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KR20140003479A - 진공 처리 장치 - Google Patents

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KR20140003479A
KR20140003479A KR1020137018750A KR20137018750A KR20140003479A KR 20140003479 A KR20140003479 A KR 20140003479A KR 1020137018750 A KR1020137018750 A KR 1020137018750A KR 20137018750 A KR20137018750 A KR 20137018750A KR 20140003479 A KR20140003479 A KR 20140003479A
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KR
South Korea
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pumping
zone
facility
transfer
Prior art date
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KR1020137018750A
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본 마스트 바트 숄티
볼프강 리츨러
로히르 로데르
롤프 바즐렌
다니엘 로러
Original Assignee
오씨 외를리콘 발처스 악티엔게젤샤프트
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Abstract

이송 챔버(1) 내의 이송 설비(5)에 의해 운영되는 진공 처리 챔버(13)의 펌핑 시간을 줄이기 위하여 진공 처리 챔버(13)가 이송 설비(5)의 이동 경로(S)에 대하여 서로 반대편에 배치되고 서로 소통하는 작업편 처리 구역(13T) 및 펌핑 구역(13P)으로 분리된다. 펌핑 구역(13P)은 처리 구역(13T)의 구조와는 독립적으로 선택될 수 있는 유체 단면적 영역을 갖는 펌핑 포트(18)를 포함한다.

Description

진공 처리 장치{VACUUM TREATMENT APPARATUS}
본 발명은 일반적으로 진공 처리 장치에 관한 것으로, 하나 또는 그 이상의 진공 처리 챔버들이 제공되며, 이는 처리되어야 할 작업편들(workpieces)과 함께 진공 이송 챔버 내의 이송 설비에 의해 서브되며(served), 진공 이송 챔버는 하나 또는 그 이상의 이송 챔버들과 개부부들을 통하여 소통하며, 개구부들을 통하여 작업편이 처리 공간으로 공급되거나 제거된다.
진공 처리 장치에서 진공 처리 챔버는 하나 또는 그 이상의 작업편들을 처리하는 동안에 이송 챔버로부터 밀봉되어야 하며 이송 챔버로부터 밀봉된 이후 각각의 진공 처리에 필요한 진공 수준으로 펌핑 다운되어야 한다. 이러한 장치는 US 6 481 955 또는 WO 2010/105967로부터 알 수 있다.
본 발명의 목적은 진공 처리 챔버 또는 챔버들의 향상된 펌핑 다운 시간을 갖는 진공 처리 장치를 제공하는 것이다.
"진공 처리"란 작업편들이 대기압 이하 즉 진공 조건에서 표면 처리되는 PVD 또는 CVD 진공 공정 또는 다른 어떠한 진공 공정들을 의미한다.
상기 목적은 진공 처리 챔버 및 진공 이송 챔버를 포함하는 본 발명에 따른 진공 처리 장치에 의해 해결된다. 진공 이송 챔버는 적어도 하나의 작업편 지지대를 구비하며 이동 경로를 따라 구동되어 이동하는 이송 설비를 포함한다. 이송 챔버는 개구부를 통하여 처리 챔버와 소통하며, 이송 설비 및 그 안에 있는 작업편 지지대 및 작업편의 적어도 일부가 이동 경로를 따라 그곳을 통과하도록 고려된다. 진공 처리 챔버는 이동 경로의 한쪽 측면에 작업편 처리 구역을 포함하며 이동 경로에 대해 상기 작업편 처리 구역의 맞은편에 펌핑 구역을 포함한다. 펌핑 구역은 펌핑 포트를 포함한다. 이송 챔버 및 전체 진공 처리 챔버 사이의 개구부를 제어적으로 밀봉하는 밀봉 설비가 추가로 제공된다.
이와 같이 전체 진공 처리 챔버는 이송 설비의 양쪽 맞은편에 위치하는 작업편 처리 구역 및 펌핑 구역으로 나뉘어지며 이들은 완벽하게 소통 가능하다. 이에 의하여 작업편 처리 구역에는 제공되지 않는 펌핑 포트의 크기에 제한이 없게 된다. 이는 펌핑 설비의 저압측 펌핑 라인의 단면적에 의해 크게 영향받는 대용량 펌핑의 설치를 가능하게 한다.
상기와 같은 전체 진공 처리 챔버의 작업편 처리 구역 및 펌핑 구역의 분리는 대용량 펌핑의 설치를 가능하게 하며, 펌핑 구역의 상기 펌핑 포트에 연결된 진공 펌프 설비에 의해 적어도 실질적으로 이송 챔버를 진공화시키는 가능성이 열려있다.
제어적 밀봉 설비에 의해, 작업편이 처리 챔버에 적재되고 처리 구역의 프로세싱에 의해 처리될 준비가 마쳐지면, 이송 챔버는 진공 처리 챔버로부터 밀봉된다. 펌핑 구역의 상기 펌핑 포트에 연결된 펌핑 설비는 처리 구역를 포함하는 전체 처리 챔버를 목적하는 진공 공정에 필요한 진공 수준까지 빠르게 진공화시킬 수 있다.
특히 본 발명을 이용하고 하나의 공통 이송 설비에 의해 다수의 진공 처리 챔버가 운영되는 장치에 있어서, 정비를 위하여 진공 처리 챔버들 중 하나 이상을 대기 중으로 개방할 수 있는 가능성을 제공하는 것은 매우 유익하다. 전체 장치의 일부를 그와 같이 대기 중으로 노출시키는 것이 장치의 나머지 진공 영역에 영향을 주어서는 아니된다. 이는 전체 장치의 가동 정지 시간을 최소화하고 또는 심지어 하나의 처리 챔버가 대기압 하에 노출되어 있음에도 불구하고 장치에 의해 추가적인 작업편의 공정을 수행할 수 있도록 하기 위하여 작업편들을 대기압 하에서 교환한다.
이러한 양상의 본 발명의 일 구현예에서, 처리 구역 내의 압력 및 펌핑 포트와 소통하는 펌핑 구역의 영역의 압력이 증가함에 따라 씰링 포스(force)를 증가시키기 위하여 제어적 씰링 장치가 고려되었다. 다른 말로 하여 본 발명에 따르면 이송 챔버는 처리 구역로부터 밀폐되며 펌핑 구역 또는 적어도 펌핑 구역 내에서 펌핑 포트와 소통하는 영역의 압력은 대기압까지 상승하며, 그러면 씰링 장치의 밀봉 효과는 증가한다. 당업자에게 알려진 바와 같이, 이러한 개념은 일반적으로 밀폐 방향으로 각각의 압력을 감당하고 있는 표면 영역의 면적(extent)를 각각 조절함으로서 달성될 수 있다. 전술한 바와 같은 구현예는 이어서 설명할 어떠한 구현예들과도 조합될 수 있다.
일반적으로 본 발명에 따른 장치에서 이송 설비가 진공 처리 챔버에서 제거되고 이에 의해 작업편이 진공 처리 챔버 내에서 나오면 씰링 설비가 오직 이송 챔버 및 처리 구역/펌핑 구역 사이의 씰링 분리를 형성하도록 고려되었다고 하여도, 이미 설명한 구현예 또는 모순되지 않으면 뒤에 설명될 구현예와 결합될 수 있는 본 발명의 일 구현예에서 이송 설비 상의 작업편 지지대가 진공 처리 챔버 내에 머무르게 하는 위치에 이송 설비가 있을 때 전술한 개구부를 밀봉하기 위하여 제어적 씰링 설비가 고려된다. 이 구현예에서 이송 설비는 작업편의 처리 공정 동안에 진공 처리 챔버 내에 머무른다.
이미 설명한 구현예 또는 모순되지 않으면 뒤에 설명될 구현예와 결합될 수 있는 본 발명의 일 구현예에서, 제어적 씰링 장치는 팽창적으로 및 수축적으로 구동되는 관형 벨로우를 포함한다. 관형 벨로우의 한쪽 끝은 펌핑 구역 내에 밀봉적으로 장착된다. 관형 벨로우의 다른 쪽 끝은 개구부를 밀봉하기 위하여 개구부 주위를 제어적으로 이동 가능하다. 펌핑 포트는 벨로우의 내부와 소통하는 펌핑 구역의 영역 내에 위치한다. 이러한 관형 벨로우를 제공함에 의하여, 커튼과 같이 벨로우의 이동 가능한 말단은 상기 개구부를 가로질러 밀봉적으로 이동시키는 것이 가능하게 된다. 그리하여 처리 구역는 펌핑 구역 내의 펌핑 포트와 벨로우의 내부를 통하여 자유로이 소통하게 된다.
상기 관형 벨로우를 이용하는 본 발명의 일 구현예에서, 이송 챔버는 진공 처리 챔버를 가로질러 연장된다. 따라서 이는 이송 설비, 그 위에 있는 작업편 지지대 및 거기에 배치된 작업편을 통과하도록 고안된 제2 개구부와 또한 소통한다. 제2 개구부는 진공 처리 챔버의 벽에 있는 개구부의 반대편에 위치한다. 다른 쪽 말단 즉 벨로우의 자유로운 한쪽 끝은 또한 제2 개구부 주위를 밀봉적으로 이동할 수 있다. 이와 같이 관형 벨로우의 자유로운 말단을 각각 제어함으로써 진공 처리 챔버에 대한 이송 설비의 양쪽 소통 개구부들은 동시에 밀봉적으로 밀폐될 수 있다.
전술한 구현예의 한 구현예에서 이송 설비는 상기 제1 및 제2 개구부를 통하여 이동 경로 및 진공 처리 챔버를 따라 이동할 수 있으며, 이격된 다수의 작업편 지지대들을 포함한다. 이 구현예에서는 전술한 진공 처리 챔버의 하나에서 다수의 작업편들에 대한 인라인 처리가 수행된다.
이미 기술한 또는 모순되지 않으면 뒤에서 기술할 구현예의 어느 것과도 조합될 수 있는 본 발명의 일 구현예에서, 이송 설비 상의 작업편 지지대는 관통-개구부를 포함한다. 작업편 지지 부재는 관통-개구부 내에 유지되고 처리 구역 쪽 방향으로 올려질 수 있으며 들어 올려질 수 있으며, 따라서 그 자리를 이송 설비 상에 남겨 놓는다. 관형 벨로우의 다른쪽 끝 즉 자유로운 말단은 작업편 지지 부재를 처리 구역 벽을 따라서 고리모양 영역과 밀봉적 접촉을 하도록 들어올리기 위하여 상기 작업편 지지 부재와 밀봉적 접촉을 한다. 이와 같이 관형 벨로우 자유 말단의 이동에 의하여 작업편 지지 부재는 이송 설비의 관통-개구부에서 들어 올려지며 처리 구역의 내부 벽을 따라서 전술한 고리모양 영역에 밀봉적으로 압착된다. 이에 의하여 관형 벨로우의 자유 말단 또한 작업편 지지 부재에 대해 밀봉적으로 바이어스된다.
방금 기술한 구현예를 떠나서 본 발명에 따른 일 구현예에서, 본 발명의 장치는 펌핑 구역에서 처리 구역 내부로 제어적으로 들어 올려질 수 있는 리프팅 설비를 포함한다. 리프팅 설비는 관형 벨로우 내에 위치한다. 리프팅 설비는 관형 벨로우의 개구 말단을 작업편 지지 부재와 밀봉적 접촉을 하도록 들어올리고 또한 작업편 지지 부재를 처리 구역의 벽을 따라서 고리모양 영역과 밀봉적 접촉을 하도록 들어올리기 위하여 관형 벨로우의 개구 말단과 협동하는 액튜에이터를 포함한다. 이와 같이, 처리 구역 쪽으로 리프팅 설비를 들어올림으로써 리프팅 설비의 액튜에이터는 관형 벨로우의 개구 말단을 작업편 지지 부재와 접촉하도록 상승시키고 작업편 지지 부재를 처리 구역 벽을 따라서 고리모양 영역 쪽으로 상승시켜서 한편으로는 상기 고리모양 영역과 작업편 지지 부재 사이에 밀봉을 형성하고 다른 한편으로는 작업편 지지 부재와 작업편 지지 부재 사이에 밀봉을 형성한다.
본 발명의 일 구현예에서, 상기 작업편 지지 부재는 그 주변을 따라서 관통-개구부들을 갖는 지지 플레이트를 포함한다. 이 구현예에서 처리될 작업편은 지지 부재 위에 위치하여 머물며 처리 구역의 벽을 따라서 고리모양 영역과 밀봉이 형성되면 지지 부재가 위치할 지점에 위치할 것이다. 작업편의 처리 위치 및 작업편 지지 플레이트의 밀봉 위치는 독립적이지 않다. 지지 플레이트는 처리 구역과 펌핑 구역 내의 펌핑 포트 사이의 자유로운 소통을 형성하기 위하여 그 주변을 따라서 관통 개구부들을 갖는다(작업편은 지지 플레이트의 중앙에 머무른다).
본 발명의 또 다른 구현예에서, 작업편 지지 부재는 이송 설비의 관통 개구부 형상에 일반적으로 적용될 수 있는 외측 프레임 및 하나 또는 다수의 작업편들이 처리될 수 있는 내측 프레임을 갖는 원형 또는 사각형일 수 있는 프레임을 포함한다. 상기 프레임은 내측의 개구 공간에서 적어도 하나의 작업편들을 위한 홀딩 부재들(holding members)을 포함한다. 홀딩 부재들은 하나 또는 그 이상의 작업편들을 프레임으로부터 처리 구역 쪽 방향으로 들어올릴 수 있도록 고안된다. 리프트의 액튜에이터는 관형 벨로우의 다른 쪽 끝(자유 말단)과 스프링 설비를 이용하여 협동한다. 리프팅 설비는 리프팅 설비의 처리 구역 쪽 방향으로 말단에 위치하는 작업편 지지 플레이트를 포함한다. 이러한 구현예에 의해 작업편 지지 부재의 전술한 모든 밀봉들, 즉 처리 구역 벽을 따라서 고리모양 영역 쪽을 향한 프레임과 관형 벨로우의 개구 말단과 전술한 프레임 사이의 밀봉이 형성되며, 액튜에이터와 관형 벨로우의 자유 말단 사이에서 작용하는 스프링 설비로 인하여 리프팅 설비는 추가적으로 지지 플레이트 위의 작업편을 들어올려 처리 구역 내에서 전술한 밀봉의 형성으로부터 독립적인 지점에 위치시킨다.
이미 기술한 또는 모순되지 않으면 뒤에서 기술할 구현예의 어느 것과도 조합될 수 있는 본 발명에 따른 장치의 일 구현예에서, 작업편을 작업편 지지 플레이트에서 들어올려 작업편의 위치를 작업편 지지 플레이트의 위치와는 독립적으로 만드는 추가적인 수단을 포함한다. 만일 예를 들어 작업편 지지 플레이트가 작업편을 위한 가열 또는 냉각 설비를 구비하면 작업편의 처리 공정 동안에도 작업편 쪽으로 또는 작업편 쪽에서의 열전달을 조절하기 위하여 전술한 추가적인 수단이 이용될 수 있다. 이에 의하여 네거티브 피드백 제어 루프에서 작업편 온도 제어를 위한 조절 부재가 실현된다.
이 구현예는 이와 같이 작업편 처리 챔버 내에서의 작업편을 위한 작업편 처리 홀더 및 상기 작업편 처리 홀더에서의 작업편을 위한 제어적으로 구동 가능한 리프팅 설비를 포함한다.
본 구현예의 일 예에서 상기 작업편 처리 홀더 상의 작업편 온도 측정을 위한 온도 감지 수단이 제공되며, 여기에서 온도 감지 수단 및 제어적으로 구동 가능한 리프팅 장치는 작업편 온도를 위하여 네거티브 피드백 루프로 서로 연결된다.
이미 기술한 또는 모순되지 않으면 뒤에서 기술할 구현예의 어느 것과도 조합될 수 있으며 이송 설비는 이동 경로를 따라 진공 처리 챔버를 관통하여 이동 가능한 본 발명에 따른 장치의 일 구현예에서, 이송 설비는 직선 또는 원형의 이동 경로를 따라서 이동 가능하다. 본 발명에 따른 전체 장치는 다수의 작업편들이 직선의 이송 설비를 따라서 순서적 방식으로 하나의 진공 처리 설비에서 다음으로 이송되는 장치일 수 있으며, 그 중 적어도 하나 또는 전체 장치가 중앙 주위를 원형 방식으로 구동되는 이송 설비를 구비하며 다수의 작업편들이 그에 의하여 하나의 진공 처리 설비에서 다음으로 이송되는 장치를 고려할 수도 있다.
이미 기술한 또는 모순되지 않으면 뒤에서 기술할 구현예의 어느 것과도 조합될 수 있으며 이송 설비는 원형의 이동 경로를 따라 이동 가능한 본 발명의 일 구현예에서, 처리 구역 및 펌핑 구역는 원형 이동 경로의 축 방향으로 서로 반대편에 배치될 수 있다.
전술한 구현예들과 결합될 수 있는 본 발명의 일 구현예에서, 장치는 이송 챔버에 연결되며 이송 설비를 진공시키도록 고안된 제1 펌핑 설비를 더욱 포함한다. 이는 처리 구역에 연결되며 처리 구역을 진공시키도록 고안된 제2 펌핑 설비를 더욱 포함한다. 이에 의하여 펌핑 설비는 펌핑 구역의 펌핑 포트에 연결되며, 펌핑 설비의 적어도 지배적인 부분이 이송 챔버를 진공시키도록 고려되며 처리 구역을 진공시키도록 고려되는 것은 오직 이 펌핑 설비이다.
본 발명은 도면을 참조하여 더욱 상세하게 예시될 것이다.
도 1은 작업편의 처리 동안 이송 설비가 제거된 상태의 본 발명의 제1 구현예에 따른 장치의 개략도이다.
도 2는 작업편의 처리 동안 진공 처리 챔버 내에 이송 설비(5)가 남아있는 상태의 도 1과 유사한 본 발명의 제2 구현예에 따른 장치의 개략도이다.
도 3은 도 1과 유사한 본 발명에 따른 장치에 대한 또 다른 구현예의 개략도이다.
도 4는 본 발명에 따른 장치에 의해 제공되는 처리 구간 내의 고압이 씰링을 강화하는 도 3에 따른 구현예의 일부를 도시한 도면이다.
도 5는 도 2 및 3의 구현예를 조합한 본 발명에 따른 장치에 대한 또 다른 구현예를 도시한 도면이다.
도 6은 보다 구체적으로 구현된 도 5와 유사한 구현예를 도시한 도면이다.
도 7은 선형 이송 설비를 구비한 본 발명에 따른 장치의 매우 개략적인 부분도이다.
도 8은 원형 중심으로 구동되는 이송 설비를 구비한 도 7에 따른 구현예의 장치를 도시한 도면이다.
도 9는 링-형상 원형 이송 설비를 구비한 도 8 및 8과 유사한 본 발명에 따른 장치를 도시한 도면이다.
도 1 및 2를 참조하여 본 발명의 전반적인 개념이 기술될 것이다. 이송 챔버 펌핑 설비(3)에 의해 진공이 될 수 있는 이송 챔버(1) 내에서 이송 설비(5)가 점선 S 로 표시된 이동 경로를 따라 제어적으로 구동될 수 있다. 이송 설비(5)는 처리될 작업편(9)을 위한 적어도 하나의 작업편 지지대(7)를 가진다. 이송 챔버(1)는 개구부(11)를 통하여 진공 처리 챔버(13)와 소통한다. 진공 처리 챔버(13)는 한편으로는 이송 설비(5)의 이동 경로 S 의 한쪽 측면으로 작업편 처리 구역(13T)을 포함하며, 이동 경로 S 에 대하여 처리 구역(13T)과 반대편에 펌핑 구역(13P)를 포함한다. 도 1에 따르면, 진공 처리 챔버(13) 내에서 이송 설비(5)의 이동 경로 S를 따라서 점선으로 도시된 바와 같이 그 위에 이송 설비(5)에 의해 작업편(9)이 적층되는 작업편 수용 부재(15)가 제공된다. 진공 처리 챔버(13) 내에서 작업편(9)을 적층한 후에, 도 1의 구현예에 따르면 이송 설비(5)는 도 1에 도시된 바와 같이 진공 처리 챔버(13) 밖으로 후퇴한다.
지지대(15) 위에 작업편(9)을 적층한 후에, 도 1에 개략적으로 도시된 바와 같이 구동기(20)에 의해 제어적으로 구동되는 씰링 설비(17)가 개구부(11)를 밀봉하기 위하여 개구부(11)를 가로질러 이동한다. 밀봉 위치의 씰링 부재(17)가 점선으로 도시되었다.
이에 의하여 상호간에 자유로이 소통하는 양쪽 구역들(13T, 13P)을 포함하는 진공 처리 챔버(13)는 이송 챔버(1)로부터 밀봉적으로 분리된다. 지지대(15) 위의 작업편(9)은 처리 구역(13T) 내에서 진공 처리에 노출된다. 따라서, 처리 구역(13T)은 스퍼터링 소스, 아크 증발기, 가스 공급원, PECVD를 위한 플라즈마 방전 유닛들, 히터, 쿨러 등 원하는 작업 처리를 수행하는 유닛들(도 1에는 미도시)을 구비한다.
펌핑 구역(13P)에는 펌핑 설비(19)를 적용하기 위한 대형 펌핑 포트(18)가 제공된다. 펌핑 구역(13P)은 처리 구역(13T)을 포함하는 전체 진공 처리 챔버(13)가 원하는 진공 압력으로 빠르게 펌핑되기 위하여 펌핑 설비(19)를 위한 매우 큰 단면적의 이와 같은 대형 펌핑 포트(18)를 적용할 수 있는 넓은 표면 면적을 제공한다. 이에 의하여, 펌핑 설비(19)의 펌핑 효과는 개구부(11)에 씰링 설비(17)가 없을 때 펌핑 설비(19)가 이송 챔버(1)에 적어도 뚜렷한 펌핑 효과를 제공하도록 이용될 수 있도록 매우 크게 맞추어질 수 있다. 이와 같은 경우에 이송 챔버 펌핑 설비(3)는 만일 필요하다면 단지 보조 설비로 되게 된다. 만일 이송 설비가 하나 이상의 진공 처리 챔버(13)에 사용되게 되면, 각각의 펌핑 설비들(19)은 또한 공통적으로 이송 챔버 펌핑 설비로 기능한다.
도면 부호 22는 이송 설비(5)를 위한 제어적 구동기를 개략적으로 도시한다.
도 1의 구현예에서는 처리작업 수행 전에, 따라서 씰링 설비(17)가 개구부(11)를 밀봉적으로 밀폐하기 전에 이송 설비(5)가 진공 처리 챔버(13)에서 후퇴한 상태를 도시하나, 도 2에서는 작업편(9) 처리 동안에 이송 설비(5)가 작업편(9)과 함께 진공 처리 챔버(13) 내에 남아있는 구현예를 도시한다.
도 2의 구현예에 따르면, 씰링 설비(17a)가 이송 설비(5)와 개구부(11)의 경계 사이에 고려되어 있어 이송 설비(5)가 진공 처리 챔버(13) 내로 완전히 도입되고 작업편(9)의 처리를 위하여 거기에 머무를 때마다 개구부(11)가 밀폐된다.
도 1에 따른 본 발명의 일반적인 접근을 떠나서, 도 3은 도 1 및 2를 유추하여 도 1의 장치를 실현하는 구현예를 도시한다. 펌핑 구역(13P) 내에 관형 벨로우(21)가 밀봉적으로 장착된다. 관형 벨로우(21)는 처리 구역(13T) 쪽으로 구동적 및 제어적으로 나아갈 수 있으며 따라서 또한 펌핑 구역(13P) 내로 후퇴할 수 있다. 펌핑 설비(19)를 위한 펌핑 포트(18)가 관형 벨로우(21) 내 펌핑 구역(13P)의 벽에 제공된다. 이와 같이 펌핑 구역(13P) 내에서 펌핑 영역(13P')이 벨로우(21) 내부에 형성된다. 처리 구역(13T) 쪽을 향하는 벨로우(21)의 개구 말단은 개구부(11)가 밀봉적으로 밀폐되었을 때 개방된 소통상태에 있는 펌핑 영역(13P') 및 처리 구역(13T)에 대해 밀봉적으로 개구부(11)를 밀폐하는 위치에서 개략적으로 도시된 구동기(20)에 의해 제어적으로 구동되어 이동 가능하다. 도 3에 따르면, 이는 처리 구역(13T) 쪽을 향하는 벨로우(21)의 개구 말단에 진공 처리 챔버(13)의 숄더면(shoulder surface, 27)과 밀봉적으로 결합하는 씰링 링 또는 프레임(25)을 제공함으로써 실현된다. 개구부(11) 및 이동 경로 S 에 대하여 링 또는 프레임 형상 숄더면(27)이 처리 구역(13T) 쪽을 향하여 위치한다.
작업편 교체, 정비 또는 처리 설비의 교체를 위하여 처리 구역(13T)을 개방하고 따라서 전체 진공 처리 챔버(13)를 대기압 하에 노출시키는 것이 종종 필요하다. 따라서 한편으로는 이송 챔버(1)와 함께 나머지 처리 장치 및 이송 설비(5)에 의해 이용되는 추가적인 처리 설비들이 오염되거나 다시 진공처리되는 것을 방지할 필요가 있다. 종종 복수의 처리 설비들 중 어느 하나는 정비, 보다 일반적으로는 대기압에 노출된 상태에 있으나 장치에 의한 작업편 처리를 계속해야할 필요가 있을 수 있다. 따라서 도 4에 개략적으로 도시된 구현예에서 도 3의 구현예에 대한 하나의 실시예로서 고압의 진공 처리 챔버(13)와 처리 챔버의 압력에 비하여 저압인 이송 챔버(1) 사이에 존재하는 압력차가 개구부(11)의 밀봉에 증가된 밀봉 포스(force)를 제공하도록 씰링 설비가 고려되었다.
이는 처리 구역(13T) 및 펌핑 구역(13P)의 압력 및 이송 챔버(1)의 압력의 압력차에 노출된 이동성 씰링 설비에 면적들(surfaces)을 제공함으로써 그 결과 힘이 씰링 설비를 향하도록 함으로써 실현될 수 있다. 도 3의 구현예를 떠나서, 도 4는 이러한 구현예를 도시한다. 링 또는 프레임 숄더면(27)에 대해 밀봉을 형성한 후에, 벨로우(21) 내의 씰링 링(25) 표면은 도 4에서 해칭으로 도시된 표면 영역 F 를 따라 처리 구역(13T) 및 펌핑 영역(13P')의 압력 Pa 에 노출되는 반면 씰링 링(25)의 그 반대쪽 면은 이송 챔버(1)의 저압 Pv 에 노출된다. 표면 영역 F 를 따라서 그리고 씰링 링(25) 전체에 걸쳐 이러한 압력차를 형성하는 것은 도 4에 도시된 바와 같이 씰링 링(25) 상에 씰-밀폐 방향(seal-closing direction)을 향하는 힘 Q 를 발생시킨다. 이는 관형 벨로우(21)의 축 A 에 대하여, 도 4에서와 같이 씰링 링(25)이 관형 벨로우(21)의 말단에 밀봉적으로 연결되어 있는 링 영역에 대해 씰링 링(25)에서 숄더(27)에 대한 씰(7')이 반경 R21 보다 작은 반경 R7 으로 링 영역을 따라 형성되는 것에 의해 실현된다.
도 5에 개략적으로 도시된 구현예에서, 도 2 및 도 3에 따른 접근법이 조합되며, 즉 도 5는 작업편(9)이 액션(action)에 의해 처리 구역(13T)에서 처리될 때 이송 설비(5)가 진공 처리 챔버(13) 내에 머무르며 이송 챔버(1)에 대한 개구부(11)가 관형 벨로우(21)를 이용하여 밀봉적으로 밀폐된 상태를 도시한다.
이송 설비(5')는 관통-개구부(31)를 갖는다. 관통-개구부(31)는 원형이다.
관통공(31)의 경계는 지지 숄더(33) 보다 일반적으로는 보유 설비를 특정한다. 작업편 캐리어 플레이트(35)가 관통-개구부(31) 내의 지지 숄더(33) 위에 놓인다.
이와 같이, 작업편 캐리어 플레이트(35)는 이송 설비(5')에서 처리 구역(13T) 쪽으로 자유롭게 올려질 수 있다. 이송 설비(5')의 관통-개구부(31) 내에 놓인 작업편 캐리어 플레이트(35)의 위치가 점선으로 도시된다.
관형 벨로우(21)의 상측 말단은 씰링 링(25)에 밀봉적으로 결합된다. 도 3에 개략적으로 도시된 벨로우(21)를 올리고 내리는 구동기(20)는 도 5에 따른 구현예에서 제어적으로 구동되는 리프팅 설비(20')(도 5에 미도시)에 의해 실현된다. 관형 벨로우(21)의 축 A 에 동축선상인 리프팅 로드(37)는 펌핑 구역(13P)의 벽을 통하여 내진공 안내공(vacuum-tight lead-through, 39) 내에서 안내되며, 처리 구역(13T) 쪽을 향하여 그 말단부에 리프팅 플레이트(41)를 수반한다.
리프팅 플레이트(41)는 벨로우(21)의 말단에서 링 또는 프레임(25)과 결합되도록 제작되며, 이에 의하여 씰링 설비 내에서 작업편 캐리어 플레이트(35)와 함께 씰링 링을 들어올리며, 이에 의하여 씰링 설비 내에서 숄더 링 표면(27)과 함께 작업편 캐리어 플레이트(35)을 들어올린다. 리프팅 플레이트(41)는 그 주변을 따라서 다수의 또는 약간의 대형 관통-개구부들(45)을 갖는다. 작업편 캐리어 플레이트(35) 역시 그 주변을 따라서 다수의 또는 약간의 대형 관통 개구부들(45)을 갖는다. 작업편을 위한 작업편 지지대(7)가 우선적으로 작업편 캐리어 플레이트(35)의 중앙 영역에 처리 구역(13T) 쪽을 향한 표면에 의해 제공된다.
도 6에 도 5와 유사하나 현재 실현중인 본 발명의 또 다른 구현예를 도시한다. 도 5와의 총체적인 차이점은 이송 설비 및 진공 처리 챔버를 통과하는 각각에 맞게 해석된 이송 챔버를 포함함으로써 진공 처리 장치 프레임 내에서 실현되기에 완벽하게 적합하다는 점이며, 여기에서 기판들은 한 진공 처리 설비에서 다른 곳으로 한쪽 방향으로 순서적으로 이송된다. 또한 도 6에 도시된 구현예에 따르면, 작업편이 처리 구역과 한편으로는 펌핑 구역 사이에서 다른 한편으로는 이송 챔버 사이에서 독립적으로 밀봉을 형성하도록 처리 구역 내에서 위치할 수 있도록 한다.
도 6은 작업편이 처리 위치에 있는 장치를 도시한다.
도 6의 구현예에 따르면, 이송 챔버(61)는 서로 반대편의 두 개의 개구부들(71)에 의해 진공 처리 챔버(73)와 소통한다. 원형 디스크 플레이트, 링 플레이트 또는 선형의 길다란 밴드 형상 플레이트 형상으로 이루어진 이송 설비(65)가 이송 챔버(61) 내에 머무르며 진공 처리 챔버(73)을 관통하여 이동한다. 이송 설비(65)는 원격 구동기(도 6에 미도시)에 의해 한쪽 방향 또는 전후 방향으로 순서에 의한 방식으로 제어적으로 구동되어 이동되며, 각 순서의 사이클에서 진공 처리 챔버(73) 내로 중앙화시키기 위해 작업편 지지 영역(66)을 이송한다. 진공 처리 챔버(73)는 이송 설비(65)의 이동 경로 S 의 한쪽 편에 처리 구역(75T)를 포함하고 상기 이동 경로 S 에 대해 처리 구역(75T)의 반대편에 펌핑 구역(75P)을 포함한다. 이송 설비(65)는 작업편 지지 영역(66) 내에 도 5의 구현예와 유사하게 관통-개구부(77)를 포함하며, 여기에 도 5의 이송 설비(5') 관통 개구부 내의 작업편 캐리어 플레이트(35)와 유사하게 씰링 링(79)이 머무른다. 씰링 링(79)은 링 안쪽으로 방사상으로 돌출된 지지 부재들(81)을 포함한다. 또한 도 5의 구현예와 유사하게, 관형 벨로우(83)가 제공된다. 관형 벨로우(83)의 한쪽 말단은 펌핑 구역(75P)의 링 숄더면(85)에 밀봉적으로 연결된다. 관형 벨로우(83)의 반대쪽 말단은 제2 실링 링(87)에 밀봉적으로 연결된다. 관형 벨로우(83)의 축 A 에 대해 동축상으로 제공되는 리프팅 설비는 내진공 안내공(91)에 의해 펌핑 구역(75P)의 벽을 통하여 통과하며 구동기(93)에 의해 상하로 제어적으로 이동하는 리프팅 로드(89)를 포함한다.
리프팅 로드(89)는 액튜에이터로서 플랜지(95)가 제공된다. 플랜지(95)는 리프팅 로드(89)에 견고하게 장착된다. 플랜지(95)는 처리 구역(75T) 쪽으로 스프링 설비(97)를 지지하며, 스프링 설비(97)는 리프팅 로드(89)를 따라 이동하며 플랜지(95)에 대하여 스프링 설비(89)에 의해 지지되고 스프링 설비 위에 머무르는 리프팅 플레이트(99)를 지지한다.
또한 도 5의 구현예와 유사하게 펌핑 영역(75P')을 형성하는 관형 벨로우(83)의 내부와 소통하는 대형 펌핑 포트(101)가 제공된다.
리프팅 플레이트(99)는 넓은 관통-개구부들(105)을 포함한다. 처리 구역(75T) 쪽을 향한 리프팅 로드의 말단은 작업편, 즉 디스크-형상 작업편, 즉 웨이퍼를 파지하기 위한 정전기적 척(chuck)으로 수동 척 또는 능동 척이 제공될 수 있는 작업편-리프팅 플레이트(103)를 구비한다. 선택적으로 또는 추가적으로, 작업편(107)은 당업계에서 공지된 바와 같이 작업편(107)의 둘레 상에 놓여지는 웨이트-링(미도시)에 의해 리프팅 플레이트(103) 상에 파지될 수 있다.
도 6에 따른 구현예의 작동은 다음과 같다.
리프팅 플레이트(103)가 펌핑 구역(75P) 쪽으로 완전하게 후퇴하면, 이송 설비(65)는 진공 처리 챔버(73)를 관통하여 자유롭게 이동할 수 있다. 대형 펌핑 포트(101)에 연결된 펌핑 설비(도 6에 미도시)는 이송 챔버(61) 뿐만 아니라 진공 처리 챔버(73)를 펌핑한다. 그리고 이송 설비(65)는 작업편 지지 영역(66)을 진공 처리 챔버(73) 내로 중앙화하도록 위치시키기 위하여 순서적 방식으로 화살표 I 로 도시된 바와 같이 이동한다. 작업편(107) 즉 웨이퍼는 지지 부재들(81)에 파지되어 씰링 링(79)에 머무르며, 씰링 링(79)은 이송 설비(65) 상의 관통-개구부(77)의 경계를 따라 지지되며 관통-개구부(77)에 머무른다. 리프팅 플레이트(103)는 이송 설비(65)의 이동 경로 S 의 아래 따라서 이송 설비(65)의 아래로 완전히 하강하며, 제2 씰링 링(87)을 갖는 관형 벨로우(83), 스프링 설비(97)를 갖는 플랜지(95), 지지되는 리프팅 플레이트(9)는 모두 이송 설비(65) 아래로 하강한다. 펌핑 포트(101)에 연결된 대-용량 펌프는 연속 가동되며, 리프팅 로드(89)는 구동기(93)에 의해 상승된다. 플랜지(95)의 상승 운동 및 아직 바이어스되지 않은 스프링 설비(97)에 의해, 리프팅 플레이트(99)는 상승되며 제2 씰링 링(87)을 관형 벨로우(83)의 상측 단부와 밀봉적으로 연결되도록 결합시킨다. 리프팅 플레이트(103)는 씰링 링(79)의 지지 부재들(81)에 의해 작업편(107)을 그 지지대를 벗어나 상승시킨다. 제2 씰링 링(87)은 리프팅 플레이트(99)에 의해 씰링 링 (79')쪽으로 상승되며, 이에 의해 씰링 링(79)은 처리 구역(75T)의 링-형상 숄더면(109)에 대해 밀봉적으로 접촉할 때까지 위쪽으로 상승한다. 이에 의하여 제2 씰링 링(87)은 씰링 링(79)을 밀봉적으로 결합하고 링 숄더면(109) 사이를 밀봉하며, 씰링 링(79) 및 제2 씰링 링(87)은 스프링 설비(97)의 힘에 대하여 리프팅 플레이트(99)의 바이어싱 힘에 의해 형성된다. 작업편(107)을 위한 지지 부재(81)를 갖는 씰링 링(79)이 이미 링 숄더(109)에 대하여 밀봉적으로 머무름에도 불구하고, 리프팅 로드(89)는 스프링 설비(97)의 바이어싱 힘에 대하여 더욱 위쪽으로 구동되며, 작업편(107)을 설치된 진공 공정에 의해 처리될 처리 구역(75T) 내 위치까지 상승시킨다. 이 위치는 도 6에 도시되었다.
요약하면, 처리 위치에서 작업편(107)이 리프팅 플레이트(103)와 함께 이동할 때마다, 제2 씰링 링(87)과 씰링 링(79) 사이, 씰링 링(79)과 링 숄더면(109) 사이에 밀봉이 형성된다. 관형 벨로우(83)는 펌핑 영역(75'P)을 이송 챔버(61)가 개구부들(71)을 통하여 소통하는 진공 처리 챔버(73)의 영역으로부터 분리한다. 처리 구역(75T)과 펌핑 포트(10) 사이의 자유로운 소통이 씰링 링(79)의 넓게 열린 관통-개구부, 제2 씰링 링(87)의 넓은 개구, 리프팅 플레이트(99)의 대형 개구부들(105) 및 링 숄더면(85)에 의해 열려진 넓은 내부 공간을 통하여 형성된다.
원하는 바대로 작업편(107)이 처리되면, 리프팅 로드(89)는 후퇴하며 이에 의하여 밀봉이 해제되고 작업편(107)은 씰링 링(79)과 함께 이송 설비(65) 위로 복귀하며, 리프팅 로드에 결합된 모든 부재들이 펌핑 구역(75P) 내로 후퇴하여 이송 설비(65)의 이동을 방해하지 않도록 추가적으로 처리될 수 있다.
본 발명에 따르면, 작업편이 진공 처리되는 처리 구역 곁에 분리된 구역이 제공되고, 이송 설비에 의해 적어도 하나의 작업편을 그 내부로 이송하고 처리된 적어도 하나의 작업편을 제거하기 위한 상기 처리 구역과의 소통 및 상기 처리 구역에서 이송 챔버로의 스위치된 소통으로 인하여, 처리 구역에서 매우 넓은 단면적의 펌핑 포트를 제공하기 위한 충분한 공간이 가능하다. 이에 의하여 처리 구역을 원하는 낮은 진공에 도달할 때까지 매우 빠르게 펌핑하는 것이 가능하다.
도 4를 참조하고, 또한 도 5 및 6의 구현예에서도 역시 알 수 있는 바와 같이, 처리 구역이 대기압에 개방될 때마다, 즉 정비를 위하여, 대기압은 이송 챔버로부터 처리 구역을 분리하는 씰링의 밀봉력을 증가시키도록 바람직하게는 구현될 수 있다. 다시 도 4를 참조하여, 도 4와 함께 설명된 표면에 대한 고려는 도 4의 씰링 링(25) 및 벨로우(21)와 유사한 도 5 또는 6의 구현예의 제2 실링 링(87) 및 벨로우(83)에 대해서도 역시 유효하다.
전술한 바와 같이, 도 6과 같은 본 발명에 따른 장치는 작업편들이 연속적으로 처리되는 여러 진공 처리 스테이션들을 따라 다수의 작업편들을 순서적으로 이송하는데 완벽하게 적합하다.
도 6에 예시된 바와 같이, 리프팅 핀(109)(점선으로 표시)이 제공될 수 있으며, 이는 작업편(107)이 놓여있는 리프팅 플레이트(103)의 표면에 대하여 각각의 구동기들에 의해 동시에 올려지거나 내려질 수 있다. 이에 의하여 작업편은 작업편들의 처리과정 동안에도 어드레스된 표면으로부터 제어적으로 그리고 정확하게 상승될 수 있다. 만일 즉 리프팅 플레이트(103)에 가열 및/또는 냉각 설비(115)가 구비되면 리프팅 플레이트와 작업편 사이의 열교환은 작업편 바닥 표면 및 리프팅 플레이트 상부 표면 사이 거리의 제어적 조절을 통하여 조절될 수 있다.
작업편 온도를 위한 온도 센싱 장치(117)를 제공함으로써, 콤퍼레이터 유닛(119)에서의 정격의 원하는 온도 수치와 비교하여 그 출력이 비교 결과에 따라 구동기들(111)에 네거티브 피드백 제어로 작용하여 작업편 온도가 형성되며 조절 부재로 리프팅 핀 설비를 이용한다, 명백하게 이러한 핀 설비 및 제어 루프는 처라 과정 동안에 작업편이 지지대 위에 머무르는 본 발명의 어떤 구현예에서도 제공될 수 있다.
도 7은 본 발명에 따른 이러한 장치를 매우 개략적으로 도시하며, 여기에서 복수의 진공 처리 챔버들 중 적어도 하나가 본 발명에 따라 구현되며 모든 진공 처리 챔버들은 화살표 W 로 표시된 바와 같이 선형적으로 순서적 방식으로 공통의 이송 설비에 의해 운영된다. 이러한 진공 처리 스테이션들 110a... 110c 에 의해 수행되어야 하는 모든 진공 공정들이 각각의 진공 공정들에 별도의 펌핑을 필요로 한다면, 이러한 스테이션들은 특히 도 6의 구현예에 의해 예시된 바와 같이 실현될 것이다. 만일 다른 한편으로 하나 또는 다른 프로세스가 분리된 펌핑을 필요로 하지 않는다면, 각 진공 처리 챔버는 통상적으로 펌핑 포트 없이 실현될 수 있다. 반면 도 7에 따르면, 부호 112 에서 개략적으로 점선으로 도시된 이송 설비는 직선 운동으로 순서되어 있으며, 전체적인 장치가 유사한 도 8에서는, 순서적인 이송이 원형 플레이트-타입 이송 설비(112')에 의해 실현된다. 유사하게, 도 9에서는 본 발명의 도 다른 구현예를 도시하며, 여기에서 순서적인 작업편 이송은 링-형상 이송 설비(112'')에 의해 실현된다.
1 : 이송 챔버
3 : 이송 챔버 펌핑 설비
5 : 이송 설비
7 : 작업편 지지대
9 : 작업편
11 : 개구부
13 : 진공 처리 챔버
13T : 작업편 처리 구역
13P : 펌핑 구역
15 : 지지대
17 : 씰링 설비
18 : 펌핑 포트
19 : 펌핑 설비
20 : 구동기
20' : 씰링용 구동기
21 : 관형 벨로우
22 : 이송 설비용 구동기
25 : 실링 링 또는 프레임
27 : 숄더면
31 : 관통-개구부
33 : 숄더
35 : 작업편 캐리어 플레이트
37 : 리프팅 로드
39 : 리드 스루
41 : 리프팅 플레이트
61 : 이송 챔버
65 : 이송 설비
66 : 작업편 지지대 영역
71 : 반대편 펌프
73 : 진공 처리 챔버
75T : 작업편 처리 구역
75P : 펌핑 구역
77 : 관통 개구부
79 : 씰링 링
81 : 지지 부재
83 : 관형 벨로우
85 : 링 숄더면
87 : 제2 실링 링
89 : 리프팅 로드
91 : 진공 리드 스루
93 : 구동기
95 : 플랜지
97 : 스프링 설비
99 : 리프팅 플레이트
101 : 펌핑 포트
75P' : 펌핑 영역
103 : 리프팅 플레이트
107 : 작업편
109 : 핀
111 : 구동기
115 : 가열 및/또는 냉각 설비
117 : 온도 센싱 장치
119 : 콤퍼레이터 유닛

Claims (16)

  1. 진공 처리 챔버(13, 73);
    적어도 하나의 작업편 지지대(7, 81)를 구비하며 이동 경로(S)를 따라서 구동적으로 이동가능한(drivingly movable) 이송 설비(5, 65)를 포함하는 진공 이송 챔버(1, 61);
    상기 이송 챔버(1, 61)는 상기 이송 설비(5, 65), 상기 작업편 지지대(7, 81) 및 거기에 있는 작업편(7, 107)의 적어도 일부가 그곳을 통하여 통과하도록 고려된 개구부(11, 71)를 통하여 소통하며,
    상기 진공 처리 챔버(13, 73)는 상기 이동 경로(S)의 한쪽 편에 작업편 처리 구역(13T, 75T)을 포함하고, 상기 이동 경로(S)에 대하여 상기 작업편 처리 구역(13T, 75T)의 맞은 편에 펌핑 구역(13P, 75P)을 포함하며,
    상기 펌핑 구역(13P, 75P)은 펌핑 포트(18, 101)을 포함하며,
    상기 이송 챔버(1, 61)와 상기 펌핑 포트(18, 101) 사이의 상기 개구부(11, 71)를 제어적으로 밀봉하는 제어적 씰링 설비(controllable sealing arrangement, 17, 17a, 109, 79, 87, 83, 85)를 포함하는 진공 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제어적 씰링 설비는 상기 처리 구역 및 상기 펌핑 포트와 소통하는(flow communication) 상기 펌핑 구역의 압력이 증가함에 따라 씰링 포스(sealing force)를 증가시키도록 고안된 진공 처리 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제어적 씰링 설비는 상기 이송 설비가 상기 이송 설비 상의 상기 작업편 지지대가 상기 진공 처리 챔버 내에 존재하는 위치에 있을 때 상기 개구부를 밀봉하도록 고안된 진공 처리 장치.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제어적 씰링 설비는 구동적으로 연장되거나 수축되는 관형 벨로우를 포함하며, 관형 벨로우의 한쪽 말단은 상기 펌핑 구역 내에 밀봉적으로 장착되며, 다른쪽 말단은 상기 개구부를 밀봉하기 위하여 상기 개구부 주위를 제어적으로 이동 가능하며, 상기 펌핑 포트는 상기 벨로우의 내부와 소통하는 상기 펌핑 구역의 영역에 위치하는 진공 처리 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 이송 챔버는 상기 진공 처리 챔버를 가로질러 연장되고 상기 이송 설비, 작업편 지지대 및 거기에 배치된 작업편을 통과시키도록 고안되며 상기 개구부 반대편에 배치되는 제2 개구부와 소통하며, 상기 벨로우의 다른쪽 말단은 또한 상기 제2 개구부 주위를 밀봉적으로 이동 가능한 진공 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 이송 설비는 상기 진공 처리 챔버를 관통하고 상기 제1 및 제2 개구부들을 관통하여 상기 이동 경로를 따라서 이동 가능하며 다수의 이격된 상기 작업편 지지대들을 포함하는 진공 처리 장치.
  7. 제4항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 작업편 지지대는 관통 개구부를 포함하며 작업편 지지 부재가 상기 관통 개구부에 파지되어(held) 상기 처리 구역 쪽 방향으로 들어올려질 수 있으며, 상기 관형 벨로우의 다른쪽 말단은 상기 작업편 지지 부재를 상기 처리 구역의 벽을 따라서 고리모양 영역(annular area)과 밀봉적 접촉을 하기 위해 들어올리기 위하여 상기 작업편 지지 부재와 밀봉적 접촉을 하면서 구동적으로 이동가능한 진공 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 장치는 상기 펌핑 구역에서 상기 처리 구역을 향하여 제어적으로 상승 가능하고 상기 관형 벨로우 내에 위치하는 리프팅 설비를 포함하며, 상기 관형 벨로우의 다른쪽 말단을 상기 작업편 지지 부재와 밀봉적 접촉을 하도록 들어올리기 위하여 상기 관형 벨로우의 다른쪽 말단과 상승적으로 협동하는 액튜에이터를 포함하는 진공 처리 장치.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서, 상기 작업편 지지 부재는 관통 개구부들을 갖는 지지 플레이트를 포함하는 진공 처리 장치.
  10. 제8항에 있어서, 상기 작업편 지지 부재는 작업편을 프레임의 개구 영역(open area) 내에 작업편을 위한 홀딩 부재들을 포함하는 프레임을 포함하며, 상기 홀딩 부재들은 작업편을 상기 프레임에서 상기 처리 구역 쪽 방향으로 들어올리도록 고안되고, 상기 액튜에이터는 스프링 설비를 통하여 상기 관형 벨로우의 상기 다른쪽 말단과 협동하며, 상기 리프팅 설비는 상기 처리 구역 쪽으로 리프트의 말단에 위치하는 작업편 지지 플레이트를 포함하는 진공 처리 장치.
  11. 제7항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이송 설비는 상기 진공 처리 챔버를 관통하고 상기 제1 및 제2 개구부들을 관통하여 상기 이동 경로를 따라서 이동 가능하며 다수의 이격된 상기 작업편 지지 부재들을 포함하는 진공 처리 장치
  12. 제11항에 있어서, 상기 이송 설비는 직선 또는 원형 이동 경로를 따라서 이동 가능한 진공 처리 장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 이송 설비는 원형 이동 경로를 따라서 이동 가능하며, 상기 처리 구역 및 상기 펌핑 구역은 상기 원형 이동 경로의 축 방향으로 서로 반대편에 배치되는 진공 처리 장치.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 장치는 이송 챔버에 연결되며 이송 설비를 진공시키도록 고안된 제1 펌핑 설비, 상기 처리 구역에 연결되며 처리 구역을 진공시키도록 고안된 제2 펌핑 설비, 상기 펌핑 구역의 펌핑 포트에 연결되며 적어도 상기 제1 펌핑 설비의 지배적인 부분이 되며 상기 제2 펌핑 설비가 되는 펌핑 설비를 더욱 포함하는 진공 처리 장치.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 작업편 처리 챔버 내에 상기 작업편을 위한 작업편 처리 홀더, 상기 작업편 처리 홀더 상의 작업편을 위한 제어적으로 구동 가능한 리프팅 설비를 포함하는 진공 처리 장치.
  16. 제15항에 있어서, 상기 장치는 상기 작업편 처리 홀더 상의 작업편 온도 측정을 위해 채용된 온도 감지 구단을 포함하며, 상기 온도 감지 수단 및 제어적으로 구동 가능한 리프팅 설비는 상기 작업편의 온도를 위하여 네거티브 피드백 루프에 연결되는 진공 처리 장치.
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