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KR20210148158A - Polymer composition and single-layer retardation material - Google Patents

Polymer composition and single-layer retardation material Download PDF

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KR20210148158A
KR20210148158A KR1020217031725A KR20217031725A KR20210148158A KR 20210148158 A KR20210148158 A KR 20210148158A KR 1020217031725 A KR1020217031725 A KR 1020217031725A KR 20217031725 A KR20217031725 A KR 20217031725A KR 20210148158 A KR20210148158 A KR 20210148158A
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KR
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group
carbon atoms
side chain
polymer
polymer composition
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KR1020217031725A
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Korean (ko)
Inventor
다카유키 네기
Original Assignee
닛산 가가쿠 가부시키가이샤
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Publication date
Application filed by 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 filed Critical 닛산 가가쿠 가부시키가이샤
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Abstract

(A) 하기 식 (a) 로 나타내는 광 반응성 부위를 갖는 측사슬을 갖는 측사슬형 중합체, (B) 실란 커플링제, 및 (C) 유기 용매를 포함하는 중합체 조성물을 제공한다.

Figure pct00028
(A) The polymer composition containing the side chain polymer which has a side chain which has a photoreactive site|part represented by following formula (a), (B) a silane coupling agent, and (C) organic solvent is provided.
Figure pct00028

Description

중합체 조성물 및 단층 위상차재Polymer composition and single-layer retardation material

본 발명은, 중합체를 포함하는 조성물 및 단층 위상차재에 관한 것이다. 상세하게는, 표시 장치나 기록 재료 등의 용도에 바람직한 광학 특성을 갖는 재료, 특히, 액정 디스플레이용의 편광판 및 위상차판 등의 광학 보상 필름에 바람직하게 이용할 수 있는 액정성 중합체, 그 중합체를 포함하는 조성물, 및 그 조성물로부터 얻어지는 단층 위상차재에 관한 것이다.The present invention relates to a composition containing a polymer and a single-layer retardation material. Specifically, a material having optical properties suitable for applications such as display devices and recording materials, in particular, liquid crystal polymers that can be preferably used for optical compensation films such as polarizing plates and retardation plates for liquid crystal displays, containing the polymer It relates to a composition and the single-layer retardation material obtained from the composition.

액정 표시 장치의 표시 품위의 향상이나 경량화 등의 요구로부터, 편광판이나 위상차판 등의 광학 보상 필름으로서, 내부의 분자 배향 구조가 제어된 고분자 필름의 요구가 높아지고 있다. 이 요구에 응하기 위해, 중합성 액정 화합물이 갖는 광학 이방성을 이용한 필름의 개발이 이루어지고 있다. 여기서 사용되는 중합성 액정 화합물은, 일반적으로, 중합성기와 액정 구조 부위 (스페이서부와 메소겐부를 갖는 구조 부위) 를 갖는 액정 화합물이며, 이 중합성기로서 아크릴기가 널리 사용되고 있다.As an optical compensation film such as a polarizing plate or a retardation plate, the demand for a polymer film in which the internal molecular alignment structure is controlled is increasing from the demands for improvement of display quality and weight reduction of the liquid crystal display device. In order to respond to this request|requirement, development of the film using the optical anisotropy which a polymeric liquid crystal compound has is made|formed. The polymerizable liquid crystal compound used here is generally a liquid crystal compound having a polymerizable group and a liquid crystal structural moiety (a structural moiety having a spacer moiety and a mesogen moiety), and an acryl group is widely used as the polymerizable group.

이와 같은 중합성 액정 화합물은, 일반적으로, 자외선 등의 방사선을 조사하여 중합시키는 방법으로 중합체 (필름) 가 된다. 예를 들어, 아크릴기를 갖는 특정한 중합성 액정 화합물을 지지체 사이에 담지하고, 이 화합물을 액정 상태로 유지하면서 방사선을 조사하여 중합체를 얻는 방법 (특허문헌 1) 이나, 아크릴기를 갖는 2 종류의 중합성 액정 화합물의 혼합물 또는 이 혼합물에 카이랄 액정을 혼합한 조성물에 광 중합 개시제를 첨가하고, 자외선을 조사하여 중합체를 얻는 방법 (특허문헌 2) 이 알려져 있다.Generally, such a polymerizable liquid crystal compound turns into a polymer (film) by the method of irradiating radiation, such as an ultraviolet-ray, and superposing|polymerizing. For example, a method in which a specific polymerizable liquid crystal compound having an acryl group is supported between supports and irradiated with radiation while maintaining the compound in a liquid crystal state to obtain a polymer (Patent Document 1), or two types of polymerizable liquid crystal compounds having an acryl group The method (patent document 2) of adding a photoinitiator to the mixture of the liquid crystal compound, or the composition which mixed the chiral liquid crystal with this mixture, and irradiating an ultraviolet-ray to obtain a polymer is known.

또, 액정 배향막을 필요로 하지 않는 중합성 액정 화합물이나 중합체를 사용한 배향 필름 (특허문헌 3, 4), 광 가교 부위를 포함하는 중합체를 사용한 배향 필름 (특허문헌 5, 6) 등, 여러 가지 단층 도포형 배향 필름이 보고되어 왔다. 그러나, 상기 필름 제조 프로세스는, 곤란하거나, 사용되는 중합체의 용매로서 NMP, 클로로포름, 클로로벤젠 등의 용해력이 우수한 용매를 사용할 필요가 있는 등, 중합체의 용해성이 낮은 등의 문제가 있으며, 이와 같은 문제를 해결하는 재료는 지금까지 발견되지 않았다.Moreover, various single-layers, such as an orientation film using the polymeric liquid crystal compound or polymer which do not require a liquid crystal aligning film (patent documents 3, 4), and the orientation film using the polymer containing a photocrosslinking site|part (patent document 5, 6), etc. A coating type oriented film has been reported. However, the film manufacturing process is difficult, or it is necessary to use a solvent having excellent dissolving power such as NMP, chloroform, chlorobenzene, etc. as a solvent for the polymer to be used, and there is a problem such as low solubility of the polymer. Materials to solve the problem have not been found so far.

일본 공개특허공보 소62-70407호Japanese Patent Laid-Open No. 62-70407 일본 공개특허공보 평9-208957호Japanese Patent Laid-Open No. 9-208957 유럽 특허출원공개 제1090325호 명세서Specification of European Patent Application Publication No. 1090325 국제 공개 제2008/031243호International Publication No. 2008/031243 일본 공개특허공보 2008-164925호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2008-164925 일본 공개특허공보 평11-189665호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 11-189665

본 발명은, 상기 문제를 감안하여 이루어진 것으로, 보다 간단한 프로세스에 의해, 위상차값이 높은 단층 위상차재 제조를 가능하게 하는 신규 중합체, 그 중합체를 포함하는 조성물, 및 그 조성물로부터 얻어지는 단층 위상차재를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above problems, and provides a novel polymer capable of producing a single-layer retardation material having a high retardation value by a simpler process, a composition containing the polymer, and a single-layer retardation material obtained from the composition aim to do

본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 거듭한 결과, 특정한 중합체 및 특정한 첨가제를 포함하는 조성물을 사용함으로써, 액정 배향막을 사용하지 않고, 높은 굴절률 이방성 (Δn) 을 갖는 단층 위상차재가 얻어지는 것, 또한, 위상차값이 높고, 탁함이 없는 단층 위상차재를 저온 조건하에서 제조 가능해지는 것을 알아내어, 본 발명을 완성하였다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of repeating earnest examination in order to solve the said subject, this inventor does not use a liquid crystal aligning film by using the composition containing a specific polymer and a specific additive, The single-layer retardation material which has high refractive index anisotropy ((DELTA)n) is obtained Moreover, it discovered that a single-layer retardation material with a high retardation value and no haze can be manufactured under low-temperature conditions, and completed this invention.

따라서, 본 발명은, 하기 중합체 조성물 및 단층 위상차재를 제공한다.Accordingly, the present invention provides the following polymer composition and a single layer retardation material.

1. (A) 하기 식 (a) 로 나타내는 광 반응성 부위를 갖는 측사슬을 갖는 측사슬형 중합체,1. (A) side chain polymer which has a side chain which has a photoreactive site|part represented by following formula (a);

(B) 실란 커플링제, 및(B) a silane coupling agent, and

(C) 유기 용매를 포함하는 중합체 조성물.(C) a polymer composition comprising an organic solvent.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pct00001
Figure pct00001

(식 중, R1 은, 탄소수 1 ∼ 30 의 알킬렌기이고, 그 알킬렌기의 1 개 또는 복수의 수소 원자가, 불소 원자 또는 유기기로 치환되어 있어도 된다. 또, R1 중의 -CH2CH2- 가, -CH=CH- 로 치환되어 있어도 되고, R1 중의 -CH2- 가, -O-, -NH-C(=O)-, -C(=O)-NH-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -NH-, -NH-C(=O)-NH- 및 -C(=O)- 로 이루어지는 군에서 선택되는 기로 치환되어 있어도 된다. 단, 인접하는 -CH2- 가 동시에 이들 기로 치환되지는 않는다. 또, -CH2- 는, R1 중의 말단의 -CH2- 여도 된다.(Wherein, R 1 is an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, and one or more hydrogen atoms in the alkylene group may be substituted with a fluorine atom or an organic group. In addition, -CH 2 CH 2 - in R 1 may be substituted with -CH=CH-, and -CH 2 - in R 1 is, -O-, -NH-C(=O)-, -C(=O)-NH-, -C(= It may be substituted with a group selected from the group consisting of O)-O-, -OC(=O)-, -NH-, -NH-C(=O)-NH-, and -C(=O)-. , -CH 2 adjacent - is is not substituted at the same time, these groups also, -CH 2 -. is, -CH 2 of the terminal of R 1 - or may be.

R2 는, 2 가의 방향족 기, 2 가의 지환족 기, 2 가의 복소 고리형 기 또는 2 가의 축합 고리형 기이다.R 2 is a divalent aromatic group, a divalent alicyclic group, a divalent heterocyclic group, or a divalent condensed cyclic group.

R3 은, 단결합, -O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)- 또는 -CH=CH-C(=O)-O- 이다.R 3 is a single bond, -O-, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, or -CH=CH-C(=O)-O-.

R 은, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 할로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 할로알콕시기, 시아노기 또는 니트로기이고, c ≥ 2 일 때, 각 R 은, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group or a nitro group, and when c ≥ 2, each R may be the same as or different from each other.

a 는, 0, 1 또는 2 이다.a is 0, 1 or 2.

b 는, 0 또는 1 이다.b is 0 or 1.

c 는, 0 ≤ c ≤ 2b + 4 를 만족하는 정수이다.c is an integer satisfying 0≤c≤2b+4.

파선은, 결합손이다.)The broken line is the bonding hand.)

2. 상기 광 반응성 부위를 갖는 측사슬이, 하기 식 (a1) 로 나타내는 것인 1 의 중합체 조성물.2. The polymer composition of 1 whose side chain which has the said photoreactive site|part is represented by following formula (a1).

[화학식 2][Formula 2]

Figure pct00002
Figure pct00002

(식 중, R1, R2 및 a 는, 상기와 동일하다.(In the formula, R 1 , R 2 and a are the same as above.

R3A 는, 단결합, -O-, -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)- 이다.R 3A is a single bond, -O-, -C(=O)-O-, or -OC(=O)-.

식 (a1) 중의 벤젠 고리는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 할로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 할로알콕시기, 시아노기 및 니트로기에서 선택되는 치환기로 치환되어 있어도 된다.The benzene ring in the formula (a1) is a substituent selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group and a nitro group. may be substituted with

파선은, 결합손이다.)The broken line is the bonding hand.)

3. (A) 측사슬형 중합체가, 추가로, 액정성만을 발현하는 측사슬을 갖는 1 또는 2 의 중합체 조성물.3. (A) The polymer composition of 1 or 2 in which a side chain type polymer has a side chain which expresses only liquid crystal further.

4. 상기 액정성만을 발현하는 측사슬이, 하기 식 (1) ∼ (13) 중 어느 것으로 나타내는 액정성 측사슬인 3 의 중합체 조성물.4. The polymer composition of 3 whose side chain which expresses only the said liquid crystal is a liquid crystalline side chain represented by any one of following formula (1) - (13).

[화학식 3][Formula 3]

Figure pct00003
Figure pct00003

[화학식 4][Formula 4]

Figure pct00004
Figure pct00004

(식 중, A1, A2 는 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH-, -NH-C(=O)-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 이다.(Wherein, A 1 , A 2 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O) -NH-, -NH-C(=O)-, -CH=CH-C(=O)-O- or -OC(=O)-CH=CH-.

R11 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬옥시기이다.R 11 is -NO 2 , -CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, and 1 to 12 carbon atoms of an alkyl group or an alkyloxy group having 1 to 12 carbon atoms.

R12 는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 및 이들을 조합하여 얻어지는 기로 이루어지는 군에서 선택되는 기이고, 이들에 결합하는 수소 원자가, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다.R 12 is a group selected from the group consisting of a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, and a group obtained by combining them; hydrogen atoms binding to these, -NO 2, -CN, an alkoxy group a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 5 carbon atoms may be substituted for.

R13 은, 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기이다.R 13 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH=C(CN) 2 , -CH=CH-CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing hetero a cyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.

E 는, -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)- 이다.E is -C(=O)-O- or -O-C(=O)-.

d 는, 1 ∼ 12 의 정수이다.d is an integer of 1-12.

k1 ∼ k5 는, 각각 독립적으로, 0 ∼ 2 의 정수이지만, k1 ∼ k5 의 합계는 2 이상이다.Although k1-k5 is each independently an integer of 0-2, the sum total of k1-k5 is 2 or more.

k6 및 k7 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 2 의 정수이지만, k6 및 k7 의 합계는 1 이상이다.Although k6 and k7 are each independently an integer of 0-2, the sum of k6 and k7 is 1 or more.

m1, m2 및 m3 은, 각각 독립적으로, 1 ∼ 3 의 정수이다.m1, m2, and m3 are each independently an integer of 1-3.

n 은, 0 또는 1 이다.n is 0 or 1.

Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로, 단결합, -C(=O)-, -CH2O-, -CH=N- 또는 -CF2- 이다.Z 1 and Z 2 are each independently a single bond, -C(=O)-, -CH 2 O-, -CH=N-, or -CF 2 -.

파선은, 결합손이다.)The broken line is the bonding hand.)

5. 상기 액정성만을 발현하는 측사슬이, 식 (1) ∼ (11) 중 어느 것으로 나타내는 액정성 측사슬인 4 의 중합체 조성물.5. The polymer composition of 4 whose side chain expressing only the said liquid crystal is a liquid crystalline side chain represented by any one of Formulas (1) - (11).

6. (I) 1 ∼ 5 중 어느 하나의 중합체 조성물을, 기판 상에 도포하여 도막을 형성하는 공정,6. (I) the step of applying the polymer composition of any one of 1 to 5 on a substrate to form a coating film;

(II) 상기 도막에, 편광된 자외선을 조사하는 공정, 및(II) a step of irradiating the coating film with polarized ultraviolet rays, and

(III) 상기 자외선을 조사한 도막을 가열하여, 위상차재를 얻는 공정을 포함하는, 단층 위상차재의 제조 방법.(III) Heating the coating film irradiated with the said ultraviolet-ray, The manufacturing method of a single-layer retardation material including the process of obtaining retardation material.

7. 1 ∼ 5 중 어느 하나의 조성물로부터 얻어지는 단층 위상차재.7. Single layer retardation material obtained from the composition in any one of 1-5.

본 발명에 의해, 박막이어도 위상차값이 높은 단층 위상차재와, 그것을 부여하는 중합체를 제공할 수 있다.ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even if it is a thin film, it can provide the single-layer retardation material with high retardation value, and the polymer which provides it.

본 발명자는, 예의 연구를 실시한 결과, 이하의 지견을 얻어 본 발명을 완성하기에 이르렀다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly researching, this inventor came to complete this invention by obtaining the following knowledge.

본 발명의 중합체 조성물은, 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 중합체 (이하, 간단히 측사슬형 중합체라고도 한다) 를 갖고 있고, 상기 중합체 조성물을 사용하여 얻어지는 도막은, 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 중합체를 갖는 막이다. 이 도막에는 러빙 처리를 실시하지 않고, 편광 조사에 의해 배향 처리를 실시한다. 그리고, 편광 조사 후, 그 측사슬형 중합체막을 가열하는 공정을 거쳐, 광학 이방성이 부여된 필름 (이하, 단층 위상차재라고도 한다) 이 된다. 이 때, 편광 조사에 의해 발현한 미소한 이방성이 드라이빙 포스가 되어, 액정성 측사슬형 중합체 자체가 자기 조직화에 의해 효율적으로 재배향된다. 그 결과, 고효율의 배향 처리가 실현되고, 높은 광학 이방성이 부여된 단층 위상차재를 얻을 수 있다.The polymer composition of the present invention has a photosensitive side chain polymer (hereinafter also simply referred to as a side chain polymer) capable of expressing liquid crystallinity, and the coating film obtained using the polymer composition is capable of expressing liquid crystallinity. It is a film having a photosensitive side chain type polymer that can be It orientation-processes by polarized light irradiation, without giving a rubbing process to this coating film. And it becomes the film (henceforth single-layer retardation material) to which optical anisotropy was provided through the process of heating the side chain type polymer film after polarized light irradiation. At this time, the minute anisotropy expressed by polarized light irradiation becomes a driving force, and liquid crystalline side chain type polymer itself is reorientated efficiently by self-organization. As a result, highly efficient orientation processing is implement|achieved, and the single-layer retardation material to which high optical anisotropy was provided can be obtained.

또, 본 발명의 중합체 조성물은, (A) 성분의 측사슬형 중합체와 함께, (B) 성분으로서 실란 커플링제를 포함한다. 이로써, 본 발명의 중합체 조성물로부터 얻어지는 위상차재는, 실란 커플링제가 성막시에 부상한다. 즉, 기판과 접하지 않는 표면에 편재하게 된다. 이로써, 표면에 있어서의 고분자의 응집이 억제되기 때문에, 얻어지는 위상차재의 평탄성이 높아진다. 이 결과, 헤이즈가 억제된다. 또한, 이들은 본 발명의 메커니즘에 관한 발명자의 견해를 포함하는 것이며, 본 발명을 구속하는 것은 아니다.Moreover, the polymer composition of this invention contains a silane coupling agent as (B) component with the side chain type polymer of (A) component. Thereby, as for the retardation material obtained from the polymer composition of this invention, a silane coupling agent floats at the time of film-forming. That is, it is unevenly distributed on the surface not in contact with the substrate. Thereby, since the aggregation of the polymer|macromolecule in the surface is suppressed, the flatness of the retardation material obtained becomes high. As a result, haze is suppressed. In addition, they include the views of the inventors regarding the mechanism of the present invention and do not limit the present invention.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail.

[중합체 조성물][Polymer composition]

본 발명의 중합체 조성물은, (A) 광 반응성 부위를 갖는 측사슬을 갖는 측사슬형 중합체, (B) 실란 커플링제, 및 (C) 유기 용매를 포함하는 것을 특징으로 한다.The polymer composition of the present invention is characterized by containing (A) a side chain polymer having a side chain having a photoreactive moiety, (B) a silane coupling agent, and (C) an organic solvent.

[(A) 측사슬형 중합체][(A) side chain polymer]

(A) 성분은, 소정의 온도 범위에서 액정성을 발현하는 감광성의 측사슬형 중합체로서, 하기 식 (a) 로 나타내는 광 반응성 부위를 갖는 측사슬 (이하, 측사슬 a 라고도 한다) 을 갖는 측사슬형 중합체이다.(A) A component is a photosensitive side chain type polymer which expresses liquid crystallinity in a predetermined|prescribed temperature range, Comprising: The side which has a side chain (henceforth a side chain a) which has a photoreactive site|part represented by following formula (a) It is a chain polymer.

[화학식 5][Formula 5]

Figure pct00005
Figure pct00005

식 (a) 중, R1 은, 탄소수 1 ∼ 30 의 알킬렌기이고, 그 알킬렌기의 1 개 또는 복수의 수소 원자가, 불소 원자 또는 유기기로 치환되어 있어도 된다. 또, R1 중의 -CH2CH2- 가, -CH=CH- 로 치환되어 있어도 되고, R1 중의 -CH2- 가, -O-, -NH-C(=O)-, -C(=O)-NH-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -NH-, -NH-C(=O)-NH- 및 -C(=O)- 로 이루어지는 군에서 선택되는 기로 치환되어 있어도 된다. 단, 인접하는 -CH2- 가 동시에 이들 기로 치환되지는 않는다. 또, -CH2- 는, R1 중의 말단의 -CH2- 여도 된다. R2 는, 2 가의 방향족 기, 2 가의 지환족 기, 2 가의 복소 고리형 기 또는 2 가의 축합 고리형 기이다. R3 은, 단결합, -O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)- 또는 -CH=CH-C(=O)-O- 이다. R 은, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 할로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 할로알콕시기, 시아노기 또는 니트로기이고, c ≥ 2 일 때, 각 R 은, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. a 는, 0, 1 또는 2 이다. b 는, 0 또는 1 이다. c 는, 0 ≤ c ≤ 2b + 4 를 만족하는 정수이다. 파선은, 결합손이다.In formula (a), R<1> is a C1-C30 alkylene group, and one or several hydrogen atom of this alkylene group may be substituted by the fluorine atom or an organic group. Further, R 1 in the -CH 2 CH 2 - is, optionally substituted with -CH = CH-, and, R 1 of the -CH 2 - is, -O-, -NH-C (= O) -, -C ( consisting of =O)-NH-, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -NH-, -NH-C(=O)-NH- and -C(=O)- You may be substituted by the group chosen from the group. However, adjacent -CH 2 - is not simultaneously substituted with these groups. Moreover, -CH 2 - may be -CH 2 - of the terminal in R 1 . R 2 is a divalent aromatic group, a divalent alicyclic group, a divalent heterocyclic group, or a divalent condensed cyclic group. R 3 is a single bond, -O-, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, or -CH=CH-C(=O)-O-. R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group or a nitro group, and when c ≥ 2, each R may be the same as or different from each other. a is 0, 1 or 2. b is 0 or 1. c is an integer satisfying 0≤c≤2b+4. The broken line is a bonding hand.

R1 로 나타내는 탄소수 1 ∼ 30 의 알킬렌기는, 직사슬형, 분기형, 고리형 중 어느 것이어도 되고, 그 구체예로는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기, 헵탄-1,7-디일기, 옥탄-1,8-디일기, 노난-1,9-디일기, 데칸-1,10-디일기 등을 들 수 있다.The alkylene group having 1 to 30 carbon atoms represented by R 1 may be linear, branched or cyclic, and specific examples thereof include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, and a butane group. -1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9- A diyl group, a decane-1, 10- diyl group, etc. are mentioned.

R2 로 나타내는 2 가의 방향족 기로는, 페닐렌기, 비페닐릴렌기 등을 들 수 있다. R2 로 나타내는 2 가의 지환족 기로는, 시클로헥산디일기 등을 들 수 있다. R2 로 나타내는 2 가의 복소 고리형 기로는, 푸란디일기 등을 들 수 있다. R2 로 나타내는 2 가의 축합 고리형 기로는, 나프틸렌기 등을 들 수 있다.A phenylene group, a biphenylrylene group, etc. are mentioned as a divalent aromatic group represented by R<2>. Examples of the divalent alicyclic group represented by R 2 include a cyclohexanediyl group. Examples of the divalent heterocyclic group represented by R 2 include a furandiyl group. Examples of the divalent condensed cyclic group represented by R 2 include a naphthylene group.

측사슬 a 로는 하기 식 (a1) 로 나타내는 것 (이하, 측사슬 a1 이라고도 한다) 이 바람직하다.As side chain a, what is represented by a following formula (a1) (it is also mentioned side chain a1 hereafter) is preferable.

[화학식 6][Formula 6]

Figure pct00006
Figure pct00006

식 (a1) 중, R1, R2 및 a 는, 상기와 동일하다. R3A 는, 단결합, -O-, -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)- 이다. 식 (a1) 중의 벤젠 고리는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 할로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 할로알콕시기, 시아노기 및 니트로기에서 선택되는 치환기로 치환되어 있어도 된다. 파선은, 결합손이다.In formula (a1), R 1 , R 2 and a are the same as above. R 3A is a single bond, -O-, -C(=O)-O-, or -OC(=O)-. The benzene ring in the formula (a1) is a substituent selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group and a nitro group. may be substituted with The broken line is a bonding hand.

측사슬 a1 로는, 예를 들어, 하기 식 (a1-1) 로 나타내는 것이 바람직하다.As side chain a1, what is represented by a following formula (a1-1) is preferable, for example.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pct00007
Figure pct00007

식 (a1-1) 중, L 은, 직사슬형 또는 분기형의 탄소수 1 ∼ 16 의 알킬렌기이다. X 는, 단결합, -O-, -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)- 이다.In formula (a1-1), L is a linear or branched C1-C16 alkylene group. X is a single bond, -O-, -C(=O)-O-, or -O-C(=O)-.

(A) 측사슬형 중합체는, 250 ∼ 400 ㎚ 의 파장 범위의 광에서 반응하고, 또한 100 ∼ 300 ℃ 의 온도 범위에서 액정성을 나타내는 것이 바람직하다. (A) 측사슬형 중합체는, 250 ∼ 400 ㎚ 의 파장 범위의 광에 반응하는 감광성 측사슬을 갖는 것이 바람직하다.(A) It is preferable that a side chain type polymer reacts with the light of a 250-400 nm wavelength range, and shows liquid crystallinity in the temperature range of 100-300 degreeC. (A) It is preferable that a side chain type polymer has a photosensitive side chain which reacts with the light of the 250-400 nm wavelength range.

(A) 측사슬형 중합체는, 주사슬에 감광성을 갖는 측사슬이 결합되어 있고, 광에 감응하여 가교 반응 또는 이성화 반응을 일으킬 수 있다. 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 중합체의 구조는, 그러한 특성을 만족하는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 측사슬 구조에 강직한 메소겐 성분을 갖는 것이 바람직하다. 상기 측사슬형 중합체를 단층 위상차재로 했을 때에, 안정적인 광학 이방성을 얻을 수 있다.(A) The side chain which has photosensitivity is couple|bonded with the principal chain, and the side chain type polymer can sensitize light and raise|generate a crosslinking reaction or isomerization reaction. Although the structure of the photosensitive side chain type polymer which can express liquid crystallinity will not be specifically limited if such a characteristic is satisfy|filled, It is preferable to have a rigid mesogenic component in a side chain structure. When the said side chain type polymer is made into a single|mono layer retardation material, stable optical anisotropy can be acquired.

액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 중합체의 구조의 보다 구체적인 예로는, (메트)아크릴레이트, 이타코네이트, 푸마레이트, 말레에이트, α-메틸렌-γ-부티로락톤, 스티렌, 비닐, 말레이미드, 노르보르넨 등의 라디칼 중합성기 및 실록산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종으로 구성된 주사슬과, 측사슬 a 를 갖는 구조인 것이 바람직하다.More specific examples of the structure of the photosensitive side chain polymer capable of expressing liquid crystallinity include (meth)acrylate, itaconate, fumarate, maleate, α-methylene-γ-butyrolactone, styrene, vinyl It is preferable that it is a structure which has the principal chain comprised by at least 1 sort(s) chosen from the group which consists of radically polymerizable groups, such as maleimide and norbornene, and siloxane, and a side chain a.

또, (A) 측사슬형 중합체는, 100 ∼ 300 ℃ 의 온도 범위에서 액정성을 나타내기 때문에, 추가로 액정성만을 발현하는 측사슬 (이하, 측사슬 b 라고도 한다) 을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 여기서「액정성만을 발현한다」란, 측사슬 b 만을 갖는 폴리머는, 본 발명의 위상차재의 제조 프로세스 (즉, 후술하는 공정 (I) ∼ (III)) 중에, 감광성을 나타내지 않고, 액정성만을 발현한다는 의미이다.Moreover, since (A) side chain type polymer shows liquid crystallinity in the temperature range of 100-300 degreeC, it is preferable to have a side chain (henceforth side chain b) which expresses only liquid crystallinity further. In addition, here, the polymer which has only side chain b with "expresses only liquid crystal property" does not show photosensitivity in the manufacturing process of the retardation material of this invention (namely, process (I)-(III) mentioned later), but only liquid crystallinity here. means to express

측사슬 b 로는, 하기 식 (1) ∼ (13) 으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 1 종의 액정성 측사슬이 바람직하다.As side chain b, any 1 type of liquid crystalline side chain chosen from the group which consists of following formula (1)-(13) is preferable.

[화학식 8][Formula 8]

Figure pct00008
Figure pct00008

[화학식 9][Formula 9]

Figure pct00009
Figure pct00009

식 (1) ∼ (13) 중, A1, A2 는 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH-, -NH-C(=O)-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 이다. R11 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬옥시기이다. R12 는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 및 이들을 조합하여 얻어지는 기로 이루어지는 군에서 선택되는 기이고, 이들에 결합하는 수소 원자가, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다. R13 은, 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기이다. E 는, -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)- 이다. d 는, 1 ∼ 12 의 정수이다. k1 ∼ k5 는, 각각 독립적으로, 0 ∼ 2 의 정수이지만, k1 ∼ k5 의 합계는 2 이상이다. k6 및 k7 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 2 의 정수이지만, k6 및 k7 의 합계는 1 이상이다. m1, m2 및 m3 은, 각각 독립적으로, 1 ∼ 3 의 정수이다. n 은, 0 또는 1 이다. Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로, 단결합, -C(=O)-, -CH2O-, -CH=N- 또는 -CF2- 이다. 파선은, 결합손이다.In formulas (1) to (13), A 1 and A 2 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O)-NH-, -NH-C(=O)-, -CH=CH-C(=O)-O- or -OC(=O)-CH=CH-. R 11 is -NO 2 , -CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, and 1 to 12 carbon atoms of an alkyl group or an alkyloxy group having 1 to 12 carbon atoms. R 12 is a group selected from the group consisting of a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, and a group obtained by combining them; hydrogen atoms binding to these, -NO 2, -CN, an alkoxy group a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 5 carbon atoms may be substituted for. R 13 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH=C(CN) 2 , -CH=CH-CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing hetero a cyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms. E is -C(=O)-O- or -OC(=O)-. d is an integer of 1-12. Although k1-k5 is each independently an integer of 0-2, the sum total of k1-k5 is 2 or more. Although k6 and k7 are each independently an integer of 0-2, the sum of k6 and k7 is 1 or more. m1, m2, and m3 are each independently an integer of 1-3. n is 0 or 1. Z 1 and Z 2 are each independently a single bond, -C(=O)-, -CH 2 O-, -CH=N-, or -CF 2 -. The broken line is a bonding hand.

이들 중, 측사슬 b 로는, 식 (1) ∼ (11) 중 어느 것으로 나타내는 것이 바람직하다.Among these, as side chain b, what is represented by any one of Formulas (1)-(11) is preferable.

(A) 성분의 측사슬형 중합체는, 식 (a) 로 나타내는 구조를 갖는 모노머, 및 원하는 바에 따라 액정성만을 발현하는 구조를 갖는 모노머를 중합시킴으로써 얻을 수 있다.(A) The side chain type polymer of a component can be obtained by superposing|polymerizing the monomer which has a structure which expresses only liquid crystallinity as needed and the monomer which has a structure shown by Formula (a).

식 (a) 로 나타내는 구조를 갖는 모노머 (이하, 모노머 M1 이라고도 한다) 로는, 하기 식 (M1) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.As a monomer (hereinafter also referred to as a monomer M1) having a structure represented by the formula (a), a compound represented by the following formula (M1) is exemplified.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pct00010
Figure pct00010

(식 중, R1, R2, R3, R, a, m 및 n 은, 상기와 동일하다)(wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R, a, m and n are the same as above)

모노머 M1 로는, 하기 식 (M1A) 로 나타내는 것이 바람직하다.As monomer M1, what is represented by a following formula (M1A) is preferable.

[화학식 11][Formula 11]

Figure pct00011
Figure pct00011

(식 중, R1, R2, R3A, R 및 a 는, 상기와 동일하다)(wherein R 1 , R 2 , R 3A , R and a are the same as above)

모노머 M1A 중, 하기 식 (M1B) 로 나타내는 것이 보다 바람직하다.Among the monomers M1A, those represented by the following formula (M1B) are more preferable.

[화학식 12][Formula 12]

Figure pct00012
Figure pct00012

(식 중, L 및 X 는, 상기와 동일하다)(wherein L and X are the same as above)

식 (M1), (M1A) 및 (M1B) 중, PL 은, 하기 식 (PL-1) ∼ (PL-5) 중 어느 것으로 나타내는 중합성기이다.In formulas (M1), (M1A), and (M1B), PL is a polymerizable group represented by any of the following formulas (PL-1) to (PL-5).

[화학식 13][Formula 13]

Figure pct00013
Figure pct00013

식 (PL-1) ∼ (PL-5) 중, Q1, Q2 및 Q3 은, 수소 원자, 직사슬형 혹은 분기형의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 또는 할로겐으로 치환된 직사슬형 혹은 분기형의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기이다. 파선은, R1 또는 L 과의 결합손이다. 이들 모노머 중, 어떤 것은 시판되고 있고, 어떤 것은 공지 물질로부터 공지된 제조 방법으로 제조할 수 있다.In formulas (PL-1) to (PL-5), Q 1 , Q 2 and Q 3 are a hydrogen atom, a linear or branched C1-C10 alkyl group, or a halogen-substituted straight-chain, or It is a branched C1-C10 alkyl group. A broken line is a bond with R 1 or L . Among these monomers, some are commercially available, and some can be prepared from known materials by known production methods.

모노머 M1 의 바람직한 예로는, 하기 식 (M1-1) ∼ (M1-5) 로 나타내는 것을 들 수 있다.Preferred examples of the monomer M1 include those represented by the following formulas (M1-1) to (M1-5).

[화학식 14][Formula 14]

Figure pct00014
Figure pct00014

(식 중, PL 은, 상기와 동일하다. p 는, 2 ∼ 9 의 정수이다.)(Wherein, PL is the same as above. p is an integer of 2 to 9.)

액정성만을 발현하는 구조를 갖는 모노머 (이하, 모노머 M2 라고도 한다) 는, 그 모노머 유래의 폴리머가 액정성을 발현하고, 그 폴리머가 측사슬 부위에 메소겐기를 형성할 수 있는 모노머를 가리킨다.The monomer (henceforth monomer M2) which has a structure which expresses only liquid crystallinity refers to the monomer which the polymer derived from the monomer expresses liquid crystallinity, and the polymer can form a mesogenic group in a side chain site|part.

측사슬이 갖는 메소겐기로는, 비페닐이나 페닐벤조에이트 등의 단독으로 메소겐 구조가 되는 기여도 되고, 벤조산 등과 같이 측사슬끼리가 수소 결합함으로써 메소겐 구조가 되는 기여도 된다. 측사슬이 갖는 메소겐기로는, 하기의 구조가 바람직하다.As a mesogenic group which a side chain has, it may contribute to become a mesogenic structure independently, such as biphenyl and phenyl benzoate, and may also contribute to become a mesogenic structure by hydrogen bonding of side chains like benzoic acid. As a mesogenic group which a side chain has, the following structure is preferable.

[화학식 15][Formula 15]

Figure pct00015
Figure pct00015

모노머 M2 의 보다 구체적인 예로는, 탄화수소, (메트)아크릴레이트, 이타코네이트, 푸마레이트, 말레에이트, α-메틸렌-γ-부티로락톤, 스티렌, 비닐, 말레이미드, 노르보르넨 등의 라디칼 중합성기 및 실록산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종에서 유래하는 중합성기와, 식 (1) ∼ (13) 의 적어도 1 종으로 이루어지는 구조를 갖는 구조인 것이 바람직하다. 특히, 모노머 M2 는, 중합성기로서 (메트)아크릴레이트를 갖는 것인 것이 바람직하고, 측사슬의 말단이 -COOH 인 것이 바람직하다.More specific examples of the monomer M2 include radical polymerization of hydrocarbon, (meth)acrylate, itaconate, fumarate, maleate, α-methylene-γ-butyrolactone, styrene, vinyl, maleimide, norbornene. It is preferable that it is a structure which has a structure which consists of a polymeric group derived from at least 1 type selected from the group which consists of a sexual group and siloxane, and at least 1 type of Formula (1)-(13). In particular, it is preferable that the monomer M2 has (meth)acrylate as a polymeric group, and it is preferable that the terminal of a side chain is -COOH.

모노머 M2 의 바람직한 예로는, 하기 식 (M2-1) ∼ (M2-11) 로 나타내는 것을 들 수 있다.Preferred examples of the monomer M2 include those represented by the following formulas (M2-1) to (M2-11).

[화학식 16][Formula 16]

Figure pct00016
Figure pct00016

[화학식 17][Formula 17]

Figure pct00017
Figure pct00017

(식 중, PL 및 p 는, 상기와 동일하다)(wherein PL and p are the same as above)

또, 광 반응성 및/또는 액정성의 발현능을 저해시키지 않는 범위에서, 그 밖의 모노머를 공중합시킬 수 있다. 그 밖의 모노머로는, 예를 들어 공업적으로 입수할 수 있는 라디칼 중합 반응 가능한 모노머를 들 수 있다. 그 밖의 모노머의 구체예로는, 불포화 카르복실산, 아크릴산에스테르 화합물, 메타크릴산에스테르 화합물, 말레이미드 화합물, 아크릴로니트릴, 말레산 무수물, 스티렌 화합물, 비닐 화합물 등을 들 수 있다.Moreover, other monomers can be copolymerized in the range which does not impair the expression ability of photoreactivity and/or liquid crystallinity. Examples of the other monomer include an industrially available monomer capable of a radical polymerization reaction. As a specific example of another monomer, an unsaturated carboxylic acid, an acrylic acid ester compound, a methacrylic acid ester compound, a maleimide compound, an acrylonitrile, maleic anhydride, a styrene compound, a vinyl compound, etc. are mentioned.

불포화 카르복실산의 구체예로는 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산 등을 들 수 있다.Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, and fumaric acid.

아크릴산에스테르 화합물로는, 예를 들어, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 나프틸아크릴레이트, 안트릴아크릴레이트, 안트릴메틸아크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸아크릴레이트, tert-부틸아크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 2-에톡시에틸아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴아크릴레이트, 3-메톡시부틸아크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸아크릴레이트, 2-프로필-2-아다만틸아크릴레이트, 8-메틸-8-트리시클로데실아크릴레이트, 8-에틸-8-트리시클로데실아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the acrylic acid ester compound include methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, benzyl acrylate, naphthyl acrylate, anthryl acrylate, anthryl methyl acrylate, phenyl acrylate, 2,2 ,2-trifluoroethyl acrylate, tert-butyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate , tetrahydrofurfuryl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-methyl-2-adamantyl acrylate, 2-propyl-2-adamantyl acrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl acrylic and 8-ethyl-8-tricyclodecyl acrylate.

메타크릴산에스테르 화합물로는, 예를 들어, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소프로필메타크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 나프틸메타크릴레이트, 안트릴메타크릴레이트, 안트릴메틸메타크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸메타크릴레이트, tert-부틸메타크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 2-에톡시에틸메타크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴메타크릴레이트, 3-메톡시부틸메타크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸메타크릴레이트, 2-프로필-2-아다만틸메타크릴레이트, 8-메틸-8-트리시클로데실메타크릴레이트, 8-에틸-8-트리시클로데실메타크릴레이트 등을 들 수 있다.As a methacrylic acid ester compound, For example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, isopropyl methacrylate, benzyl methacrylate, naphthyl methacrylate, anthryl methacrylate, anthryl methyl methacrylate rate, phenyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, Methoxytriethylene glycol methacrylate, 2-ethoxyethyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, 2-methyl-2-adamantyl methacrylate, 2- and propyl-2-adamantyl methacrylate, 8-methyl-8-tricyclodecyl methacrylate, and 8-ethyl-8-tricyclodecyl methacrylate.

비닐 화합물로는, 예를 들어, 비닐에테르, 메틸비닐에테르, 벤질비닐에테르, 2-하이드록시에틸비닐에테르, 페닐비닐에테르, 프로필비닐에테르 등을 들 수 있다. 스티렌 화합물로는, 예를 들어, 스티렌, 4-메틸스티렌, 4-클로로스티렌, 4-브로모스티렌 등을 들 수 있다. 말레이미드 화합물로는, 예를 들어, 말레이미드, N-메틸말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등을 들 수 있다.As a vinyl compound, vinyl ether, methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, propyl vinyl ether, etc. are mentioned, for example. As a styrene compound, styrene, 4-methylstyrene, 4-chlorostyrene, 4-bromostyrene etc. are mentioned, for example. As a maleimide compound, maleimide, N-methyl maleimide, N-phenyl maleimide, N-cyclohexyl maleimide, etc. are mentioned, for example.

본 발명의 측사슬형 중합체에 있어서의 측사슬 a 의 함유량은, 광 반응성의 점에서, 20 ∼ 99.9 몰% 가 바람직하고, 30 ∼ 95 몰% 가 보다 바람직하고, 40 ∼ 90 몰% 가 더욱 바람직하다.From a photoreactive point, 20-99.9 mol% is preferable, as for content of the side chain a in the side chain type polymer of this invention, 30-95 mol% is more preferable, 40-90 mol% is still more preferable. do.

본 발명의 측사슬형 중합체에 있어서의 측사슬 b 의 함유량은, 위상차값의 관점에서, 0.1 ∼ 80 몰% 가 바람직하고, 5 ∼ 70 몰% 가 보다 바람직하고, 10 ∼ 60 몰% 가 더욱 바람직하다.From a viewpoint of retardation value, 0.1-80 mol% is preferable, as for content of the side chain b in the side chain type polymer of this invention, 5-70 mol% is more preferable, 10-60 mol% is still more preferable. do.

본 발명의 측사슬형 중합체는, 상기 서술한 바와 같이, 그 밖의 측사슬을 포함하고 있어도 된다. 그 밖의 측사슬의 함유량은, 측사슬 a 및 측사슬 b 의 함유량의 합계가 100 몰% 에 미치지 못한 경우에, 그 나머지 부분이다.As above-mentioned, the side chain type polymer of this invention may contain the other side chain. Content of another side chain is the remainder, when the sum total of content of side chain a and side chain b does not reach 100 mol%.

(A) 성분의 측사슬형 중합체의 제조 방법은, 특별히 한정되는 것은 아니고, 공업적으로 취급되고 있는 범용의 방법을 이용할 수 있다. 구체적으로는, 상기 서술한 모노머 M1, 모노머 M2 및 원하는 바에 따라 그 밖의 모노머의 비닐기를 이용한 라디칼 중합, 카티온 중합 또는 아니온 중합에 의해 제조할 수 있다. 이들 중에서는, 반응 제어의 용이성 등의 관점에서 라디칼 중합이 특히 바람직하다.(A) The manufacturing method of the side chain type polymer of a component is not specifically limited, The general-purpose method handled industrially can be used. Specifically, it can manufacture by radical polymerization, cationic polymerization, or anionic polymerization using the vinyl group of the monomer M1 and the monomer M2 mentioned above, and another monomer as needed. Among these, radical polymerization is particularly preferable from the viewpoint of easiness of reaction control and the like.

라디칼 중합의 중합 개시제로는, 라디칼 중합 개시제 (라디칼 열 중합 개시제, 라디칼 광 중합 개시제) 나, 가역적 부가-개열형 연쇄 이동 (RAFT) 중합 시약 등의 공지된 화합물을 사용할 수 있다.As the polymerization initiator of the radical polymerization, a known compound such as a radical polymerization initiator (a radical thermal polymerization initiator, a radical photopolymerization initiator) and a reversible addition-cleavage type chain transfer (RAFT) polymerization reagent can be used.

라디칼 열 중합 개시제는, 분해 온도 이상으로 가열함으로써, 라디칼을 발생시키는 화합물이다. 이와 같은 라디칼 열 중합 개시제로는, 예를 들어, 케톤퍼옥사이드류 (메틸에틸케톤퍼옥사이드, 시클로헥사논퍼옥사이드 등), 디아실퍼옥사이드류 (아세틸퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드 등), 하이드로퍼옥사이드류 (과산화수소, tert-부틸하이드퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드 등), 디알킬퍼옥사이드류 (디-tert-부틸퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 디라우로일퍼옥사이드 등), 퍼옥시케탈류 (디부틸퍼옥시시클로헥산 등), 알킬퍼에스테르류 (퍼옥시네오데칸산-tert-부틸에스테르, 퍼옥시피발산-tert-부틸에스테르, 퍼옥시2-에틸시클로헥산산-tert-아밀에스테르 등), 과황산염류 (과황산칼륨, 과황산나트륨, 과황산암모늄 등), 아조계 화합물 (아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-디(2-하이드록시에틸)아조비스이소부티로니트릴 등) 등을 들 수 있다. 라디칼 열 중합 개시제는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.A radical thermal polymerization initiator is a compound which generate|occur|produces a radical by heating more than decomposition temperature. As such a radical thermal polymerization initiator, for example, ketone peroxides (methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, etc.), diacyl peroxides (acetyl peroxide, benzoyl peroxide, etc.), hydroperoxides (hydrogen peroxide, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, etc.), dialkyl peroxides (di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide, dilauroyl peroxide, etc.), peroxyketals (dibutyl peroxycyclohexane, etc.), alkyl peresters (peroxyneodecanoic acid-tert-butyl ester, peroxypivalic acid-tert-butyl ester, peroxy2-ethylcyclohexanoic acid-tert-amyl ester, etc.), and Sulfates (potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium persulfate, etc.), azo compounds (azobisisobutyronitrile, 2,2'-di(2-hydroxyethyl) azobisisobutyronitrile, etc.) can be heard A radical thermal polymerization initiator may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

라디칼 광 중합 개시제는, 라디칼 중합을 광 조사에 의해 개시하는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 이와 같은 라디칼 광 중합 개시제로는, 벤조페논, 미힐러케톤, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 크산톤, 티오크산톤, 이소프로필크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-에틸안트라퀴논, 아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸프로피오페논, 2-하이드록시-2-메틸-4'-이소프로필프로피오페논, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 이소프로필벤조인에테르, 이소부틸벤조인에테르, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 캠퍼퀴논, 벤즈안트론, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1,4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4,4'-디(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,4,4'-트리(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 2-(4'-메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(2',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(2'-메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-펜틸옥시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 4-[p-N,N-디(에톡시카르보닐메틸)]-2,6-디(트리클로로메틸)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(2'-클로로페닐)-s-트리아진, 1,3-비스(트리클로로메틸)-5-(4'-메톡시페닐)-s-트리아진, 2-(p-디메틸아미노스티릴)벤즈옥사졸, 2-(p-디메틸아미노스티릴)벤즈티아졸, 2-메르캅토벤조티아졸, 3,3'-카르보닐비스(7-디에틸아미노쿠마린), 2-(o-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 3-(2-메틸-2-디메틸아미노프로피오닐)카르바졸, 3,6-비스(2-메틸-2-모르폴리노프로피오닐)-9-n-도데실카르바졸, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 비스(5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)-페닐)티타늄, 3,3',4,4'-테트라(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3',4,4'-테트라(t-헥실퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,3'-디(메톡시카르보닐)-4,4'-디(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 3,4'-디(메톡시카르보닐)-4,3'-디(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 4,4'-디(메톡시카르보닐)-3,3'-디(t-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2-(3-메틸-3H-벤조티아졸-2-일리덴)-1-나프탈렌-2-일-에타논, 2-(3-메틸-1,3-벤조티아졸-2(3H)-일리덴)-1-(2-벤조일)에타논 등을 들 수 있다. 라디칼 광 중합 개시제는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.A radical photoinitiator will not be specifically limited if it is a compound which starts radical polymerization by light irradiation. Examples of such radical photopolymerization initiators include benzophenone, Michler's ketone, 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone, xanthone, thioxanthone, isopropylxanthone, and 2,4-diethylthiok. Santhone, 2-ethylanthraquinone, acetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, 2-hydroxy-2-methyl-4'-isopropylpropiophenone, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, Isopropyl benzoin ether, isobutyl benzoin ether, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, camphorquinone, benzanthrone, 2-methyl-1- [4- (methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1,4-dimethylaminobenzoate ethyl; 4-dimethylaminobenzoic acid isoamyl, 4,4'-di(tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,4,4'-tri(tert-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 2,4 ,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2-(4'-methoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(3',4'-dimethoxy Styryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(2',4'-dimethoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine , 2-(2'-methoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4'-pentyloxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl )-s-triazine, 4-[pN,N-di(ethoxycarbonylmethyl)]-2,6-di(trichloromethyl)-s-triazine, 1,3-bis(trichloromethyl) -5-(2'-chlorophenyl)-s-triazine, 1,3-bis(trichloromethyl)-5-(4'-methoxyphenyl)-s-triazine, 2-(p-dimethylamino Styryl)benzoxazole, 2-(p-dimethylaminostyryl)benzthiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 3,3'-carbonylbis(7-diethylaminocoumarin), 2-(o -Chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'- Tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl)-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2,4-dichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1 , 2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dibromo Phenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2,4,6-trichlorophenyl)-4,4',5, 5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 3-(2-methyl-2-dimethylaminopropionyl)carbazole, 3,6-bis(2-methyl-2-morpholinopropionyl) -9-n-dodecylcarbazole, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, bis(5-2,4-cyclopentadien-1-yl)-bis(2,6-difluoro-3-(1H) -Pyrrol-1-yl)-phenyl) titanium, 3,3',4,4'-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,3',4,4'-tetra(t-hexyl) Silperoxycarbonyl)benzophenone, 3,3'-di(methoxycarbonyl)-4,4'-di(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,4'-di(methoxycarbonyl) )-4,3'-di(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 4,4'-di(methoxycarbonyl)-3,3'-di(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone , 2-(3-methyl-3H-benzothiazol-2-ylidene)-1-naphthalen-2-yl-ethanone, 2-(3-methyl-1,3-benzothiazole-2(3H) -ylidene)-1-(2-benzoyl)ethanone etc. are mentioned. A radical photoinitiator may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types.

라디칼 중합법으로는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 유화 중합법, 현탁 중합법, 분산 중합법, 침전 중합법, 괴상 중합법, 용액 중합법 등을 사용할 수 있다.It does not specifically limit as a radical polymerization method, An emulsion polymerization method, suspension polymerization method, dispersion polymerization method, a precipitation polymerization method, a block polymerization method, a solution polymerization method, etc. can be used.

중합 반응에 사용하는 유기 용매로는, 생성된 폴리머가 용해되는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 그 구체예로는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-에틸-2-피롤리돈, N-메틸-ε-카프로락탐, 디메틸술폭시드, 테트라메틸우레아, 피리딘, 디메틸술폰, 헥사메틸술폭시드, γ-부티로락톤, 이소프로필알코올, 메톡시메틸펜탄올, 디펜텐, 에틸아밀케톤, 메틸노닐케톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸카르비톨, 에틸카르비톨, 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노아세테이트, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜-tert-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜모노아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노프로필에테르, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 디이소프로필에테르, 에틸이소부틸에테르, 디이소부틸렌, 아밀아세테이트, 부틸부티레이트, 부틸에테르, 디이소부틸케톤, 메틸시클로헥센, 프로필에테르, 디헥실에테르, 1,4-디옥산, n-헥산, n-펜탄, n-옥탄, 디에틸에테르, 시클로헥사논, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 락트산메틸, 락트산에틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산프로필렌글리콜모노에틸에테르, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, 디글라임, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 3-메톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-에톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-부톡시-N,N-디메틸프로판아미드 등을 들 수 있다.The organic solvent used for the polymerization reaction is not particularly limited as long as the produced polymer is dissolved. Specific examples thereof include N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, and N-methyl-ε-caprolactam. , dimethyl sulfoxide, tetramethyl urea, pyridine, dimethyl sulfone, hexamethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, isopropyl alcohol, methoxymethyl pentanol, dipentene, ethyl amyl ketone, methyl nonyl ketone, methyl ethyl ketone, Methyl isoamyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl carbitol, ethyl carbitol, ethylene glycol, ethylene glycol monoacetate, ethylene Glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol-tert-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monoacetate , Diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether Acetate monopropyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, tripropylene glycol methyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, diisopropyl ether, ethyl isobutyl ether, diisobutylene, amyl acetate, Butyl butyrate, butyl ether, diisobutyl ketone, methylcyclohexene, propyl ether, dihexyl ether, 1,4-dioxane, n-hexane, n-pentane, n-octane, diethyl ether, cyclohexanone, ethylene Carbonate, propylene carbonate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, n-butyl acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, 3-methoxymethyl propionate, 3-ethoxy ethyl propionate, 3 -Ethyl methoxypropionate, 3-ethoxypropionic acid, 3-methoxypropionic acid, 3-methoxypropionic acid propyl, 3-methoxybutylpropionate, diglyme, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, 3 -Methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-ethoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-part and oxy-N,N-dimethylpropanamide.

상기 유기 용매는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 또한, 생성되는 폴리머를 용해시키지 않는 용매라도, 생성된 폴리머가 석출되지 않는 범위에서, 상기 서술한 유기 용매에 혼합하여 사용해도 된다. 또, 라디칼 중합에 있어서 유기 용매 중의 산소는 중합 반응을 저해시키는 원인이 되므로, 유기 용매는 가능한 정도로 탈기된 것을 사용하는 것이 바람직하다.The said organic solvent may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types. Moreover, even if it is a solvent which does not dissolve the produced|generated polymer, you may use it, mixing with the organic solvent mentioned above in the range in which the produced|generated polymer does not precipitate. Moreover, in radical polymerization, since oxygen in the organic solvent inhibits the polymerization reaction, it is preferable to use the organic solvent degassed to the extent possible.

라디칼 중합시의 중합 온도는, 30 ∼ 150 ℃ 의 임의의 온도를 선택할 수 있지만, 바람직하게는 50 ∼ 100 ℃ 의 범위이다. 또, 반응은 임의의 농도로 실시할 수 있지만, 농도가 지나치게 낮으면 고분자량의 중합체를 얻는 것이 어려워지고, 농도가 지나치게 높으면 반응액의 점성이 지나치게 높아져 균일한 교반이 곤란해지므로, 모노머 농도는, 바람직하게는 1 ∼ 50 질량%, 보다 바람직하게는 5 ∼ 30 질량% 이다. 반응 초기는 고농도로 실시하고, 그 후, 유기 용매를 추가할 수 있다.Although the polymerization temperature at the time of radical polymerization can select the arbitrary temperature of 30-150 degreeC, Preferably it is the range of 50-100 degreeC. In addition, the reaction can be carried out at any concentration, but if the concentration is too low, it becomes difficult to obtain a high molecular weight polymer, and if the concentration is too high, the viscosity of the reaction solution becomes too high and uniform stirring becomes difficult. , Preferably it is 1-50 mass %, More preferably, it is 5-30 mass %. The reaction initial stage can be performed at high concentration, and an organic solvent can be added after that.

상기 서술한 라디칼 중합 반응에 있어서는, 라디칼 중합 개시제의 비율이 모노머에 대해 많으면 얻어지는 고분자의 분자량이 작아지고, 적으면 얻어지는 고분자의 분자량이 커지므로, 라디칼 개시제의 비율은 중합시키는 모노머에 대해 0.1 ∼ 10 몰% 인 것이 바람직하다. 또 중합시에는 각종 모노머 성분이나 용매, 개시제 등을 추가할 수도 있다.In the radical polymerization reaction described above, when the ratio of the radical polymerization initiator is large with respect to the monomer, the molecular weight of the obtained polymer becomes small, and when the ratio of the radical polymerization initiator is small, the molecular weight of the obtained polymer becomes large. It is preferable that it is mol%. In addition, at the time of polymerization, various monomer components, a solvent, an initiator, etc. can also be added.

상기 반응에 의해 얻어진 반응 용액으로부터 생성된 폴리머를 회수하려면, 반응 용액을 빈용매에 투입하여, 그들 중합체를 침전시키면 된다. 침전에 사용하는 빈용매로는, 메탄올, 아세톤, 헥산, 헵탄, 부틸셀로솔브, 헵탄, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 에탄올, 톨루엔, 벤젠, 디에틸에테르, 메틸에틸에테르, 물 등을 들 수 있다. 빈용매에 투입하여 침전시킨 중합체는, 여과시켜 회수한 후, 상압 혹은 감압하에서, 상온 혹은 가열하여 건조시킬 수 있다. 또, 회수한 중합체를 유기 용매에 재용해시키고, 재침전 회수하는 조작을 2 ∼ 10 회 반복하면, 중합체 중의 불순물을 줄일 수 있다. 이 때의 빈용매로서, 예를 들어, 알코올류, 케톤류, 탄화수소 등을 들 수 있고, 이들 중에서 선택되는 3 종 이상의 빈용매를 사용하면, 보다 한층 정제의 효율이 오르기 때문에 바람직하다.In order to recover the polymer produced|generated from the reaction solution obtained by the said reaction, what is necessary is just to pour the reaction solution into a poor solvent, and to precipitate these polymers. Examples of poor solvents used for precipitation include methanol, acetone, hexane, heptane, butyl cellosolve, heptane, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethanol, toluene, benzene, diethyl ether, methyl ethyl ether, and water. can be heard The polymer charged and precipitated in the poor solvent can be collected by filtration, and then dried under normal pressure or reduced pressure at room temperature or by heating. Moreover, when the recovered polymer is redissolved in an organic solvent and the operation of reprecipitating and recovering is repeated 2 to 10 times, impurities in the polymer can be reduced. Examples of the poor solvent at this time include alcohols, ketones, and hydrocarbons, and the use of three or more poor solvents selected from these is preferable because the purification efficiency further increases.

본 발명의 (A) 측사슬형 중합체는, 얻어지는 도막의 강도, 도막 형성시의 작업성 및 도막의 균일성을 고려하면, GPC (Gel Permeation Chromatography) 법으로 측정한 중량 평균 분자량이, 2,000 ∼ 2,000,000 인 것이 바람직하고, 2,000 ∼ 1,000,000 인 것이 보다 바람직하고, 5,000 ∼ 200,000 인 것이 보다 한층 바람직하다.When the (A) side chain type polymer of this invention considers the intensity|strength of the coating film obtained, workability|workability at the time of coating film formation, and the uniformity of a coating film, the weight average molecular weight measured by GPC (Gel Permeation Chromatography) method is 2,000-2,000,000 It is preferable that it is 2,000-1,000,000, it is more preferable, and it is still more preferable that it is 5,000-200,000.

[(B) 실란 커플링제][(B) Silane Coupling Agent]

본 발명의 중합체 조성물은, (B) 실란 커플링제를 포함한다. 상기 실란 커플링제로는, 하기 식 (B) 로 나타내는 실란 화합물이 바람직하다.The polymer composition of this invention contains (B) a silane coupling agent. As said silane coupling agent, the silane compound represented by a following formula (B) is preferable.

[화학식 18][Formula 18]

Figure pct00018
Figure pct00018

식 (B) 중, R21 은, 반응성 관능기이다. R22 는, 가수 분해성기이다. R23 은, 메틸기 또는 에틸기이다. x 는, 0 ∼ 3 의 정수이다. y 는, 1 ∼ 3 의 정수이다.In formula (B), R 21 is a reactive functional group. R 22 is a hydrolysable group. R 23 is a methyl group or an ethyl group. x is an integer of 0-3. y is an integer of 1-3.

R21 로 나타내는 반응성 관능기로는, 아미노기, 우레이드기, (메트)아크릴옥시기, 비닐기, 에폭시기, 메르캅토기 및 옥세탄 구조를 갖는 기 등을 들 수 있고, 아미노기, 우레이드기, (메트)아크릴로일옥시기 및 옥세탄 구조를 갖는 기 등이 바람직하다. 특히 바람직하게는 옥세탄 구조를 갖는 기이다.Examples of the reactive functional group represented by R 21 include an amino group, a ureide group, a (meth)acryloxy group, a vinyl group, an epoxy group, a mercapto group, and a group having an oxetane structure, and an amino group, a ureide group, ( A group having a meth)acryloyloxy group and an oxetane structure are preferable. Particularly preferably, it is a group having an oxetane structure.

R22 로 나타내는 가수 분해성기로는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 3 의 알콕시기, 탄소수 2 ∼ 4 의 알콕시알콕시기 등을 들 수 있다. 상기 할로겐 원자로는, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다. 탄소수 1 ∼ 3 의 알콕시기는, 직사슬형 또는 분기형의 것이 바람직하고, 구체적으로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기 및 이소프로폭시기이다. 또, 탄소수 2 ∼ 4 의 알콕시알콕시기로서 구체적으로는, 메톡시메톡시기, 2-메톡시에톡시기, 에톡시메톡시기 및 2-에톡시에톡시기이다.As a hydrolysable group represented by R<22> , a halogen atom, a C1-C3 alkoxy group, a C2-C4 alkoxyalkoxy group, etc. are mentioned. As said halogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc. are mentioned. The alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms is preferably a linear or branched group, and specifically, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group and an isopropoxy group. Moreover, as a C2-C4 alkoxyalkoxy group, they are a methoxymethoxy group, 2-methoxyethoxy group, an ethoxymethoxy group, and 2-ethoxyethoxy group.

(B) 실란 커플링제로서 구체적으로는, 3-아미노프로필트리클로로실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란, 3-우레이도프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, 비닐트리클로로실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 알릴트리클로로실란, 알릴트리메톡시실란, 알릴트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필메틸디메톡시실란, 3-메르캅토프로필메틸디에톡시실란, 3-(3-에틸옥세탄-3-일메틸옥시)프로필트리메톡시실란, 3-(3-에틸옥세탄-3-일메틸옥시)프로필트리에톡시실란, 3-(3-에틸옥세탄-3-일메틸옥시)프로필메틸디메톡시실란, 3-(3-에틸옥세탄-3-일메틸옥시)프로필메틸디에톡시실란 등을 들 수 있다.(B) Specific examples of the silane coupling agent include 3-aminopropyltrichlorosilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and 3-aminopropyl Methyldiethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxy Propyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrichlorosilane, allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane , 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltri Ethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldiethoxysilane, 3-(3-ethyloxetan-3-ylmethyloxy)propyltrimethoxysilane, 3-(3- Ethyloxetan-3-ylmethyloxy)propyltriethoxysilane, 3-(3-ethyloxetan-3-ylmethyloxy)propylmethyldimethoxysilane, 3-(3-ethyloxetan-3-ylmethyl oxy) propylmethyl diethoxy silane etc. are mentioned.

이들 중, 3-(3-에틸옥세탄-3-일메틸옥시)프로필트리메톡시실란, 3-(3-에틸옥세탄-3-일메틸옥시)프로필트리에톡시실란, 3-(3-에틸옥세탄-3-일메틸옥시)프로필메틸디메톡시실란, 3-(3-에틸옥세탄-3-일메틸옥시)프로필메틸디에톡시실란 등이 특히 바람직하다. 상기 실란 커플링제로는, 시판품을 사용할 수 있다.Among these, 3-(3-ethyloxetan-3-ylmethyloxy)propyltrimethoxysilane, 3-(3-ethyloxetan-3-ylmethyloxy)propyltriethoxysilane, 3-(3- Ethyloxetan-3-ylmethyloxy)propylmethyldimethoxysilane, 3-(3-ethyloxetan-3-ylmethyloxy)propylmethyldiethoxysilane, and the like are particularly preferred. A commercial item can be used as said silane coupling agent.

본 발명의 중합체 조성물 중, (B) 실란 커플링제의 함유량은, 중합체 100 질량부에 대해, 0.001 ∼ 10 질량부가 바람직하고, 0.01 ∼ 5 질량부가 보다 바람직하고, 0.05 ∼ 1 질량부가 더욱 바람직하다.In the polymer composition of this invention, 0.001-10 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of polymers (B), as for content of a silane coupling agent, 0.01-5 mass parts is more preferable, 0.05-1 mass part is still more preferable.

[(C) 유기 용매][(C) organic solvent]

(C) 성분의 유기 용매는, 중합체 성분을 용해시키는 유기 용매이면 특별히 한정되지 않는다. 그 구체예로는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-메틸-ε-카프로락탐, 2-피롤리돈, N-에틸-2-피롤리돈, N-비닐-2-피롤리돈, 디메틸술폭시드, 테트라메틸우레아, 피리딘, 디메틸술폰, 헥사메틸술폭시드, γ-부티로락톤, 3-메톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-에톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 3-부톡시-N,N-디메틸프로판아미드, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 에틸아밀케톤, 메틸노닐케톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소아밀케톤, 메틸이소프로필케톤, 시클로헥사논, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 디글라임, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜-tert-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜모노아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노프로필에테르, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 트리프로필렌글리콜메틸에테르 등을 들 수 있다. 이들은, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.(C) The organic solvent of component will not be specifically limited if it is an organic solvent in which a polymer component is dissolved. Specific examples thereof include N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methyl-ε-caprolactam, 2-pyrrolidone, N-ethyl -2-pyrrolidone, N-vinyl-2-pyrrolidone, dimethylsulfoxide, tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylsulfoxide, γ-butyrolactone, 3-methoxy-N,N- Dimethylpropanamide, 3-ethoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N,N-dimethylpropanamide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, ethylamylketone, methylnonylketone , methyl ethyl ketone, methyl isoamyl ketone, methyl isopropyl ketone, cyclohexanone, ethylene carbonate, propylene carbonate, diglyme, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, propylene glycol monoacetate, propylene glycol Monomethyl ether, propylene glycol-tert-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monoacetate, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether , dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monoacetate monopropyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, tripropylene glycol methyl ether, etc. can be heard These may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types.

[그 밖의 성분][Other Ingredients]

본 발명의 중합체 조성물은, (A) ∼ (C) 성분 이외의 성분을 포함해도 된다. 그 예로는, 중합체 조성물을 도포했을 때의 막 두께 균일성이나 표면 평활성을 향상시키는 용매나 화합물, 위상차재와 기판의 밀착성을 향상시키는 화합물 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.The polymer composition of this invention may also contain components other than (A)-(C)component. Examples include, but are not limited to, solvents and compounds that improve film thickness uniformity and surface smoothness when a polymer composition is applied, and compounds that improve adhesion between retardation materials and substrates.

막 두께의 균일성이나 표면 평활성을 향상시키는 용매 (빈용매) 의 구체예로는, 이소프로필알코올, 메톡시메틸펜탄올, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 부틸카르비톨, 에틸카르비톨, 에틸카르비톨아세테이트, 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노아세테이트, 에틸렌글리콜모노이소프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜-tert-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜모노아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노아세테이트모노프로필에테르, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 디이소프로필에테르, 에틸이소부틸에테르, 디이소부틸렌, 아밀아세테이트, 부틸부티레이트, 부틸에테르, 디이소부틸케톤, 메틸시클로헥센, 프로필에테르, 디헥실에테르, 1-헥산올, n-헥산, n-펜탄, n-옥탄, 디에틸에테르, 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산n-프로필, 락트산n-부틸, 락트산이소아밀, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산프로필렌글리콜모노에틸에테르, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, 1-메톡시-2-프로판올, 1-에톡시-2-프로판올, 1-부톡시-2-프로판올, 1-페녹시-2-프로판올, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노에틸에테르-2-아세테이트, 디프로필렌글리콜, 2-(2-에톡시프로폭시)프로판올 등의 저표면 장력을 갖는 용매 등을 들 수 있다.Specific examples of the solvent (poor solvent) for improving film thickness uniformity and surface smoothness include isopropyl alcohol, methoxymethylpentanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, and methyl cellosolve. Solve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl carbitol, ethyl carbitol, ethyl carbitol acetate, ethylene glycol, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoacetate , propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol-tert-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monoacetate, diethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monomethyl ether, dipropylene glycol Monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monoacetate monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monoacetate monopropyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, tripropylene glycol Methyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, diisopropyl ether, ethyl isobutyl ether, diisobutylene, amyl acetate, butyl butyrate, butyl ether, diisobutyl ketone, methylcyclohexene, propyl ether, di Hexyl ether, 1-hexanol, n-hexane, n-pentane, n-octane, diethyl ether, methyl lactate, ethyl lactate, n-propyl lactate, n-butyl lactate, isoamyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate , n-butyl acetate, propylene glycol monoethyl ether, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, 3-methoxymethyl propionate, 3-ethoxy ethyl propionate, 3-methoxyethyl propionate, 3-ethoxypropionic acid, 3-methoxy Propionic acid, 3-methoxypropyl propionate, 3-methoxybutyl propionate, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol, 1-butoxy-2-propanol, 1-phenoxy-2- Propanol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol diacetate, propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, propylene glycol-1-monoethyl ether-2-acetate, dipropylene glycol, 2-(2-ethoxypro Foxy) solvents with low surface tension, such as propanol, etc. can be heard

이들 빈용매는, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 상기 빈용매를 사용하는 경우, 그 함유량은, 중합체 조성물에 포함되는 용매 전체의 용해성을 현저하게 저하시키지 않도록, 용매 중 5 ∼ 80 질량% 인 것이 바람직하고, 20 ∼ 60 질량% 인 것이 보다 바람직하다.These poor solvents may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types. When using the said poor solvent, it is preferable that it is 5-80 mass % in a solvent, and, as for the content, it is more preferable that it is 20-60 mass % in a solvent so that the solubility of the whole solvent contained in a polymer composition may not be reduced remarkably. .

막 두께 균일성이나 표면 평활성을 향상시키는 화합물로는, 불소계 계면 활성제, 실리콘계 계면 활성제, 논이온계 계면 활성제 등을 들 수 있다. 이들의 구체예로는, 에프톱 (등록상표) 301, EF303, EF352 (토켐 프로덕츠사 제조), 메가팍 (등록상표) F171, F173, R-30 (DIC 사 제조), 플루오라드 FC430, FC431 (쓰리엠사 제조), 아사히가드 (등록상표) AG710 (AGC 사 제조), 서플론 (등록상표) S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106 (AGC 세이미 케미컬사 제조) 등을 들 수 있다. 이들 계면 활성제의 함유량은, (A) 성분 100 질량부에 대해, 0.01 ∼ 2 질량부가 바람직하고, 0.01 ∼ 1 질량부가 보다 바람직하다.As a compound which improves film thickness uniformity and surface smoothness, a fluorochemical surfactant, silicone type surfactant, nonionic surfactant, etc. are mentioned. Specific examples thereof include Ftop (registered trademark) 301, EF303, EF352 (manufactured by Tochem Products), Megapac (registered trademark) F171, F173, R-30 (manufactured by DIC), Fluorad FC430, FC431 ( 3M Co., Ltd.), Asahigard (registered trademark) AG710 (manufactured by AGC), Sufflon (registered trademark) S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106 (manufactured by AGC Semi Chemical), etc. can 0.01-2 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of (A) component, and, as for content of these surfactant, 0.01-1 mass part is more preferable.

또한, 기판과 위상차재의 밀착성의 향상에 더하여, 편광판을 구성했을 때의 백라이트에 의한 특성의 저하 등을 방지할 목적에서, 페노플라스트계 화합물이나 에폭시기 함유 화합물을, 중합체 조성물에 첨가해도 된다.Moreover, in addition to the improvement of the adhesiveness of a board|substrate and retardation material, in order to prevent the fall of the characteristic by the backlight when a polarizing plate is comprised, etc., you may add a phenoplast type compound and an epoxy group containing compound to a polymer composition.

페노플라스트계 첨가제의 구체예를 이하에 나타내지만, 이들에 한정되지 않는다.Although the specific example of a phenoplast type additive is shown below, it is not limited to these.

[화학식 19][Formula 19]

Figure pct00019
Figure pct00019

에폭시기 함유 화합물의 구체예로는, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 2,2-디브로모네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,3,5,6-테트라글리시딜-2,4-헥산디올, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산, N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄 등을 들 수 있다.Specific examples of the epoxy group-containing compound include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether , neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, 1,3,5 ,6-tetraglycidyl-2,4-hexanediol, N,N,N',N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis(N,N-diglycidyl) aminomethyl) cyclohexane, N,N,N',N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, etc. are mentioned.

기판과의 밀착성을 향상시키는 화합물을 사용하는 경우, 그 함유량은, 중합체 조성물에 포함되는 중합체 성분 100 질량부에 대해, 0.1 ∼ 30 질량부가 바람직하고, 1 ∼ 20 질량부가 보다 바람직하다. 함유량이 0.1 질량부 미만이면 밀착성 향상의 효과는 기대할 수 없고, 30 질량부보다 많아지면 액정의 배향성이 나빠지는 경우가 있다.When using the compound which improves adhesiveness with a board|substrate, 0.1-30 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of polymer components contained in a polymer composition, and, as for the content, 1-20 mass parts is more preferable. When content is less than 0.1 mass part, the effect of an adhesive improvement cannot be anticipated, and when it increases more than 30 mass parts, the orientation of a liquid crystal may worsen.

첨가제로서, 광 증감제를 사용할 수도 있다. 광 증감제로는, 무색 증감제 및 삼중항 증감제가 바람직하다.As an additive, a photosensitizer can also be used. As a photosensitizer, a colorless sensitizer and a triplet sensitizer are preferable.

광 증감제로는, 방향족 니트로 화합물, 쿠마린 (7-디에틸아미노-4-메틸쿠마린, 7-하이드록시4-메틸쿠마린), 케토쿠마린, 카르보닐비스쿠마린, 방향족 2-하이드록시케톤, 방향족 2-하이드록시케톤 (2-하이드록시벤조페논, 모노- 또는 디-p-(디메틸아미노)-2-하이드록시벤조페논 등), 아세토페논, 안트라퀴논, 크산톤, 티오크산톤, 벤즈안트론, 티아졸린 (2-벤조일메틸렌-3-메틸-β-나프토티아졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2-(α-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸벤조티아졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸-β-나프토티아졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-β-나프토티아졸린, 2-(p-플루오로벤조일메틸렌)-3-메틸-β-나프토티아졸린 등), 옥사졸린 (2-벤조일메틸렌-3-메틸-β-나프토옥사졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린, 2-(α-나프토일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸벤조옥사졸린, 2-(β-나프토일메틸렌)-3-메틸-β-나프토옥사졸린, 2-(4-비페노일메틸렌)-3-메틸-β-나프토옥사졸린, 2-(p-플루오로벤조일메틸렌)-3-메틸-β-나프토옥사졸린 등), 벤조티아졸, 니트로아닐린 (m- 또는 p-니트로아닐린, 2,4,6-트리니트로아닐린 등), 니트로아세나프텐 (5-니트로아세나프텐 등), 2-[(m-하이드록시-p-메톡시)스티릴]벤조티아졸, 벤조인알킬에테르, N-알킬화프탈론, 아세토페논케탈 (2,2-디메톡시페닐에타논 등), 나프탈렌 (2-나프탈렌메탄올, 2-나프탈렌카르복실산 등), 안트라센 (9-안트라센메탄올, 9-안트라센카르복실산 등), 벤조피란, 아조인돌리진, 메로쿠마린 등을 들 수 있다. 이들 중, 바람직하게는, 방향족 2-하이드록시케톤 (벤조페논), 쿠마린, 케토쿠마린, 카르보닐비스쿠마린, 아세토페논, 안트라퀴논, 크산톤, 티오크산톤 및 아세토페논케탈이다.Examples of the photosensitizer include aromatic nitro compounds, coumarin (7-diethylamino-4-methylcoumarin, 7-hydroxy4-methylcoumarin), ketocoumarin, carbonylbiscoumarin, aromatic 2-hydroxyketone, aromatic 2 -Hydroxyketone (2-hydroxybenzophenone, mono- or di-p-(dimethylamino)-2-hydroxybenzophenone, etc.), acetophenone, anthraquinone, xanthone, thioxanthone, benzanthrone, Thiazoline (2-benzoylmethylene-3-methyl-β-naphthothiazoline, 2-(β-naphthoylmethylene)-3-methylbenzothiazoline, 2-(α-naphthoylmethylene)-3-methylbenzothia Zoline, 2-(4-biphenoylmethylene)-3-methylbenzothiazoline, 2-(β-naphthoylmethylene)-3-methyl-β-naphthothiazoline, 2-(4-biphenoylmethylene)-3 -Methyl-β-naphthothiazoline, 2-(p-fluorobenzoylmethylene)-3-methyl-β-naphthothiazoline, etc.), oxazoline (2-benzoylmethylene-3-methyl-β-naphthooxazoline) , 2-(β-naphthoylmethylene)-3-methylbenzoxazoline, 2-(α-naphthoylmethylene)-3-methylbenzoxazoline, 2-(4-biphenoylmethylene)-3-methylbenzoxa Zoline, 2-(β-naphthoylmethylene)-3-methyl-β-naphthooxazoline, 2-(4-biphenoylmethylene)-3-methyl-β-naphthooxazoline, 2-(p-fluoro robenzoylmethylene)-3-methyl-β-naphthooxazoline, etc.), benzothiazole, nitroaniline (m- or p-nitroaniline, 2,4,6-trinitroaniline, etc.), nitroacenaphthene (5-nitro acenaphthene, etc.), 2-[(m-hydroxy-p-methoxy) styryl] benzothiazole, benzoin alkyl ether, N-alkylated phthalone, acetophenone ketal (2,2-dimethoxyphenyl ethanone, etc.) ), naphthalene (2-naphthalenemethanol, 2-naphthalenecarboxylic acid, etc.), anthracene (9-anthracenemethanol, 9-anthracenecarboxylic acid, etc.), benzopyran, azoindolizine, merocumarin, and the like. Of these, preferred are aromatic 2-hydroxyketone (benzophenone), coumarin, ketocoumarin, carbonylbiscoumarin, acetophenone, anthraquinone, xanthone, thioxanthone and acetophenone ketal.

본 발명의 중합체 조성물에는, 상기 서술한 것 외에, 본 발명의 효과가 저해되지 않는 범위이면, 위상차재의 유전율이나 도전성 등의 전기 특성을 변화시킬 목적에서, 유전체나 도전 물질, 나아가서는, 위상차재로 했을 때의 막의 경도나 치밀도를 높일 목적에서, 가교성 화합물을 첨가해도 된다.In the polymer composition of the present invention, as long as the effects of the present invention are not impaired in the polymer composition other than those described above, in order to change electrical properties such as dielectric constant and conductivity of the retardation material, dielectric or conductive material, furthermore, retardation material You may add a crosslinking|crosslinked compound in order to raise the hardness and density of the film|membrane at the time of doing it.

[중합체 조성물의 조제][Preparation of polymer composition]

본 발명의 중합체 조성물은, 단층 위상차재의 형성에 적합해지도록 도포액으로서 조제되는 것이 바람직하다. 즉, 본 발명에 사용되는 중합체 조성물은, (A) 성분 및 (B) 성분, 그리고 상기 서술한 막 두께 균일성이나 표면 평활성을 향상시키는 용매나 화합물, 액정 배향막과 기판의 밀착성을 향상시키는 화합물 등이 (C) 성분의 유기 용매에 용해된 용액으로서 조제되는 것이 바람직하다. 여기서, (A) 성분의 함유량은, 본 발명의 조성물 중 1 ∼ 20 질량% 가 바람직하고, 보다 바람직하게는 3 ∼ 15 질량%, 특히 바람직하게는 3 ∼ 10 질량% 이다.It is preferable that the polymer composition of this invention is prepared as a coating liquid so that it may become suitable for formation of a single layer retardation material. That is, the polymer composition used for this invention is (A) component and (B) component, and the solvent and compound which improve the above-mentioned film thickness uniformity and surface smoothness, the compound which improves the adhesiveness of a liquid crystal aligning film and a board|substrate, etc. It is preferable to prepare as a solution melt|dissolved in the organic solvent of this (C)component. Here, as for content of (A) component, 1-20 mass % is preferable in the composition of this invention, More preferably, it is 3-15 mass %, Especially preferably, it is 3-10 mass %.

본 발명의 중합체 조성물은, (A) 성분의 중합체 이외에, 액정 발현능 및 감광 성능을 저해시키지 않는 범위에서 그 밖의 중합체가 포함되어 있어도 된다. 그 때, 중합체 성분 중에 있어서의 그 밖의 중합체의 함유량은, 바람직하게는 0.5 ∼ 80 질량%, 보다 바람직하게는 1 ∼ 50 질량% 이다. 그 밖의 중합체는, 예를 들어, 폴리(메트)아크릴레이트나 폴리아믹산이나 폴리이미드 등의, 액정성을 발현할 수 있는 감광성의 측사슬형 중합체가 아닌 중합체 등을 들 수 있다.The polymer composition of this invention may contain other polymers other than the polymer of (A) component in the range which does not impair liquid-crystal expression ability and photosensitive performance. In that case, content of the other polymer in a polymer component becomes like this. Preferably it is 0.5-80 mass %, More preferably, it is 1-50 mass %. As for another polymer, the polymer etc. which are not the photosensitive side chain type polymer which can express liquid crystals, such as poly(meth)acrylate, a polyamic acid, and a polyimide, are mentioned, for example.

[단층 위상차재][Single-layer retardation material]

본 발명의 단층 위상차재는, 하기 공정 (I) ∼ (III) 을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다.The single-layer retardation material of this invention can be manufactured by the method containing the following processes (I)-(III).

(I) 본 발명의 조성물을, 기판 상에 도포하여 도막을 형성하는 공정,(I) a step of applying the composition of the present invention on a substrate to form a coating film;

(II) 상기 도막에 편광된 자외선을 조사하는 공정, 및(II) a step of irradiating polarized ultraviolet light to the coating film, and

(III) 상기 자외선을 조사한 도막을 가열하여, 위상차재를 얻는 공정.(III) The process of heating the coating film irradiated with the said ultraviolet-ray, and obtaining a phase difference material.

[공정 (I)][Process (I)]

공정 (I) 은, 본 발명의 조성물을 기판 상에 도포하여 도막을 형성하는 공정이다. 보다 구체적으로는, 본 발명의 조성물을 기판 (예를 들어, 실리콘/이산화실리콘 피복 기판, 실리콘나이트라이드 기판, 금속 (예를 들어, 알루미늄, 몰리브덴, 크롬 등) 이 피복된 기판, 유리 기판, 석영 기판, ITO 기판 등) 이나 필름 (예를 들어, 트리아세틸셀룰로오스 (TAC) 필름, 시클로올레핀 폴리머 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 아크릴 필름 등의 수지 필름) 등의 위에, 바 코트, 스핀 코트, 플로 코트, 롤 코트, 슬릿 코트, 슬릿 코트에 이어진 스핀 코트, 잉크젯법, 인쇄법 등의 방법에 의해 도포한다. 도포한 후, 핫 플레이트, 열 순환형 오븐, IR (적외선) 형 오븐 등의 가열 수단에 의해 50 ∼ 200 ℃, 바람직하게는 50 ∼ 150 ℃ 에서 용매를 증발시켜 도막을 얻을 수 있다.Process (I) is a process of apply|coating the composition of this invention on a board|substrate, and forming a coating film. More specifically, the composition of the present invention is applied to a substrate (eg, silicon/silicon dioxide-coated substrate, silicon nitride substrate, metal (eg, aluminum, molybdenum, chromium, etc.) coated substrate, glass substrate, quartz substrate, ITO substrate, etc.) or film (for example, triacetyl cellulose (TAC) film, cycloolefin polymer film, polyethylene terephthalate film, resin film such as acrylic film), bar coat, spin coat, flow coat , roll coating, slit coating, spin coating followed by slit coating, inkjet method, or printing method. After coating, the solvent is evaporated at 50 to 200°C, preferably 50 to 150°C, by a heating means such as a hot plate, heat circulation type oven, IR (infrared) type oven, and a coating film can be obtained.

[공정 (II)][Process (II)]

공정 (II) 에서는, 공정 (I) 에서 얻어진 도막에 편광된 자외선을 조사한다. 도막의 막면에 편광된 자외선을 조사하는 경우, 기판에 대해 일정한 방향으로부터 편광판을 개재하여 편광된 자외선을 조사한다. 상기 자외선으로는, 파장 100 ∼ 400 ㎚ 의 범위의 자외선을 사용할 수 있다. 바람직하게는, 사용하는 도막의 종류에 따라 필터 등을 개재하여 최적의 파장을 선택한다. 그리고, 예를 들어, 선택적으로 광 가교 반응을 유기할 수 있도록, 파장 290 ∼ 400 ㎚ 의 범위의 자외선을 선택하여 사용할 수 있다. 자외선으로는, 예를 들어, 고압 수은등으로부터 방사되는 광을 사용할 수 있다.At a process (II), the ultraviolet-ray which polarized to the coating film obtained by the process (I) is irradiated. When irradiating a polarized ultraviolet ray to the film surface of a coating film, the polarized ultraviolet ray is irradiated through a polarizing plate from a fixed direction with respect to a board|substrate. As said ultraviolet-ray, the ultraviolet-ray with a wavelength of 100-400 nm can be used. Preferably, an optimal wavelength is selected through a filter or the like according to the type of coating film to be used. And, for example, in order to selectively induce a photocrosslinking reaction, an ultraviolet ray having a wavelength of 290 to 400 nm can be selected and used. As the ultraviolet, for example, light emitted from a high-pressure mercury lamp can be used.

편광된 자외선의 조사량은, 사용하는 도막에 의존한다. 조사량은, 그 도막에 있어서의, 편광된 자외선의 편광 방향과 평행한 방향의 자외선 흡광도와 수직인 방향의 자외선 흡광도의 차인 ΔA 의 최대값을 실현하는 편광 자외선의 양의 1 ∼ 70 % 의 범위 내로 하는 것이 바람직하고, 1 ∼ 50 % 의 범위 내로 하는 것이 보다 바람직하다.The irradiation amount of the polarized ultraviolet-ray depends on the coating film to be used. The irradiation amount is within the range of 1 to 70% of the amount of polarized ultraviolet light that realizes the maximum value of ΔA, which is the difference between the ultraviolet absorbance in the direction parallel to the polarization direction of the polarized ultraviolet light and the ultraviolet absorbance in the perpendicular direction in the coating film. It is preferable to do it, and it is more preferable to set it as 1 to 50 % of range.

[공정 (III)][Process (III)]

공정 (III) 에서는, 공정 (II) 에서 편광된 자외선이 조사된 도막을 가열한다. 가열에 의해, 도막에 배향 제어능을 부여할 수 있다.In process (III), the coating film to which the ultraviolet-ray polarized in process (II) was irradiated is heated. By heating, orientation control ability can be provided to a coating film.

가열은, 핫 플레이트, 열 순환형 오븐, IR (적외선) 형 오븐 등의 가열 수단을 사용할 수 있다. 가열 온도는, 사용하는 도막의 액정성을 발현시키는 온도를 고려하여 결정할 수 있다.Heating can use heating means, such as a hotplate, a heat circulation type oven, and an IR (infrared) type|mold oven. The heating temperature can be determined in consideration of the temperature at which the liquid crystallinity of the coating film to be used is expressed.

가열 온도는, 본 발명의 조성물에 포함되는 (A) 성분의 중합체가 액정성을 발현하는 온도 (이하, 액정 발현 온도라고 한다) 의 온도 범위 내인 것이 바람직하다. 도막과 같은 박막 표면의 경우, 도막 표면의 액정 발현 온도는, (A) 성분의 중합체를 벌크로 관찰한 경우의 액정 발현 온도보다 낮을 것이 예상된다. 이 때문에, 가열 온도는, 도막 표면의 액정 발현 온도의 온도 범위 내인 것이 보다 바람직하다. 즉, 편광 자외선 조사 후의 가열 온도의 온도 범위는, (A) 성분의 중합체의 액정 발현 온도의 온도 범위의 하한보다 10 ℃ 낮은 온도를 하한으로 하고, 그 액정 온도 범위의 상한보다 10 ℃ 낮은 온도를 상한으로 하는 범위의 온도인 것이 바람직하다. 가열 온도가, 상기 온도 범위보다 낮으면, 도막에 있어서의 열에 의한 이방성의 증폭 효과가 불충분해지는 경향이 있고, 또 가열 온도가, 상기 온도 범위보다 지나치게 높으면, 도막의 상태가 등방성의 액체 상태 (등방상) 에 가까워지는 경향이 있고, 이 경우, 자체 조직화에 의해 일 방향으로 재배향되는 것이 곤란해지는 경우가 있다.It is preferable that heating temperature exists in the temperature range of the temperature at which the polymer of (A) component contained in the composition of this invention expresses liquid crystal (henceforth liquid crystal expression temperature). In the case of a thin film surface such as a coating film, the liquid crystal expression temperature of the coating film surface is expected to be lower than the liquid crystal expression temperature at the time of observing the polymer of (A) component in bulk. For this reason, as for heating temperature, it is more preferable to exist in the temperature range of the liquid-crystal expression temperature on the surface of a coating film. That is, the temperature range of the heating temperature after irradiation with polarized ultraviolet light is a temperature 10 ° C lower than the lower limit of the temperature range of the liquid crystal expression temperature of the polymer of component (A) as a lower limit, and a temperature 10 ° C lower than the upper limit of the liquid crystal temperature range. It is preferable that it is the temperature of the range made into the upper limit. When the heating temperature is lower than the above temperature range, the effect of amplifying the anisotropy by heat in the coating film tends to be insufficient, and when the heating temperature is too high than the above temperature range, the state of the coating film is in an isotropic liquid state (isotropic top), and in this case, it may be difficult to reorient in one direction due to self-organization.

또한, 액정 발현 온도는, 중합체 또는 도막 표면이 고체상에서 액정상으로 상 전이가 일어나는 액정 전이 온도 이상으로서, 액정상에서 아이소트로픽상 (등방상) 으로 상 전이를 일으키는 아이소트로픽상 전이 온도 (Tiso) 이하의 온도를 말한다. 예를 들어, 130 ℃ 이하에서 액정성을 발현한다란, 고체상에서 액정상으로 상 전이가 일어나는 액정 전이 온도가 130 ℃ 이하인 것을 의미한다.In addition, the liquid crystal expression temperature is above the liquid crystal transition temperature at which the polymer or coating film surface undergoes a phase transition from a solid phase to a liquid crystal phase, and below the isotropic phase transition temperature (Tiso) at which a phase transition occurs from a liquid crystal phase to an isotropic phase (isotropic phase). refers to the temperature of For example, to express liquid crystallinity at 130° C. or less means that the liquid crystal transition temperature at which a phase transition occurs from a solid to a liquid crystal phase is 130° C. or less.

가열 후에 형성되는 도막의 두께는, 사용하는 기판의 단차나 광학적, 전기적 성질을 고려하여 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 0.5 ∼ 3 ㎛ 가 바람직하다.The thickness of the coating film formed after heating can consider the level|step difference and optical and electrical properties of the board|substrate to be used, and can select it suitably, For example, 0.5-3 micrometers is preferable.

이와 같이 하여 얻어진 본 발명의 단층 위상차재는, 표시 장치나 기록 재료 등의 용도에 바람직한 광학 특성을 갖는 재료이고, 특히, 액정 디스플레이용의 편광판 및 위상차판 등의 광학 보상 필름으로서 바람직하다.The single-layer retardation material of the present invention thus obtained is a material having optical properties suitable for applications such as display devices and recording materials, and is particularly suitable as optical compensation films such as polarizing plates and retardation plates for liquid crystal displays.

실시예Example

이하, 합성예, 실시예 및 비교예를 들어, 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하기 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Synthesis Examples, Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

실시예에서 사용한 광 반응성기를 갖는 모노머로서 M1 을, 액정성기를 갖는 모노머로서 M2 를 이하에 나타낸다. M1 은, 국제 공개 제2011/084546호에 기재된 합성법에 따라 합성하였다. M2 는, 일본 공개특허공보 평9-118717호에 기재된 합성법에 따라 합성하였다. 또한, M1 에서 유래하는 측사슬은 광 반응성 및 액정성을 발현하고, M2 에서 유래하는 측사슬은 액정성만을 발현한다.M1 is shown as a monomer which has a photoreactive group used in the Example, and M2 is shown below as a monomer which has a liquid crystalline group. M1 was synthesized according to the synthesis method described in International Publication No. 2011/084546. M2 was synthesized according to the synthesis method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-118717. Moreover, the side chain derived from M1 expresses photoreactivity and liquid crystallinity, and the side chain derived from M2 expresses only liquid crystallinity.

[화학식 20][Formula 20]

Figure pct00020
Figure pct00020

그 밖에, 본 실시예에서 사용한 시약의 약호를 이하에 나타낸다.In addition, the abbreviation of the reagent used in this Example is shown below.

(유기 용매)(organic solvent)

THF : 테트라하이드로푸란THF: tetrahydrofuran

NMP : N-메틸-2-피롤리돈NMP: N-methyl-2-pyrrolidone

BCS : 부틸셀로솔브BCS : Butyl Cellosolve

BCA : 부틸셀로솔브아세테이트BCA: Butyl Cellosolve Acetate

PGME : 프로필렌글리콜모노메틸에테르PGME: propylene glycol monomethyl ether

(중합 개시제)(Polymerization Initiator)

AIBN : 2,2'-아조비스이소부티로니트릴AIBN: 2,2'-azobisisobutyronitrile

(첨가제)(additive)

TESOX : 3-에틸-3-[[3-(트리에톡시실릴)프로폭시]메틸]옥세탄TESOX: 3-ethyl-3-[[3-(triethoxysilyl)propoxy]methyl]oxetane

MPMS : 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란MPMS: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane

S-1 : 3-(페닐아미노)프로필트리메톡시실란S-1: 3-(phenylamino)propyltrimethoxysilane

S-2 : 3-글리시독시프로필트리에톡시실란S-2: 3-glycidoxypropyltriethoxysilane

[화학식 21][Formula 21]

Figure pct00021
Figure pct00021

[1] 메타크릴레이트 폴리머 분말 P1 의 합성[1] Synthesis of methacrylate polymer powder P1

[합성예][Synthesis Example]

M1 (13.3 g, 0.04 mol) 및 M2 (18.4 g, 0.06 mol) 를 THF (128.7 g) 중에 용해시키고, 다이어프램 펌프로 탈기를 실시한 후, AIBN (0.49 g) 을 첨가하고, 다시 탈기를 실시하였다. 이 후, 60 ℃ 에서 8 시간 반응시켜, 메타크릴레이트 폴리머 용액을 얻었다. 이 폴리머 용액을 메탄올 (1,000 ㎖) 에 적하하여, 얻어진 침전물을 여과시켰다. 이 침전물을 메탄올로 세정하고, 감압 건조시킴으로써, 메타크릴레이트 폴리머 분말 P1 을 얻었다.M1 (13.3 g, 0.04 mol) and M2 (18.4 g, 0.06 mol) were dissolved in THF (128.7 g) and degassed with a diaphragm pump, after which AIBN (0.49 g) was added and degassed again. Then, it was made to react at 60 degreeC for 8 hours, and the methacrylate polymer solution was obtained. This polymer solution was dripped at methanol (1,000 ml), and the obtained deposit was filtered. Methacrylate polymer powder P1 was obtained by wash|cleaning this deposit with methanol and drying it under reduced pressure.

[2] 폴리머 용액의 조제[2] Preparation of polymer solution

[비교예 1][Comparative Example 1]

NMP (3.25 g) 에 메타크릴레이트 폴리머 분말 P1 (1.5 g) 을 첨가하고, 실온에서 1 시간 교반하여 용해시켰다. 이 용액에, PGME (1.5 g), BCS (3.0 g) 및 BCA (0.75 g) 를 첨가하고, 교반함으로써, 폴리머 용액 CT1 를 얻었다. 이 폴리머 용액 CT1 은, 그대로 위상차막을 형성하기 위한 재료로 하였다.Methacrylate polymer powder P1 (1.5 g) was added to NMP (3.25 g), and the mixture was dissolved by stirring at room temperature for 1 hour. Polymer solution CT1 was obtained by adding and stirring PGME (1.5g), BCS (3.0g), and BCA (0.75g) to this solution. This polymer solution CT1 was used as a material for forming the retardation film as it was.

[실시예 1-1][Example 1-1]

폴리머 용액 CT1 (10.0 g) 에, 첨가제로서 TESOX (0.075 g) 를 첨가하고, 실온에서 1 시간 교반하여 용해시킴으로써, 폴리머 용액 T1 을 얻었다. 폴리머 용액 T1 은, 그대로 위상차막을 형성하기 위한 재료로 하였다.Polymer solution T1 was obtained by adding TESOX (0.075 g) as an additive to polymer solution CT1 (10.0g), and making it melt|dissolve by stirring at room temperature for 1 hour. The polymer solution T1 was used as a material for forming the retardation film as it was.

[실시예 1-2][Example 1-2]

폴리머 용액 CT1 (10.0 g) 에, 첨가제로서 MPMS (0.075 g) 를 첨가하고, 실온에서 1 시간 교반하여 용해시킴으로써, 폴리머 용액 T2 를 얻었다. 이 폴리머 용액 T2 는, 그대로 위상차막을 형성하기 위한 재료로 하였다.Polymer solution T2 was obtained by adding MPMS (0.075g) as an additive to polymer solution CT1 (10.0g), and making it melt|dissolve by stirring at room temperature for 1 hour. This polymer solution T2 was used as a material for forming the retardation film as it was.

[실시예 1-3][Example 1-3]

폴리머 용액 CT1 (10.0 g) 에, 첨가제로서 S-1 (0.075 g) 을 첨가하고, 실온에서 1 시간 교반하여 용해시킴으로써, 폴리머 용액 T3 을 얻었다. 이 폴리머 용액 T3 은, 그대로 위상차막을 형성하기 위한 재료로 하였다.Polymer solution T3 was obtained by adding S-1 (0.075g) as an additive to polymer solution CT1 (10.0g), and making it melt|dissolve by stirring at room temperature for 1 hour. This polymer solution T3 was used as a material for forming the retardation film as it was.

[실시예 1-4][Example 1-4]

폴리머 용액 CT1 (10.0 g) 에, 첨가제로서 S-2 (0.075 g) 를 첨가하고, 실온에서 1 시간 교반하여 용해시킴으로써, 폴리머 용액 T4 를 얻었다. 이 폴리머 용액 T4 는, 그대로 위상차막을 형성하기 위한 재료로 하였다.Polymer solution T4 was obtained by adding S-2 (0.075g) as an additive to polymer solution CT1 (10.0g), stirring at room temperature for 1 hour, and making it melt|dissolve. This polymer solution T4 was used as a material for forming the retardation film as it was.

[3] 폴리머 용액의 평가-1[3] Evaluation of polymer solution-1

[실시예 2, 비교예 2][Example 2, Comparative Example 2]

(1) 평가 기판의 제조(1) Preparation of evaluation substrate

폴리머 용액 T1 을 0.45 ㎛ 의 필터로 여과시킨 후, 투명 전극이 부착된 유리 기판 상에 스핀 코트하고, 70 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 90 초간 건조시켜, 막 두께 1.5 ∼ 5.0 ㎛ 의 위상차막을 형성하였다. 이어서, 도막면에 편광판을 개재하여 313 ㎚ 의 자외선을 10 mJ/㎠ 조사한 후, 150 ℃ 의 핫 플레이트에서 20 분간 가열하여, 위상차막이 부착된 기판 T1-1 ∼ T1-5 를 얻었다. 마찬가지로, 폴리머 용액 CT1 을 사용하여, 위상차막이 부착된 기판 CT1-1 ∼ CT1-5 를 제조하였다. 얻어진 기판의 막 두께를 표 1 에 나타낸다.After filtering polymer solution T1 with a 0.45 micrometer filter, it spin-coated on the glass substrate with a transparent electrode, and it dried for 90 second on a 70 degreeC hotplate, and formed the retardation film with a film thickness of 1.5-5.0 micrometers. Then, after irradiating 10 mJ/cm<2> of 313 nm ultraviolet-ray to the coating film surface through a polarizing plate, it heated for 20 minutes on a 150 degreeC hotplate, and obtained the board|substrates T1-1 - T1-5 with retardation film. Similarly, using the polymer solution CT1, substrates CT1-1 to CT1-5 with a retardation film were manufactured. Table 1 shows the film thickness of the obtained substrate.

(2) 위상차 평가(2) Phase difference evaluation

Axometrics 사 제조의 AxoScan 을 사용하여, 기판 T1-1 ∼ T1-5 및 기판 CT1-1 ∼ CT1-5 의 550 ㎚ 에 있어서의 위상차값을 평가하였다. 그 결과를 표 1 에 나타낸다.The phase difference value in 550 nm of board|substrates T1-1 - T1-5 and board|substrate CT1-1 - CT1-5 was evaluated using AxoScan by Axometrics. The results are shown in Table 1.

(3) HAZE 평가(3) HAZE evaluation

스가 시험기사 제조의 HAZE Meter HZ-V3 을 사용하여, 기판 T1-1 ∼ T1-5 및 기판 CT1-1 ∼ CT1-5 의 550 ㎚ 에 있어서의 위상차값을 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The retardation value in 550 nm of board|substrates T1-1 - T1-5 and board|substrate CT1-1 - CT1-5 was evaluated using the HAZE Meter HZ-V3 by Suga Test Instruments. A result is shown in Table 1.

Figure pct00022
Figure pct00022

표 1 에 나타낸 바와 같이, 실시예 2 와 비교예 2 의 대비로부터, 폴리메타크릴레이트만을 포함하는 용액에서는 후막화에 의한 HAZE 값의 상승 (백화) 에 의한 위상차값의 저하가 발생하는 반면, (B) 성분의 실란 커플링제를 도입함으로써 HAZE 값의 상승 (백화) 을 대폭 억제하여, 높은 위상차값을 유지하고 있는 결과가 얻어졌다.As shown in Table 1, from the comparison between Example 2 and Comparative Example 2, in the solution containing only polymethacrylate, the HAZE value increased due to thickening (whitening), while the retardation value decreased ( By introducing the silane coupling agent of B) component, the increase (whitening) of HAZE value was suppressed significantly, and the result of maintaining a high phase difference value was obtained.

[4] 폴리머 용액의 평가-2[4] Evaluation of polymer solution-2

[실시예 3-1 ∼ 3-4, 비교예 3][Examples 3-1 to 3-4, Comparative Example 3]

폴리머 용액 T1 ∼ T4 및 CT1 을 각각 0.45 ㎛ 의 필터로 여과시킨 후, 투명 전극이 부착된 유리 기판 상에 스핀 코트하고, 70 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 90 초간 건조시켜, 막 두께 2.5 ㎛ 의 위상차막을 형성하였다. 이어서, 도막면에 편광판을 개재하여 313 ㎚ 의 자외선을 10 mJ/㎠ 조사한 후, 150 ℃ 의 핫 플레이트에서 20 분간 가열하여, 위상차막이 부착된 기판 T1 ∼ T4 및 CT1 을 얻었다.After each of the polymer solutions T1 to T4 and CT1 were filtered with a filter of 0.45 µm, spin-coated on a glass substrate with a transparent electrode, and dried on a hot plate at 70 °C for 90 seconds to form a retardation film with a thickness of 2.5 µm did Subsequently, the coating film surface was irradiated with 313 nm ultraviolet rays at 10 mJ/cm 2 through a polarizing plate, and then heated on a hot plate at 150° C. for 20 minutes to obtain substrates T1 to T4 and CT1 with a retardation film.

실시예 1 과 동일한 방법으로, 얻어진 기판의 위상차 평가 및 HAZE 평가를 실시하였다. 결과를 표 2 에 나타낸다.By the method similar to Example 1, retardation evaluation and HAZE evaluation of the obtained board|substrate were implemented. A result is shown in Table 2.

Figure pct00023
Figure pct00023

표 2 에 나타낸 바와 같이, 실시예 3-1 ∼ 3-4 과 비교예 3 의 대비로부터, 폴리메타크릴레이트 용액 단독에서는 HAZE 값 (백화) 이 높고, 위상차값이 낮은 반면, 어느 첨가제에 있어서도 도입함으로써 HAZE 값이 낮게 억제됨과 함께, 높은 위상차값을 나타내는 결과가 얻어졌다.As shown in Table 2, from the comparison between Examples 3-1 to 3-4 and Comparative Example 3, the polymethacrylate solution alone had a high HAZE value (whitening) and a low retardation value, but was introduced in any additive. By doing this, while the HAZE value was suppressed low, the result showing a high phase difference value was obtained.

Claims (7)

(A) 하기 식 (a) 로 나타내는 광 반응성 부위를 갖는 측사슬을 갖는 측사슬형 중합체,
(B) 실란 커플링제, 및
(C) 유기 용매를 포함하는, 중합체 조성물.
Figure pct00024

(식 중, R1 은, 탄소수 1 ∼ 30 의 알킬렌기이고, 그 알킬렌기의 1 개 또는 복수의 수소 원자가, 불소 원자 또는 유기기로 치환되어 있어도 된다. 또, R1 중의 -CH2CH2- 가, -CH=CH- 로 치환되어 있어도 되고, R1 중의 -CH2- 가, -O-, -NH-C(=O)-, -C(=O)-NH-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -NH-, -NH-C(=O)-NH- 및 -C(=O)- 로 이루어지는 군에서 선택되는 기로 치환되어 있어도 된다. 단, 인접하는 -CH2- 가 동시에 이들 기로 치환되지는 않는다. 또, -CH2- 는, R1 중의 말단의 -CH2- 여도 된다.
R2 는, 2 가의 방향족 기, 2 가의 지환족 기, 2 가의 복소 고리형 기 또는 2 가의 축합 고리형 기이다.
R3 은, 단결합, -O-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)- 또는 -CH=CH-C(=O)-O- 이다.
R 은, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 할로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 할로알콕시기, 시아노기 또는 니트로기이고, c ≥ 2 일 때, 각 R 은, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.
a 는, 0, 1 또는 2 이다.
b 는, 0 또는 1 이다.
c 는, 0 ≤ c ≤ 2b + 4 를 만족하는 정수이다.
파선은, 결합손이다.)
(A) side chain type polymer which has a side chain which has a photoreactive site|part represented by following formula (a);
(B) a silane coupling agent, and
(C) a polymer composition comprising an organic solvent.
Figure pct00024

(Wherein, R 1 is an alkylene group having 1 to 30 carbon atoms, and one or more hydrogen atoms in the alkylene group may be substituted with a fluorine atom or an organic group. In addition, -CH 2 CH 2 - in R 1 may be substituted with -CH=CH-, and -CH 2 - in R 1 is, -O-, -NH-C(=O)-, -C(=O)-NH-, -C(= It may be substituted with a group selected from the group consisting of O)-O-, -OC(=O)-, -NH-, -NH-C(=O)-NH-, and -C(=O)-. , -CH 2 adjacent - is is not substituted at the same time, these groups also, -CH 2 -. is, -CH 2 of the terminal of R 1 - or may be.
R 2 is a divalent aromatic group, a divalent alicyclic group, a divalent heterocyclic group, or a divalent condensed cyclic group.
R 3 is a single bond, -O-, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, or -CH=CH-C(=O)-O-.
R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group or a nitro group, and when c ≥ 2, each R may be the same as or different from each other.
a is 0, 1 or 2.
b is 0 or 1.
c is an integer satisfying 0≤c≤2b+4.
The broken line is the bonding hand.)
제 1 항에 있어서,
상기 광 반응성 부위를 갖는 측사슬이, 하기 식 (a1) 로 나타내는 것인, 중합체 조성물.
Figure pct00025

(식 중, R1, R2 및 a 는, 상기와 동일하다.
R3A 는, 단결합, -O-, -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)- 이다.
식 (a1) 중의 벤젠 고리는, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 할로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 할로알콕시기, 시아노기 및 니트로기에서 선택되는 치환기로 치환되어 있어도 된다.
파선은, 결합손이다.)
The method of claim 1,
The polymer composition in which the side chain which has the said photoreactive site|part is represented by following formula (a1).
Figure pct00025

(In the formula, R 1 , R 2 and a are the same as above.
R 3A is a single bond, -O-, -C(=O)-O-, or -OC(=O)-.
The benzene ring in the formula (a1) is a substituent selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a haloalkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group and a nitro group. may be substituted with
The broken line is the bonding hand.)
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
(A) 측사슬형 중합체가, 추가로, 액정성만을 발현하는 측사슬을 갖는, 중합체 조성물.
3. The method according to claim 1 or 2,
(A) The polymer composition in which a side chain type polymer has a side chain which expresses only liquid crystal further.
제 3 항에 있어서,
상기 액정성만을 발현하는 측사슬이, 하기 식 (1) ∼ (13) 중 어느 것으로 나타내는 액정성 측사슬인, 중합체 조성물.
Figure pct00026

Figure pct00027

(식 중, A1, A2 는 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -C(=O)-NH-, -NH-C(=O)-, -CH=CH-C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)-CH=CH- 이다.
R11 은, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬옥시기이다.
R12 는, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 및 이들을 조합하여 얻어지는 기로 이루어지는 군에서 선택되는 기이고, 이들에 결합하는 수소 원자가, -NO2, -CN, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알콕시기로 치환되어도 된다.
R13 은, 수소 원자, -NO2, -CN, -CH=C(CN)2, -CH=CH-CN, 할로겐 원자, 페닐기, 나프틸기, 비페닐릴기, 푸라닐기, 1 가 질소 함유 복소 고리기, 탄소수 5 ∼ 8 의 1 가 지환식 탄화수소기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기이다.
E 는, -C(=O)-O- 또는 -O-C(=O)- 이다.
d 는, 1 ∼ 12 의 정수이다.
k1 ∼ k5 는, 각각 독립적으로, 0 ∼ 2 의 정수이지만, k1 ∼ k5 의 합계는 2 이상이다.
k6 및 k7 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 2 의 정수이지만, k6 및 k7 의 합계는 1 이상이다.
m1, m2 및 m3 은, 각각 독립적으로, 1 ∼ 3 의 정수이다.
n 은, 0 또는 1 이다.
Z1 및 Z2 는, 각각 독립적으로, 단결합, -C(=O)-, -CH2O-, -CH=N- 또는 -CF2- 이다.
파선은, 결합손이다.)
4. The method of claim 3,
The polymer composition whose side chain which expresses only the said liquid crystal is a liquid crystalline side chain represented by any one of following formula (1) - (13).
Figure pct00026

Figure pct00027

(wherein, A 1 , A 2 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(=O)-O-, -OC(=O)-, -C(=O) -NH-, -NH-C(=O)-, -CH=CH-C(=O)-O- or -OC(=O)-CH=CH-.
R 11 is -NO 2 , -CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, and 1 to 12 carbon atoms of an alkyl group or an alkyloxy group having 1 to 12 carbon atoms.
R 12 is a group selected from the group consisting of a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, and a group obtained by combining them; hydrogen atoms binding to these, -NO 2, -CN, an alkoxy group a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or 1 to 5 carbon atoms may be substituted for.
R 13 is a hydrogen atom, -NO 2 , -CN, -CH=C(CN) 2 , -CH=CH-CN, a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing hetero a cyclic group, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
E is -C(=O)-O- or -OC(=O)-.
d is an integer of 1-12.
Although k1-k5 is each independently an integer of 0-2, the sum total of k1-k5 is 2 or more.
Although k6 and k7 are each independently an integer of 0-2, the sum of k6 and k7 is 1 or more.
m1, m2, and m3 are each independently an integer of 1-3.
n is 0 or 1.
Z 1 and Z 2 are each independently a single bond, -C(=O)-, -CH 2 O-, -CH=N-, or -CF 2 -.
The broken line is the joining hand.)
제 4 항에 있어서,
상기 액정성만을 발현하는 측사슬이, 식 (1) ∼ (11) 중 어느 것으로 나타내는 액정성 측사슬인, 중합체 조성물.
5. The method of claim 4,
The polymer composition whose side chain which expresses only the said liquid crystal is a liquid crystalline side chain represented by any one of Formula (1)-(11).
(I) 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 중합체 조성물을, 기판 상에 도포하여 도막을 형성하는 공정,
(II) 상기 도막에, 편광된 자외선을 조사하는 공정, 및
(III) 상기 자외선을 조사한 도막을 가열하여, 위상차재를 얻는 공정을 포함하는, 단층 위상차재의 제조 방법.
(I) the step of applying the polymer composition according to any one of claims 1 to 5 on a substrate to form a coating film;
(II) a step of irradiating the coating film with polarized ultraviolet rays, and
(III) Heating the coating film irradiated with the said ultraviolet-ray, The manufacturing method of a single-layer retardation material including the process of obtaining retardation material.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 조성물로부터 얻어지는 단층 위상차재.The single-layer retardation material obtained from the composition in any one of Claims 1-5.
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