다.

모발 성장 속도를 감소시킬 수 있는 화합물 및 이 화합물을 포함하는 조성물은, 예를 들어, 샨더의 미국 특허 제4,720,489호; 브로이어 등의 미국 특허 제4,885,289호; 알루왈리아의 미국 특허 제5,095,007호; 알루왈리아의 미국 특허 제5,096,911호; 샨더 등의 미국 특허 제5,132,293호; 샨더 등의 미국 특허 제5,143,925호; 샨더 등의 미국 특허 제5,328,686호; 알루왈리아의 미국 특허 제5,364,885호; 샨더 등의 미국 특허 제5,411,991호; 알루왈리아의 미국 특허 제5,444,090; 알루왈리아의 미국 특허 제5,455,234호; 알루왈리아 등의 미국 특허 제5,468,476호; 샨더 등의 미국 특허 제5,474,763호; 알루왈리아 등의 미국 특허 제5,554,608호; 복살(Boxall) 등의 미국 특허 제5,648,394호; 헨리(Henry) 등의 미국 특허 제5,652,273호; 알루왈리아의 미국 특허 제5,674,477호; 샨더 등의 미국 특허 제5,728,736호; 헨리 등의 미국 특허 제5,840,752호; 헨리 등의 미국 특허 제5,908,867호; 헨리 등의 미국 특허 제5,939,458호; 스티크진스키(Styczynski) 등의 미국 특허 제5,958,946호; 스티크진스키 등의 미국 특허 제5,962,466호; 스티크진스키 등의 미국 특허 제6,020,006호; 스티크진스키 등의 미국 특허 제6,037,326호; 스티크진스키 등의 미국 특허 제6,060,471호; 알루왈리아 등의 미국 특허 제6,093,748호; 헨리 등의 미국 특허 제6,121,269호; 스티크진스키 등의 미국 특허 제6,235,737호; 알루왈리아 등의 미국 특허 제6,239,170호; 알루왈리아 등의 미국 특허 제6,248,751호; 스티크진스키 등의 미국 특허 제6,299,865호; 및 알루왈리아 등의 미국 특허 제6,414,017호에 기술되어 있다. 이들 특허들은 참고로 포함된다. 모발 성장을 감소시키는 데 사용될 수 있는 기타 화합물, 및 이 화합물을 포함하는 조성물은, 예를 들면 스티크진스키 등의 미국 특허 출원 제09/893,252호; 황(Hwang) 등의 미국 특허 출원 제10/145,283호; 미국 특허 출원 제10/198,219호; 스티크진스키 등의 미국 특허 출원 제10/347,987호; 자르디엔(Jardien) 등의 미국 특허 출원 제10/397,132호; 알루왈리아 등의 미국 특허 출원 제10/397,625호; 황 등의 미국 특허 출원 제10/636,466호; 및 황 등의 미국 특허 출원 제10/721,118에 기술되어 있다. 이들 출원들 모두는 본 출원의 소유자에 의해 소유되고 참고로 포함된다.

조성물 내 화합물의 농도는 포화 용액까지의 넓은 범위에 걸쳐, 바람직하게는 0.1 중량%로부터 30 중량% 또는 그 이상까지 달라질 수 있고; 모발 성장 감소는 도포된 화합물의 양이 피부의 단위 면적당 증가함에 따라 증가한다. 효과적으로 도포되는 최대 양은 화합물이 피부에 침투하는 속도에 의해서만 제한된다. 유효량은 예를 들어 피부 1 제곱 센티미터 당 10 내지 3000 마이크로그램 또는 그 이상의 범위일 수도 있다.

비히클은 불활성일 수 있거나 그 자신의 화장 효과, 생리학적 효과 및/또는 약학적 효과를 가질 수 있다. 비히클은 액체 또는 고체 연화제, 용제, 증점제, 보습제 및/또는 분말을 이용하여 제형화될 수 있다. 연화제는 스테아릴 알코올, 밍크유, 세틸 알코올, 올레일 알코올, 아이소프로필 라우레이트, 폴리에틸렌 글리콜, 바셀린, 팔미트산, 올레산 및 미리스틸 미리스테이트를 포함한다. 용제는 에틸 알코올, 아이소프로판올, 아세톤, 다이에틸렌 글리콜, 에틸렌 글리콜, 다이메틸 설폭사이드 및 다이메틸 포름아미드를 포함한다.

본 조성물은 피부 및/또는 작용 부위로의 화합물의 침투를 향상시키는 화합물을 선택적으로 포함할 수 있다. 침투 향상제의 예에는 우레아, 폴리옥시에틸렌 에테르(예를 들어, Brij-30 및 라우레쓰-4),3-하이드록시-3,7,11-트라이메틸-1,6,10-도데카트라이엔, 테르펜, 시스-지방산(예를 들어, 올레산, 팔미트올레산), 아세톤, 라우로카프람, 다이메틸설폭사이드, 2-피롤리돈, 올레일 알코올, 글리세릴-3-스테아레이트, 프로판-2-올, 미리스트산 아이소프로필 에스테르, 콜레스테롤 및 프로필렌 글리콜이 포함된다. 침투 향상제는 예를 들어 0.1 중량% 내지 20 중량% 또는 0.5 중량% 내지 5 중량%의 농도로 첨가될 수 있다.

본 조성물은 또한 피부 내 또는 피부의 표면 상에 저장부를 제공하여 화합물이 지속적으로 느리게 방출되도록 제형화될 수 있다. 본 조성물은 또한 피부로부터 느리게 증발되도록 제형화되어 화합물이 연장된 시간 동안 피부에 침투하게 할 수도 있다.

인간 모낭 성장 분석:

성장기(anagen)의 인간 모낭을 외과용 메스 및 시계공 겸자를 이용하여 해부경 하에서 주름살 제거 조직(face-lift tissue)(성형외과 의사로부터 입수)으로부터 단리하였다. 이 피부를 얇은 스트립으로 베어내어 손쉽게 해부될 수 있는 2-3줄의 모낭을 노출시켰다. 모낭을 2 mM L-글루타민, 10 ㎍/mL 인슐린, 10 ng/mL 하이드로코티손, 100 단위의 페니실린, 0.1 ㎎/mL 스트렙토마이신 및 0.25 ㎍/mL 암포테리신 B가 보충된 0.5 mL 윌리엄스 E 배지(메릴랜드주 게티스버그 소재의 라이프 테크놀로지즈(Life Technologies))에 놓아 두었다. 모낭을 5% CO₂ 및 95% 공기의 분위기에서 37℃에서 24웰 플레이트 (1개의 모낭/웰)에서 인큐베이션하였다. '열'처리 후, 개별적인 모낭을 세포 배양 플레이트 내에 웰당 하나씩 위치시켰고, 37℃에서 조직 배양 인큐베이터에 보관하였다. 해부경 하에서 10X 배율로 24-웰 플레이트에서 모낭을 촬영하였다. 전형적으로, 이미지 기록은 0일째(모낭을 배양물 중에 둔 날) 그리고 다시 7일째에 수행되었다. 모낭의 길이는 영상 분석 소프트웨어 시스템을 이용하여 평가되었다. 모발 섬유의 성장은 7일째에 결정된 모낭 길이로부터 0일째 모낭 길이를 뺌으로써 계산되었다. 다중-스케일 스테이지 마이크로미터(multi-scale stage micrometer)(타이탄 툴 서플라이 컴퍼니, 인크.(Titan Tool Supply Co., Inc.))가 모낭과 동일한 배율(zoom factor)로 영상화되었고, 길이 교정 표준으로서 제공되었다. 마이크로미터의 최소 눈금은 25 ㎛이었다. 모낭 길이 측정은 마이크로미터 교정을 기준으로 하는 IMAQ 비젼 빌더(Vision Builder) 내에서 수행되었고 이후의 통계학적 분석을 위해 마이크로소프트 엑셀 파일로 저장되었다.

모발 주기의 퇴행기는 세포 성장 및 색소 침착의 종결, 진피유두와 기질세포간의 접촉 손실, 아팝토시스에 의한 진피유두로부터의 기질 영역의 수축으로 나타난다. 퇴행기 성장은 모구 영역의 신장(elongation), 즉 진피유두의 기저부와 모간 사이의 거리를 기준으로 측정된다. 모구는 신장이 고용량 레이저의 평균에서 평균의 두 개의 표준 오차를 뺀 것보다 크거나 같은 경우에 퇴행기에 있는 것으로 정의되었다.

모낭(한번에 6개의 모낭)을 겸자를 이용하여 특정 (상승된) 온도로 평형화된 배지 속에 완전히 담갔다. 특정 시간의 말기에, 모낭을 가열된 배지로부터 꺼내어 실온의 배지 또는 0℃로 냉각된 배지에 두었다. 실온의 배지에 놓여진 모낭을 모든 모낭이 처리될 때까지 배지 내에 방치하였고, 그 후에 37℃ 인큐베이터에 두었다. 처리에 이어서 냉각된 이들 모낭을 특정 시간 동안 0℃ 배지에 두고, 그리고 나서 모든 모낭들이 처리될 때까지 실온의 배지로 다시 옮겼다.

실시예 1

모낭을 1분간 하기 온도의 배지에 두었다: 실온 (22 - 25℃), 37℃, 45℃, 55℃, 및 60℃. 표 1은 나타낸 바와 같이 처리 후 5일간의 모낭 성장 및 신장의 측정을 포함한다. 모낭이 실온의 배지에서 인큐베이션되었을 때 성장에 있어서 약간의 감소가 있었고, 37℃ 인큐베이션(피하 영역에서의 생리학적 모낭 온도)에서는 아무런 영향이 없었다. 45℃에서는 거의 50% 감소, 55℃에서는 70% 감소, 및 60℃에서는 모발 섬유 성장의 완벽한 억제가 있었다. 이들 모낭에서 퇴행기 발달은 없었다. 퇴행기 발달은 모간의 기저부에서 모낭의 기저부까지 모낭의 모구 영역의 신장에 의해 결정되었다.

실시예 2

모낭을 10초간 45℃, 50℃, 55℃, 및 60℃에서 가열하였고 성장을 조사하였다. 그 결과를 표 2에 나타내었다. 45℃에서의 가열은 5일에 걸쳐 25%의 성장 감소를 나타내었다. 50℃ 및 55℃에서 10초간의 모낭 가열은 성장을 60%만큼 감소시키는 데 충분하였다. 모낭을 10초간 60℃에 노출시키는 것은 모발 성장을 완벽하게 억제하는 데 충분하였다. 이들 온도에서 10초간 가열된 모낭에서 퇴행기 발달에 대한 증거는 없었다.

실시예 3

모낭을 10초간 또는 30초간 열에 노출시킨 후 10초간 0℃의 배지에 놓아 두었다. 모낭을 0℃의 배지에 놓아 두는 것은 모발 성장에 거의 또는 아무런 영향을 미치지 않았다(표 3 참조). 모낭이 60℃로 가열될 때까지는 모발 성장에 아무런 억제가 나타나지 않았다. 보다 낮은 온도에서는 40℃ 및 50℃에서 모낭에서 발생하는 임의의 변화가 가열 과정 직후의 냉각에 의해 거꾸로 진행되거나 예방될 수 있는 것처럼 보인다. 그러나, 10초간의 모낭 냉각은 60℃에서 10초간의 모낭 가열에 의해 야기된 변화를 극복하기에 충분하지 않았다.

마지막으로, 모낭을 30초간 가열한 후 10초간 0℃에서 냉각시켰다. 그 결과를 하기 표 4에 나타내었다.

45℃에서 30초간의 모낭 가열은 모발 성장에 있어 30% 감소를 야기하는 데 충분하였다. 모발 성장 억제량은 모낭이 노출되었던 온도의 증가에 따라 증가하였다. 일단 모낭이 심지어 단시간 동안이라도 60℃에 노출되면, 가열에 의해 야기된 변화를 냉각에 의해 극복하는 것이 허용되지 않았다.

모낭 세포의 상태에 미치는 가열의 효과를 평가하기 위하여, 형태(morphology) 및 증식 속도를 분석하였다. 각 군당 12개의 모낭을 분석하였다. +45℃에 노출된 모낭의 조직형태(histomorphology)(HF)는 변함없이 유지되었다. 그러나, 45℃ 가열에 노출된 모낭은 PCNA 검출에 의해 결정된 바와 같이, 대조 모낭(HF당 92개)과 비교하여 모발 기질 내에 현저히 낮은(p<0.01) 수의 증식세포(HF당 49 세포)를 포함하였다. 이러한 관찰은 열(+45℃)이 모낭 구조 내에 가시적인 변화 없이 세포 증식을 억제하여 모간 신장을 지연시킨다는 것을 제시한다. 정상적인 모발 성장 속도는 72시간 이내에 다시 시작하는 것으로 보였고, 이는 적은 열이 프그로램된 세포 사멸 및 모발 주기 변화와 관련된 형태학적 또는 생리학적 영향을 수반하지 않는 성장 속도에 있어서의 일시적인 감소를 유발함을 나타낸다.

알파-다이플루오로메틸오르니틴(DFMO)과 같은 모발 성장을 감소시키는 화합물은, 레이저와 조합하여 사용되는 경우에, 레이저에 의한 모발 억제를 위해 필요한 에너지 밀도 한계치(fluence threshold)를 감소시켰다. 따라서, 모발 성장 억제를 매개하는 데 유효하지 않은 레이저 에너지 밀도뿐만 아니라 모발 성장을 억제하는 데 효과적이지 않은 DFMO 용량이 조합하여 사용될 때 모발 성장 억제를 촉진하도록 상승적으로 작용한다는 것이 입증되었다.

기타 실시 형태가 청구의 범위 내에 속한다.

Claims

포유류에서 모발 성장을 감소시키는 방법으로서,

성장 주기에 따라 모발이 성장하고 모발의 감소된 모발 성장이 요구되는 피부 영역을 포유류에서 선택하는 단계; 및

모발의 성장 주기를 변경시키지 않고 모발의 성장을 지연시키기에 충분한 온도로 상기 피부 영역을 가열하는 단계를 포함하는 방법.
제1항에 있어서, 상기 피부 영역이 55℃ 미만의 온도로 가열되는 방법.
제1항에 있어서, 상기 피부 영역이 40℃ 내지 50℃의 온도로 가열되는 방법.
제2항에 있어서, 상기 피부 영역이 적어도 1분간 가열되는 방법.
제1항에 있어서, 상기 가열이 7일 내에 적어도 2회 수행되는 방법.
제1항에 있어서, 상기 가열이 면도 장치에 포함된 히터를 이용하여 달성되는 방법.
제1항에 있어서, 상기 가열이 레이저를 이용하여 달성되는 방법.
제1항에 있어서, 상기 가열이 냉각 소자를 포함하지 않는 장치를 이용하여 달성되는 방법.
제8항에 있어서, 장치가 레이저인 방법.
제8항에 있어서, 장치가 조사 전에 피부 표면에 도포된 나노쉘과 조합하여 사용되는 적외선 광원인 방법.
제1항에 있어서, 모발이 안드로겐 자극에 응답하여 성장하는 방법.
제1항에 있어서, 피부 영역이 인간의 안면 상에 존재하는 방법.
제1항에 있어서, 피부 영역이 인간의 겨드랑이 또는 다리 상에 존재하는 방법.
제1항에 있어서, 상기 가열의 24시간 이내에, 모발의 성장을 감소시키는 화합물을 포함하는 피부학적으로 허용가능한 조성물을 피부 영역에 도포하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
제14항에 있어서, 화합물이 알파-다이플루오로메틸오르니틴, 트라이프톨라이드, 및 카페인산 페닐 에스테르로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법.
제14항에 있어서, 상기 화합물이 혈관형성 저해제 및 금속성 단백질 분해효소 저해제로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법.
포유류에서 모발 성장을 감소시키는 방법으로서,

모발이 성장하고 모발의 감소된 모발 성장이 요구되는 피부 영역을 포유류에서 선택하는 단계; 및

모발 성장의 감소를 야기하기 위하여 40℃ 내지 55℃의 온도로 상기 피부 영역을 가열하는 단계를 포함하는 방법.
제17항에 있어서, 상기 피부 영역이 소정 온도로 가열되되, 상기 피부 영역이 온도로 가열되는 상기 피부 영역이 52℃ 미만의 온도로 가열되는 방법.
제17항에 있어서, 상기 피부 영역이 소정 온도로 가열되되, 상기 피부 영역이 온도로 가열되는 상기 피부 영역이 50℃ 미만의 온도로 가열되는 방법.
제17항에 있어서, 상기 가열의 24시간 이내에, 모발의 성장을 감소시키는 화합물을 포함하는 피부학적으로 허용가능한 조성물을 피부 영역에 도포하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
제17항에 있어서, 상기 피부 영역이 적어도 1분간 상기 온도로 가열되는 방법.
제17항에 있어서, 상기 가열이 7일 내에 적어도 2회 수행되는 방법.
제17항에 있어서, 상기 가열이 레이저를 이용하여 달성되는 방법.
제17항에 있어서, 상기 가열이 면도 장치 내로 포함된 히터를 이용하여 달성되는 방법.
제17항에 있어서, 상기 가열이 가열 소자를 포함하지 않는 장치를 이용하여 달성되는 방법.
제17항에 있어서, 상기 피부 영역이 인간의 안면 상에 존재하는 방법.