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KR20220091376A - Display apparatus - Google Patents

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KR20220091376A
KR20220091376A KR1020210172767A KR20210172767A KR20220091376A KR 20220091376 A KR20220091376 A KR 20220091376A KR 1020210172767 A KR1020210172767 A KR 1020210172767A KR 20210172767 A KR20210172767 A KR 20210172767A KR 20220091376 A KR20220091376 A KR 20220091376A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
sub
pixel
metal pattern
anode
disposed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
KR1020210172767A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
정연제
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 복수의 서브 화소가 정의된 기판, 기판 상에 배치된 제1 절연층, 제1 절연층 상에 배치되고, 직류 전압이 인가되는 적어도 하나의 금속 패턴, 금속 패턴 상에 배치된 제2 절연층, 및 제2 절연층 상에서 금속 패턴과 중첩하도록 배치되고, 애노드, 유기층 및 캐소드를 포함하는 복수의 발광 소자를 포함한다. 따라서, 금속 패턴에 의해 복수의 서브 화소에 배치된 발광 소자의 커패시턴스 편차를 줄여 저계조에서 컬러 시프트에 의한 현상을 개선할 수 있다.A display device according to an exemplary embodiment includes a substrate on which a plurality of sub-pixels are defined, a first insulating layer disposed on the substrate, and at least one metal pattern disposed on the first insulating layer and to which a DC voltage is applied. , a second insulating layer disposed on the metal pattern, and a plurality of light emitting devices disposed to overlap the metal pattern on the second insulating layer and including an anode, an organic layer, and a cathode. Accordingly, by reducing the capacitance variation of the light emitting devices disposed in the plurality of sub-pixels by the metal pattern, it is possible to improve the phenomenon caused by the color shift in the low grayscale.

Figure P1020210172767
Figure P1020210172767

Description

표시 장치{DISPLAY APPARATUS}display device {DISPLAY APPARATUS}

본 발명은 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 저계조에서 컬러 시프트 및 색 시야각을 개선할 수 있는 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device capable of improving a color shift and a color viewing angle in a low grayscale.

유기 발광 표시 장치는 자체 발광형 표시 장치로서, 전자(electron) 주입을 위한 전극(cathode)과 정공(hole) 주입을 위한 전극(anode)으로부터 각각 전자와 정공을 발광층 내부로 주입시켜, 주입된 전자와 정공이 결합한 엑시톤(exciton)이 여기 상태로부터 기저 상태로 떨어질 때 발광하는 유기 발광 소자를 이용한 표시 장 치이다. 유기 발광 표시 장치는 빛이 방출되는 방향에 따라서 상부 발광(Top Emission) 방식, 하부 발광(Bottom Emission) 방식 및 양면 발광(Dual Emission) 방식 등이 있고, 구동 방식에 따라서는 수동 매트릭스형(Passive Matrix)과 능동 매트릭스형(Active Matrix) 등으로 나누어진다.The organic light emitting display device is a self-emission type display device, and injects electrons and holes from an electrode for electron injection and an anode for hole injection, respectively, into an emission layer, and the injected electrons It is a display device using an organic light emitting device that emits light when excitons, which are combined with holes and excitons, fall from an excited state to a ground state. The organic light emitting diode display includes a top emission method, a bottom emission method, a dual emission method, etc. depending on a direction in which light is emitted, and a passive matrix type according to a driving method. ) and active matrix type.

유기 발광 표시 장치는 액정 표시 장치(LCD)와는 달리 별도의 광원이 필요하지 않아 경량 박형으로 제조 가능하 다. 또한, 유기 발광 표시 장치는 저전압 구동에 의해 소비 전력 측면에서 유리할 뿐만 아니라, 색상 구현, 응답 속도, 시야각, 명암비(contrast ratio: CR)도 우수하여, 차세대 디스플레이로서 연구되고 있다.Unlike a liquid crystal display (LCD), an organic light emitting display device does not require a separate light source, so it can be manufactured in a lightweight and thin form. In addition, the organic light emitting diode display is being researched as a next-generation display because it is advantageous in terms of power consumption due to low voltage driving and excellent color realization, response speed, viewing angle, and contrast ratio (CR).

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 저계조에서 컬러 시프트를 최소화할 수 있는 표시 장치를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a display device capable of minimizing color shift in a low grayscale.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 광 추출 효율이 개선된 표시 장치를 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a display device having improved light extraction efficiency.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 복수의 서브 화소가 정의된 기판, 기판 상에 배치된 제1 절연층, 제1 절연층 상에 배치되고, 직류 전압이 인가되는 적어도 하나의 금속 패턴, 금속 패턴 상에 배치된 제2 절연층, 및 제2 절연층 상에서 금속 패턴과 중첩하도록 배치되고, 애노드, 유기층 및 캐소드를 포함하는 복수의 발광 소자를 포함한다. 이에 따라, 저계조 구동 시 컬러 시프트를 최소화하고, 색 시야각을 개선할 수 있다. A display device according to an exemplary embodiment includes a substrate on which a plurality of sub-pixels are defined, a first insulating layer disposed on the substrate, and at least one metal pattern disposed on the first insulating layer and to which a DC voltage is applied. , a second insulating layer disposed on the metal pattern, and a plurality of light emitting devices disposed to overlap the metal pattern on the second insulating layer and including an anode, an organic layer, and a cathode. Accordingly, it is possible to minimize color shift and improve a color viewing angle during low grayscale driving.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명은 금속 패턴을 통해 발광 소자의 커패시턴스 편차를 최소화할 수 있다. According to the present invention, the capacitance deviation of the light emitting device can be minimized through the metal pattern.

본 발명은 저계조의 영상을 표시할 때, 컬러 시프트를 저감시켜 색 시야각을 향상시킬 수 있다. The present invention can improve a color viewing angle by reducing a color shift when a low grayscale image is displayed.

본 발명은 발광 소자의 마이크로 렌즈 어레이 구조를 통해 광 추출 효율을 향상시킬 수 있다. The present invention can improve light extraction efficiency through a microlens array structure of a light emitting device.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 발명 내에 포함되어 있다.The effect according to the present invention is not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 확대 평면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 발광 소자의 구조를 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 3은 도 1의 III-III'에 따른 개략적인 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 확대 평면도이다.
도 5는 도 4의 V-V'에 따른 단면도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 확대 평면도이다.
도 7은 도 6의 VII-VII'에 따른 단면도이다.
도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
1 is an enlarged plan view of a display device according to an exemplary embodiment.
2 is a cross-sectional view schematically illustrating a structure of a light emitting device of a display device according to an exemplary embodiment.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along line III-III' of FIG. 1 .
4 is an enlarged plan view of a display device according to another exemplary embodiment.
FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line V-V' of FIG. 4 .
6 is an enlarged plan view of a display device according to another exemplary embodiment.
7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII' of FIG. 6 .
8 is a schematic cross-sectional view of a display device according to another exemplary embodiment.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고, 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 제한되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형상으로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention, and a method of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in a variety of different shapes, only these embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention pertains It is provided to fully inform those who have the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 면적, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 제한되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 발명 상에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.The shapes, areas, ratios, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining the embodiments of the present invention are illustrative and the present invention is not limited to the illustrated matters. Like reference numerals refer to like elements throughout. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. When 'includes', 'have', 'consists of', etc. mentioned in the present invention are used, other parts may be added unless 'only' is used. When a component is expressed in the singular, the case in which the plural is included is included unless otherwise explicitly stated.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다. In interpreting the components, it is construed as including an error range even if there is no separate explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, when the positional relationship of two parts is described as 'on', 'on', 'on', 'beside', etc., 'right' Alternatively, one or more other parts may be positioned between two parts unless 'directly' is used.

소자 또는 층이 다른 소자 또는 층 "위 (on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다.Reference to a device or layer “on” another device or layer includes any intervening layer or other device directly on or in the middle of the other device or layer.

또한 제1, 제2 등이 다양한 구성 요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성 요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성 요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성 요소일 수도 있다.Also, although the first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the spirit of the present invention.

명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Like reference numerals refer to like elements throughout.

도면에서 나타난 각 구성의 면적 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 면적 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다.The area and thickness of each component shown in the drawings are illustrated for convenience of description, and the present invention is not necessarily limited to the area and thickness of the illustrated component.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.Each feature of the various embodiments of the present invention can be partially or wholly combined or combined with each other, technically various interlocking and driving are possible, and each of the embodiments may be independently implemented with respect to each other or implemented together in a related relationship. may be

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예들을 상세히 설명한다. Hereinafter, various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 확대 평면도이다. 도 1에서는 설명의 편의를 위해 복수의 서브 화소(SP)에 배치된 구성 중 애노드(140) 및 금속 패턴(130)만을 도시하였다. 1 is an enlarged plan view of a display device according to an exemplary embodiment. In FIG. 1 , only the anode 140 and the metal pattern 130 are illustrated among the configurations disposed in the plurality of sub-pixels SP for convenience of explanation.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)는 표시 영역 및 비표시 영역을 포함한다. 표시 영역은 복수의 화소가 배치되어 실질적으로 영상이 표시되는 영역이다. 표시 영역에는 영상을 표시하기 위한 발광 영역을 포함하는 화소 및 화소를 구동하기 위한 구동 회로가 배치될 수 있다. 비표시 영역은 표시 영역을 둘러싼다. 비표시 영역은 실질적으로 영상이 표시되지 않는 영역으로 표시 영역에 배치되는 화소 및 구동 회로를 구동하기 위한 다양한 배선, 구동 IC, 인쇄 회로 기판 등이 배치된다. 예를 들어, 비표시 영역에는 게이트 드라이버 IC, 데이터 드라이버 IC와 같은 다양한 IC, 배선 등이 배치될 수 있다. The display device 100 according to an exemplary embodiment includes a display area and a non-display area. The display area is an area in which a plurality of pixels are arranged to substantially display an image. A pixel including a light emitting area for displaying an image and a driving circuit for driving the pixel may be disposed in the display area. The non-display area surrounds the display area. The non-display area is an area in which an image is not substantially displayed, and various wirings, driving ICs, printed circuit boards, etc. for driving pixels and driving circuits disposed in the display area are disposed. For example, various ICs, such as a gate driver IC and a data driver IC, and wiring may be disposed in the non-display area.

복수의 화소는 매트릭스 형상으로 배열되고, 복수의 화소 각각은 복수의 서브 화소(SP)를 포함한다. 복수의 서브 화소(SP)는 빛을 발광하는 개별 단위로, 복수의 서브 화소(SP) 각각에는 발광 소자가 배치된다. 복수의 서브 화소(SP)는 서로 다른 색상의 광을 발광하는 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3)를 포함한다. 예를 들어, 제1 서브 화소(SP1)는 청색 서브 화소이고, 제2 서브 화소(SP2)는 녹색 서브 화소이며, 제3 서브 화소(SP3)는 적색 서브 화소일 수 있다. The plurality of pixels are arranged in a matrix shape, and each of the plurality of pixels includes a plurality of sub-pixels SP. The plurality of sub-pixels SP are individual units that emit light, and a light emitting device is disposed in each of the plurality of sub-pixels SP. The plurality of sub-pixels SP includes a first sub-pixel SP1 , a second sub-pixel SP2 , and a third sub-pixel SP3 that emit light of different colors. For example, the first sub-pixel SP1 may be a blue sub-pixel, the second sub-pixel SP2 may be a green sub-pixel, and the third sub-pixel SP3 may be a red sub-pixel.

복수의 제1 서브 화소(SP1)와 복수의 제3 서브 화소(SP3)는 동일한 열 또는 동일한 행에서 교대로 배치될 수 있다. 예를 들어, 동일한 열에서 제1 서브 화소(SP1)와 제3 서브 화소(SP3)는 교대로 배치되고, 동일한 행에서 제1 서브 화소(SP1)와 제3 서브 화소(SP3)는 교대로 배치될 수 있다. The plurality of first sub-pixels SP1 and the plurality of third sub-pixels SP3 may be alternately disposed in the same column or in the same row. For example, the first sub-pixel SP1 and the third sub-pixel SP3 are alternately arranged in the same column, and the first sub-pixel SP1 and the third sub-pixel SP3 are alternately arranged in the same row can be

복수의 제2 서브 화소(SP2)는 복수의 제1 서브 화소(SP1) 및 복수의 제3 서브 화소(SP3)와 서로 다른 열 및 서로 다른 행에 배치된다. 예를 들어, 하나의 행에 복수의 제2 서브 화소(SP2)가 배치되고, 하나의 행에 이웃한 행에 복수의 제1 서브 화소(SP1)와 복수의 제3 서브 화소(SP3)가 교대로 배치될 수 있다. 하나의 열에 복수의 제2 서브 화소(SP2)가 배치되고, 하나의 열에 이웃한 열에 복수의 제1 서브 화소(SP1)와 복수의 제3 서브 화소(SP3)가 교대로 배치될 수 있다. 복수의 제1 서브 화소(SP1)와 제2 서브 화소(SP2)는 대각선 방향으로 마주하고, 복수의 제3 서브 화소(SP3)와 제2 서브 화소(SP2) 또한 대각선 방향으로 마주할 수 있다. 따라서, 복수의 서브 화소(SP)는 격자 형상으로 배치될 수 있다. The plurality of second sub-pixels SP2 are disposed in different columns and different rows from the plurality of first sub-pixels SP1 and the plurality of third sub-pixels SP3 . For example, a plurality of second sub-pixels SP2 are arranged in one row, and a plurality of first sub-pixels SP1 and a plurality of third sub-pixels SP3 are alternately arranged in a row adjacent to one row. can be placed as A plurality of second sub-pixels SP2 may be disposed in one column, and a plurality of first sub-pixels SP1 and a plurality of third sub-pixels SP3 may be alternately disposed in a column adjacent to one column. The plurality of first sub-pixels SP1 and the second sub-pixels SP2 may face each other in a diagonal direction, and the plurality of third sub-pixels SP3 and the second sub-pixels SP2 may also face each other in a diagonal direction. Accordingly, the plurality of sub-pixels SP may be arranged in a grid shape.

다만, 도 1에서는 복수의 제1 서브 화소(SP1) 및 복수의 제3 서브 화소(SP3)가 동일 열 및 동일 행에 배치되고, 복수의 제2 서브 화소(SP2)는 복수의 제1 서브 화소(SP1) 및 복수의 제3 서브 화소(SP3)와는 다른 열 및 다른 행에 배치된 것으로 도시하였으나, 복수의 서브 화소(SP)의 배치는 이에 제한되지 않는다.However, in FIG. 1 , the plurality of first sub-pixels SP1 and the plurality of third sub-pixels SP3 are disposed in the same column and in the same row, and the plurality of second sub-pixels SP2 includes the plurality of first sub-pixels. Although it is illustrated that the plurality of sub-pixels SP are disposed in different columns and different rows from those of SP1 and the plurality of third sub-pixels SP3, the arrangement of the plurality of sub-pixels SP is not limited thereto.

도 1을 참조하면, 제1 서브 화소(SP1)의 면적은 제2 서브 화소(SP2)의 면적 및 제3 서브 화소(SP3)의 면적보다 클 수 있다. 구체적으로, 제1 서브 화소(SP1)의 발광 영역의 면적은 제2 서브 화소(SP2)의 발광 영역의 면적 및 제3 서브 화소(SP3)의 발광 영역의 면적보다 클 수 있다. 또한, 제2 서브 화소(SP2)의 면적은 제3 서브 화소(SP3)의 면적보다 클 수 있고, 제2 서브 화소(SP2)의 발광 영역의 면적은 제3 서브 화소(SP3)의 발광 영역의 면적보다 클 수 있다.Referring to FIG. 1 , the area of the first sub-pixel SP1 may be greater than the area of the second sub-pixel SP2 and the area of the third sub-pixel SP3 . In detail, the area of the emission area of the first sub-pixel SP1 may be greater than the area of the emission area of the second sub-pixel SP2 and the area of the emission area of the third sub-pixel SP3 . In addition, the area of the second sub-pixel SP2 may be larger than that of the third sub-pixel SP3 , and the area of the emission area of the second sub-pixel SP2 is that of the emission area of the third sub-pixel SP3 . may be larger than the area.

이하에서는 도 2를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)의 서브 화소(SP)에 배치되는 발광 소자(ED)에 대하여 보다 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, the light emitting device ED disposed in the sub-pixel SP of the display device 100 according to an exemplary embodiment will be described in more detail with reference to FIG. 2 .

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 발광 소자의 구조를 개략적으로 나타낸 단면도이다. 2 is a cross-sectional view schematically illustrating a structure of a light emitting device of a display device according to an exemplary embodiment.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치에서는 복수의 서브 화소(SP) 각각에 발광 소자가 배치된다. 발광 소자는 제1 서브 화소(SP1)에 배치되는 제1 발광 소자(ED1), 제2 서브 화소(SP2)에 배치되는 제2 발광 소자(ED2) 및 제3 서브 화소(SP3)에 배치되는 제3 발광 소자(ED3)를 포함한다. 제1 발광 소자(ED1)는 청색 서브 화소인 제1 서브 화소(SP1)에 배치되므로 청색 발광 소자일 수 있고, 제2 발광 소자(ED2)는 녹색 서브 화소인 제2 서브 화소(SP2)에 배치되므로 녹색 발광 소자일 수 있고, 제3 발광 소자(ED3)는 적색 서브 화소인 제3 서브 화소(SP3)에 배치되므로 적색 발광 소자일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In the display device according to the exemplary embodiment of the present invention, a light emitting element is disposed in each of the plurality of sub-pixels SP. The light emitting device includes a first light emitting device ED1 disposed in the first sub-pixel SP1 , a second light emitting device ED2 disposed in the second sub-pixel SP2 , and a second light emitting device disposed in the third sub-pixel SP3 . 3 light emitting element ED3 is included. Since the first light emitting device ED1 is disposed in the first sub-pixel SP1 which is a blue sub-pixel, it may be a blue light-emitting device, and the second light emitting device ED2 is disposed in the second sub-pixel SP2 which is a green sub-pixel. Therefore, it may be a green light emitting device, and the third light emitting device ED3 may be a red light emitting device because it is disposed in the third sub pixel SP3 which is a red sub pixel, but is not limited thereto.

제1 발광 소자(ED1)는 제1 애노드(141), 유기층(150) 및 캐소드를 포함한다. 여기서, 제1 발광 소자(ED1)의 유기층(150)은 제1 정공 수송층(152), 제2 정공 수송층(152), 제1 발광층(155_1) 및 전자 수송층(156)을 포함할 수 있다. The first light emitting device ED1 includes a first anode 141 , an organic layer 150 , and a cathode. Here, the organic layer 150 of the first light emitting device ED1 may include a first hole transport layer 152 , a second hole transport layer 152 , a first emission layer 155_1 , and an electron transport layer 156 .

제2 발광 소자(ED2)는 제2 애노드(142), 유기층(150) 및 캐소드를 포함한다. 여기서, 제2 발광 소자(ED2)의 유기층(150)은 정공 주입층(151), 제1 정공 수송층(152), 제3 정공 수송층(153), 제2 발광층(155_2), 및 전자 수송층(156)을 포함한다.The second light emitting device ED2 includes a second anode 142 , an organic layer 150 , and a cathode. Here, the organic layer 150 of the second light emitting device ED2 includes a hole injection layer 151 , a first hole transport layer 152 , a third hole transport layer 153 , a second emission layer 155_2 , and an electron transport layer 156 . ) is included.

제3 발광 소자(ED3)는 제3 애노드(143), 유기층(150) 및 캐소드(160)를 포함한다. 여기서, 제3 발광 소자(ED3)의 유기층(150)은 정공 주입층(151), 제1 정공 수송층(152), 제4 정공 수송층(154), 제3 발광층(155_3) 및 전자 수송층(156)을 포함한다.The third light emitting device ED3 includes a third anode 143 , an organic layer 150 , and a cathode 160 . Here, the organic layer 150 of the third light emitting device ED3 includes a hole injection layer 151 , a first hole transport layer 152 , a fourth hole transport layer 154 , a third emission layer 155_3 , and an electron transport layer 156 . includes

도 2에서는 각각의 발광 소자(ED) 마다 한 개의 발광층(155)이 배치되어 있으나, 두 개의 발광층이 배치되는 것도 가능하다.In FIG. 2 , one light emitting layer 155 is disposed for each light emitting device ED, but two light emitting layers may be disposed.

애노드(140)는 제1 애노드(141), 제2 애노드(142) 및 제3 애노드(143)를 포함한다. 애노드는 패터닝(patterning)되어 이격된 제1 애노드(141), 제2 애노드(142) 및 제3 애노드(143)로 구성될 수 있다. The anode 140 includes a first anode 141 , a second anode 142 , and a third anode 143 . The anode may be composed of a first anode 141, a second anode 142, and a third anode 143 spaced apart by patterning.

정공 주입층(151)은 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 모두에 대응되도록 공통층으로 애노드(140) 상에 배치된다. 정공 주입층(151)은 정공의 주입을 원활하게 하는 역할을 할 수 있으며, HATCN(1,4,5,8,9,11-hexaazatriphenylene-hexanitrile), CuPc(cupper phthalocyanine), PEDOT(poly(3,4)-ethylenedioxythiophene), PANI(polyaniline) 및 NPD(N,N-dinaphthyl-N,N'-diphenylbenzidine), TPD(N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N"-bis(phenyl)-benzidine), α-NPB(Bis[N-(1-naphthyl)-N-phenyl]benzidine), TDAPB(1,3,5-tris(4-diphenylaminophenyl)benzene), TCTA(Tris(4-carbazoyl-9-yl)triphenylamine), spiroTAD(2,2',7,7"-Tetrakis(N,N-diphenylamino)-9,9-spirobifluorene) 및 CBP(4,4'-bis(carbazol-9-yl)biphenyl) 중 적어도 하나 이상의 물질로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. The hole injection layer 151 is disposed on the anode 140 as a common layer to correspond to all of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 . The hole injection layer 151 may serve to facilitate hole injection, and may include HATCN (1,4,5,8,9,11-hexaazatriphenylene-hexanitrile), CuPc (cupper phthalocyanine), PEDOT (poly(3) ,4)-ethylenedioxythiophene), PANI (polyaniline) and NPD (N,N-dinaphthyl-N,N'-diphenylbenzidine), TPD (N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N"-bis(phenyl) )-benzidine), α-NPB(Bis[N-(1-naphthyl)-N-phenyl]benzidine), TDAPB(1,3,5-tris(4-diphenylaminophenyl)benzene), TCTA(Tris(4-carbazoyl) -9-yl)triphenylamine), spiroTAD(2,2',7,7"-Tetrakis(N,N-diphenylamino)-9,9-spirobifluorene) and CBP(4,4'-bis(carbazol-9-yl) ) may be made of at least one material of biphenyl), but is not limited thereto.

제1 정공 수송층(152)은 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 모두에 대응되도록 공통층으로 정공 주입층(151) 상에 배치된다. 제1 정공 수송층(152)은 정공의 수송을 원활하게 하는 역할을 하며, NPD(N,N-dinaphthyl-N,N'-diphenylbenzidine), TPD(N,N'-bis-(3-methylphenyl)-N,N'-bis- (phenyl)-benzidine), spiro-TAD(2,2',7,7"-Tetrakis(N,N-diphenylamino)-9,9-spirobifluorene) 및 MTDATA(4,4',4"-Tris(N-3-methylphenyl-N-phenyl-amino)-triphenylamine) 중 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. The first hole transport layer 152 is disposed on the hole injection layer 151 as a common layer to correspond to all of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 . The first hole transport layer 152 serves to facilitate hole transport, and includes N,N-dinaphthyl-N,N'-diphenylbenzidine (NPD), N,N'-bis-(3-methylphenyl)- N,N'-bis-(phenyl)-benzidine), spiro-TAD(2,2',7,7"-Tetrakis(N,N-diphenylamino)-9,9-spirobifluorene) and MTDATA(4,4' ,4"-Tris(N-3-methylphenyl-N-phenyl-amino)-triphenylamine) may be formed of any one or more, but is not limited thereto.

제2 정공 수송층(153)은 제2 서브 화소(SP2)에서 제1 정공 수송층(152) 상에 배치된다. 또한, 제3 정공 수송층(154)은 제3 서브 화소(SP3)에서 제1 정공 수송층(152) 상에 배치된다. 제2 정공 수송층(153) 및 제3 정공 수송층(154)은 정공의 수송을 원활하게 하는 역할을 하며, NPD(N,N-dinaphthyl-N,N'-diphenylbenzidine), TPD(N,N'-bis-(3-methylphenyl)-N,N'-bis- (phenyl)-benzidine), spiro-TAD(2,2',7,7′ 및 MTDATA(4,4',4"-Tris(N-3-methylphenyl-N-phenyl-amino)-triphenylamine) 중 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. The second hole transport layer 153 is disposed on the first hole transport layer 152 in the second sub-pixel SP2 . Also, the third hole transport layer 154 is disposed on the first hole transport layer 152 in the third sub-pixel SP3 . The second hole transport layer 153 and the third hole transport layer 154 serve to facilitate hole transport, and NPD (N,N-dinaphthyl-N,N'-diphenylbenzidine), TPD (N,N'- bis-(3-methylphenyl)-N,N'-bis- (phenyl)-benzidine), spiro-TAD(2,2',7,7' and MTDATA(4,4',4"-Tris(N-) 3-methylphenyl-N-phenyl-amino)-triphenylamine), but is not limited thereto.

또한, 제2 정공 수송층(153) 및 제3 정공 수송층(154)의 각각의 두께는 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3)의 마이크로 캐비티(micro cavity)의 광학적 거리를 형성할 수 있다. 보다 구체적으로, 제2 정공 수송층(153)의 두께는 제2 서브 화소의 제2 애노드(142)와 캐소드(160) 사이에서 마이크로 캐비티 구조를 형성할 수 있는 두께이고, 제3 정공 수송층(154)의 두께는 제3 서브 화소(SP3)의 제3 애노드(143)와 캐소드(160) 사이에서 마이크로 캐비티 구조를 형성할 수 있는 두께일 수 있다. In addition, the thickness of each of the second hole transport layer 153 and the third hole transport layer 154 may form an optical distance of a micro cavity of the second sub-pixel SP2 and the third sub-pixel SP3. can More specifically, the thickness of the second hole transport layer 153 is a thickness that can form a microcavity structure between the second anode 142 and the cathode 160 of the second sub-pixel, and the third hole transport layer 154 The thickness of may be a thickness capable of forming a microcavity structure between the third anode 143 and the cathode 160 of the third sub-pixel SP3 .

제1 발광층(155_1)은 제1 서브 화소(SP1)에서 제1 정공 수송층(152) 상에 배치된다. 제1 발광층(155_1)은 청색을 발광하는 발광 물질을 포함할 수 있으며, 발광 물질은 인광 물질 또는 형광 물질을 이용하여 형성될 수 있다. 보다 구체적으로 청색 발광층은 CBP 또는 mCP를 포함하는 호스트 물질을 포함할 수 있으며, FIrPic(bis(3,5,-difluoro-2-(2-pyridyl)phenyl-(2-carboxypyridyl)iridium(III))을 포함하는 도펀트 물질을 포함하는 인광 물질로 이루어질 수 있다. 또한, DPVBi(4,4'-bis[4-di-p-tolylamino)stryl)biphenyl), DSA(1-4- di-[4-(N,N-di-phenyl)amino]styryl-benzene), PFO(polyfluorene)계 고분자, PPV(polyphenylenevinylene)계 고분자 중에서 어느 하나를 포함하는 형광 물질로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다.The first emission layer 155_1 is disposed on the first hole transport layer 152 in the first sub-pixel SP1 . The first light emitting layer 155_1 may include a light emitting material emitting blue light, and the light emitting material may be formed using a phosphorescent material or a fluorescent material. More specifically, the blue light emitting layer may include a host material including CBP or mCP, and FIrPic(bis(3,5,-difluoro-2-(2-pyridyl)phenyl-(2-carboxypyridyl)iridium(III)) may be made of a phosphorescent material including a dopant material including (N,N-di-phenyl)amino]styryl-benzene), PFO (polyfluorene)-based polymer, PPV (polyphenylenevinylene)-based polymer may be formed of a fluorescent material including any one, but is not limited thereto.

제2 발광층(155_2)은 제2 서브 화소(SP2)에서 제2 정공 수송층(152) 상에 배치된다. 제2 발광층(155_2)은 녹색을 발광하는 발광 물질을 포함할 수 있으며, 발광 물질은 인광 물질 또는 형광 물질을 이용하여 형성될 수 있다. 보다 구체적으로 녹색 발광층은 CBP 또는 mCP를 포함하는 호스트 물질을 포함할 수 있으며, Ir(ppy)3(tris(2-phenylpyridine)iridium(III)) 또는 Ir(ppy)2(acaa)(bis(2- phenylpyridine)(acetylacetonate)iridium(III)를 포함하는 이리듐 착물(Ir complex)과 같은 도펀트 물질을 포함하는 인광 물질로 이루어질 수 있고, 이와는 달리 Alq3(tris(8-hydroxyquinolino)aluminium)을 포함하는 형광 물질로 이루어질 수 있으나, 이에 한정되지 않는다. The second emission layer 155_2 is disposed on the second hole transport layer 152 in the second sub-pixel SP2 . The second light emitting layer 155_2 may include a green light emitting material, and the light emitting material may be formed using a phosphorescent material or a fluorescent material. More specifically, the green light emitting layer may include a host material including CBP or mCP, and Ir(ppy)3(tris(2-phenylpyridine)iridium(III)) or Ir(ppy)2(acaa)(bis(2) - May be made of a phosphorescent material containing a dopant material such as an iridium complex containing phenylpyridine)(acetylacetonate)iridium(III), and, unlike this, a fluorescent material containing Alq3(tris(8-hydroxyquinolino)aluminium) may be made, but is not limited thereto.

제3 발광층(155_3)은 제3 서브 화소(SP3) 영역의 제3 정공 수송층(154) 상에 배치된다. 제3 발광층(155_3)은 적색을 발광하는 발광 물질을 포함할 수 있으며, 발광 물질은 인광 물질 또는 형광 물질을 이용하여 형성될 수 있다. 보다 구체적으로 적색 발광층은 CBP(carbazole biphenyl) 또는 mCP(1,3-bis(carbazol-9-yl)benzene)를 포함하는 호스트 물질을 포함할 수 있으며, Ir(btp)2(acac)(bis(2-benzo[b]thiophen-2-ylpyridine)(acetylacetonate)iridium(III)), Ir(piq)2(acac)(bis(1- phenylisoquinoline)(acetylacetonate)iridium(III)), Ir(piq)3(tris(1-phenylquinoline)iridium(III)) 및 PtOEP(octaethylporphyrin platinum) 중 어느 하나 이상을 포함하는 도펀트를 포함하는 인광 물질로 이루어질 수 있고, 이와는 달리 PBD:Eu(DBM)3(Phen) 또는 Perylene을 포함하는 형광 물질로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다. The third emission layer 155_3 is disposed on the third hole transport layer 154 of the third sub-pixel SP3 region. The third light emitting layer 155_3 may include a red light emitting material, and the light emitting material may be formed using a phosphorescent material or a fluorescent material. More specifically, the red light emitting layer may include a host material including CBP (carbazole biphenyl) or mCP (1,3-bis(carbazol-9-yl)benzene), and Ir(btp)2(acac)(bis( 2-benzo[b]thiophen-2-ylpyridine)(acetylacetonate)iridium(III)), Ir(piq)2(acac)(bis(1-phenylisoquinoline)(acetylacetonate)iridium(III)), Ir(piq)3 (tris(1-phenylquinoline)iridium(III)) and PtOEP (octaethylporphyrin platinum) may be formed of a phosphor containing a dopant containing any one or more, in contrast to this, PBD:Eu(DBM)3(Phen) or Perylene It may be made of a fluorescent material containing, but is not limited thereto.

전자 수송층(156)은 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 모두에 대응되도록 제1 발광층(155_1), 제2 발광층(155_2) 및 제3 발광층(155_3) 상에 배치된다. 전자 수송층(156)은 전자의 수송 및 주입의 역할을 할 수 있으며, 전자 수송층(156)의 두께는 전자 수송 특성을 고려하여 조절될 수 있다. 전자 수송층(156)은 전자의 수송을 원활하게 하는 역할을 하며, Liq(8-hydroxyquinolinolato-lithium), Alq3(tris(8-hydroxyquinolinato)aluminium), PBD(2-(4-biphenylyl)-5-(4-tert-butylpheny)- 1,3,4oxadiazole), TAZ(3-(4-biphenyl)4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole), spiro-PBD 및 BAlq(bis(2-methyl-8-quinolinolate)-4-(phenylphenolato)aluminium) 중에서 어느 하나 이상으로 이루어질 수 있으나 이에 한정되지 않는다. The electron transport layer 156 corresponds to all of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 , the first emission layer 155_1 , the second emission layer 155_2 , and the third emission layer It is placed on (155_3). The electron transport layer 156 may serve to transport and inject electrons, and the thickness of the electron transport layer 156 may be adjusted in consideration of electron transport characteristics. The electron transport layer 156 serves to facilitate the transport of electrons, and includes Liq (8-hydroxyquinolinolato-lithium), Alq3 (tris(8-hydroxyquinolinato)aluminium), PBD (2-(4-biphenylyl)-5-( 4-tert-butylpheny)-1,3,4oxadiazole), TAZ(3-(4-biphenyl)4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole), spiro-PBD and BAlq(bis(bis( 2-methyl-8-quinolinolate)-4-(phenylphenolato)aluminium), but is not limited thereto.

제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 각각에 배치된 유기층(150)의 두께는 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2), 제3 서브 화소(SP3) 순서로 증가할 수 있다. 상술한 바와 같이 제1 서브 화소(SP1)에 배치된 유기층(150)은 정공 주입층(151), 제1 정공 수송층(152), 제1 발광층(155_1) 및 전자 수송층(156)이다. 제2 서브 화소(SP2)에 배치된 유기층(150)은 정공 주입층(151), 제1 정공 수송층(152), 제2 정공 수송층(153), 제2 발광층(155_2) 및 전자 수송층(156)이므로, 제2 서브 화소(SP2)에 배치된 유기층(150)의 두께는 제1 서브 화소(SP1)에 배치된 유기층(150)의 두께보다 클 수 있다. 또한, 제3 서브 화소(SP3)에 배치된 유기층(150)은 정공 주입층(151), 제1 정공 수송층(152), 제3 정공 수송층(154), 제3 발광층(155_3) 및 전자 수송층(156)이므로, 제3 서브 화소(SP3)에 배치된 유기층(150)의 두께는 제3 서브 화소(SP3)에 배치된 유기층(150)의 두께보다 클 수 있다.The thickness of the organic layer 150 disposed on each of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 is the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , It may increase in the order of the third sub-pixel SP3 . As described above, the organic layer 150 disposed in the first sub-pixel SP1 is the hole injection layer 151 , the first hole transport layer 152 , the first emission layer 155_1 , and the electron transport layer 156 . The organic layer 150 disposed in the second sub-pixel SP2 includes a hole injection layer 151 , a first hole transport layer 152 , a second hole transport layer 153 , a second emission layer 155_2 , and an electron transport layer 156 . Therefore, the thickness of the organic layer 150 disposed in the second sub-pixel SP2 may be greater than the thickness of the organic layer 150 disposed in the first sub-pixel SP1 . In addition, the organic layer 150 disposed in the third sub-pixel SP3 includes a hole injection layer 151 , a first hole transport layer 152 , a third hole transport layer 154 , a third emission layer 155_3 and an electron transport layer ( 156), the thickness of the organic layer 150 disposed in the third sub-pixel SP3 may be greater than the thickness of the organic layer 150 disposed in the third sub-pixel SP3.

캐소드(160)는 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 모두에 대응되도록 전자 수송층(156) 상에 배치된다. 애노드(140)과 캐소드(160) 사이에서 반복적인 반사가 일어나는 마이크로 캐비티(micro-cavity) 효과, 즉 미세 공진 효과에 의해서 애노드(140)과 캐소드(160) 사이의 캐비티 내에서 빛이 반복적으로 반사되어 광 효율이 증가하게 된다.The cathode 160 is disposed on the electron transport layer 156 to correspond to all of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 . Light is repeatedly reflected in the cavity between the anode 140 and the cathode 160 due to a micro-cavity effect, that is, a micro-resonance effect, in which repeated reflection occurs between the anode 140 and the cathode 160 . This will increase the light efficiency.

이하에서는 도 3을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)의 복수의 서브 화소(SP)를 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, a plurality of sub-pixels SP of the display device 100 according to an exemplary embodiment will be described in more detail with reference to FIG. 3 .

도 3은 도 1의 III-III'에 따른 개략적인 단면도이다. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along line III-III' of FIG. 1 .

도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)는 기판(110), 버퍼층(111), 게이트 절연층(112), 층간 절연층(113), 패시베이션층(114), 제1 절연층(115), 제2 절연층(116), 뱅크(117), 박막 트랜지스터(120), 금속 패턴(130) 및 발광 소자(ED)를 포함한다. 도 3에서는 설명의 편의를 위해 도 2의 유기층(150)을 단일층으로 도시하였다. Referring to FIG. 3 , the display device 100 according to an embodiment of the present invention includes a substrate 110 , a buffer layer 111 , a gate insulating layer 112 , an interlayer insulating layer 113 , a passivation layer 114 , It includes a first insulating layer 115 , a second insulating layer 116 , a bank 117 , a thin film transistor 120 , a metal pattern 130 , and a light emitting device ED. In FIG. 3 , the organic layer 150 of FIG. 2 is illustrated as a single layer for convenience of explanation.

도 3을 참조하면, 기판(110)은 표시 장치(100)의 다른 구성 요소를 지지하기 위한 지지 부재로, 절연 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 기판(110)은 유리 또는 수지 등으로 이루어질 수 있다. 또한, 기판(110)은 고분자 또는 폴리이미드(Polyimide, PI) 등과 같은 플라스틱을 포함하여 이루어질 수도 있고, 플렉서빌리티(flexibility)를 갖는 물질로 이루어질 수도 있다.Referring to FIG. 3 , the substrate 110 is a support member for supporting other components of the display device 100 , and may be made of an insulating material. For example, the substrate 110 may be made of glass or resin. In addition, the substrate 110 may include a polymer or plastic such as polyimide (PI), or may be made of a material having flexibility.

기판(110) 상에 버퍼층(111)이 배치된다. 버퍼층(111)은 기판(110)을 통한 수분 또는 불순물의 침투를 저감할 수 있다. 버퍼층(111)은 예를 들어, 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx)의 단일층 또는 복층으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 다만, 버퍼층(111)은 기판(110)의 종류나 트랜지스터의 종류에 따라 생략될 수도 있으며, 이에 제한되지 않는다.A buffer layer 111 is disposed on the substrate 110 . The buffer layer 111 may reduce penetration of moisture or impurities through the substrate 110 . The buffer layer 111 may be formed of, for example, a single layer or a multilayer of silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx), but is not limited thereto. However, the buffer layer 111 may be omitted depending on the type of the substrate 110 or the type of the transistor, but is not limited thereto.

버퍼층(111) 상에 박막 트랜지스터(120)가 배치된다. 박막 트랜지스터(120)는 액티브층(122), 게이트 전극(121), 소스 전극(124) 및 드레인 전극(123)을 포함한다. The thin film transistor 120 is disposed on the buffer layer 111 . The thin film transistor 120 includes an active layer 122 , a gate electrode 121 , a source electrode 124 , and a drain electrode 123 .

액티브층(122)은 산화물 반도체, 비정질 실리콘 또는 폴리 실리콘 등과 같은 반도체 물질로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 예를 들어, 액티브층(122)이 산화물 반도체로 형성된 경우, 액티브층(122)은 채널 영역, 소스 영역 및 드레인 영역으로 이루어지고, 소스 영역 및 드레인 영역은 도체화된 영역일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The active layer 122 may be made of a semiconductor material such as an oxide semiconductor, amorphous silicon, or polysilicon, but is not limited thereto. For example, when the active layer 122 is formed of an oxide semiconductor, the active layer 122 includes a channel region, a source region, and a drain region, and the source region and the drain region may be a conductive region, but is limited thereto. doesn't happen

액티브층(122) 상에 게이트 절연층(112)이 배치된다. 게이트 절연층(112)은 액티브층(122)과 게이트 전극(121)을 절연시키기 위한 절연층으로, 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx)의 단일층 또는 복층으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.A gate insulating layer 112 is disposed on the active layer 122 . The gate insulating layer 112 is an insulating layer for insulating the active layer 122 and the gate electrode 121 , and may be formed of a single layer or multiple layers of silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx), but is limited thereto. doesn't happen

게이트 절연층(112) 상에 게이트 전극(121)이 배치된다. 게이트 전극(121)은 도전성 물질, 예를 들어, 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 크롬(Cr) 또는 이에 대한 합금으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.A gate electrode 121 is disposed on the gate insulating layer 112 . The gate electrode 121 may be made of a conductive material, for example, copper (Cu), aluminum (Al), molybdenum (Mo), nickel (Ni), titanium (Ti), chromium (Cr), or an alloy thereof. However, the present invention is not limited thereto.

게이트 전극(121) 상에 층간 절연층(113)이 배치된다. 층간 절연층(113)에는 소스 전극(124) 및 드레인 전극(123) 각각이 액티브층(122)에 접속하기 위한 컨택홀이 형성된다. 층간 절연층(113)은 실리콘 산화물(SiOx) 또는 실리콘 질화물(SiNx)의 단일층 또는 복층으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.An interlayer insulating layer 113 is disposed on the gate electrode 121 . A contact hole for connecting the source electrode 124 and the drain electrode 123 to the active layer 122 is formed in the interlayer insulating layer 113 . The interlayer insulating layer 113 may be formed of a single layer or a multilayer of silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiNx), but is not limited thereto.

층간 절연층(113) 상에 소스 전극(124) 및 드레인 전극(123)이 배치된다. 서로 이격되어 배치된 소스 전극(124) 및 드레인 전극(123)은 액티브층(122)과 전기적으로 연결될 수 있다. 소스 전극(124) 및 드레인 전극(123)은 도전성 물질, 예를 들어, 구리(Cu), 알루미늄(Al), 몰리브덴(Mo), 니켈(Ni), 티타늄(Ti), 크롬(Cr) 또는 이에 대한 합금으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 한편, 도면에 도시되지는 않았으나, 소스전극(124)은 고전위 전원 배선과 전기적으로 연결되어 고전위 전원 신호(EVDD)를 공급받을 수 있다. 고전위 전원 배선은 화소가 배치된 영역에 스트라이프 형태 및/또는 그물망 형태로 배치될 수 있다.A source electrode 124 and a drain electrode 123 are disposed on the interlayer insulating layer 113 . The source electrode 124 and the drain electrode 123 spaced apart from each other may be electrically connected to the active layer 122 . The source electrode 124 and the drain electrode 123 may be formed of a conductive material, for example, copper (Cu), aluminum (Al), molybdenum (Mo), nickel (Ni), titanium (Ti), chromium (Cr), or the like. It may be composed of an alloy for, but is not limited thereto. Meanwhile, although not shown in the drawings, the source electrode 124 may be electrically connected to the high potential power wiring to receive the high potential power signal EVDD. The high-potential power wiring may be disposed in the form of a stripe and/or a mesh in the area where the pixels are disposed.

패시베이션층(114) 상에 제1 절연층(115)이 배치된다. 제1 절연층(115)은 트랜지스터(120) 상에 배치되며, 기판(110)의 상부를 평탄화하는 절연층으로, 평탄화층일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 제1 절연층(115)이 평탄화층인 경우, 제1 절연층(115)은 유기 물질로 이루어질 수 있고, 예를 들어, 폴리이미드(Polyimide) 또는 포토아크릴(Photo Acryl)의 단일층 또는 복층으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. A first insulating layer 115 is disposed on the passivation layer 114 . The first insulating layer 115 is disposed on the transistor 120 , and is an insulating layer for planarizing the upper portion of the substrate 110 , and may be a planarization layer, but is not limited thereto. When the first insulating layer 115 is a planarization layer, the first insulating layer 115 may be made of an organic material, for example, as a single layer or a multilayer of polyimide or photo acryl. may be configured, but is not limited thereto.

제1 절연층(115) 상에 금속 패턴(130)이 배치된다. 금속 패턴(130)은 각 발광 소자(ED) 별 커패시턴스의 편차를 조절하기 위한 구성이다. 금속 패턴(130)은 발광 소자(ED)의 애노드(140) 하부에서 애노드(140)와 중첩하도록 배치되어 애노드(140)와 커패시터를 이룰 수 있다. A metal pattern 130 is disposed on the first insulating layer 115 . The metal pattern 130 is a configuration for adjusting a variation in capacitance for each light emitting device ED. The metal pattern 130 may be disposed to overlap the anode 140 under the anode 140 of the light emitting device ED to form a capacitor with the anode 140 .

금속 패턴(130)과 애노드(140) 사이에 커패시터 형성을 위해, 금속 패턴(130)에는 전압이 인가될 수 있다. 예를 들어, 금속 패턴(130)은 직류 전압이 인가되도록 구성될 수 있다. 이때, 직류 전압은 별도 직류 전원으로부터 인가될 수도 있다. 또한, 금속 패턴(130)은 캐소드(160)와 동일한 전압이 인가되도록 구성될 수 있다. 금속 패턴(130)에 캐소드(160)와 동일한 전압이 인가되는 경우, 금속 패턴(130)은 저전위 전원 배선과 전기적으로 연결되어 저전위 전원 신호(EVSS)를 공급받을 수 있다. 또한, 금속 패턴(130)은 고전위 전원 배선(미도시)과 전기적으로 연결되어 고전위 전원신호(EVDD)를 공급받을 수 있다. 예를 들어, 유기 발광 표시 장치는 발광 소자(ED)와 박막 트랜지스터(120)를 포함한 화소들을 매트릭스 형태로 배열하고 영상 데이터의 계조에 따라 화소들에서 구현되는 영상의 휘도를 조절한다. 박막 트랜지스터(120)는 고전위 전원라인에 연결되어 고전위 화소 전원을 인가받고, 자신의 게이트 전극과 소스전극 사이에 걸리는 전압에 따라 발광 소자(ED)에 흐르는 구동전류를 다르게 생성한다. 구동전류에 따라 발광 소자(ED)의 발광량과 영상의 휘도가 결정된다. 고전위 전원배선은 화소가 배치된 영역에 스트라이프 형태 및/또는 그물망 형태로 배치될 수 있다.In order to form a capacitor between the metal pattern 130 and the anode 140 , a voltage may be applied to the metal pattern 130 . For example, the metal pattern 130 may be configured to apply a DC voltage. In this case, the DC voltage may be applied from a separate DC power source. In addition, the metal pattern 130 may be configured such that the same voltage as that of the cathode 160 is applied. When the same voltage as that of the cathode 160 is applied to the metal pattern 130 , the metal pattern 130 may be electrically connected to the low potential power wiring to receive the low potential power signal EVSS. In addition, the metal pattern 130 may be electrically connected to a high potential power wiring (not shown) to receive the high potential power signal EVDD. For example, in the organic light emitting diode display, pixels including the light emitting element ED and the thin film transistor 120 are arranged in a matrix form, and the luminance of an image implemented in the pixels is adjusted according to the grayscale of the image data. The thin film transistor 120 is connected to a high potential power line to receive high potential pixel power, and differently generates a driving current flowing through the light emitting device ED according to a voltage applied between its gate electrode and a source electrode. The amount of light emitted from the light emitting device ED and the luminance of the image are determined according to the driving current. The high-potential power wiring may be disposed in a stripe shape and/or a mesh shape in an area in which pixels are disposed.

제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2), 제3 서브 화소(SP3) 각각에 배치된 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(130)의 면적은 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 각각에 배치된 유기층(150)의 두께가 커질수록 증가할 수 있다. 상술한 바와 같이, 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 각각에 배치된 유기층(150)의 두께는 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2), 제3 서브 화소(SP3) 순서로 증가하므로, 금속 패턴(130)과 중첩하는 애노드(140)의 면적은 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2), 제3 서브 화소(SP3) 순서로 증가할 수 있다.The area of the metal pattern 130 overlapping the anode 140 disposed in each of the first sub-pixel SP1, the second sub-pixel SP2, and the third sub-pixel SP3 is the first sub-pixel SP1, The thickness of the organic layer 150 disposed on each of the second sub-pixel SP2 and the third sub-pixel SP3 may increase as the thickness increases. As described above, the thickness of the organic layer 150 disposed on each of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 is equal to the thickness of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP1 , and the second sub-pixel SP3 . Since the pixel SP2 and the third sub-pixel SP3 increase in order, the area of the anode 140 overlapping the metal pattern 130 is the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third It may increase in the order of the sub-pixels SP3.

금속 패턴(130)과 중첩하는 애노드(140)의 면적은 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(130)의 개수에 의해 결정될 수 있다. 구체적으로, 상면의 면적이 동일한 금속 패턴(130)은 복수이고, 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 각각의 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(130)의 개수는 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2), 제3 서브 화소(SP3) 순서로 증가할 수 있다. 예를 들어, 도 1 및 도 3에 도시된 바와 같이, 제1 서브 화소(SP1)의 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(130)의 개수는 1개이고, 제2 서브 화소(SP2)의 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(130)의 개수는 2개이며, 제3 서브 화소(SP3)의 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(130)의 개수는 3개일 수 있다. 다만, 이는 설명의 편의를 위한 것이고 금속 패턴(130)의 개수는 이에 제한되지 않는다.The area of the anode 140 overlapping the metal pattern 130 may be determined by the number of the metal patterns 130 overlapping the anode 140 . Specifically, a plurality of metal patterns 130 having the same upper surface area are metal overlapping the anode 140 of each of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 . The number of patterns 130 may increase in the order of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 . For example, as shown in FIGS. 1 and 3 , the number of metal patterns 130 overlapping the anode 140 of the first sub-pixel SP1 is one, and the anode of the second sub-pixel SP2 is one. The number of metal patterns 130 overlapping with 140 may be two, and the number of metal patterns 130 overlapping with the anode 140 of the third sub-pixel SP3 may be three. However, this is for convenience of description and the number of the metal patterns 130 is not limited thereto.

금속 패턴(130) 상에 제2 절연층(116)이 배치된다. 제2 절연층(116)은 기판(110)의 상부를 평탄화하는 절연층으로, 평탄화층일 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 제2 절연층(116)이 평탄화층인 경우, 제2 절연층(116)은 유기 물질로 이루어질 수 있고, 예를 들어, 폴리이미드(Polyimide) 또는 포토아크릴(Photo Acryl)의 단일층 또는 복층으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.A second insulating layer 116 is disposed on the metal pattern 130 . The second insulating layer 116 is an insulating layer for planarizing the upper portion of the substrate 110 , and may be a planarization layer, but is not limited thereto. When the second insulating layer 116 is a planarization layer, the second insulating layer 116 may be made of an organic material, for example, as a single layer or a multilayer of polyimide or photo acryl. may be configured, but is not limited thereto.

제2 절연층(116) 상에서 복수의 서브 화소(SP) 각각에 복수의 발광 소자(ED)가 배치된다. 발광 소자(ED) 각각은 애노드(140), 유기층(150) 및 캐소드(160)를 포함한다.A plurality of light emitting devices ED are disposed in each of the plurality of sub-pixels SP on the second insulating layer 116 . Each of the light emitting devices ED includes an anode 140 , an organic layer 150 , and a cathode 160 .

제2 절연층(116) 상에 애노드(140)가 배치된다. 애노드(140)는 박막 트랜지스터(120)와 전기적으로 연결되어, 구동 전류를 공급받을 수 있다. 애노드(140)는 유기층(150)에 정공을 공급하므로, 일함수가 높은 도전성 물질로 이루어질 수 있다. 애노드(140)는 예를 들어, 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, ITO), 인듐 아연 산화물(Indium Zin Oxide, IZO) 등과 같은 투명 도전성 물질로 형성될 수 있으나, 이에 제한되지 않는다.The anode 140 is disposed on the second insulating layer 116 . The anode 140 may be electrically connected to the thin film transistor 120 to receive a driving current. Since the anode 140 supplies holes to the organic layer 150 , it may be made of a conductive material having a high work function. The anode 140 may be formed of, for example, a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), but is not limited thereto.

한편, 표시 장치(100)는 탑 에미션(Top Emission) 또는 바텀 에미션(Bottom Emission) 방식으로 구현될 수 있다. 탑 에미션 방식인 경우, 유기층(150)으로부터 발광된 광이 애노드(140)에 반사되어 상부 방향, 즉, 캐소드(160) 측을 향하도록, 애노드(140)의 하부에 반사 효율이 우수한 금속 물질, 예를 들어, 알루미늄(Al) 또는 은(Ag)과 같은 물질로 이루어진 반사층이 추가될 수 있다. 반대로, 표시 장치(100)가 바텀 에미션 방식인 경우, 애노드(140)는 투명 도전성 물질로만 이루어질 수 있다. 이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)가 탑 에미션 방식인 것으로 가정하여 설명하기로 한다.Meanwhile, the display device 100 may be implemented in a top emission method or a bottom emission method. In the case of the top emission method, a metal material having excellent reflection efficiency is provided under the anode 140 so that light emitted from the organic layer 150 is reflected by the anode 140 and is directed upward, that is, toward the cathode 160 side. , for example, a reflective layer made of a material such as aluminum (Al) or silver (Ag) may be added. Conversely, when the display device 100 is a bottom emission type, the anode 140 may be formed of only a transparent conductive material. Hereinafter, it is assumed that the display device 100 according to an embodiment of the present invention is a top emission type.

제1 서브 화소(SP1)의 애노드(140)의 면적은 제2 서브 화소(SP2)의 애노드(140)의 면적 및 제3 서브 화소(SP3)의 애노드(140) 면적보다 클 수 있다. 또한, 제2 서브 화소(SP2)의 애노드(140)의 면적은 제3 서브 화소(SP3)의 애노드(140)의 면적보다 클 수 있다.The area of the anode 140 of the first sub-pixel SP1 may be greater than the area of the anode 140 of the second sub-pixel SP2 and the area of the anode 140 of the third sub-pixel SP3. Also, the area of the anode 140 of the second sub-pixel SP2 may be larger than the area of the anode 140 of the third sub-pixel SP3.

애노드(140) 및 제2 절연층(116) 상에 뱅크(117)가 배치된다. 뱅크(117)는 복수의 서브 화소(SP)를 구분하기 위해, 복수의 서브 화소(SP) 사이에 배치된 절연층이다. 뱅크(117)는 애노드(140)의 일부를 노출시키는 개구부를 포함한다. 뱅크(117)는 애노드(140)의 엣지 또는 가장자리 부분을 덮도록 배치된 유기 절연 물질일 수 있다. 뱅크(117)는 예를 들어, 폴리이미드(polyimide), 아크릴(acryl) 또는 벤조사이클로부텐(benzocyclobutene, BCB)계 수지로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.A bank 117 is disposed on the anode 140 and the second insulating layer 116 . The bank 117 is an insulating layer disposed between the plurality of sub-pixels SP to separate the plurality of sub-pixels SP. Bank 117 includes an opening exposing a portion of anode 140 . The bank 117 may be formed of an organic insulating material disposed to cover an edge or an edge portion of the anode 140 . The bank 117 may be made of, for example, polyimide, acryl, or benzocyclobutene (BCB)-based resin, but is not limited thereto.

애노드(140) 및 뱅크(117) 상에 유기층(150)이 배치된다. 유기층(150)에 대해서는 앞서 도 2를 참조하여 상세히 설명하였으므로, 중복 설명은 생략한다.An organic layer 150 is disposed on the anode 140 and the bank 117 . Since the organic layer 150 has been described in detail with reference to FIG. 2 above, a redundant description thereof will be omitted.

유기층(150) 상에 캐소드(160)가 배치된다. 캐소드(160)는 유기층(150)에 전자를 공급하므로, 일함수가 낮은 도전성 물질로 이루어질 수 있다. 캐소드(160)는 복수의 서브 화소(SP)에 걸쳐 하나의 층으로 형성될 수 있다. 즉, 복수의 서브 화소(SP) 각각의 캐소드(160)는 서로 연결되어 공유하는 방식으로 일체로 이루어질 수 있다. 캐소드(160)는 예를 들어, 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, ITO), 인듐 아연 산화물(Indium Zin Oxide, IZO) 등과 같은 투명 도전성 물질 또는 MgAg와 같은 금속 합금이나 이테르븀(Yb) 합금 등으로 형성될 수 있고, 금속 도핑층이 더 포함될 수도 있으며, 이에 제한되지 않는다. 한편, 도면에 도시되지는 않았으나, 캐소드(160)는 저전위 전원 배선과 전기적으로 연결되어 저전위 전원 신호(EVSS)를 공급받을 수 있다. A cathode 160 is disposed on the organic layer 150 . Since the cathode 160 supplies electrons to the organic layer 150 , it may be made of a conductive material having a low work function. The cathode 160 may be formed as one layer across the plurality of sub-pixels SP. That is, the cathode 160 of each of the plurality of sub-pixels SP may be integrally formed in a shared manner by being connected to each other. The cathode 160 is formed of, for example, a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO), or a metal alloy such as MgAg or a ytterbium (Yb) alloy. and may further include a metal doped layer, but is not limited thereto. Meanwhile, although not shown in the drawings, the cathode 160 may be electrically connected to the low potential power wiring to receive the low potential power signal EVSS.

표시 장치에서는 광 효율을 개선하기 위해 마이크로 캐비티를 구현하기 위한 구조를 적용한다. 이 경우, 장파장인 적색광을 발광하기 위한 제3 서브 화소(SP3)에서의 유기층(150)의 두께가 가장 두껍고, 단파장인 청색광을 발광하기 위한 제1 서브 화소(SP1)에서의 유기층(150)의 두께가 가장 얇으며, 녹색광을 발광하기 위한 제2 서브 화소(SP2)에서의 유기층(150)의 두께는 중간일 수 있다. In a display device, a structure for implementing a micro-cavity is applied to improve light efficiency. In this case, the thickness of the organic layer 150 in the third sub-pixel SP3 for emitting red light having a long wavelength is the thickest, and the organic layer 150 in the first sub-pixel SP1 for emitting blue light having a short wavelength. The thickness of the organic layer 150 in the second sub-pixel SP2 for emitting green light may be medium.

또한, 청색광을 발광하기 위한 발광층, 녹색광을 발광하기 위한 발광층 및 적색광을 발광하기 위한 발광층의 발광 효율이 상이할 수 있다. 특히, 현재 사용되는 발광층의 재료에서는 청색광을 발광하기 위한 발광층인 제1 발광층(155_1)의 발광 효율이 가장 낮고, 적색광을 발광하기 위한 발광층인 제3 발광층(155_3)의 발광 효율이 가장 높으며, 녹색광을 발광하기 위한 발광층인 제2 발광층(155_2)의 발광 효율은 중간일 수 있다. 이에, 각각의 서브 화소(SP)에서의 발광 효율을 맞춰주기 위해, 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3)의 순서로 서브 화소의 크기, 즉, 발광 영역을 정의하는 애노드(140)의 크기가 감소할 수 있다.In addition, the light emitting efficiency of the light emitting layer for emitting blue light, the light emitting layer for emitting green light, and the light emitting layer for emitting red light may be different. In particular, in the currently used material of the light emitting layer, the light emitting efficiency of the first light emitting layer 155_1, which is the light emitting layer for emitting blue light, is the lowest, and the light emitting efficiency of the third light emitting layer 155_3 which is the light emitting layer for emitting red light is the highest, and green light The light emitting efficiency of the second light emitting layer 155_2, which is a light emitting layer for emitting light, may be medium. Accordingly, in order to match the luminous efficiency of each sub-pixel SP, the size of the sub-pixels in the order of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 , that is, , the size of the anode 140 defining the light emitting region may be reduced.

이에, 각각의 서브 화소(SP)에서 애노드(140)와 캐소드(160) 사이에 형성되는 커패시턴스의 크기는 상이할 수 있다. 양 전극 간의 커패시턴스의 크기는 양 전극의 면적에 비례하고, 양 전극 간의 거리에 반비례한다. 따라서, 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3)의 순서로 각 서브 화소(SP)에서의 애노드(140)와 캐소드(160) 간의 커패시턴스의 크기가 감소한다. 이러한 각 서브 화소(SP)에서의 애노드(140)와 캐소드(160) 간의 커패시턴스 크기의 편차는 각 발광 소자(ED)에서의 RC 지연(RC delay) 편차를 유발한다. 이에, 각 발광 소자(ED)에서의 전압 충진 편차가 발생할 수 있고, 저계조에서의 컬러 시프트 현상이 발생할 수 있다. 예를 들어, 가장 큰 커패시턴스가 형성된 제1 서브 화소(SP1)에서는 청색광이 아닌 저계조의 마젠타(Magenta)색 광으로 발광되는 광이 시인될 수도 있다.Accordingly, the magnitude of the capacitance formed between the anode 140 and the cathode 160 in each sub-pixel SP may be different. The magnitude of the capacitance between the electrodes is proportional to the area of the electrodes and inversely proportional to the distance between the electrodes. Accordingly, the capacitance between the anode 140 and the cathode 160 in each sub-pixel SP in the order of the first sub-pixel SP1, the second sub-pixel SP2, and the third sub-pixel SP3 is decreases. The variation in capacitance between the anode 140 and the cathode 160 in each sub-pixel SP causes a variation in RC delay in each light emitting device ED. Accordingly, a voltage filling deviation in each light emitting element ED may occur, and a color shift phenomenon at a low gray level may occur. For example, in the first sub-pixel SP1 in which the largest capacitance is formed, light emitted as magenta light having a low grayscale instead of blue light may be visually recognized.

이에, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)에서는 각각의 서브 화소(SP)에 발광 소자(ED)에 중첩하는 금속 패턴(130)을 배치하여 각각의 서브 화소(SP)에 배치된 발광 소자(ED)에서의 RC 지연 편차를 보상할 수 있다. 구체적으로, 애노드(140)와 캐소드(160) 간의 커패시턴스 크기가 가장 큰 제1 서브 화소(SP1)에서 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(130)의 개수가 가장 적고, 애노드(140)와 캐소드(160) 간의 커패시턴스 크기가 가장 작은 제3 서브 화소(SP3)에서 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(130)의 개수가 가장 많으며, 애노드(140)와 캐소드(160) 간의 커패시턴스 크기가 중간인 제2 서브 화소(SP2)에서 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(130)의 개수가 중간일 수 있다. 이에, 상대적으로 작은 커패시턴스가 형성된 서브 화소의 애노드(140)에 상대적으로 큰 추가 커패시턴스를 형성하여, 복수의 서브 화소(SP) 각각에 배치된 발광 소자(ED)에서의 커패시턴스 값을 보상할 수 있다. 따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)에서는 복수의 서브 화소(SP)에서 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(130)을 사용하여, 서브 화소 간 RC 지연 편차를 보상할 수 있고, 저계조에서의 컬러 시프트 현상을 개선할 수 있다.Accordingly, in the display device 100 according to an embodiment of the present invention, the metal pattern 130 overlapping the light emitting device ED is disposed in each sub-pixel SP, and the metal pattern 130 is disposed in each sub-pixel SP. An RC delay deviation in the light emitting device ED may be compensated. Specifically, in the first sub-pixel SP1 having the largest capacitance between the anode 140 and the cathode 160 , the number of metal patterns 130 overlapping the anode 140 is the smallest, and the anode 140 and the cathode In the third sub-pixel SP3 having the smallest capacitance between 160 , the number of metal patterns 130 overlapping the anode 140 is the largest, and the capacitance between the anode 140 and the cathode 160 is intermediate. The number of metal patterns 130 overlapping the anode 140 in the second sub-pixel SP2 may be medium. Accordingly, a relatively large additional capacitance may be formed in the anode 140 of the sub-pixel having a relatively small capacitance, thereby compensating for a capacitance value in the light emitting device ED disposed in each of the plurality of sub-pixels SP. . Accordingly, in the display device 100 according to an embodiment of the present invention, the RC delay deviation between the sub-pixels can be compensated by using the metal pattern 130 overlapping the anode 140 in the plurality of sub-pixels SP. and it is possible to improve the color shift phenomenon in the low grayscale.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치의 확대 평면도이다. 도 5는 도 4의 V-V'에 따른 단면도이다. 도 4 및 도 5의 표시 장치(200)는 도 1 내지 도 3의 표시 장치(100)와 비교하여, 금속 패턴(230)만이 상이할 뿐, 다른 구성은 실질적으로 동일하여 중복 설명은 생략한다. 4 is an enlarged plan view of a display device according to another exemplary embodiment. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line V-V' of FIG. 4 . Compared to the display device 100 of FIGS. 1 to 3 , the display device 200 of FIGS. 4 and 5 has only the metal pattern 230 different, and other configurations are substantially the same, so a redundant description will be omitted.

도 4를 참조하면, 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(230)의 면적은 애노드(140)의 면적에 의해 결정될 수 있다. 금속 패턴(230)과 중첩하는 애노드(140)의 면적은 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(230)의 면적에 의해 결정될 수 있다. 금속 패턴(230)은 복수의 서브 화소(SP)의 애노드(140)와 중첩하도록 연장되어 배치될 수 있다. 구체적으로 금속 패턴(230)은 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 중 어느 2개의 서브 화소(SP)와 중첩하도록 배치되는 제1 금속 패턴(231) 및 나머지 1개의 서브 화소(SP)와 중첩하도록 배치되는 제2 금속 패턴(232)을 포함할 수 있다. 여기서, 제1 금속 패턴(231) 및 제2 금속 패턴(232)이 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 중 어느 하나의 서브 화소의 애노드(140)와 중첩하는 면적은, 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 순서로 증가할 수 있다. 예를 들어, 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 제1 서브 화소(SP1) 및 제3 서브 화소(SP3)와 중첩하는 제1 금속 패턴(231) 및 제2 서브 화소(SP2)와 중첩하는 제2 금속 패턴(232)이 배치된 경우, 각 서브 화소(SP)의 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(230)의 면적은 제1 서브 화소(SP1)가 가장 작고, 제3 서브 화소(SP3)가 가장 크며, 제2 서브 화소(SP2)가 중간이다. Referring to FIG. 4 , the area of the metal pattern 230 overlapping the anode 140 may be determined by the area of the anode 140 . The area of the anode 140 overlapping the metal pattern 230 may be determined by the area of the metal pattern 230 overlapping the anode 140 . The metal pattern 230 may extend to overlap the anode 140 of the plurality of sub-pixels SP. Specifically, the metal pattern 230 is a first metal pattern (SP1) disposed to overlap any two sub-pixels SP among the first sub-pixel SP1, the second sub-pixel SP2, and the third sub-pixel SP3. 231 ) and a second metal pattern 232 disposed to overlap the remaining one sub-pixel SP. Here, the first metal pattern 231 and the second metal pattern 232 are the anodes of any one of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 . An area overlapping the 140 may increase in the order of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 . For example, as illustrated in FIGS. 4 and 5 , the first metal pattern 231 overlapping the first sub-pixel SP1 and the third sub-pixel SP3 and the second sub-pixel SP2 overlapping each other When the second metal pattern 232 is disposed, the area of the metal pattern 230 overlapping the anode 140 of each sub-pixel SP is the smallest in the first sub-pixel SP1 and the third sub-pixel SP3 is the largest, and the second sub-pixel SP2 is the middle.

본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치(200)에서는 각각의 서브 화소(SP)에 발광 소자(ED)에 중첩하는 금속 패턴(230)의 면적을 다르게 배치하여 각각의 서브 화소(SP)에 배치된 발광 소자(ED)에서의 RC 지연 편차를 보상할 수 있다. 구체적으로, 애노드(140)와 캐소드(160) 간의 커패시턴스 크기가 가장 큰 제1 서브 화소(SP1)에서 애노드(140)와 중첩하는 제1 금속 패턴(231)의 면적이 가장 작고, 애노드(140)와 캐소드(160) 간의 커패시턴스 크기가 가장 작은 제3 서브 화소(SP3)에서 애노드(140)와 중첩하는 제1 금속 패턴(231)의 면적이 가장 크며, 애노드(140)와 캐소드(160) 간의 커패시턴스 크기가 중간인 제2 서브 화소(SP2)에서 애노드(140)와 중첩하는 제2 금속 패턴(232)의 면적이 중간일 수 있다. 이에, 상대적으로 작은 커패시턴스가 형성된 서브 화소의 애노드(140)에 상대적으로 큰 추가 커패시턴스를 형성하여, 복수의 서브 화소(SP) 각각에 배치된 발광 소자(ED)에서의 커패시턴스 값을 보상할 수 있다. 이에 따라, 서브 화소 간 RC 지연 편차를 보상할 수 있고, 저계조에서의 컬러 시프트 현상을 개선할 수 있다.In the display device 200 according to another embodiment of the present invention, in each sub-pixel SP, the metal pattern 230 overlapping the light emitting element ED has a different area and is disposed in each sub-pixel SP. It is possible to compensate for the RC delay deviation in the light emitting device ED. Specifically, in the first sub-pixel SP1 having the largest capacitance between the anode 140 and the cathode 160, the area of the first metal pattern 231 overlapping the anode 140 is the smallest, and the anode 140 In the third sub-pixel SP3 having the smallest capacitance between the anode and the cathode 160 , the area of the first metal pattern 231 overlapping the anode 140 is the largest, and the capacitance between the anode 140 and the cathode 160 is The area of the second metal pattern 232 overlapping the anode 140 in the second sub-pixel SP2 having a medium size may be medium. Accordingly, a relatively large additional capacitance may be formed in the anode 140 of the sub-pixel having a relatively small capacitance, thereby compensating for a capacitance value in the light emitting device ED disposed in each of the plurality of sub-pixels SP. . Accordingly, it is possible to compensate for the RC delay deviation between sub-pixels and to improve the color shift phenomenon in the low grayscale.

제1 금속 패턴(231) 및 제2 금속 패턴(232)과 애노드(140) 사이에 커패시터 형성을 위해, 제1 금속 패턴(231) 및 제2 금속 패턴(232)에는 전압이 인가될 수 있다. 예를 들어, 제1 금속 패턴(231) 및 제2 금속 패턴(232)은 직류 전압이 인가되도록 구성될 수 있다. 이때, 직류 전압은 별도 직류 전원으로부터 인가될 수도 있다. 또한, 제1 금속 패턴(231) 및 제2 금속 패턴(232)은 캐소드(160)와 동일한 전압이 인가되도록 구성될 수 있다. 제1 금속 패턴(231) 및 제2 금속 패턴(232)에 캐소드(160)와 동일한 전압이 인가되는 경우, 제1 금속 패턴(231) 및 제2 금속 패턴(232)은 저전위 전원 배선과 전기적으로 연결되어 저전위 전원 신호(EVSS)를 공급받을 수 있다. 또한, 제1 금속 패턴(231) 및 제2 금속 패턴(232)은 고전위 전원 배선(미도시)과 전기적으로 연결되어 고전위 전원신호(EVDD)를 공급받을 수 있다. 예를 들어, 유기 발광 표시 장치는 발광 소자(ED)와 박막 트랜지스터(120)를 포함한 화소들을 매트릭스 형태로 배열하고 영상 데이터의 계조에 따라 화소들에서 구현되는 영상의 휘도를 조절한다. 박막 트랜지스터(120)는 고전위 전원라인에 연결되어 고전위 화소 전원을 인가받고, 자신의 게이트 전극과 소스전극 사이에 걸리는 전압에 따라 발광 소자(ED)에 흐르는 구동전류를 다르게 생성한다. 구동전류에 따라 발광 소자(ED)의 발광량과 영상의 휘도가 결정된다. 고전위 전원배선은 화소가 배치된 영역에 스트라이프 형태 및/또는 그물망 형태로 배치될 수 있다.In order to form a capacitor between the first and second metal patterns 231 and 232 and the anode 140 , a voltage may be applied to the first and second metal patterns 231 and 232 . For example, the first metal pattern 231 and the second metal pattern 232 may be configured to apply a DC voltage. In this case, the DC voltage may be applied from a separate DC power source. Also, the first metal pattern 231 and the second metal pattern 232 may be configured such that the same voltage as that of the cathode 160 is applied. When the same voltage as that of the cathode 160 is applied to the first metal pattern 231 and the second metal pattern 232 , the first metal pattern 231 and the second metal pattern 232 are electrically connected to the low potential power wiring. connected to can receive a low potential power signal (EVSS). Also, the first metal pattern 231 and the second metal pattern 232 may be electrically connected to a high potential power line (not shown) to receive the high potential power signal EVDD. For example, in the organic light emitting diode display, pixels including the light emitting element ED and the thin film transistor 120 are arranged in a matrix form, and the luminance of an image implemented in the pixels is adjusted according to the grayscale of the image data. The thin film transistor 120 is connected to a high potential power line to receive high potential pixel power, and differently generates a driving current flowing through the light emitting device ED according to a voltage applied between its gate electrode and a source electrode. The amount of light emitted from the light emitting device ED and the luminance of the image are determined according to the driving current. The high-potential power wiring may be disposed in a stripe shape and/or a mesh shape in an area in which pixels are disposed.

도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 확대 평면도이다. 도 7은 도 6의 VII-VII'에 따른 단면도이다. 도 6 및 도 7의 표시 장치(300)는 도 1 내지 도 3의 표시 장치(100)와 비교하여, 금속 패턴(330)만이 상이할 뿐, 다른 구성은 실질적으로 동일하여 중복 설명은 생략한다.6 is an enlarged plan view of a display device according to another exemplary embodiment. 7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII' of FIG. 6 . Compared to the display device 100 of FIGS. 1 to 3 , the display device 300 of FIGS. 6 and 7 has only a different metal pattern 330 , and other configurations are substantially the same, and thus a redundant description thereof will be omitted.

도 6을 참조하면, 금속 패턴(330)과 중첩하는 애노드(140)의 면적은 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(330)의 복수의 홀(331) 면적의 합에 의해 결정될 수 있다. 금속 패턴(330)은 복수의 서브 화소(SP)의 애노드(140)와 중첩하도록 층 형상으로 배치될 수 있다. Referring to FIG. 6 , the area of the anode 140 overlapping the metal pattern 330 may be determined by the sum of the areas of the plurality of holes 331 of the metal pattern 330 overlapping the anode 140 . The metal pattern 330 may be disposed in a layer shape to overlap the anode 140 of the plurality of sub-pixels SP.

도 7을 참조하면, 금속 패턴(330)은 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 모두와 중첩하도록 제1 절연층(115) 상부 전면에 배치된 단일 금속 패턴(330)일 수 있다. 각각의 서브 화소(SP)의 애노드(140)와 중첩하는 면적은 복수의 홀(331) 면적의 합에 따라 변경될 수 있다. 복수의 홀(331) 면적의 합은 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 순서로 감소할 수 있다. Referring to FIG. 7 , the metal pattern 330 is disposed on the entire upper surface of the first insulating layer 115 to overlap all of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 . It may be a single metal pattern 330 . An area overlapping the anode 140 of each sub-pixel SP may be changed according to the sum of the areas of the plurality of holes 331 . The sum of the areas of the plurality of holes 331 may decrease in the order of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 .

예를 들어, 도 6에 도시된 바와 같이, 복수의 홀(331) 각각의 면적이 동일하여 복수의 홀(331) 면적의 합이 복수의 홀(331) 개수에 비례할 경우, 제1 서브 화소(SP1)와 중첩하는 복수의 홀(331) 개수가 가장 많고, 제3 서브 화소(SP3)와 중첩하는 복수의 홀(331) 개수가 가장 적고, 제2 서브 화소(SP2)와 중첩하는 복수의 홀(331) 개수가 중간이다. 이에 따라, 제1 서브 화소(SP1), 제2 서브 화소(SP2) 및 제3 서브 화소(SP3) 순으로 복수의 홀(331) 면적의 합이 증가하면 각각의 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(330)의 면적은 감소할 수 있다. 다만, 이는 설명의 편의를 위한 것이고, 복수의 홀(331) 각각의 면적 및 개수는 이에 제한되지 않는다.For example, as shown in FIG. 6 , when the area of each of the plurality of holes 331 is the same so that the sum of the areas of the plurality of holes 331 is proportional to the number of the plurality of holes 331 , the first sub-pixel The number of the plurality of holes 331 overlapping with SP1 is the largest, the number of the plurality of holes 331 overlapping with the third sub-pixel SP3 is the smallest, and the number of the plurality of holes overlapping with the second sub-pixel SP2 is the smallest. The number of holes 331 is medium. Accordingly, when the sum of the areas of the plurality of holes 331 increases in the order of the first sub-pixel SP1 , the second sub-pixel SP2 , and the third sub-pixel SP3 , the metal overlapping each anode 140 . The area of the pattern 330 may be reduced. However, this is for convenience of description, and the area and number of each of the plurality of holes 331 are not limited thereto.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(300)에서는 각각의 서브 화소(SP)에 발광 소자(ED)에 중첩하는 금속 패턴(330)이 복수의 홀(331)을 포함하고, 복수의 홀(331)의 면적 합을 다르게 배치하여 각각의 서브 화소(SP)에 배치된 발광 소자(ED)에서의 RC 지연 편차를 보상할 수 있다. 구체적으로, 애노드(140)와 캐소드(160) 간의 커패시턴스 크기가 가장 큰 제1 서브 화소(SP1)에서 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(330)의 면적이 가장 작고, 애노드(140)와 캐소드(160) 간의 커패시턴스 크기가 가장 작은 제3 서브 화소(SP3)에서 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(330)의 면적이 가장 크며, 애노드(140)와 캐소드(160) 간의 커패시턴스 크기가 중간인 제2 서브 화소(SP2)에서 애노드(140)와 중첩하는 금속 패턴(330)의 면적이 중간일 수 있다. 이에, 상대적으로 작은 커패시턴스가 형성된 서브 화소의 애노드(140)에 상대적으로 큰 추가 커패시턴스를 형성하여, 복수의 서브 화소(SP) 각각에 배치된 발광 소자(ED)에서의 커패시턴스 값을 보상할 수 있다. 이에 따라, 서브 화소 간 RC 지연 편차를 보상할 수 있고, 저계조에서의 컬러 시프트 현상을 개선할 수 있다.In the display device 300 according to another embodiment of the present invention, the metal pattern 330 overlapping the light emitting element ED in each sub-pixel SP includes a plurality of holes 331 , and the plurality of holes By disposing the area sum of 331 differently, the RC delay deviation in the light emitting device ED disposed in each sub-pixel SP may be compensated for. Specifically, in the first sub-pixel SP1 having the largest capacitance between the anode 140 and the cathode 160 , the area of the metal pattern 330 overlapping the anode 140 is the smallest, and the anode 140 and the cathode In the third sub-pixel SP3 having the smallest capacitance between 160 , the area of the metal pattern 330 overlapping the anode 140 is the largest, and the capacitance between the anode 140 and the cathode 160 is intermediate. The area of the metal pattern 330 overlapping the anode 140 in the second sub-pixel SP2 may be in the middle. Accordingly, a relatively large additional capacitance may be formed in the anode 140 of the sub-pixel having a relatively small capacitance, thereby compensating for a capacitance value in the light emitting device ED disposed in each of the plurality of sub-pixels SP. . Accordingly, it is possible to compensate for the RC delay deviation between sub-pixels and to improve the color shift phenomenon in the low grayscale.

도 8은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 단면도이다. 도 8의 표시 장치(400)는 도 1 내지 도 3의 표시 장치(100)와 비교하여, 제2 절연층(416), 발광 소자(ED)만이 상이할 뿐, 다른 구성은 실질적으로 동일하여 중복 설명은 생략한다.8 is a schematic cross-sectional view of a display device according to another exemplary embodiment. Compared to the display device 100 of FIGS. 1 to 3 , the display device 400 of FIG. 8 differs only in the second insulating layer 416 and the light emitting device ED, and other configurations are substantially the same and overlap. A description is omitted.

도 8을 참조하면, 제2 절연층(416) 및 복수의 발광 소자(ED)는 각각의 발광 소자(ED)에 중첩되는 금속 패턴(130)에 의해 비평탄한 형상으로 배치된다. 따라서, 이로부터 복수의 발광 소자(ED)는 오목부 또는 볼록부가 형성되어 마이크로 렌즈 어레이(micro lens array, MLA) 구조를 형성할 수 있다. 구체적으로, 금속 패턴(130)과 중첩되는 제2 절연층(416), 애노드(460), 유기층(450) 및 캐소드(460)에 오목부 또는 볼록부가 형성된다. 이에 따라, 애노드(440)에 입사되는 광 중, 입사각이 전반사 임계각 이하로 입사되는 광은 반사층에 반사되어 그대로 캐소드(460) 밖으로 추출된다. 그리고, 입사각이 전반사 임계각 이상으로 입사되는 광은 유기층(450)에 갇히지 않고 오목부 또는 볼록부에 부딪혀 광 경로가 변경됨으로써 최종적으로 전반사 임계각보다 광의 진행 각도가 작아지게 되어, 캐소드(460) 밖으로 추출된다. 즉, 제2 절연층(416) 및 복수의 발광 소자(ED)가 평평한 경우에 입사각이 전반사 임계각 이상으로 입사되어 외부로 추출되지 못하는 광이, 오목부 또는 볼록부에 의해 외부로 추출될 수 있으므로, 표시 장치(400)의 광 추출 효율이 향상될 수 있다.Referring to FIG. 8 , the second insulating layer 416 and the plurality of light emitting devices ED are arranged in a non-planar shape by the metal pattern 130 overlapping each of the light emitting devices ED. Accordingly, concave or convex portions may be formed in the plurality of light emitting devices ED to form a micro lens array (MLA) structure. Specifically, concave or convex portions are formed in the second insulating layer 416 , the anode 460 , the organic layer 450 , and the cathode 460 overlapping the metal pattern 130 . Accordingly, among the light incident on the anode 440 , the light incident with an incident angle equal to or less than the total reflection critical angle is reflected by the reflective layer and extracted out of the cathode 460 as it is. And, the light incident at an angle of incidence greater than or equal to the critical angle of total reflection is not trapped in the organic layer 450, but hits the concave or convex portion to change the optical path, so that the propagation angle of light becomes smaller than the critical angle of total reflection, and is extracted out of the cathode 460 do. That is, when the second insulating layer 416 and the plurality of light emitting devices ED are flat, the incident angle is greater than the total reflection critical angle and thus light that cannot be extracted to the outside may be extracted by the concave or convex portions. , the light extraction efficiency of the display device 400 may be improved.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(400)에서는 각각의 서브 화소(SP)에 발광 소자(ED)에 중첩하는 금속 패턴(130)을 배치하여 각각의 서브 화소(SP)에 배치된 발광 소자(ED)에서의 RC 지연 편차를 보상하고, 저계조에서의 컬러 시프트 현상을 개선할 수 있다. In the display device 400 according to another embodiment of the present invention, the metal pattern 130 overlapping the light emitting device ED is disposed in each sub-pixel SP, and the light emission disposed in each sub-pixel SP is disposed. It is possible to compensate for the RC delay deviation in the device ED and to improve the color shift phenomenon in the low grayscale.

또한, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 표시 장치(400)에서는 금속 패턴(130)과 중첩하는 복수의 발광 소자(ED)에 마이크로 렌즈 어레이 구조를 형성하여 발광 소자(ED) 내부에 갇히게 되는 광의 양을 감소시킬 수 있어 광 추출 효율을 향상시킬 수 있다. In addition, in the display device 400 according to another exemplary embodiment of the present invention, a microlens array structure is formed in the plurality of light emitting devices ED overlapping the metal pattern 130 to reduce the amount of light trapped inside the light emitting devices ED. It is possible to reduce the amount, so that the light extraction efficiency can be improved.

본 발명의 다양한 실시예들에 따른 표시 장치는 다음과 같이 설명될 수 있다.A display device according to various embodiments of the present disclosure may be described as follows.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 복수의 서브 화소가 정의된 기판, 기판 상에 배치된 제1 절연층, 제1 절연층 상에 배치되고, 직류 전압이 인가되는 적어도 하나의 금속 패턴, 금속 패턴 상에 배치된 제2 절연층, 및 제2 절연층 상에서 금속 패턴과 중첩하도록 배치되고, 애노드, 유기층 및 캐소드를 포함하는 복수의 발광 소자를 포함한다.A display device according to an embodiment of the present invention includes a substrate on which a plurality of sub-pixels are defined, a first insulating layer disposed on the substrate, at least one metal pattern disposed on the first insulating layer and to which a DC voltage is applied; A second insulating layer disposed on the metal pattern, and a plurality of light emitting devices disposed on the second insulating layer to overlap the metal pattern and including an anode, an organic layer, and a cathode.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 금속 패턴은 애노드와 중첩하도록 배치되어 애노드와 커패시터를 이룰 수 있다.According to another feature of the present invention, the metal pattern may be disposed to overlap the anode to form the anode and the capacitor.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 복수의 서브 화소는 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소를 포함하고, 제1 서브 화소, 제2 서브 화소, 제3 서브 화소 각각에 배치된 애노드와 중첩하는 금속 패턴의 면적은 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소 각각에 배치된 유기층의 두께가 커질수록 증가할 수 있다.According to another feature of the present invention, the plurality of sub-pixels includes a first sub-pixel, a second sub-pixel, and a third sub-pixel, each of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel disposed in each of the sub-pixels. The area of the metal pattern overlapping the anode may increase as the thickness of the organic layer disposed in each of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel increases.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제1 서브 화소는 청색 서브 화소이고, 제2 서브 화소는 녹색 서브 화소이고, 제3 서브 화소는 적색 서브 화소이고, 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소 각각에 배치된 유기층의 두께는 제1 서브 화소, 제2 서브 화소, 제3 서브 화소 순서로 증가할 수 있다.According to another feature of the present invention, the first sub-pixel is a blue sub-pixel, the second sub-pixel is a green sub-pixel, and the third sub-pixel is a red sub-pixel, and the first sub-pixel, the second sub-pixel and the second sub-pixel are The thickness of the organic layer disposed in each of the three sub-pixels may increase in the order of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제1 서브 화소의 애노드의 면적은 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소의 애노드의 면적보다 클 수 있다.According to another feature of the present invention, the area of the anode of the first sub-pixel may be larger than the area of the anode of the second sub-pixel and the third sub-pixel.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 금속 패턴은 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소 중 2개의 서브 화소와 중첩하는 제1 금속 패턴 및 나머지 1개의 서브 화소와 중첩하는 제2 금속 패턴을 포함할 수 있다.According to still another feature of the present invention, the metal pattern includes a first metal pattern overlapping two sub-pixels among the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel, and a second metal pattern overlapping the remaining one sub-pixel. It may include patterns.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소 각각의 애노드와 중첩하는 제1 금속 패턴 및 제2 금속 패턴의 면적이 상이한, 표시 장치.According to another feature of the present invention, the display device, wherein the area of the first metal pattern and the second metal pattern overlapping the anode of each of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel is different.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 금속 패턴은 복수이고, 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소 각각의 애노드와 중첩하는 금속 패턴의 개수는 제1 서브 화소, 제2 서브 화소, 제3 서브 화소 순서로 증가할 수 있다.According to another feature of the present invention, the number of metal patterns is plural, and the number of metal patterns overlapping the anodes of each of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel is the number of the first sub-pixel, the second sub-pixel, It may increase in the order of the third sub-pixel.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제2 절연층은 금속 패턴에 의해 비평탄한 형상을 가지고, 복수의 발광 소자 각각은 오목부 또는 볼록부를 포함할 수 있다.According to another feature of the present invention, the second insulating layer may have a non-flat shape due to a metal pattern, and each of the plurality of light emitting devices may include a concave portion or a convex portion.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 금속 패턴은 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소 모두와 중첩하는 단일 금속 패턴이고, 금속 패턴은 복수의 홀을 포함하고, 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소 각각의 애노드와 중첩하는 홀의 면적의 합은 제1 서브 화소, 제2 서브 화소, 제3 서브 화소 순서로 감소할 수 있다.According to another feature of the present invention, the metal pattern is a single metal pattern overlapping all of the first sub-pixel, the second sub-pixel and the third sub-pixel, the metal pattern including a plurality of holes, the first sub-pixel; The sum of the area of the hole overlapping the anode of each of the second sub-pixel and the third sub-pixel may decrease in the order of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 금속 패턴은 캐소드와 동일한 전압이 인가되도록 구성될 수 있다.According to another feature of the present invention, the metal pattern may be configured such that the same voltage as that of the cathode is applied.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 기판 상에 배치된 트랜지스터를 더 포함하고, 제1 절연층은 트랜지스터 상에 배치될 수 있다.According to another feature of the present invention, it further comprises a transistor disposed on the substrate, the first insulating layer may be disposed on the transistor.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 제한하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 제한되는 것은 아니다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 제한적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in more detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not necessarily limited to these embodiments, and various modifications may be made within the scope without departing from the technical spirit of the present invention. . Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to illustrate, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. The protection scope of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

100, 200, 300, 400: 표시 장치
110: 기판
111: 버퍼층
112: 게이트 절연층
113: 층간 절연층
114: 패시베이션층
115: 제1 절연층
116, 416: 제2 절연층
117: 뱅크
120: 박막 트랜지스터
121: 게이트 전극
122: 액티브층
123: 드레인 전극
124: 소스 전극
130, 230, 330: 금속 패턴
231: 제1 금속 패턴
232: 제2 금속 패턴
140, 440: 애노드
141: 제1 애노드
142: 제2 애노드
143: 제3 애노드
150, 450: 유기층
151: 정공 주입층
152: 제1 정공 수송층
153: 제2 정공 수송층
154: 제3 정공 수송층
155: 발광층
155_1: 제1 발광층
155_2: 제2 발광층
155_3: 제3 발광층
156: 전자 수송층
160, 460: 캐소드
331: 홀
ED: 발광 소자
ED1: 제1 발광 소자
ED2: 제2 발광 소자
ED3: 제3 발광 소자
SP: 서브 화소
SP1: 제1 서브 화소
SP2: 제2 서브 화소
SP3: 제3 서브 화소
100, 200, 300, 400: display device
110: substrate
111: buffer layer
112: gate insulating layer
113: interlayer insulating layer
114: passivation layer
115: first insulating layer
116, 416: second insulating layer
117: bank
120: thin film transistor
121: gate electrode
122: active layer
123: drain electrode
124: source electrode
130, 230, 330: metal pattern
231: first metal pattern
232: second metal pattern
140, 440: anode
141: first anode
142: second anode
143: third anode
150, 450: organic layer
151: hole injection layer
152: first hole transport layer
153: second hole transport layer
154: third hole transport layer
155: light emitting layer
155_1: first light emitting layer
155_2: second light emitting layer
155_3: third light emitting layer
156: electron transport layer
160, 460: cathode
331: Hall
ED: light emitting element
ED1: first light emitting element
ED2: second light emitting element
ED3: third light emitting element
SP: sub pixel
SP1: first sub-pixel
SP2: second sub-pixel
SP3: third sub-pixel

Claims (13)

복수의 서브 화소가 정의된 기판;
상기 기판 상에 배치된 제1 절연층;
상기 제1 절연층 상에 배치되고, 직류 전압이 인가되는 적어도 하나의 금속 패턴;
상기 금속 패턴 상에 배치된 제2 절연층; 및
상기 제2 절연층 상에서 상기 금속 패턴과 중첩하도록 배치되고, 애노드, 유기층 및 캐소드를 포함하는 복수의 발광 소자를 포함하는, 표시 장치.
a substrate on which a plurality of sub-pixels are defined;
a first insulating layer disposed on the substrate;
at least one metal pattern disposed on the first insulating layer and to which a DC voltage is applied;
a second insulating layer disposed on the metal pattern; and
and a plurality of light emitting devices disposed on the second insulating layer to overlap the metal pattern and including an anode, an organic layer, and a cathode.
제1 항에 있어서,
상기 금속 패턴은 상기 애노드와 중첩하도록 배치되어 상기 애노드와 커패시터를 이루는, 표시장치.
According to claim 1,
The metal pattern is disposed to overlap the anode to form a capacitor with the anode.
제1 항에 있어서,
상기 복수의 서브 화소는 제1 서브 화소, 제2 서브 화소 및 제3 서브 화소를 포함하고,
상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소, 상기 제3 서브 화소 각각에 배치된 애노드와 중첩하는 상기 금속 패턴의 면적은 상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소 각각에 배치된 유기층의 두께가 커질수록 증가하는, 표시장치.
According to claim 1,
The plurality of sub-pixels includes a first sub-pixel, a second sub-pixel, and a third sub-pixel;
An area of the metal pattern overlapping an anode disposed in each of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel is in each of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel. A display device, which increases as the thickness of the disposed organic layer increases.
제1 항에 있어서,
상기 제1 서브 화소는 청색 서브 화소이고,
상기 제2 서브 화소는 녹색 서브 화소이고,
상기 제3 서브 화소는 적색 서브 화소이고,
상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소 각각에 배치된 유기층의 두께는 상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소, 상기 제3 서브 화소 순서로 증가하는, 표시장치.
According to claim 1,
the first sub-pixel is a blue sub-pixel;
the second sub-pixel is a green sub-pixel;
the third sub-pixel is a red sub-pixel;
The thickness of the organic layer disposed on each of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel increases in the order of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel.
제4 항에 있어서,
상기 제1 서브 화소의 애노드의 면적은 상기 제2 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소의 애노드의 면적보다 큰, 표시장치.
5. The method of claim 4,
An area of an anode of the first sub-pixel is larger than an area of an anode of the second sub-pixel and the third sub-pixel.
제5 항에 있어서,
상기 제2 서브 화소의 애노드의 면적은 상기 제3 서브 화소의 애노드의 면적보다 큰, 표시장치.
6. The method of claim 5,
An area of an anode of the second sub-pixel is larger than an area of an anode of the third sub-pixel.
제1 항에 있어서,
상기 금속 패턴은 상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소 중 2개의 서브 화소와 중첩하는 제1 금속 패턴 및 나머지 1개의 서브 화소와 중첩하는 제2 금속 패턴을 포함하고,
상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소 각각의 애노드와 중첩하는 상기 제1 금속 패턴 및 상기 제2 금속 패턴의 면적이 상이한, 표시장치.
According to claim 1,
the metal pattern includes a first metal pattern overlapping two sub-pixels of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel, and a second metal pattern overlapping the remaining one sub-pixel;
and areas of the first metal pattern and the second metal pattern overlapping an anode of each of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel are different from each other.
제1 항에 있어서,
상기 금속 패턴은 복수이고,
상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소 각각의 애노드와 중첩하는 상기 금속 패턴의 개수는 상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소, 상기 제3 서브 화소 순서로 증가하는, 표시장치.
According to claim 1,
The metal pattern is plural,
The number of the metal patterns overlapping the anodes of each of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel increases in the order of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel. , display.
제8 항에 있어서,
상기 제2 절연층은 상기 금속 패턴에 의해 비평탄한 형상을 가지고,
상기 복수의 발광 소자 각각은 오목부 또는 볼록부를 포함하는, 표시장치.
9. The method of claim 8,
The second insulating layer has a non-flat shape by the metal pattern,
Each of the plurality of light emitting elements includes a concave portion or a convex portion.
제1 항에 있어서,
상기 금속 패턴은 상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소 모두와 중첩하는 단일 금속 패턴이고,
상기 금속 패턴은 복수의 홀을 포함하고,
상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소 및 상기 제3 서브 화소 각각의 애노드와 중첩하는 상기 홀의 면적의 합은 상기 제1 서브 화소, 상기 제2 서브 화소, 상기 제3 서브 화소 순서로 감소하는, 표시장치.
According to claim 1,
the metal pattern is a single metal pattern overlapping all of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel;
The metal pattern includes a plurality of holes,
The sum of the area of the hole overlapping the anode of each of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel decreases in the order of the first sub-pixel, the second sub-pixel, and the third sub-pixel. , display.
제1 항에 있어서,
상기 금속 패턴은 상기 캐소드와 동일한 전압이 인가되도록 구성된, 표시장치.
According to claim 1,
The metal pattern is configured such that the same voltage as that of the cathode is applied.
제1 항에 있어서,
상기 기판 상에 배치된 트랜지스터를 더 포함하고,
상기 제1 절연층은 상기 트랜지스터 상에 배치된, 표시 장치.
According to claim 1,
Further comprising a transistor disposed on the substrate,
and the first insulating layer is disposed on the transistor.
제12 항에 있어서,
상기 복수의 서브 화소에 고전위 전원을 공급하기 위해, 상기 기판에 배치된 고전위 전원배선을 더 포함하고,
상상기 금속 패턴은 상기 고전위 전원배선으로부터 고전위 전원이 인가되도록 구성된, 표시장치.
13. The method of claim 12,
and a high-potential power wiring disposed on the substrate to supply high-potential power to the plurality of sub-pixels;
The Sanggi metal pattern is configured such that high potential power is applied from the high potential power wiring.
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