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KR20140088017A - Tetraphenylene ethylene based compound and oled device containing the same - Google Patents

Tetraphenylene ethylene based compound and oled device containing the same Download PDF

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KR20140088017A
KR20140088017A KR1020130163804A KR20130163804A KR20140088017A KR 20140088017 A KR20140088017 A KR 20140088017A KR 1020130163804 A KR1020130163804 A KR 1020130163804A KR 20130163804 A KR20130163804 A KR 20130163804A KR 20140088017 A KR20140088017 A KR 20140088017A
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KR
South Korea
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layer
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hydrocarbons
tpe
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Withdrawn
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KR1020130163804A
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Korean (ko)
Inventor
진 징 얜
샤오판 렌
Original Assignee
다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨
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Publication date
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Abstract

본 개시는 조성물, 조성물을 함유하는 막, 및 조성물을 함유하는 전자 장치를 제공한다. 조성물은 실시예 1 내지 25 중 어느 하나의 구조를 갖는 테트라페닐렌 에틸렌, 구조 (I)의 테트라페닐렌 에틸렌, 구조 (IA)의 테트라페닐렌 에틸렌, 또는 이들의 조합을 포함한다.

Figure pat00029

각각의 구조 (I) 및 (IA)에서, R1, R2, R3 및 R4는 동일하거나 또는 상이하고,
R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택된다.The present disclosure provides a composition, a film containing the composition, and an electronic device containing the composition. The composition comprises tetraphenylene ethylene having the structure of any one of Examples 1 to 25, tetraphenyleneethylene of structure (I), tetraphenyleneethylene of structure (IA), or combinations thereof.
Figure pat00029

In each of structures (I) and (IA), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same or different,
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof.

Description

테트라페닐렌 에틸렌 기재 화합물 및 그를 함유하는 OLED 장치{TETRAPHENYLENE ETHYLENE BASED COMPOUND AND OLED DEVICE CONTAINING THE SAME}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a tetraphenylene-based compound and an OLED device containing the same. BACKGROUND ART < RTI ID = 0.0 >

본 개시는 그 전문이 본원에 참조로 포함되는 2012년 12월 31일자 출원 PCT/CN2012/088034를 우선권주장한다.This disclosure claims priority from application PCT / CN2012 / 088034, filed December 31, 2012, the full text of which is incorporated herein by reference.

OLED(유기 발광 다이오드)는 방사성 전계발광층이 전류에 반응하여 광을 방출하는 유기 화합물의 막인 발광 다이오드(LED)이다. 전형적인 OLED는 다층 구조를 가지며, 전형적으로 인듐 주석 옥사이드(ITO) 애노드, 및 금속 캐소드를 포함한다. ITO 애노드와 금속 캐소드 사이에 정공주입층(HIL), 정공수송층(HTL), 방출 물질층(EML), 전자수송층(ETL), 및 전자주입층(EIL)과 같은 다수의 유기층이 개재한다. 정공 주입을 용이화하고 평활한 표면을 얻기 위해, ITO 애노드와 정공수송층 사이에 정공주입층(HIL)이 위치하는 것이 종종 바람직하다. 가장 흔히 사용되는 HIL 물질은 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)/폴리(스티렌 술폰산) 복합체(PEDOT/PSS)이다. 그러나 PEDOT/PSS로부터 제작된 OLED는 PEDOT/PSS의 높은 산성도에 의해 유도되는 부식으로 인해 짧은 수명을 나타낸다. 또한, PEDOT/PSS 용액은 흔히 수용액이다. 이를 OLED에 사용할 경우, 막 내 미량의 잔류 습기가 전기 회로에 부식을 초래하여 소자 붕괴로 이어진다. 따라서, OLED 응용을 위한 HIL 물질, 특히 비수성 HIL 조성물이 여전히 필요하다.OLED (Organic Light Emitting Diode) is a light emitting diode (LED) that is a film of an organic compound in which a radioactive electroluminescent layer emits light in response to an electric current. A typical OLED has a multilayer structure, typically comprising an indium tin oxide (ITO) anode, and a metal cathode. A plurality of organic layers such as a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an emission material layer (EML), an electron transport layer (ETL), and an electron injection layer (EIL) are interposed between the ITO anode and the metal cathode. In order to facilitate hole injection and obtain a smooth surface, it is often desirable to locate a hole injection layer (HIL) between the ITO anode and the hole transport layer. The most commonly used HIL material is poly (3,4-ethylenedioxythiophene) / poly (styrenesulfonic acid) complex (PEDOT / PSS). However, OLEDs fabricated from PEDOT / PSS exhibit short lifetimes due to corrosion induced by the high acidity of PEDOT / PSS. In addition, PEDOT / PSS solutions are often aqueous solutions. When this is used in an OLED, a small amount of residual moisture in the film causes corrosion in the electric circuit, leading to element collapse. Thus, there is still a need for HIL materials for OLED applications, particularly non-aqueous HIL compositions.

통상의 다층 OLED 장치는 열 피착(thermal deposition)에 의해 생성된다. 그러나 열 피착은 단점이 있다. 열 피착은 제작 복잡성을 증가시키고 고가의 OLED 재료의 활용을 매우 비효율적이게 하는(전형적으로 20% 미만) 고진공하에서의 열 증발을 필요로 한다. 또한, 증발 마스크(evaporation mask)를 이용한 픽셀레이션(pixelation)은 OLED 장치의 확장성(scalability) 및 해상도를 제한한다.Conventional multilayer OLED devices are produced by thermal deposition. However, thermal deposition has its disadvantages. Thermal deposition requires thermal evaporation under high vacuum, which increases fabrication complexity and makes the utilization of expensive OLED materials very inefficient (typically less than 20%). Also, pixelation using evaporation masks limits the scalability and resolution of OLED devices.

잉크-젯 인쇄 및 노즐 인쇄와 같은 용액 공정은 OLED 장치를 위한 열 피착 제조 기술에 대한 실행가능한 대안이 되고 있다. 안타깝게도, N,N'-디-[1-나프탈레닐)-N,N'-디페닐]-1,1'-비페닐)-4,4'-디아민(NPB) 및 4,4',4'-트리스[2-나프틸(페닐)아미노]트리페닐아민(2-TNATA)과 같은 종래의 OLED 재료는 스핀-캐스팅 후 불량한 막 모폴로지 및 결정화로 인해 용액 공정에 적합하지 않다.Solution processes such as ink-jet printing and nozzle printing have become viable alternatives to thermal deposition manufacturing techniques for OLED devices. (NPB) and 4,4 ', 4 ' -diamine < RTI ID = 0.0 > Conventional OLED materials such as 4'-tris [2-naphthyl (phenyl) amino] triphenylamine (2-TNATA) are not suitable for solution processing due to poor film morphology and crystallization after spin-casting.

따라서, OLED 장치의 제조를 위한 용액 공정에 사용될 수 있는 OLED 재료가 필요하다. 또한, OLED 장치의 제조를 위한 열 피착 및 용액 공정 모두에 사용될 수 있는 OLED 재료가 필요하다.Thus, there is a need for an OLED material that can be used in solution processes for the manufacture of OLED devices. There is also a need for an OLED material that can be used in both thermal deposition and solution processes for the manufacture of OLED devices.

본 발명은 표 2의 실시예 1 내지 25 중 어느 하나의 구조를 갖는 테트라페닐렌 에틸렌(TPE)을 포함하는 조성물을 제공한다.The present invention provides a composition comprising tetraphenylene ethylene (TPE) having the structure of any one of Examples 1 to 25 of Table 2.

한 실시양태에서, 본 개시는 아래에 나타낸 구조 (I)의 테트라페닐렌 에틸렌, 구조 (IA)의 테트라페닐렌 에틸렌, 또는 이들의 조합을 포함하는 조성물을 제공한다.In one embodiment, this disclosure provides a composition comprising tetraphenylene ethylene of structure (I), tetraphenylene ethylene of structure (IA), or combinations thereof, as shown below.

Figure pat00001
Figure pat00001

각각의 구조 (I) 및 (IA)에서, R1, R2, R3 및 R4는 동일하거나 또는 상이하다. R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되거나; 또는In each of structures (I) and (IA), R 1 , R 2 , R 3 And R < 4 > are the same or different. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; or

R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되고; R3 및 R4는 고리 구조를 형성하거나; 또는R 1 and R 2 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; R 3 and R 4 form a ring structure; or

R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되고; R1 및 R2는 고리 구조를 형성하거나; 또는R 3 and R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; R 1 and R 2 form a ring structure; or

R1 및 R2는 고리 구조를 형성하고, R3 및 R4는 고리 구조를 형성한다.R 1 and R 2 form a cyclic structure, and R 3 and R 4 form a cyclic structure.

본 개시는 또한 구조 (I)의 테트라페닐렌 에틸렌, 구조 (IA)의 테트라페닐렌 에틸렌, 또는 이들의 조합을 포함하는 본 발명의 조성물로부터 형성된 막을 제공한다.The present disclosure also provides a film formed from the composition of the present invention comprising tetraphenylene ethylene of structure (I), tetraphenylene ethylene of structure (IA), or a combination thereof.

본 개시는 또한 구조 (I)의 테트라페닐렌 에틸렌, 구조 (IA)의 테트라페닐렌 에틸렌, 또는 이들의 조합을 포함하는 본 발명의 조성물로부터 형성된 하나 이상의 성분을 포함하는 전자 장치를 제공한다.The present disclosure also provides an electronic device comprising at least one component formed from a composition of the present invention comprising tetraphenylene ethylene of structure (I), tetraphenylene ethylene of structure (IA), or a combination thereof.

본 발명의 조성물의 이점은 그것이 열 증발 및 용액 공정 둘 다에 사용될 수 있다는 것이다.An advantage of the composition of the present invention is that it can be used in both thermal evaporation and solution processes.

도 1은 본 개시의 실시양태에 따른 OLED 장치의 전류-전압 곡선이다.
도 2는 본 개시의 실시양태에 따른 OLED 장치의 휘도 효율을 나타내는 그래프이다.
도 3은 본 개시의 실시양태에 따른 OLED 장치의 시간에 따른 휘도 세기의 감퇴를 나타내는 그래프이다.
1 is a current-voltage curve of an OLED device according to an embodiment of the present disclosure;
2 is a graph illustrating the luminance efficiency of an OLED device according to an embodiment of the present disclosure;
3 is a graph illustrating the decay of intensity intensity over time of an OLED device according to an embodiment of the present disclosure;

1. 조성물1. Composition

본 개시는 표 2의 실시예 1 내지 25 중 어느 하나의 구조를 갖는 테트라페닐렌 에틸렌(TPE)을 포함하는 조성물을 제공한다.The present disclosure provides a composition comprising tetraphenylene ethylene (TPE) having the structure of any one of Examples 1 to 25 of Table 2.

한 실시양태에서, 본 개시는 아래에 나타낸 구조 (I)의 테트라페닐렌 에틸렌, 구조 (IA)의 테트라페닐렌 에틸렌, 또는 이들의 조합을 포함하는 조성물을 제공한다.In one embodiment, this disclosure provides a composition comprising tetraphenylene ethylene of structure (I), tetraphenylene ethylene of structure (IA), or combinations thereof, as shown below.

Figure pat00002
Figure pat00002

각각의 구조 (I) 및 (IA)에서, R1, R2, R3 및 R4는 동일하거나 또는 상이하다. R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 또는 이들의 조합으로부터 선택되거나; 또는In each of structures (I) and (IA), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same or different. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, or combinations thereof; or

R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 또는 이들의 조합으로부터 선택되고; R3 및 R4는 고리 구조를 형성하거나; 또는R 1 and R 2 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, or combinations thereof; R 3 and R 4 form a ring structure; or

R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 또는 이들의 조합으로부터 선택되고; R1 및 R2는 고리 구조를 형성하거나; 또는R 3 and R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, or combinations thereof; R 1 and R 2 form a ring structure; or

R1 및 R2는 고리 구조를 형성하고, R3 및 R4는 고리 구조를 형성한다.R 1 and R 2 form a cyclic structure, and R 3 and R 4 form a cyclic structure.

한 실시양태에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 또는 이들의 조합으로부터 선택되고; R3 및 R4는 고리 구조를 형성한다.In one embodiment, R 1 and R 2 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, or combinations thereof; R 3 and R 4 form a ring structure.

한 실시양태에서, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 또는 이들의 조합으로부터 선택되고; R1 및 R2는 고리 구조를 형성한다.In one embodiment, R 3 and R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, or combinations thereof; R 1 and R 2 form a ring structure.

한 실시양태에서, R1 및 R2는 고리 구조를 형성하고, R3 및 R4는 고리 구조를 형성한다.In one embodiment, R 1 and R 2 form a ring structure, and R 3 and R 4 form a ring structure.

구조 (I) 및 구조 (IA)의 미확인 치환체는 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 고리 구조, 예를 들어, 페닐, 나프틸, 안트라세닐 및 비페닐, 또는 이들의 조합으로부터 선택될 수 있다. 한 실시양태에서, 구조 (I) 및 구조 (IA)의 미확인 치환체는 수소이다.Unidentified substituents of structure (I) and structure (IA) may be selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, cyclic structures such as phenyl, naphthyl, anthracenyl and biphenyl, or combinations thereof. In one embodiment, the unidentified substituent of structure (I) and structure (IA) is hydrogen.

본원에 사용되는 "탄화수소"는 수소 및 탄소만 함유하는 화합물이다. 탄화수소는 1 내지 50개의 탄소 원자를 함유한다. 탄화수소는 (i) 분지형 또는 비분지형, (ii) 포화 또는 불포화 또는 방향족, (iii) 환형 또는 비환형, 및 (iv) (i) 내지 (iii)의 임의의 조합일 수 있다. "탄화수소"라는 용어는 원자가를 갖는(전형적으로 1가) 탄화수소 치환체인 "히드로카르빌기"(또는 "히드로카르빌기")를 포함한다. 한 실시양태에서, 탄화수소는 1 내지 30개의 탄소 원자, 또는 1 내지 24개의 탄소 원자, 또는 1 내지 20개의 탄소 원자, 또는 1 내지 12개의 탄소 원자, 또는 1 내지 6개의 탄소 원자를 함유한다.As used herein, "hydrocarbons" are compounds containing only hydrogen and carbon. Hydrocarbons contain from 1 to 50 carbon atoms. The hydrocarbons may be any combination of (i) branched or unbranched, (ii) saturated or unsaturated or aromatic, (iii) cyclic or acyclic, and (iv) (i) to (iii). The term "hydrocarbon" includes a "hydrocarbyl group" (or "hydrocarbyl group") which is a hydrocarbon substituent having a valency (typically a monovalent). In one embodiment, the hydrocarbon contains from 1 to 30 carbon atoms, or from 1 to 24 carbon atoms, or from 1 to 20 carbon atoms, or from 1 to 12 carbon atoms, or from 1 to 6 carbon atoms.

본원에 사용되는 "치환된 탄화수소"는 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는 탄화수소이다. "헤테로원자"는 탄소 또는 수소가 아닌 원자를 지칭한다. 헤테로원자의 비제한적 예로는 F, Cl, Br, N, O, P, B, S, Si, Sb, Al, Sn, As, Se 및 Ge가 포함된다.As used herein, "substituted hydrocarbons" are hydrocarbons containing one or more heteroatoms. "Heteroatom" refers to an atom that is not carbon or hydrogen. Non-limiting examples of heteroatoms include F, Cl, Br, N, O, P, B, S, Si, Sb, Al, Sn, As, Se and Ge.

"치환되지 않은 탄화수소"는 헤테로원자를 함유하지 않는 탄화수소이다."Substituted hydrocarbons" are hydrocarbons that do not contain heteroatoms.

본원에 사용되는 "고리 구조"는 탄화수소 또는 치환된 탄화수소로 구성된 고리이며, 고리 구조는 포화 또는 불포화일 수 있고, 고리 구조는 1개, 또는 2개, 또는 2개 초과의 고리를 함유할 수 있다.As used herein, a "ring structure" is a ring composed of a hydrocarbon or a substituted hydrocarbon, the ring structure may be saturated or unsaturated, and the ring structure may contain one, or two, or more than two rings .

한 실시양태에서, 조성물은 구조 (I)를 갖는 테트라페닐렌 에틸렌(TPE) 및 그의 이성질체를 포함한다. 구조 (I)은 아래와 같다.In one embodiment, the composition comprises tetraphenylene ethylene (TPE) having the structure (I) and isomers thereof. The structure (I) is as follows.

Figure pat00003
Figure pat00003

R1, R2, R3 및 R4는 동일하거나 또는 상이하다. R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택된다.R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same or different. R 1 to R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof.

한 실시양태에서, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소, 치환되거나 또는 치환되지 않은 알킬기, 치환되거나 또는 치환되지 않은 아릴기, 및 이들의 조합으로부터 선택된다.In one embodiment, R 1 to R 4 are each independently selected from hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and combinations thereof.

"알킬기"는 직쇄형, 분지형 또는 비분지형 포화 탄화수소 라디칼이다. 적합한 알킬 라디칼로는 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, n-부틸, t-부틸, i-부틸(또는 2-메틸프로필), 헥실, 옥틸 등이 포함된다. 한 실시양태에서, 알킬기는 1 내지 30개, 또는 1 내지 24개, 또는 1 내지 20개, 또는 1 내지 12개, 또는 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는다."Alkyl group" is a straight, branched or unbranched saturated hydrocarbon radical. Suitable alkyl radicals include, for example, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl, t-butyl, i-butyl (or 2- methylpropyl), hexyl, In one embodiment, the alkyl group has 1 to 30, or 1 to 24, or 1 to 20, or 1 to 12, or 1 to 6 carbon atoms.

본원에 사용된 "치환된 알킬기"라는 용어는 방금 설명한 알킬기에서 탄화수소 라디칼이 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는 것을 지칭한다.As used herein, the term "substituted alkyl group" refers to a hydrocarbon radical in the alkyl group just described, containing one or more heteroatoms.

"아릴기"는 단일 방향족 고리 또는 함께 융합되거나 공유결합되거나 또는 메틸렌 잔기 또는 에틸렌 잔기와 같은 공통의 기에 결합된 다수의 방향족 고리일 수 있는 방향족 치환기이다. 방향족 고리(들)은 그 중에서도 페닐, 나프틸, 안트라세닐 및 비페닐을 포함할 수 있다. 특정 실시양태에서, 아릴기는 6 내지 50개, 또는 6 내지 30개, 또는 6 내지 24개, 또는 6 내지 20개, 또는 6 내지 12개의 탄소 원자를 갖는다.Is an aromatic substituent which may be a single aromatic ring or multiple aromatic rings fused or covalently bonded together or bonded to a common group such as a methylene or ethylene moiety. The aromatic ring (s) may include, among others, phenyl, naphthyl, anthracenyl and biphenyl. In certain embodiments, the aryl group has 6 to 50, or 6 to 30, or 6 to 24, or 6 to 20, or 6 to 12 carbon atoms.

본원에 사용된 "치환된 아릴기"라는 용어는 방금 설명한 아릴기에서 방향족 치환기가 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는 것을 지칭한다.As used herein, the term "substituted aryl group" refers to an aryl group as just described, wherein the aromatic substituent comprises one or more heteroatoms.

한 실시양태에서, 본 발명의 조성물은 구조 (I)의 이성질체를 포함한다. 구조 (I)의 TPE는 Z-이성질체, E-이성질체, 및 이들의 조합을 포함한다.In one embodiment, the compositions of the present invention comprise isomers of structure (I). The TPE of structure (I) includes Z-isomers, E-isomers, and combinations thereof.

Z-이성질체는 아래에 나타낸 구조 (I)을 갖는다. 한 실시양태에서, 조성물은 구조 (I)을 포함하며, 여기에서 R1, R2, R3 및 R4는 앞에서 정의한 바와 같다.The Z-isomer has the structure (I) shown below. In one embodiment, the composition comprises structure (I) wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are as defined above.

Figure pat00004
Figure pat00004

E-이성질체는 아래에 나타낸 구조 (IA)를 갖는다. 한 실시양태에서, 조성물은 구조 (IA)를 포함하며, 여기에서 R1, R2, R3 및 R4는 앞에서 정의한 바와 같다.The E-isomer has the structure (IA) shown below. In one embodiment, the composition comprises structure (IA) wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are as defined above.

Figure pat00005
Figure pat00005

본 발명의 조성물은 0 초과, 또는 1 중량% 내지 99 중량%의 Z-이성질체(구조 I) 및 100 중량% 미만, 또는 99 중량% 내지 1 중량%의 E-이성질체(구조 IA)를 포함할 수 있다.The composition of the present invention may comprise more than 0, or 1 to 99 wt% Z-isomer (structure I) and less than 100 wt%, or 99 wt% to 1 wt% E-isomer (structure IA) have.

한 실시양태에서, 조성물은 0 초과, 또는 1 중량% 초과, 또는 10 중량% 초과, 또는 25 중량% 초과, 또는 50 중량% 초과, 또는 75 중량% 초과, 또는 90 중량% 초과, 또는 99 중량% 초과의 Z-이성질체; 및 100 중량% 미만, 또는 99 중량% 미만, 또는 90 중량% 미만, 또는 75 중량% 미만, 또는 50 중량% 미만, 또는 25 중량% 미만, 또는 10 중량% 미만, 또는 1 중량% 미만의 E-이성질체를 포함한다. 중량%는 조성물의 전체 중량을 기준으로 한다.In one embodiment, the composition comprises greater than 0, or greater than 1 weight percent, or greater than 10 weight percent, or greater than 25 weight percent, or greater than 50 weight percent, or greater than 75 weight percent, or greater than 90 weight percent, Excess Z-isomer; And less than 100 wt%, or less than 99 wt%, or less than 90 wt%, or less than 75 wt%, or less than 50 wt%, or less than 25 wt%, or less than 10 wt% Lt; / RTI > The weight percent is based on the total weight of the composition.

한 실시양태에서, R1 내지 R4 중 하나, 일부 또는 전부는 하나 이상의 아릴기를 포함한다. 추가의 실시양태에서, R1-R4는 각각 적어도 하나 이상의 아릴기를 포함한다.In one embodiment, one, some, or all of R 1 to R 4 comprises one or more aryl groups. In a further embodiment, R 1 -R 4 each comprise at least one aryl group.

한 실시양태에서, R1 및 R2는 고리 구조를 형성한다. 추가의 실시양태에서, R1 및 R2는 각각 아릴기를 포함하고, R1 및 R2는 고리 구조를 형성한다.In one embodiment, R 1 and R 2 form a ring structure. In a further embodiment, R 1 and R 2 each comprise an aryl group, and R 1 and R 2 form a ring structure.

한 실시양태에서, R3 및 R4는 고리 구조를 형성한다. 추가의 실시양태에서, R3 및 R4는 각각 아릴기를 포함하고, R3 및 R4는 고리 구조를 형성한다.In one embodiment, R 3 and R 4 form a ring structure. In a further embodiment, R 3 and R 4 each comprise an aryl group, and R 3 and R 4 form a cyclic structure.

한 실시양태에서, R1 및 R2는 고리 구조를 형성하고, R3 및 R4는 또 다른 고리 구조를 형성한다. 추가의 실시양태에서, R1 및 R2는 각각 아릴기를 포함하고, R1 및 R2는 고리 구조를 형성하고, R3 및 R4는 각각 아릴기를 포함하고, R3 및 R4는 고리 구조를 형성한다.In one embodiment, R 1 and R 2 form a ring structure, and R 3 and R 4 form another ring structure. In a further embodiment, R 1 and R 2 each contain an aryl group, R 1 and R 2 form a ring structure, R 3 and R 4 comprises an aryl group, respectively, and R 3 and R 4 is a ring structure .

한 실시양태에서, TPE는 표 2의 구조 1 내지 25로부터 선택된 구조를 갖는다.In one embodiment, the TPE has a structure selected from structures 1 to 25 of Table 2.

한 실시양태에서, TPE는 표 2의 구조 1 내지 5, 7, 8, 10, 11, 및 13 내지 25로부터 선택된 구조를 갖는다.In one embodiment, the TPE has a structure selected from structures 1 to 5, 7, 8, 10, 11, and 13 to 25 of Table 2.

한 실시양태에서, TPE는 표 2의 구조 1, 2 및 3으로부터 선택된 구조를 갖는다.In one embodiment, the TPE has a structure selected from structures 1, 2 and 3 of Table 2.

한 실시양태에서, TPE는 표 2의 구조 1 내지 3 및 6 내지 25로부터 선택된 구조를 갖는다.In one embodiment, the TPE has a structure selected from structures 1 to 3 and 6 to 25 of Table 2.

한 실시양태에서, TPE는 표 2의 구조 1 내지 3, 7, 8, 10, 11, 및 13 내지 25로부터 선택된 구조를 갖는다.In one embodiment, the TPE has a structure selected from structures 1 to 3, 7, 8, 10, 11, and 13 to 25 of Table 2.

한 실시양태에서, R1 내지 R4는 각각 페닐기이다. 추가의 실시양태에서, TPE는 아래의 구조 (II)를 갖는다.In one embodiment, each of R 1 to R 4 is a phenyl group. In a further embodiment, the TPE has the following structure (II).

Figure pat00006
Figure pat00006

한 실시양태에서, TPE의 R1 내지 R4는 각각 페닐기이다. 추가의 실시양태에서, TPE는 아래에 나타낸 Z-이성질체 (II)와 E-이성질체 (IIA)의 혼합물이다.In one embodiment, R 1 to R 4 of TPE are each a phenyl group. In a further embodiment, the TPE is a mixture of the Z-isomer (II) and the E-isomer (IIA) shown below.

Figure pat00007
Figure pat00007

한 실시양태에서, 구조 (I), 구조 (IA), 및 이들의 조합의 TPE는 -4.30 전자볼트(eV) 내지 -5.20 eV, 또는 -4.3 eV 내지 -4.9 eV의 계산된 최고준위 점유 분자궤도(HOMO) 준위를 갖는다.In one embodiment, the TPE of structure (I), structure (IA), and combinations thereof is between -4.30 electron volts (eV) and -5.20 eV, or between -4.3 eV and -4.9 eV calculated highest level occupied molecular orbital (HOMO) level.

한 실시양태에서, 구조 (I), 구조 (IA), 또는 이들의 조합의 TPE는 -4.3 eV 내지 -4.6 eV의 계산된 HOMO 준위를 갖는다.In one embodiment, the TPE of structure (I), structure (IA), or a combination thereof has a calculated HOMO level of -4.3 eV to -4.6 eV.

한 실시양태에서, 구조 (I)의 TPE는 분자량(MW)이 700 내지 1300 g/몰이다. 추가의 실시양태에서, 구조 (I)의 TPE는 분자량이 800 내지 1200 g/몰이다.In one embodiment, the TPE of structure (I) has a molecular weight (MW) of 700 to 1300 g / mol. In a further embodiment, the TPE of structure (I) has a molecular weight of 800 to 1200 g / mole.

한 실시양태에서, 구조 (I), 구조 (IA), 또는 이들의 조합을 함유하는 TPE는 중량 평균 분자량(Mw)이 500 내지 1500 g/몰이다.In one embodiment, the TPE containing structure (I), structure (IA), or a combination thereof has a weight average molecular weight (Mw) of 500 to 1500 g / mol.

한 실시양태에서, 조성물은 용액이다. 용액은 방향족 용매 및 본 발명의 TPE 조성물을 포함한다. TPE는 구조 (I), 구조 (IA), 또는 이들의 조합을 갖는다. TPE는 용매에 용해된다. 한 실시양태에서, 방향족 용매는 크실렌, 톨루엔, 벤젠, 아니솔, 및 이들의 조합으로부터 선택된다.In one embodiment, the composition is a solution. The solution comprises an aromatic solvent and the TPE composition of the present invention. TPE has structure (I), structure (IA), or a combination thereof. The TPE is dissolved in the solvent. In one embodiment, the aromatic solvent is selected from xylene, toluene, benzene, anisole, and combinations thereof.

본 발명의 조성물은 본원에 개시된 2개 이상의 실시양태를 포함할 수 있다.Compositions of the present invention may include two or more embodiments disclosed herein.

2. 막2. The membrane

본 개시는 실시예 1 내지 25 중 어느 하나의 구조를 갖는 TPE, 구조 (I)의 TPE, 구조 (IA)의 TPE, 또는 이들의 조합을 포함하는 조성물로부터 형성된 막을 제공한다. 구조 (I)의 TPE 및 구조 (IA)의 TPE는 위에서 설명한 임의의 각각의 TPE일 수 있다.The present disclosure provides a film formed from a composition comprising a TPE having the structure of any one of Examples 1 to 25, a TPE of Structure (I), a TPE of Structure (IA), or a combination thereof. The TPE of structure (I) and the TPE of structure (IA) may be any of the TPEs described above.

한 실시양태에서, 막은 아래의 구조를 갖는 구조 (I)의 TPE, 구조 (IA)의 TPE, 또는 이들의 조합을 포함한다.In one embodiment, the membrane comprises a TPE of structure (I), a TPE of structure (IA), or a combination thereof, having the structure:

Figure pat00008
Figure pat00008

각각의 구조 (I) 및 (IA)에서, R1, R2, R3 및 R4는 동일하거나 또는 상이하다. R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되거나; 또는In each of structures (I) and (IA), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same or different. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; or

R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되고; R3 및 R4는 고리 구조를 형성하거나; 또는R 1 and R 2 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; R 3 and R 4 form a ring structure; or

R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되고; R1 및 R2는 고리 구조를 형성하거나; 또는R 3 and R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; R 1 and R 2 form a ring structure; or

R1 및 R2는 고리 구조를 형성하고, R3 및 R4는 고리 구조를 형성한다.R 1 and R 2 form a cyclic structure, and R 3 and R 4 form a cyclic structure.

한 실시양태에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되고; R3 및 R4는 고리 구조를 형성한다.In one embodiment, R 1 and R 2 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; R 3 and R 4 form a ring structure.

한 실시양태에서, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되고; R1 및 R2는 고리 구조를 형성한다.In one embodiment, R 3 and R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; R 1 and R 2 form a ring structure.

한 실시양태에서, R1 및 R2는 고리 구조를 형성하고, R3 및 R4는 고리 구조를 형성한다.In one embodiment, R 1 and R 2 form a ring structure, and R 3 and R 4 form a ring structure.

한 실시양태에서, 막은 적어도 2개의 층, 즉, 층 A 및 층 B를 포함한다. 층 A는 본 발명의 TPE 조성물을 포함하거나, 또는 다르게는 구조 (I)의 TPE, 구조 (IA)의 TPE, 또는 이들의 조합을 함유하는 조성물로부터 형성된다. 추가의 실시양태에서, R1 내지 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택된다.In one embodiment, the membrane comprises at least two layers, namely layer A and layer B. Layer A comprises a TPE composition of the present invention or alternatively is formed from a composition containing a TPE of structure (I), a TPE of structure (IA), or a combination thereof. In a further embodiment, R 1 to R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof.

한 실시양태에서, 층 A는 정공주입층이다. 추가의 실시양태에서, 층 A는 구조 (I)의 TPE, 구조 (IA)의 TPE, 또는 이들의 조합을 포함하는 조성물로부터 형성된 정공주입층이며, 조성물의 HOMO 준위는 -4.3 eV 내지 -4.6 eV이다.In one embodiment, layer A is a hole injection layer. In a further embodiment, layer A is a hole injection layer formed from a composition comprising a TPE of structure (I), a TPE of structure (IA), or a combination thereof, wherein the HOMO level of the composition is between -4.3 eV and -4.6 eV to be.

한 실시양태에서, 층 B는 정공수송층이다.In one embodiment, layer B is a hole transport layer.

한 실시양태에서, 층 A의 두께는 5 nm 내지 500 nm, 또는 5 nm 내지 100 nm, 또는 5 nm 내지 50 nm이고, 층 B의 두께는 5 nm 내지 500 nm, 또는 5 nm 내지 100 nm, 또는 5 nm 내지 50 nm이다.In one embodiment, the thickness of layer A is 5 nm to 500 nm, or 5 nm to 100 nm, or 5 nm to 50 nm, and the thickness of layer B is 5 nm to 500 nm, or 5 nm to 100 nm, or 5 nm to 50 nm.

한 실시양태에서, 층 A는 p-형 도펀트를 추가로 포함한다. 추가의 실시양태에서, p-형 도펀트는 유기금속 화합물 또는 유기금속 염이다.In one embodiment, layer A further comprises a p-type dopant. In a further embodiment, the p-type dopant is an organometallic compound or an organometallic salt.

한 실시양태에서, p-형 도펀트는 하나 이상의 페닐기를 포함하는 유기금속 염이다. 추가의 실시양태에서, 염의 음이온 성분은 붕소 원자를 포함한다. 추가의 실시양태에서, 유기금속 염은 다음 중 하나로부터 선택된 구조를 갖는다:In one embodiment, the p-type dopant is an organometallic salt comprising at least one phenyl group. In a further embodiment, the anion component of the salt comprises a boron atom. In a further embodiment, the organometallic salt has a structure selected from one of the following:

Figure pat00009
Figure pat00009

또는 이들의 조합.Or a combination thereof.

한 실시양태에서, 유기금속 염은 하기 구조를 갖는다:In one embodiment, the organometallic salt has the structure:

Figure pat00010
Figure pat00010

한 실시양태에서, 층 A 중 도펀트의 양은 조성물의 중량을 기준으로 1 중량% 내지 99 중량%, 또는 1 중량% 내지 50 중량%, 또는 1 중량% 내지 30 중량%이다.In one embodiment, the amount of dopant in layer A is from 1 wt% to 99 wt%, or from 1 wt% to 50 wt%, or from 1 wt% to 30 wt%, based on the weight of the composition.

본 발명의 막은 본원에 개시된 2개 이상의 실시양태의 조합을 포함할 수 있다.The membrane of the present invention may comprise a combination of two or more embodiments disclosed herein.

3. 전자 장치3. Electronic devices

본 개시는 실시예 1 내지 25 중 어느 하나의 구조를 갖는 테트라페닐렌 에틸렌, 구조 (I)의 테트라페닐렌 에틸렌, 구조 (IA)의 테트라페닐렌 에틸렌, 또는 이들의 조합을 포함하는 조성물로부터 형성된 하나 이상의 성분을 포함하는 전자 장치를 제공한다. 구조 (I)의 TPE 및 구조 (IA)의 TPE는 앞에서 설명한 임의의 각 TPE일 수 있다.This disclosure relates to a process for the preparation of a composition comprising a composition comprising tetraphenylene ethylene having the structure of any one of Examples 1 to 25, tetraphenyleneethylene of structure (I), tetraphenyleneethylene of structure (IA) An electronic device comprising one or more components is provided. The TPE of structure (I) and the TPE of structure (IA) may be any of the TPEs described above.

한 실시양태에서, 전자 장치는 아래의 구조를 갖는 구조 (I)의 TPE, 구조 (IA)의 TPE, 또는 이들의 조합을 포함한다.In one embodiment, the electronic device comprises a TPE of structure (I), a TPE of structure (IA), or a combination thereof, having the structure:

Figure pat00011
Figure pat00011

각각의 구조 (I) 및 (IA)에서, R1, R2, R3 및 R4는 동일하거나 또는 상이하다. R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되거나; 또는In each of structures (I) and (IA), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same or different. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; or

R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되고; R3 및 R4는 고리 구조를 형성하거나; 또는R 1 and R 2 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; R 3 and R 4 form a ring structure; or

R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되고; R1 및 R2는 고리 구조를 형성하거나; 또는R 3 and R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; R 1 and R 2 form a ring structure; or

R1 및 R2는 고리 구조를 형성하고, R3 및 R4는 고리 구조를 형성한다.R 1 and R 2 form a cyclic structure, and R 3 and R 4 form a cyclic structure.

한 실시양태에서, R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되고; R3 및 R4는 고리 구조를 형성한다.In one embodiment, R 1 and R 2 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; R 3 and R 4 form a ring structure.

한 실시양태에서, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되고; R1 및 R2는 고리 구조를 형성한다.In one embodiment, R 3 and R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; R 1 and R 2 form a ring structure.

한 실시양태에서, R1 및 R2는 고리 구조를 형성하고, R3 및 R4는 고리 구조를 형성한다.In one embodiment, R 1 and R 2 form a ring structure, and R 3 and R 4 form a ring structure.

한 실시양태에서, 전자 장치는 구조 (I)의 TPE, 구조 (IA)의 TPE, 또는 이들의 조합을 갖는 본 발명의 조성물을 함유하는 하나 이상의 층을 포함한다.In one embodiment, the electronic device comprises at least one layer containing a composition of the present invention having a TPE of structure (I), a TPE of structure (IA), or a combination thereof.

한 실시양태에서, 전자 장치는 제1 전극을 포함한다.In one embodiment, the electronic device comprises a first electrode.

한 실시양태에서, 전자 장치는 제1 전극 위에 배치되는 제2 전극을 포함한다.In one embodiment, the electronic device includes a second electrode disposed over the first electrode.

한 실시양태에서, 전자 장치는 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치되는 유기층을 포함한다. 유기층은 구조 (I)의 TPE, 구조 (IA)의 TPE, 또는 이들의 조합을 포함하는 본 발명의 조성물을 포함한다.In one embodiment, the electronic device comprises an organic layer disposed between the first electrode and the second electrode. The organic layer comprises a composition of the present invention comprising TPE of structure (I), TPE of structure (IA), or a combination thereof.

한 실시양태에서, 유기층은 층 A이고, 층 A는 정공주입층이다.In one embodiment, the organic layer is layer A and layer A is a hole injection layer.

한 실시양태에서, 전자 장치는 제2 층 B를 포함한다.In one embodiment, the electronic device comprises a second layer B.

한 실시양태에서, 층 B는 정공수송층이다.In one embodiment, layer B is a hole transport layer.

한 실시양태에서, 층 A는 층 B와 접촉한다.In one embodiment, layer A is in contact with layer B.

한 실시양태에서, 전자 장치는 방출층을 포함한다.In one embodiment, the electronic device comprises an emissive layer.

한 실시양태에서, 층 A의 두께는 1 nm 내지 1000 nm, 또는 2 nm 내지 500 nm, 또는 5 nm 내지 200 nm이다. 층 B의 두께는 1 nm 내지 1000 nm, 또는 2 nm 내지 500 nm, 또는 5 nm 내지 200 nm이다.In one embodiment, the thickness of layer A is from 1 nm to 1000 nm, or from 2 nm to 500 nm, or from 5 nm to 200 nm. The thickness of layer B is from 1 nm to 1000 nm, or from 2 nm to 500 nm, or from 5 nm to 200 nm.

한 실시양태에서, 전자 장치는 OLED(유기 발광 장치)이다.In one embodiment, the electronic device is an OLED (organic light emitting device).

한 실시양태에서, 전자 장치는 ITO 층인 제1 전극을 포함한다. 전자 장치는 또한 HIL 층인, 구조 (I)의 TPE, 구조 (II)의 TPE, 또는 이들의 조합을 갖는 본 발명의 TPE 조성물을 포함하는 층 A를 포함한다. 전자 장치는 또한 HTL 층인 층 B를 포함한다. 층 A의 TPE 조성물의 HOMO 준위는 ITO 층의 HOMO 준위와 HTL 재료의 HOMO 준위 사이이다. 한 실시양태에서, 층 A의 TPE 조성물은 -4.3 eV 내지 -4.6 eV의 계산된 HOMO 준위를 갖는다.In one embodiment, the electronic device comprises a first electrode that is an ITO layer. The electronic device also includes a layer A comprising the TPE composition of the present invention having a TPE of structure (I), a TPE of structure (II), or a combination thereof, which is also a HIL layer. The electronic device also includes a layer B which is an HTL layer. The HOMO level of the TPE composition in layer A is between the HOMO level of the ITO layer and the HOMO level of the HTL material. In one embodiment, the TPE composition of layer A has a calculated HOMO level of -4.3 eV to -4.6 eV.

본 발명의 전자 장치는 본원에 개시된 2개 이상의 실시양태의 조합을 포함할 수 있다.An electronic device of the present invention may comprise a combination of two or more of the embodiments disclosed herein.

정의Justice

반대로 기재되거나 문맥에 암시되어 있어나 당 업계에서 관례적인 경우가 아닌 한, 모든 부와 백분율은 중량 기준이다. 미국 특허 실무상, 인용된 임의의 특허, 특허 출원 또는 공보의 내용은, 특히 합성 기술의 개시, 정의(본 명세서에 특별히 제공된 모든 정의와 불일치하지 않는 범위까지) 및 당 업계의 일반 지식에 대하여, 그 전문이 본원에 포함된다(또는 그의 대응 미국판이 참조로 포함됨).All parts and percentages are by weight unless otherwise stated or implied by context, unless the context is customary in the art. The contents of any patent, patent application, or publication cited in the U.S. Patent Practice, particularly as regards the disclosure, definition (to the extent not inconsistent with all the definitions specifically provided herein) and the general knowledge in the art, Which is incorporated herein by reference (or its corresponding US version is incorporated by reference).

"포함하는", "비롯한", "갖는"이라는 용어 및 그의 파생어는, 임의의 부가적 성분, 단계 또는 절차의 존재를, 이들이 구체적으로 개시되었는지에 상관없이, 배제하는 것을 의도하지 않는다. 임의의 의문을 없애기 위해, 용어 "포함하는"을 사용하여 청구되는 모든 조성물은 반대로 기재되지 않는 한, 임의의 부가적 첨가제, 보조제, 또는 중합체 또는 다른 형태의 화합물을 포함할 수 있다. 이와 대조적으로, 용어 "~로 본질적으로 이루어지는"은 작동성(operability)에 본질적이지 않은 것을 제외한 임의의 다른 성분, 단계 또는 절차를 후속 인용 범위로부터 배제한다. 용어 "~로 이루어지는"은 구체적으로 기술되거나 열거되지 않은 임의의 다른 성분, 단계 또는 절차를 배제한다.The terms " comprising, "" including," "having ", and derivatives thereof, are not intended to exclude the presence of any additional components, steps or procedures, whether or not they are specifically disclosed. To eliminate any doubt, all compositions claimed using the term "comprising " can include any additional additives, adjuvants, or polymers or other types of compounds, unless otherwise stated. In contrast, the term " consisting essentially of "excludes any other element, step or procedure other than that which is not essential to operability, from the following citation range. The term " consisting of "excludes any other ingredients, steps or procedures not specifically described or listed.

"도펀트" 및 유사 용어는 첨가제로서 유기층에 첨가될 때 유기 전자 장치의 유기층의 전도도를 증가시키는 전자 수용체 또는 공여체를 지칭한다. 유기 반도체는 마찬가지로 도핑에 의해 그의 전기 전도도가 영향을 받을 수 있다. 이러한 유기 반도체성 매트릭스 물질은 전자 공여체 특성을 지닌 화합물 또는 전자 수용체 특성을 지닌 화합물 중 하나로 구성될 수 있다."Dopant" and like terms refer to an electron acceptor or donor that when added to an organic layer as an additive increases the conductivity of the organic layer of the organic electronic device. The electric conductivity of the organic semiconductor can also be affected by doping. Such an organic semiconducting matrix material may be composed of one of an electron donor characteristic or a compound having an electron acceptor characteristic.

"방출층" 및 유사 용어는 호스트 및 도펀트로 이루어지는 층을 의미한다. 호스트 물질은 양극성 또는 단극성일 수 있으며, 단독으로 사용될 수도 있고 또는 둘 이상의 호스트 물질의 조합으로 사용될 수도 있다. 호스트 물질의 광 전기적 특성은 어떤 유형의 도펀트(인광성 또는 형광성)를 사용하는지에 따라 달라질 수 있다. 형광성 도펀트의 경우, 보조 호스트 물질은 도펀트로의 양호한 푀르스터 전달(Foerster transfer)을 유도하기 위해 도펀트의 흡착과 호스트의 방출 사이에서 양호한 분광 오버랩을 가져야 한다. 인광성 도펀트의 경우, 보조 호스트 물질은 도펀트의 트리플렛(triplet) 을 제한하기 위해 높은 트리플렛 에너지를 가져야 한다."Emissive layer" and similar terms refer to a layer comprising a host and a dopant. The host material may be bipolar or unipolar, and may be used alone or in combination of two or more host materials. The photovoltaic properties of the host material may vary depending on what type of dopant (phosphorescent or fluorescent) is used. In the case of a fluorescent dopant, the auxiliary host material should have good spectral overlap between the adsorption of the dopant and the emission of the host to induce good Fouster transfer to the dopant. In the case of a phosphorescent dopant, the auxiliary host material must have a high triplet energy to limit the triplet of the dopant.

"정공수송층(HTL)" 및 유사 용어는, 정공을 수송하는 물질로부터 제조된 층을 의미한다. OLED 장치를 위해 높은 정공 이동도가 권장된다. 방출층에 의해 수송되는 전자의 통과를 차단하는 것을 보조하기 위해 HTL이 사용된다. 전형적으로 전자를 차단하기 위해 낮은 전자 친화력이 요구된다. 바람직하게는, 인접하는 EML 층으로부터 여기자의 이동을 차단하기 위해 HTL은 더 큰 트리플렛을 가져야 한다. HTL 화합물의 예는, 디(p-톨릴)아미노페닐]시클로헥산(TPAC), N,N-디페닐-N,N-비스(3-메틸페닐)-1,1-비페닐-4,4-디아민(TPD), 및 N,N'-디페닐-N,N'-비스(1-나프틸)-(1,1'-비페닐)-4,4'-디아민(NPB)을 포함하지만, 이에 한정되는 것은 아니다."HTL" and similar terms refer to a layer made from a material that transports holes. High hole mobility is recommended for OLED devices. The HTL is used to assist in blocking the passage of electrons transported by the emissive layer. Typically, low electron affinity is required to block electrons. Preferably, the HTL should have a larger triplet to block exciton movement from the adjacent EML layer. Examples of HTL compounds are di (p-tolyl) aminophenyl] cyclohexane (TPAC), N, N-diphenyl-N, Diamine (TPD), and N, N'-diphenyl-N, N'-bis (1-naphthyl) - (1,1'-biphenyl) -4,4'- diamine (NPB) But is not limited thereto.

본 개시의 일부 실시양태를 이제 하기 실시예에서 상세히 설명하겠다.
Some embodiments of the present disclosure will now be described in detail in the following examples.

실시예Example

1. 재료1. Materials

하기 실시예에 사용된 재료를 표 1에 나타내었다.The materials used in the following examples are shown in Table 1.

Figure pat00012
Figure pat00012

2. 분석2. Analysis

핵 자기 공명 (1H 및 13C NMR): 샘플을 적당한 중수소화 용매 중에 10 mg/㎖의 농도로 용해시켰다. NMR 스펙트럼은 Varian Mercury Plus 400 MHz 분광기상에서 기록하였다. 화학 이동은 테트라메틸실란에 대해 보고하였다. Nuclear magnetic resonance ( 1 H and 13 C NMR): The sample was dissolved in a suitable deuterated solvent at a concentration of 10 mg / ml. NMR spectra were recorded on a Varian Mercury Plus 400 MHz spectrometer. Chemical shifts were reported for tetramethylsilane.

액체 크로마토그래피/질량 분광분석법(LC/MS):Liquid chromatography / mass spectrometry (LC / MS):

샘플을 THF 중에 약 1 mg/㎖로 용해시켰다. 1 ㎕의 용액을 LC/MS 분석을 위해 주입하였다.Samples were dissolved at about 1 mg / ml in THF. One μl of the solution was injected for LC / MS analysis.

Figure pat00013
Figure pat00013

고압 액체 크로마토그래피(HPLC): 약 50 mg의 샘플을 칭량한 후 10 g의 테트라히드로푸란으로 희석시켰다. 샘플 용액을 0.45 ㎛ 시린지 필터를 통해 여과하고 5 ㎕의 여액을 HPLC 시스템에 주입하였다.High Pressure Liquid Chromatography (HPLC): About 50 mg of sample was weighed and then diluted with 10 g of tetrahydrofuran. The sample solution was filtered through a 0.45 [mu] m syringe filter and 5 [mu] l of the filtrate was injected into the HPLC system.

Figure pat00014
Figure pat00014

순환 전압전류법(CV): Pt 상대 전극, Hg/Hg2Cl2 기준 전극, 및 백금 플레이트 전극을 갖는 3-전극 전지 중의 CHI 전압전류 분석기상에서 스캔 속도를 10 mV/s로 하고 지지 전해질로서 0.1 M 테트라부틸암모늄 헥사플루오로포스페이트를 이용하여 수행하였다. 페로센을 내부 표준물로서 첨가하였다. 전위 값은 정공주입층과 페로센 표준물의 산화 피크의 피크 차이에 따라 계산하였다. Cyclic Voltammetry (CV): A scan rate of 10 mV / s on a CHI voltage-current analyzer in a 3-electrode cell with a Pt counter electrode, a Hg / Hg 2 Cl 2 reference electrode, M < / RTI > tetrabutylammonium hexafluorophosphate. Ferrocene was added as internal standard. The potential values were calculated according to the peak difference between the oxidation peak of the hole injection layer and the ferrocene standard.

원자간력 현미경(AFM): AFM을 적용하여 표면 모폴로지를 시각화하고 스핀-코팅된 HIL 막의 표면 조도 및 막 두께를 측정하였다. AFM 측정은 Veeco에서 생산된 Dimension V 기기상에서 태핑 모드(tapping mode)로 수행하였다. Atomic Force Microscopy (AFM): Surface morphology was visualized by AFM and surface roughness and film thickness of spin-coated HIL films were measured. AFM measurements were performed in a tapping mode on a Dimension V instrument manufactured by Veeco.

수직 편차의 진폭(A)을 사용하여 표면의 조도를 계산하였다. 진폭 파라미터 Ra 및 Rq를 표면 조도를 기술하는 데에 사용하였다. Ra는 절대 진폭 값의 산술 평균이고, Rq는 진폭 값의 제곱 평균이며, 이하와 같이 기술된다:The surface roughness was calculated using the amplitude (A) of the vertical deviation. The amplitude parameters R a and R q were used to describe the surface roughness. R a is the arithmetic mean of the absolute amplitude values, R q is the root mean square of the amplitude values, and is described as follows:

Figure pat00015
Figure pat00015

여기에서, Ai는 AFM 이미지 중의 픽셀 i(표면 상의 점을 의미함)의 진폭(높이 또는 깊이)이고, n은 이미지 중의 픽셀의 총 개수이다.Here, A i is the amplitude (height or depth) of a pixel i (meaning a point on the surface) in the AFM image, and n is the total number of pixels in the image.

스핀-코팅된 막의 두께를 측정하기 위해, 날카로운 블레이드로 ITO 기판으로부터 막의 일부를 제거한 후, 캔틸레버로 스캔하였다. 두 섹션 간의 간극이 막의 두께를 나타낸다.To measure the thickness of the spin-coated film, a portion of the film was removed from the ITO substrate with a sharp blade and then scanned with a cantilever. The gap between the two sections represents the thickness of the membrane.

3. 3. 테트라페닐렌Tetraphenylene 에틸렌형Ethylene type 물질의 합성 Synthesis of materials

A. 1,2-A. 1,2- 비스(4-브로모페닐)-1Bis (4-bromophenyl) -1 ,2-,2- 디페닐에텐(1)의Of the diphenylethene (1) 합성 synthesis

<반응식 1><Reaction Scheme 1>

Figure pat00016
Figure pat00016

4-브로모벤조페논(5 g, 19.2 mmol) 및 아연 분진(2.5 g, 38.2 mmol)을 환류 응축기가 구비된 250 ㎖ 2-목 둥근바닥 플라스크에 넣었다. 진공 증발 및 건조 질소로 3회 플러싱(flushing)한 후, 100 ㎖의 THF를 첨가하였다. 혼합물을 빙수조에서 0 내지 5℃로 냉각시키고, TiCl4 2.1 ㎖(19.2 mmol)를 시린지를 이용하여 서서히 첨가하였다. 혼합물을 서서히 실온으로 가온하고, 0.5시간 동안 교반한 후, 12시간 동안 환류시켰다. 실온으로 냉각 후, 반응 혼합물을 빙수에 붓고 디클로로메탄으로 3회 추출하였다. 용매를 진공 증발시키고 잔류물을 에탄올로 세척하여 백색 분말을 얻었다(수율 70%).4-Bromobenzophenone (5 g, 19.2 mmol) and zinc dust (2.5 g, 38.2 mmol) were placed in a 250 mL 2-neck round bottom flask equipped with a reflux condenser. After vacuum evaporation and dry flushing three times with nitrogen, 100 mL of THF was added. The mixture was cooled in an ice water bath to 0 to 5 ℃, was added slowly using a TiCl 4 2.1 ㎖ (19.2 mmol) syringe. The mixture was slowly warmed to room temperature, stirred for 0.5 hours and then refluxed for 12 hours. After cooling to room temperature, the reaction mixture was poured into ice water and extracted three times with dichloromethane. The solvent was evaporated in vacuo and the residue was washed with ethanol to give a white powder (70% yield).

1H-NMR(CDCl3, 400 MHz): 7.19-7.25 (m, 3H), 7.06-7.13(m, 7H), 6.96-7.03(m, 5H), 6.85-6.90(m, 3H). 1 H-NMR (CDCl 3, 400 MHz): 7.19-7.25 (m, 3H), 7.06-7.13 (m, 7H), 6.96-7.03 (m, 5H), 6.85-6.90 (m, 3H).

B. 1,2-비스[4-(N-B. 1,2-Bis [4- (N- 페닐Phenyl )) 아미노페닐Aminophenyl ]-1,2-] -1,2- 디페닐에텐(2)의Of the diphenylethene (2) 합성 synthesis

<반응식 2><Reaction Scheme 2>

Figure pat00017
Figure pat00017

질소 분위기하에 250 ㎖ 3-목 둥근바닥 플라스크에 (1)(4.90 g, 10 mmol), Pd2(dba)3(0.549 g, 0.6 mmol), t-BuOK(4.49 g, 40 mmol) 및 BINAP(0.747 g, 1.2 mmol)을 충전하였다. 진공 증발 및 건조 질소로 3회 플러싱 후, 아닐린(2.32 g, 25 mmol) 및 60 ㎖의 무수 톨루엔을 시린지를 이용하여 순차적으로 첨가하였다. 혼합물을 80℃로 밤새 가열하고 실온으로 냉각시켰다. 혼합물을 원심분리하고 상청액을 농축시키고 실리카겔 컬럼 상에서 페트롤륨 에테르 및 에틸 아세테이트(10:1) 혼합물을 용리액으로서 사용하여 정제하였다. 생성물(2)은 옅은 황색 분말이었다(수율 40%).(4.49 g, 10 mmol), Pd 2 (dba) 3 (0.549 g, 0.6 mmol), t- BuOK (4.49 g, 40 mmol) and BINAP 0.747 g, 1.2 mmol). Vacuum Evaporation and Drying After flushing three times with nitrogen, aniline (2.32 g, 25 mmol) and 60 mL of anhydrous toluene were added sequentially using a syringe. The mixture was heated to 80 &lt; 0 &gt; C overnight and cooled to room temperature. The mixture was centrifuged and the supernatant was concentrated and purified on a silica gel column using a mixture of petroleum ether and ethyl acetate (10: 1) as the eluent. The product (2) was a pale yellow powder (yield: 40%).

1H-NMR(d6-DMSO, 400 MHz), δ(TMS, ppm): 8.10-8.18 (d, 2H), 7.15-7.23 (m, 6 H), 7.05-7.15(m, 4H), 6.95-7.07(m, 6H), 6.75-6.88 (m, 10 H). 1 H-NMR (d 6 -DMSO , 400 MHz), δ (TMS, ppm): 8.10-8.18 (d, 2H), 7.15-7.23 (m, 6 H), 7.05-7.15 (m, 4H), 6.95 -7.07 (m, 6H), 6.75-6.88 (m, 10H).

C. 1,2-비스(4-{N,N-[4-(N,N-C. 1,2-bis (4- {N, N- [4- (N, N- 디페닐아미노Diphenylamino )) 페닐Phenyl ]] 페닐Phenyl }아미노)-1,2-} Amino) -1,2- 디페닐에텐(3)의Of the diphenylethene (3) 합성 synthesis

<반응식 3><Reaction Scheme 3>

Figure pat00018
Figure pat00018

질소 분위기하에 250 ㎖ 3-목 둥근바닥 플라스크에 (2)(1.54 g, 3 mmol), Pd2(dba)3(0.137 g, 0.15 mmol) 및 t-BuOK(1.35 g, 12 mmol)를 충전하였다. 진공 증발 및 건조 질소로 3회 플러싱 후, 톨루엔 중 P(t-Bu)3 용액(100 mg/㎖)(0.9 ㎖, 0.45 mmol) 및 20 ㎖의 무수 톨루엔을 시린지를 이용하여 순차적으로 첨가하였다. 혼합물을 80℃로 밤새 가열하고 실온으로 냉각시켰다. 혼합물을 원심분리하고 상청액을 농축시키고 실리카겔 컬럼상에서 페트롤륨 에테르 및 디클로로메탄(2:1) 혼합물을 용리액으로서 사용하여 정제하였다. 생성물(3)은 밝은 황색 분말이었다(60%). 황색 분말을 360℃에서 승화에 의해 정제하여 순수 생성물을 얻었으며, 이는 HPLC 순도가 99.4%였다(Z 이성질체: 55.7%, E 이성질체: 46.7%).(1.54 g, 3 mmol), Pd 2 (dba) 3 (0.137 g, 0.15 mmol) and t- BuOK (1.35 g, 12 mmol) were charged in a 250 mL 3-neck round bottom flask under nitrogen atmosphere . Vacuum Evaporation and Drying After flushing three times with nitrogen, P ( t- Bu) 3 solution (100 mg / ml) in toluene (0.9 ml, 0.45 mmol) and 20 ml of anhydrous toluene were added sequentially using a syringe. The mixture was heated to 80 &lt; 0 &gt; C overnight and cooled to room temperature. The mixture was centrifuged and the supernatant was concentrated and purified on a silica gel column using a mixture of petroleum ether and dichloromethane (2: 1) as the eluent. The product (3) was a light yellow powder (60%). The yellow powder was purified by sublimation at 360 [deg.] C to give the pure product, which had an HPLC purity of 99.4% (Z isomer: 55.7%, E isomer: 46.7%).

1H-NMR(CD2Cl2, 400 MHz), δ(TMS, ppm): 6.5-7.5 (m) 1 H-NMR (CD 2 Cl 2 , 400 MHz),? (TMS, ppm): 6.5-7.5 (m)

13C-NMR(CD2Cl2, 100 MHz), δ(ppm): 122.27, 122.41, 123.78, 123.95, 125.34, 125.46, 126.34, 127.62, 129.20, 131.46, 132.21 13 C-NMR (CD 2 Cl 2 , 100 MHz),? (Ppm): 122.27, 122.41, 123.78, 123.95, 125.34,125.46,126.34,127.62,129.20,131.46,132.21

HRMS(ESI, m/z):1001.45(M+H+)HRMS (ESI, m / z ): 1001.45 (M + H & lt ; + &

본 발명의 구조 (I), 구조 (IA)의 TPE의 비제한적인 실시예를 아래 표 2에 제시하였다.Non-limiting examples of TPE of structure (I), structure (IA) of the present invention are shown in Table 2 below.

Figure pat00019
Figure pat00019

Figure pat00020
Figure pat00020

Figure pat00021
Figure pat00021

Figure pat00022
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Figure pat00023
Figure pat00023

4. 4. HOMOHOMO 준위 warrant officer

HOMO의 계산Calculation of HOMO

밀도 함수 계산을 Gaussian 09 세트 프로그램을 이용하여 실시하였다. 각 분자의 기저상태 기하학을 혼성 B3LYP 함수와 6-31g (d) 기저계(basis set)를 이용하여 최적화하고, 그로부터 전자볼트(eV) 단위의 HOMO 분자 궤도함수 값을 추출하였다.Density function calculations were performed using the Gaussian 09 set program. The basis state geometry of each molecule was optimized using the hybrid B3LYP function and the 6-31 g (d) basis set, and the HOMO molecular orbital value in electron volts (eV) was extracted therefrom.

중립 및 트리플렛 상태의 각 분자의 기하학을 기저상태 계산에서와 동일한 방법 및 기저계로 최적화하고, 이것과 기저상태 계산으로부터 트리플렛 에너지를 중립 트리플렛 및 기저상태 에너지 사이의 에너지 차이로부터 계산하였다.The geometry of each molecule in the neutral and triplet states was optimized to the same method and basis system as in the ground state calculation and from this and the ground state calculation the triplet energy was calculated from the energy difference between the neutral triplet and the ground state energy.

문헌[J. Phys . Chem . A, 2003, 107, 5241-5251]에 기재된 절차를 적용하여 전자 및 정공 이동도의 척도인 각 분자의 재배치 에너지를 계산하였다. J. Phys . Chem . A, 2003, 107, 5241-5251] was used to calculate the relocation energy of each molecule as a measure of electron and hole mobility.

아래의 표 3은 실시예 1(표 2로부터)의 HOMO 준위를 다른 테트라페닐렌 에틸렌 화합물의 HOMO 준위와 비교한다(Inv - 본 발명 및 Comp = 비교용).Table 3 below compares the HOMO levels of Example 1 (from Table 2) with the HOMO levels of other tetraphenylene ethylene compounds (Inv - Inventive and Comp = Comparative).

Figure pat00024
Figure pat00024

Figure pat00025
Figure pat00025

5. 막5. The membrane

ITO 유리(소다석회 유리: 2 cm × 2 cm)를 차례대로 비눗물, 아세톤, 에탄올 및 이소프로판 중에서의 초음파 처리에 의해 예비처리하고 공기 중에서 완전 건조시켰다. (상기한) 합성예에서 제조한 조성물(3)을 아니솔 중에 5 mg/㎖의 농도로 용해시켰다. 이어서, 용액을 깨끗한 ITO 상에 스핀-코팅하였다. ITO 상에 스핀-코팅된 화합물 3의 막의 표면 조도를 원자간력 현미경(AFM)에 의해 분석하였다(표 4에 나타냄). 표면 조도가 5.3 nm였던 본래의 ITO에 비해, 그 위에 화합물 3을 스핀-코팅한 후 표면 조도(Rq)는 ITO 상에 화합물 3을 스핀-코팅한 후 0.5 nm로 감소하였다.ITO glass (soda lime glass: 2 cm x 2 cm) was pretreated in turn by ultrasonic treatment in soapy water, acetone, ethanol and isopropane and completely dried in air. (3) prepared in Synthesis Example (above) was dissolved at a concentration of 5 mg / ml in anisole. The solution was then spin-coated onto clean ITO. The surface roughness of the film of spin-coated compound 3 on ITO was analyzed by atomic force microscopy (AFM) (shown in Table 4). Compared with the original ITO having a surface roughness of 5.3 nm, compound 3 was spin-coated thereon, and surface roughness ( Rq ) was reduced to 0.5 nm after spin-coating compound 3 on ITO.

Figure pat00026
Figure pat00026

6. 6. 장치예Device example

A. A. 장치예Device example 1 One

모든 유기 재료를 피착 전 승화에 의해 정제하였다. OLED를 애노드로서 작용하는 ITO 코팅된 유리 기판 위에 제작하고, 알루미늄 캐소드를 얹었다. 모든 유기층은 화학 기상 증착법에 의해 기본 압력이 1 × 10-7 Torr 미만인 진공실에서 열적으로 피착시켰다. 알루미늄 캐소드는 0.5 nm/s로 피착시켰다. 유기층들의 피착 속도는 0.1 내지 0.05 nm/s로 유지하였다. OLED 장치의 활성 영역은 캐소드 피착용 섀도 마스크에 의해 정의되는 바와 같이 "3 mm × 3 mm"였다. 유리 기판(20 mm × 20 mm)은 삼성 코닝으로부터 입수가능하며 ITO 층 두께는 1500 옹스트롬이었다.All organic materials were purified by sublimation prior to deposition. The OLED was fabricated on an ITO coated glass substrate that served as the anode, and an aluminum cathode was placed thereon. All organic layers were thermally deposited by chemical vapor deposition in a vacuum chamber with a base pressure of less than 1 x 10 &lt; -7 &gt; Torr. The aluminum cathode was deposited at 0.5 nm / s. The deposition rate of the organic layers was maintained at 0.1 to 0.05 nm / s. The active area of the OLED device was "3 mm x 3 mm" as defined by the cathode-worn shadow mask. The glass substrate (20 mm x 20 mm) was available from Samsung Corning and the ITO layer thickness was 1500 Angstroms.

ITO 유리(2 cm × 2 cm)를 상기 막 실시예에서 설명한 바와 같이 세정하고, 산소 플라즈마로 처리하였다. (상기한) 합성예에서 제조된 화합물 3을 아니솔에 약 20 mg/㎖의 농도로 용해시켰다. 화합물 3의 용액을 글로브박스에서 ITO 유리 기판 위에 HIL로서 스핀-코팅하였다. 막을 80℃에서 20분 동안 어닐링하였다. 이어서, 막 기판을 약 1 × 10-7 Torr 진공하의 열 증발기로 옮겼다. HTL1, HTL2, Fl 블루 EML, 알루미늄 8-히드록시퀴놀리네이트(Alq3) 및 리튬 퀴놀레이트(Liq)의 층들을 순차적으로 각각 5 nm, 25 nm, 20 nm, 30 nm 및 2 nm의 두께로 피착시켰다. 유기층들의 피착 속도는 0.1 내지 0.05 nm/s로 유지하였다. 유기층들의 피착 속도는 0.1 내지 0.05 nm/s로 유지하였다. 알루미늄 캐소드는 0.5 nm/s로 피착시켰다. OLED의 활성 영역은 캐소드 피착용 섀도 마스크에 의해 정의되는 바와 같이 "3 mm × 3 mm"였다.ITO glass (2 cm x 2 cm) was cleaned as described in the film example and treated with oxygen plasma. Compound 3 prepared in Synthesis Example (above) was dissolved in anisole at a concentration of about 20 mg / ml. A solution of compound 3 was spin-coated as an HIL on an ITO glass substrate in a glove box. The film was annealed at 80 DEG C for 20 minutes. The membrane substrate was then transferred to a thermal evaporator at about 1 x 10-7 Torr vacuum. HTL1, HTL2, in Fl blue EML, the aluminum 8-hydroxyquinolinato thickness of fun carbonate (Alq 3), and lithium quinol rate (Liq) and the layers successively with 5 nm, 25 nm, respectively, of 20 nm, 30 nm and 2 nm Lt; / RTI &gt; The deposition rate of the organic layers was maintained at 0.1 to 0.05 nm / s. The deposition rate of the organic layers was maintained at 0.1 to 0.05 nm / s. The aluminum cathode was deposited at 0.5 nm / s. The active area of the OLED was "3 mm x 3 mm" as defined by the cathode-worn shadow mask.

마지막으로, 장치를 에폭시로 밀봉한 후 시험하였다. 장치 구조는 아래와 같았다:Finally, the device was tested after sealing with epoxy. The device structure was as follows:

화합물 3(40 nm)/HTL1(5 nm)/HTL2(25 nm)/Fl Blue ML(20 nm)/Alq3(30 nm) /Liq(2 nm)Compound 3 (40 nm) / HTL1 ( 5 nm) / HTL2 (25 nm) / Fl Blue ML (20 nm) / Alq 3 (30 nm) / Liq (2 nm)

B. B. 장치예Device example 2 2

이 절차는 조성물(3)을 ITO 위에 스핀-코팅하는 대신 진공 피착시킨 것 이외에는 장치예 1에 기재된 것과 동일하였다. 장치 구조는 다음과 같았다:This procedure was the same as described in Example 1 except that composition (3) was vacuum deposited instead of spin-coating on ITO. The device structure was as follows:

화합물 3 (40 nm)/HTL1 (5 nm)/HTL2 (25 nm)/Fl Blue ML(20 nm)/Alq3(30 nm) /Liq(2 nm)Compound 3 (40 nm) / HTL1 (5 nm) / HTL2 (25 nm) / Fl Blue ML (20 nm) / Alq 3 (30 nm) / Liq (2 nm)

C. C. 비교예Comparative Example 3 - 장치 3 - Device

이 절차는 화합물 3 대신에 2-TNATA를 HIL로서 진공 피착시킨 것 이외에는 장치예 1에 기재된 것과 동일하였다.This procedure was the same as described in Example 1 except that 2-TNATA was vacuum deposited as HIL instead of compound 3. [

D. D. 비교예Comparative Example 4 - 장치 4 - Device

이 절차는 화합물 3 대신에 폴리티오펜(Plextronics Co.)을 HIL로서 스핀-코팅한 것 이외에는 장치예 1에 기재된 것과 동일하였다.This procedure was the same as described in Apparatus Example 1 except that polythiophene (Plextronics Co.) was spin-coated instead of Compound 3 as HIL.

E. 시험E. Testing

소스 측정 장치(KEITHLY 238) 발광계(MINOLTA CS-100A)를 이용하여 OLED에 대한 전류-전압-휘도(J-V-L) 분석을 수행하였다. OLED 장치의 EL 스펙트럼을 검정된 CCD 분광기에 의해 수집하였다.The current-voltage-luminance (J-V-L) analysis for the OLED was performed using a source measuring device (KEITHLY 238) luminometer (MINOLTA CS-100A). The EL spectra of the OLED devices were collected by an assay CCD spectrometer.

본 발명의 장치예 1 및 2, 및 비교용 샘플 3 및 4의 전류-전압 곡선, 발광 효율 곡선, 및 발광 감퇴 곡선을 각각 도 1, 2 및 3에 나타내었다. 이들 장치에 대한 구동 전압(1000 Cd/㎡에서), 전류 효율(1000 Cd/㎡에서) 및 수명(4000 Cd/㎡, 600분 후) 데이터를 표 5에 모았다.The current-voltage curves, the luminous efficiency curves, and the emission decay curves of the device examples 1 and 2 of the present invention and the comparative samples 3 and 4 are shown in FIGS. 1, 2 and 3, respectively. The data for the driving voltage (at 1000 Cd / m2), current efficiency (at 1000 Cd / m2) and lifetime (4000 Cd / m2, after 600 minutes) for these devices are collected in Table 5.

Figure pat00027
Figure pat00027

도 1 내지 3 및 표 5는 본 발명의 조성물(3)을 HIL(열 증발 또는 용액 공정으로 피착됨)로서 사용한 본 발명의 장치 1 및 2는 비교예 3 및 4와 대등한 구동 전압 및 효율을 나타냄을 보여준다. 그러나 장치예 1 및 2는 비교용 샘플에 비해 우수한 수명을 나타낸다. 초기 휘도 4000 Cd/㎡에서 600분 후 장치의 휘도는 증발 공정에 의해 적용된 화합물 3을 포함하는 장치(장치예 1)의 경우 초기와 동일하게(100%) 유지되었고, 용액 공정에 의해 적용된 화합물 3을 포함하는 장치(장치예 2)의 경우 초기보다 약간 높아졌다(102.3%). 그러나 폴리티오펜(비교예 3) 및 2-TNATA(비교예 4)을 HIL로서 포함하는 장치의 경우 동일 기간 후 각각 91.3% 및 97.3%로 감소하였다.1 to 3 and Table 5 show that devices 1 and 2 of the present invention using the composition (3) of the present invention as a HIL (deposited by thermal evaporation or solution process) exhibited a driving voltage and efficiency equivalent to those of Comparative Examples 3 and 4 . However, Apparatus Examples 1 and 2 exhibit a better lifetime than the comparative sample. After 600 minutes at an initial luminance of 4000 Cd / m2, the brightness of the device remained the same (100%) as in the case of the device (Device Example 1) containing Compound 3 applied by the evaporation process, and Compound 3 (102.3%) in the case of the apparatus (apparatus example 2) including the &lt; / RTI &gt; However, for devices containing polythiophene (Comparative Example 3) and 2-TNATA (Comparative Example 4) as HIL, it decreased to 91.3% and 97.3% after the same period, respectively.

본 개시에서, 출원인은 구조 (I)의 TPE, 구조 (IA)의 TPE, 또는 이들의 조합을 포함하는 조성물로부터 형성된 정공주입 물질을 개발하였다. 본 발명의 TPE 조성물은 열 증발 및 용액 공정 둘 다에 적합하다. 그러한 물질을 HIL로서 포함하는 장치는 폴리티오펜 및 2-TNATA를 HIL로서 사용하는 장치와 대등한 구동 전압 및 효율 및 폴리티오펜 및 2-TNATA를 HIL로서 사용하는 장치보다 긴 수명을 나타낸다.In this disclosure, Applicants have developed a hole injecting material formed from a composition comprising a TPE of structure (I), a TPE of structure (IA), or a combination thereof. The TPE compositions of the present invention are suitable for both thermal evaporation and solution processes. Devices incorporating such materials as HILs exhibit drive voltages and efficiencies comparable to those using polythiophenes and 2-TNATAs as HILs and longer lifetimes than devices using polythiophenes and 2-TNATAs as HILs.

본 개시는 본 명세서에서 기재된 실시양태 및 예시에 제한되지 않으며 그 실시양태의 일부 및 상이한 실시양태들의 요소들의 조합을 비롯한 상기 실시양태의 변형된 형태를 하기 청구항의 범위에 포함되는 것으로 하고자 한다.This disclosure is not intended to be limited to the embodiments and examples described herein, but is intended to cover alternatives to those embodiments, including combinations of elements of the embodiments and portions of the embodiments, as falling within the scope of the following claims.

Claims (18)

구조 (I)의 테트라페닐렌 에틸렌, 구조 (IA)의 테트라페닐렌 에틸렌, 또는 이들의 조합을 포함하는 조성물:
Figure pat00028

각각의 구조 (I) 및 (IA)에서, R1, R2, R3 및 R4는 동일하거나 또는 상이하고,
R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되거나; 또는
R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되고; R3 및 R4는 고리 구조를 형성하거나; 또는
R3 및 R4는 각각 독립적으로 수소, 탄화수소, 치환된 탄화수소, 및 이들의 조합으로부터 선택되고; R1 및 R2는 고리 구조를 형성하거나; 또는
R1 및 R2는 고리 구조를 형성하고, R3 및 R4는 고리 구조를 형성한다.
Compositions comprising tetraphenylene ethylene of structure (I), tetraphenylene ethylene of structure (IA), or combinations thereof:
Figure pat00028

In each of structures (I) and (IA), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same or different,
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; or
R 1 and R 2 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; R 3 and R 4 form a ring structure; or
R 3 and R 4 are each independently selected from hydrogen, hydrocarbons, substituted hydrocarbons, and combinations thereof; R 1 and R 2 form a ring structure; or
R 1 and R 2 form a cyclic structure, and R 3 and R 4 form a cyclic structure.
제1항에 있어서, Z-이성질체, E-이성질체, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 구조 (I)의 이성질체를 포함하는 조성물.The composition of claim 1 comprising an isomer of structure (I) selected from the group consisting of Z-isomers, E-isomers, and combinations thereof. 제1항에 있어서, R1 내지 R4는 각각 하나 이상의 아릴기를 포함하는 조성물.The composition of claim 1, wherein R 1 to R 4 each comprise at least one aryl group. 제1항에 있어서, R1 내지 R4는 각각 페닐기인 조성물.The composition of claim 1, wherein R 1 to R 4 are each a phenyl group. 제1항에 있어서, 구조 (I)의 테트라페닐렌 에틸렌, 구조 (IA)의 테트라페닐렌 에틸렌, 또는 이들의 조합은 -4.3 eV 내지 -4.6 eV의 계산된 HOMO 준위를 갖는 조성물.The composition of claim 1, wherein the tetraphenylene ethylene of structure (I), tetraphenylene ethylene of structure (IA), or combinations thereof has a calculated HOMO level of from -4.3 eV to -4.6 eV. 제1항에 있어서, 구조 (I)의 테트라페닐렌 에틸렌은 분자량이 700 g/몰 내지 1300 g/몰인 조성물.The composition of claim 1, wherein the tetraphenylene ethylene of structure (I) has a molecular weight of from 700 g / mole to 1300 g / mole. 제1항에 있어서, 방향족 용매를 추가로 포함하는 조성물.The composition of claim 1, further comprising an aromatic solvent. 제7항에 있어서, 방향족 용매가 크실렌, 톨루엔, 벤젠, 아니솔, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 조성물.8. The composition of claim 7, wherein the aromatic solvent is selected from the group consisting of xylene, toluene, benzene, anisole, and combinations thereof. 적어도 2개의 층, 즉, 층 A 및 층 B를 포함하며, 층 A는 제1항의 조성물로부터 형성된 막.At least two layers, namely a layer A and a layer B, wherein the layer A is formed from the composition of claim 1. 제9항에 있어서, 층 A는 정공주입층인 막.The film according to claim 9, wherein the layer A is a hole injection layer. 제10항에 있어서, 조성물이 -4.3 eV 내지 -4.6 eV의 계산된 HOMO 준위를 갖는 막.11. The membrane of claim 10, wherein the composition has a calculated HOMO level of from -4.3 eV to -4.6 eV. 제9항에 있어서, 층 B는 정공수송층인 막.The film according to claim 9, wherein the layer B is a hole transport layer. 제1항의 조성물로부터 형성된 하나 이상의 성분을 포함하는 전자 장치.An electronic device comprising at least one component formed from the composition of claim 1. 제13항에 있어서, 제1 전극을 추가로 포함하는 전자 장치.14. The electronic device of claim 13, further comprising a first electrode. 제13항 또는 제14항에 있어서, 제1 전극 위에 배치된 제2 전극을 추가로 포함하는 전자 장치.15. The electronic device of claim 13 or 14, further comprising a second electrode disposed over the first electrode. 제13항에 있어서, 상기 성분은 상기 조성물을 유기층으로서 포함하며, 유기층은 제1 전극과 제2 전극 사이에 배치되는 전자 장치.14. The electronic device according to claim 13, wherein the component comprises the composition as an organic layer, and the organic layer is disposed between the first electrode and the second electrode. 제13항에 있어서, 상기 성분은 상기 조성물을 포함하는 정공주입층인 전자 장치.14. The electronic device of claim 13, wherein the component is a hole injection layer comprising the composition. 제17항에 있어서, 조성물은 -4.3 eV 내지 -4.6 eV의 계산된 HOMO 준위를 갖는 전자 장치.18. The electronic device of claim 17, wherein the composition has a calculated HOMO level of from -4.3 eV to -4.6 eV.
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