[go: up one dir, main page]

KR20230125639A - Colored photosensitive resin composition, color filter and solid-state imaging element using the same - Google Patents

Colored photosensitive resin composition, color filter and solid-state imaging element using the same Download PDF

Info

Publication number
KR20230125639A
KR20230125639A KR1020220022490A KR20220022490A KR20230125639A KR 20230125639 A KR20230125639 A KR 20230125639A KR 1020220022490 A KR1020220022490 A KR 1020220022490A KR 20220022490 A KR20220022490 A KR 20220022490A KR 20230125639 A KR20230125639 A KR 20230125639A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
resin composition
photosensitive resin
colored photosensitive
pigment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
KR1020220022490A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
임유빈
이서환
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Priority to KR1020220022490A priority Critical patent/KR20230125639A/en
Publication of KR20230125639A publication Critical patent/KR20230125639A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • H01L27/146
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
    • H10F39/10Integrated devices
    • H10F39/12Image sensors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

The present invention relates to a colored photosensitive resin composition comprising a pigment dispersion (A), an alkali-soluble resin (B), a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), an additive (E), and a solvent (F) and having excellent adhesion and heat resistance without a phenomenon of lifting between substrates, a color filter manufactured using the same, and a solid-state imaging device, wherein the additive (E) includes 0.05 to 0.50 wt% of a compound represented by chemical formula 1 based on 100 wt% of solid content of the colored photosensitive resin composition. Accordingly, by applying the color filter according to the present invention, a high quality device can be provided.

Description

착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 고체 촬상 소자{COLORED PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, COLOR FILTER AND SOLID-STATE IMAGING ELEMENT USING THE SAME}Colored photosensitive resin composition, color filter and solid-state imaging device manufactured using the same

본 발명은 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 고체 촬상 소자에 관한 것이다.The present invention relates to a colored photosensitive resin composition, a color filter and a solid-state imaging device manufactured using the same.

컬러필터는 촬상(撮像)소자, 액정표시장치(LCD) 등의 각종 표시장치에 널리 이용되는 것으로, 그 응용 범위가 급속히 확대되고 있다. 상기 촬상 소자, 액정표시장치 등에 사용되는 컬러필터는 레드(Red), 그린(Green) 및 블루(Blue)의 3가지 컬러의 착색패턴으로 이루어지거나, 옐로우(Yellow), 마젠타(Magenta) 및 시안(Cyan)의 3가지 컬러의 착색패턴으로 이루어진다.Color filters are widely used in various display devices such as imaging devices and liquid crystal displays (LCDs), and their application range is rapidly expanding. The color filter used in the imaging device, the liquid crystal display device, etc. consists of a coloring pattern of three colors of red, green, and blue, or yellow, magenta, and cyan ( Cyan) is composed of three color coloring patterns.

상기 컬러필터 각각의 착색패턴은 일반적으로 안료 또는 염료 등의 색재, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 용제를 포함하는 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성된다. 상기 착색 감광성 수지 조성물을 이용한 착색패턴 가공은 통상적으로 리소그래피 공정으로 수행되고 있다.Each color pattern of the color filter is generally formed using a colored photosensitive resin composition containing a color material such as a pigment or dye, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent. Color pattern processing using the colored photosensitive resin composition is usually performed through a lithography process.

착색 감광성 수지 조성물은 컬러필터, 액정표시재료, 유기발광소자, 디스플레이 등의 필수적인 재료이다. 예로 컬러 액정 디스플레이의 컬러 필터에는 레드, 그린, 블루의 콘트라스트와 발색효과를 높이기 위해 착색 층간의 경계 부분에 흑색 감광성 조성물을 이용한 차광층을 형성한다. 또한 최근에는 어레이 기판상에 위치하여 블랙 매트릭스의 역할뿐만 아니라, 셀갭 유지용 스페이서도 형성하여 한번에 다양한 역할이 가능해지도록 요구되고 있다. 이에 따라, 기본적인 차광을 위한 광학 효과뿐만 아니라, 탄성률 및 신뢰성이 좋은 특성을 필요로 한다.The colored photosensitive resin composition is an essential material for color filters, liquid crystal display materials, organic light emitting devices, displays and the like. For example, in a color filter of a color liquid crystal display, a light blocking layer using a black photosensitive composition is formed at a boundary between colored layers in order to enhance contrast and color development of red, green, and blue. Also, recently, it is required to be positioned on an array substrate to form spacers for maintaining a cell gap as well as a role of a black matrix so that various roles can be performed at once. Accordingly, not only an optical effect for basic light blocking, but also a good elastic modulus and reliability are required.

한편, 대한민국 공개특허공보 제10-2012-0014728호는 특정 화학식으로 표시되는 첨가제를 포함함으로써, 우수한 접착력을 갖는 초미세화된 고해상도의 착색패턴을 제공하고 있으며, 대한민국 등록특허공보 제10-2233483호 에서는 디설파이드 구조를 포함하는 화합물을 수지의 구성으로 포함하여, 황변 발생이 감소되고 잔막율이 우수하며, 역테이퍼 형상의 패턴 생성을 방지하는 감광성 수지 조성물을 제공하고 있으나, 기재간 밀착성이 충분하지 못한 문제점이 발생할 수 있다.On the other hand, Korean Patent Laid-open Publication No. 10-2012-0014728 includes an additive represented by a specific chemical formula, thereby providing an ultra-fine high-resolution coloring pattern having excellent adhesive strength, and Korean Patent Publication No. 10-2233483 A photosensitive resin composition comprising a compound containing a disulfide structure as a composition of the resin reduces yellowing, has an excellent film remaining rate, and prevents the formation of a reverse tapered pattern, but the problem of insufficient adhesion between substrates this can happen

대한민국 공개특허공보 제10-2012-0014728호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2012-0014728 대한민국 등록특허공보 제10-2233483호Republic of Korea Patent Registration No. 10-2233483

본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위하여, 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된, 기재간 밀착성이 우수하면서, 내열성이 뛰어난 컬러필터 및 고체 촬상 소자를 제공하는 것을 일 목적으로 한다.In order to solve the above-mentioned problems, an object of the present invention is to provide a color filter and a solid-state imaging device having excellent heat resistance and excellent adhesion between substrates, which are manufactured using the colored photosensitive resin composition according to the present invention.

그러나, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.However, the problem to be solved by the present invention is not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description below.

상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명은, (A)안료 분산액, (B)알칼리 가용성 수지, (C)광중합성 화합물, (D)광중합 개시제, (E)첨가제 및 (F)용제를 포함하며, 상기 (E)첨가제는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 상기 착색 감광성 수지 조성물의 고형분 100 중량%에 대하여 0.05 내지 0.50 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다.In order to solve the above problems, the present invention includes (A) a pigment dispersion, (B) an alkali-soluble resin, (C) a photopolymerizable compound, (D) a photopolymerization initiator, (E) an additive and (F) a solvent, (E) the additive is characterized in that it comprises 0.05 to 0.50% by weight of the compound represented by Formula 1 based on 100% by weight of the solid content of the colored photosensitive resin composition A colored photosensitive resin composition is provided.

[화학식 1][Formula 1]

상기 화학식 1에서, R 및 R’은, 각각 독립적으로, 카르복시기, 하이드록시기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 탄소수 2 내지 10의 알키닐기, 탄소수 3 내지 12의 카보닐기, 탄소수 3 내지 12의 방향족 치환기 또는 탄소수 3 내지 12의 헤테로 방향족 치환기이고, n은, 각각 독립적으로, 1 내지 5의 정수인 것일 수 있다. In Formula 1, R and R' are each independently a carboxy group, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, and a carbo group having 3 to 12 carbon atoms. A yl group, an aromatic substituent having 3 to 12 carbon atoms, or a heteroaromatic substituent having 3 to 12 carbon atoms, and n may be each independently an integer of 1 to 5.

본 발명은, 상기 화학식 1이 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-9 중 선택되는 1종 이상인 것일 수 있다.In the present invention, Formula 1 may be at least one selected from Formulas 1-1 to 1-9 below.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

[화학식 1-2][Formula 1-2]

[화학식 1-3][Formula 1-3]

[화학식 1-4][Formula 1-4]

[화학식 1-5][Formula 1-5]

[화학식 1-6][Formula 1-6]

[화학식 1-7][Formula 1-7]

[화학식 1-8][Formula 1-8]

[화학식 1-9][Formula 1-9]

본 발명은, (A)안료 분산액에 1종 이상의 안료를 포함하는 것일 수 있다.In the present invention, (A) the pigment dispersion may contain at least one pigment.

본 발명은, 광중합성 화합물이 단관능 단량체 및 2관능 이상의 단량체 중 적어도 1종 이상을 포함하는 것일 수 있다.In the present invention, the photopolymerizable compound may contain at least one or more of a monofunctional monomer and a bifunctional or higher functional monomer.

본 발명은, 다른 고분자 화합물, 경화제, 계면활성제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제 및 응집 방지제로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것일 수 있다.The present invention may include one or more selected from the group consisting of other polymer compounds, curing agents, surfactants, adhesion accelerators, antioxidants, ultraviolet absorbers, and aggregation inhibitors.

또한 본 발명은, 상기 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 착색 패턴을 포함하는 컬러필터에 관한 것이다.In addition, the present invention relates to a color filter comprising a colored pattern manufactured using the colored photosensitive resin composition.

또한 본 발명은, 상기 컬러필터를 포함하는 고체 촬상 소자에 관한 것이다.Further, the present invention relates to a solid-state imaging device including the color filter.

본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 컬러필터 및 고체 촬상 소자는, 기재간 밀착성 및 내열성을 개선할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 컬러필터를 적용하여 견고하고 우수한 품질의 디바이스를 제공할 수 있다.A color filter and a solid-state imaging device manufactured using the colored photosensitive resin composition according to the present invention can improve adhesion between substrates and heat resistance. Therefore, a robust and high-quality device can be provided by applying the color filter according to the present invention.

본 발명은 안료 분산액, 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, 첨가제 및 용제를 포함하고, 상기 첨가제는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하여 밀착성이 뛰어난 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 표시장치에 관하여 이하, 상세히 설명한다.The present invention includes a pigment dispersion, an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, an additive, and a solvent, wherein the additive includes a compound represented by the following formula (1), thereby providing a colored photosensitive resin composition with excellent adhesion and the same Hereinafter, a color filter and a display device manufactured using the above will be described in detail.

[화학식 1][Formula 1]

상기 화학식 1에서, R 및 R’은, 각각 독립적으로, 카르복시기, 하이드록시기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 탄소수 2 내지 10의 알키닐기, 탄소수 3 내지 12의 카보닐기, 탄소수 3 내지 12의 방향족 치환기 또는 탄소수 3 내지 12의 헤테로 방향족 치환기이고, n은, 각각 독립적으로, 1 내지 5의 정수이다.In Formula 1, R and R' are each independently a carboxy group, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, and a carbo group having 3 to 12 carbon atoms. A yl group, an aromatic substituent having 3 to 12 carbon atoms, or a heteroaromatic substituent having 3 to 12 carbon atoms, and n is each independently an integer of 1 to 5.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 양태를 상세히 설명하기로 한다. 그러나 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에게 있어서 자명할 것이다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail. However, these examples are only presented as an example to explain the present invention in more detail, and it will be apparent to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited by these examples. will be.

<착색 감광성 수지 조성물><Colored photosensitive resin composition>

본 발명의 착색 감광성 수지 조성물은, (A)안료 분산액, (B)알칼리 가용성 수지, (C)광중합성 화합물, (D)광중합 개시제, (E)첨가제 및 (F)용제를 포함하고, 상기 (E)첨가제는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하며, 필요에 따라 기타 첨가제로써 다른 고분자 화합물, 경화제, 계면활성제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제 및 응집 방지제로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.The colored photosensitive resin composition of the present invention contains (A) a pigment dispersion, (B) an alkali-soluble resin, (C) a photopolymerizable compound, (D) a photopolymerization initiator, (E) an additive and (F) a solvent, and E) The additive is characterized in that it includes a compound represented by Formula 1, and, if necessary, other additives selected from the group consisting of other polymer compounds, curing agents, surfactants, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, and anti-aggregation agents. It may include one or more species that are.

[화학식 1][Formula 1]

상기 화학식 1에서, R 및 R’은, 각각 독립적으로, 카르복시기, 하이드록시기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 탄소수 2 내지 10의 알키닐기, 탄소수 3 내지 12의 카보닐기, 탄소수 3 내지 12의 방향족 치환기 또는 탄소수 3 내지 12의 헤테로 방향족 치환기이고, n은, 각각 독립적으로, 1 내지 5의 정수이다.In Formula 1, R and R' are each independently a carboxy group, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, and a carbo group having 3 to 12 carbon atoms. A yl group, an aromatic substituent having 3 to 12 carbon atoms, or a heteroaromatic substituent having 3 to 12 carbon atoms, and n is each independently an integer of 1 to 5.

(A)안료 분산액(A) pigment dispersion

본 발명에 따른 안료 분산액은, 1종 이상의 안료를 포함하며, 필요에 따라 1종 이상의 염료 또는 안료 분산제를 더 포함할 수 있다. The pigment dispersion according to the present invention contains one or more types of pigments, and may further include one or more types of dyes or pigment dispersants as needed.

(a1) 안료(a1) pigment

상기 안료는 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 유기 안료 또는 무기 안료를 사용할 수 있다. 상기 유기 안료로는 인쇄 잉크, 잉크젯 잉크 등에 사용되는 각종의 안료를 사용할 수 있으며, 구체적으로는 수용성 아조 안료, 불용성 아조 안료, 프타로시아닌안료, 퀴나크리돈 안료, 이소인돌리논 안료, 이소인돌린 안료, 페리렌 안료, 페리논 안료, 디옥사진 안료, 안트라퀴논 안료, 디안트라퀴노닐 안료, 안트라피리미딘 안료, 안탄트론(anthanthrone) 안료, 인단트론(indanthrone) 안료, 프라반트론 안료, 피란트론(pyranthrone) 안료, 디케토피로로피롤 안료 등을 들 수 있다. 상기 무기 안료로는 금속 산화물이나 금속 착염 등의 금속 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티탄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬, 카본블랙 등의 금속의 산화물 또는 복합 금속 산화물 등을 들 수 있다. 특히, 상기 유기 안료 및 무기 안료로는 구체적으로 색지수(The society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있고, 보다 구체적으로는 이하와 같은 색지수(C.I.) 번호의 안료를 들 수 있지만, 반드시 이들로 한정되는 것은 아니다.As the pigment, organic or inorganic pigments generally used in the art may be used. As the organic pigment, various pigments used in printing ink, inkjet ink, etc. may be used. Specifically, water-soluble azo pigments, insoluble azo pigments, phthalocyanine pigments, quinacridone pigments, isoindolinone pigments, iso Indoline pigments, ferylene pigments, perinone pigments, dioxazine pigments, anthraquinone pigments, dianthraquinonyl pigments, anthrapyrimidine pigments, anthanthrone pigments, indanthrone pigments, pravanthrone pigments, A pyranthrone pigment, a diketopyrroropyrrole pigment, etc. are mentioned. Examples of the inorganic pigment include metal compounds such as metal oxides and metal complex salts, and specifically, metals such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, antimony, and carbon black. oxides or composite metal oxides; and the like. In particular, the organic and inorganic pigments include compounds classified as pigments in color index (published by The Society of Dyers and Colourists), more specifically, the following color index (C.I.) numbers Although a pigment can be mentioned, it is not necessarily limited to these.

C.I. 피그먼트 옐로우 13, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 및 185;C.I. Pigment Yellow 13, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 and 185;

C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 및 71;C.I. Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, and 71;

C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 139, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 208, 215, 216, 224, 242, 254, 255 및 264;C.I. Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 139, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 208, 215, 216, 224, 242, 254, 255 and 264;

C.I. 피그먼트 바이올렛 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 및 38;C.I. Pigment Violet 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37 and 38;

C.I. 피그먼트 블루 15(15:3, 15:4, 15:6등), 21, 28, 60, 64 및 76;C.I. Pigment Blue 15 (15:3, 15:4, 15:6, etc.), 21, 28, 60, 64 and 76;

C.I. 피그먼트 그린 7, 10, 15, 25, 36, 47 및 58;C.I. Pigment Green 7, 10, 15, 25, 36, 47 and 58;

C.I 피그먼트 브라운 28;C.I Pigment Brown 28;

C.I 피그먼트 블랙 1 및 7 등을 포함할 수 있다.C.I Pigment Black 1 and 7 and the like.

상기 안료들은 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.These pigments may be used alone or in combination of two or more.

상기 예시된 C.I. 피그먼트 안료 중에서도 C.I. 피그먼트 옐로우 138, C.I. 피그먼트 옐로우 139, C.I. 피그먼트 옐로우 150, C.I. 피그먼트 옐로우 185, C.I. 피그먼트 오렌지 38, C.I. 피그먼트 레드 122, C.I. 피그먼트 레드 139, C.I. 피그먼트 레드 166, C.I. 피그먼트 레드 177, C.I. 피그먼트 레드 208, C.I. 피그먼트 레드 242, C.I. 피그먼트 레드 254, C.I. 피그먼트 레드 255, C.I. 피그먼트 바이올렛 23, C.I. 피그먼트 블루 15:3, 피그먼트 블루 15:6, C.I. 피그먼트 그린 7, C.I. 피그먼트 그린 36, C.I. 피그먼트 그린 58 에서 선택되는 안료가 바람직하게 사용될 수 있다.The above exemplified C.I. Among the pigment pigments, C.I. Pigment Yellow 138, C.I. Pigment Yellow 139, C.I. Pigment Yellow 150, C.I. Pigment Yellow 185, C.I. Pigment Orange 38, C.I. Pigment Red 122, C.I. Pigment Red 139, C.I. Pigment Red 166, C.I. Pigment Red 177, C.I. Pigment Red 208, C.I. Pigment Red 242, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 255, C.I. Pigment Violet 23, C.I. Pigment Blue 15:3, Pigment Blue 15:6, C.I. Pigment Green 7, C.I. Pigment Green 36, C.I. A pigment selected from Pigment Green 58 can be preferably used.

상기 안료의 함량은 안료 분산액 전체 고형분에 대하여 10 내지 50 중량%, 바람직하게는 15 내지 45 중량%의 범위이다. 상기 안료의 함량이 상기의 기준으로 15 내지 40 중량%의 범위이면 점도가 낮고 저장안정성이 우수하며 분산효율이 높아 명암비 상승에 효과적이기 때문에 바람직하다.The content of the pigment is in the range of 10 to 50% by weight, preferably 15 to 45% by weight, based on the total solid content of the pigment dispersion. When the content of the pigment is in the range of 15 to 40% by weight based on the above, the viscosity is low, the storage stability is excellent, and the dispersion efficiency is high, so it is effective in increasing the contrast ratio, so it is preferable.

(a2) 염료(a2) dye

상기 염료는 유기용제에 대한 용해성을 가지는 것이라면 제한 없이 사용할 수 있다. 바람직하게는 유기용제에 대한 용해성을 가지면서 알칼리 현상액에 대한 용해성 및 내열성, 내용제성 등의 신뢰성을 확보할 수 있는 염료를 사용하는 것이 바람직하다. The dye may be used without limitation as long as it has solubility in organic solvents. Preferably, it is preferable to use a dye capable of securing reliability such as solubility in an alkaline developing solution, heat resistance, and solvent resistance while having solubility in organic solvents.

상기 염료로는 설폰산이나 카복실산 등의 산성기를 갖는 산성 염료, 산성 염료와 질소 함유 화합물의 염, 산성 염료의 설폰아미드체 등과 이들의 유도체에서 선택된 것을 사용할 수 있으며, 이외에도 아조계, 크산텐계, 프탈로시아닌계의 산성염료 및 이들의 유도체도 선택할 수 있다. As the dye, acid dyes having an acid group such as sulfonic acid or carboxylic acid, salts of acid dyes and nitrogen-containing compounds, sulfonamides of acid dyes, and derivatives thereof may be used. Acid dyes of the system and their derivatives can also be selected.

바람직하게 상기 염료는 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판)내에 염료로 분류되어 있는 화합물이나, 염색 노트(색염사)에 기재되어 있는 공지의 염료를 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Preferably, the dye may include a compound classified as a dye in the color index (published by The Society of Dyers and Colourists) or a known dye described in a dyeing note (color dyeing thread), but is not limited thereto.

상기 염료의 구체적인 예로는, C.I. 솔벤트 염료로서,Specific examples of the dye include C.I. As a solvent dye,

C.I. 솔벤트 옐로우 4, 14, 15, 16, 21, 23, 24, 38, 56, 62, 63, 68, 79, 82, 93, 94, 98, 99, 151, 162, 163 등의 황색 염료; C.I. yellow dyes such as Solvent Yellow 4, 14, 15, 16, 21, 23, 24, 38, 56, 62, 63, 68, 79, 82, 93, 94, 98, 99, 151, 162, 163;

C.I. 솔벤트 레드 8, 45, 49, 89, 111, 122, 125, 130, 132, 146, 179 등의 적색 염료;C.I. red dyes such as Solvent Red 8, 45, 49, 89, 111, 122, 125, 130, 132, 146, 179;

C.I. 솔벤트 오렌지 2, 7, 11, 15, 26, 41, 45, 56, 62 등의 오렌지색 염료;C.I. orange dyes such as Solvent Orange 2, 7, 11, 15, 26, 41, 45, 56, 62;

C.I. 솔벤트 블루 5, 35, 36, 37, 44, 59, 67, 70 등의 청색 염료;C.I. blue dyes such as Solvent Blue 5, 35, 36, 37, 44, 59, 67, and 70;

C.I. 솔벤트 바이올렛 8, 9, 13, 14, 36, 37, 47, 49 등의 바이올렛 염료;C.I. violet dyes such as Solvent Violet 8, 9, 13, 14, 36, 37, 47, 49;

C.I. 솔벤트 그린 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, 35 등의 녹색 염료 등이 있다.C.I. and green dyes such as Solvent Green 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, and 35.

C.I. 솔벤트 염료 중 유기용매에 대한 용해성이 우수한 C.I. 솔벤트 옐로우 14, 16, 21, 56, 151, 79, 93; C.I. 솔벤트 레드 8, 49, 89, 111, 122, 132, 146, 179; C.I. 솔벤트 오렌지 41, 45, 62; C.I. 솔벤트 블루 35, 36, 44, 45, 70; C.I. 솔벤트 바이올렛 13 이 바람직하고 이중 C.I. 솔벤트 옐로우 21, 79; C.I. 솔벤트 레드 8, 122, 132; C.I. 솔벤트 오렌지 45, 62 가 좀더 바람직하다.C.I. Among solvent dyes, C.I. Solvent Yellow 14, 16, 21, 56, 151, 79, 93; C.I. Solvent Red 8, 49, 89, 111, 122, 132, 146, 179; C.I. Solvent Orange 41, 45, 62; C.I. Solvent Blue 35, 36, 44, 45, 70; C.I. Solvent Violet 13 is preferred and the dual C.I. Solvent Yellow 21, 79; C.I. Solvent Red 8, 122, 132; C.I. Solvent Orange 45, 62 are more preferred.

또한, C.I. 애시드 염료로서, Also, C.I. As an acid dye,

C.I.애시드 옐로우 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251 등의 황색 염료;C.I. Acid Yellow 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112 ; 184 , 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251, etc. ;

C.I.애시드 레드 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 182, 183, 198, 206, 211, 215, 216, 217, 227, 228, 249, 252, 257, 258, 260, 261, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 195, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349, 382, 383, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426 등의 적색 염료;C.I. Acid Red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 182, 183, 198, 206, 211, 215, 216, 217 ,227,228,249,252,257,258,260,261,266,268,270,274,277,280,281,195,308,312,315,316,339,341,345,346, 349 , 382, 383, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426 and the like red dyes;

C.I.애시드 오렌지 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173 등의 오렌지색 염료;orange dyes such as C.I. Acid Orange 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 169, 173;

C.I.애시드 블루 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 42, 45, 51, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 96, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 150, 158, 171, 182, 192, 210, 242, 243, 256, 259, 267, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324:1, 335, 340 등의 청색 염료;C.I. Acid Blue 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 42, 45, 51, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 96, 103 112, 113, 120, 129, 138, 147, 150, 158, 171, 182, 192, 210, 242, 243, 256, 259, 267, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324: 1 blue dyes such as , 335 and 340;

C.I.애시드 바이올렛 6B, 7, 9, 17, 19, 66 등의 바이올렛색 염료;violet dyes such as C.I. Acid Violet 6B, 7, 9, 17, 19, 66;

C.I.애시드 그린 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, 109 등의 녹색 염료 등이 있다.and green dyes such as C.I. Acid Green 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 50, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, and 109.

애시드 염료 중 유기용매에 대한 용해도가 우수한 C.I.애시드 옐로우 42; C.I.애시드 레드 92; C.I.애시드 블루 80, 90; C.I.애시드 바이올렛 66; C.I.애시드 그린 27 이 바람직하다. Among acid dyes, C.I. Acid Yellow 42 having excellent solubility in organic solvents; C.I. Acid Red 92; C.I. Acid Blue 80, 90; C.I. Acid Violet 66; C.I. Acid Green 27 is preferred.

또한 C.I.다이렉트 염료로서,Also as a C.I. direct dye,

C.I.다이렉트 옐로우 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129, 136, 138, 141 등의 황색 염료; C.I. Direct Yellow 2, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129 , 136, 138, yellow dyes such as 141;

C.I.다이렉트 레드 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211, 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250 등의 적색 염료;C.I. Direct Red 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211 , 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250;

C.I.다이렉트 오렌지 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107 등의 오렌지색 염료;orange dyes such as C.I. Direct Orange 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107;

C.I.다이렉트 블루 38, 44, 57, 70, 77, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 196, 198, 199, 200, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 228, 229, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 247, 248, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293 등의 청색 염료;C.I. Direct Blue 38, 44, 57, 70, 77, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113 ; 189 ,190,192,193,194,196,198,199,200,207,209,210,212,213,214,222,228,229,237,238,242,243,244,245,247, 248 , 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, blue dyes such as 293;

C.I.다이렉트 바이올렛 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104 등의 바이올렛색 염료;violet dyes such as C.I. direct violet 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104;

C.I.다이렉트 그린 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.Green dyes, such as C.I. direct green 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82, etc. are mentioned.

또한, C.I. 모단토 염료로서,Also, C.I. As a modanto dye,

C.I.모단토 옐로우 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65 등의 황색 염료;yellow dyes such as C.I. Modanto Yellow 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65;

C.I.모단토 레드1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 30, 32, 33, 36, 37, 38, 39, 41, 43, 45, 46, 48, 53, 56, 63, 71, 74, 85, 86, 88, 90, 94, 95 등의 적색 염료;C.I. Modanto Red 1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 30, 32, 33, 36, 37, 38, 39, red dyes such as 41, 43, 45, 46, 48, 53, 56, 63, 71, 74, 85, 86, 88, 90, 94, 95;

C.I.모단토 오렌지 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48 등의 오렌지색 염료; C.I. Orange such as Modanto Orange 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48 dyes;

C.I.모단토 블루 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84 등의 청색 염료;C.I. Modanto Blue 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, blue dyes such as 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84;

C.I.모단토 바이올렛 1, 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53, 58 등의 바이올렛색 염료;violet dyes such as C.I. Modanto Violet 1, 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53, 58;

C.I.모단토 그린 1, 3, 4, 5, 10, 15, 19, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43, 53 등의 녹색 염료 등을 들 수 있다.green dyes such as C.I. Modanto Green 1, 3, 4, 5, 10, 15, 19, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43, 53; and the like.

이들 염료는 필요에 따라 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.These dyes can be used individually or in combination of two or more types, respectively, as needed.

상기 안료 분산액 중의 염료의 함량은 안료 분산액 중의 고형분 100 중량%에 대하여 중량 분율로 0.5 내지 80 중량% 포함되는 것이 바람직하고, 0.5 내지 60 중량%가 보다 바람직하며, 1 내지 50 중량%가 특히 바람직하다. 상기 안료 분산액 중 염료의 함량이 상기의 기준으로 상기 범위에 있으면 패턴 형성 후 유기용매에 의해 염료가 용출되는 신뢰성의 저하문제를 방지할 수 있으며, 감도가 우수하여 바람직하다.The content of the dye in the pigment dispersion is preferably 0.5 to 80% by weight, more preferably 0.5 to 60% by weight, and particularly preferably 1 to 50% by weight based on 100% by weight of the solid content in the pigment dispersion. . When the content of the dye in the pigment dispersion is within the above range based on the above standards, it is possible to prevent a decrease in reliability in which the dye is eluted by an organic solvent after pattern formation, and it is preferable because the sensitivity is excellent.

(a3) 안료 분산제(a3) pigment dispersant

상기 안료는 그 입경이 균일하게 분산된 안료 분산제를 사용하는 것이 바람직하다. 안료의 입경을 균일하게 분산시키기 위한 방법의 일 예로 안료 분산제를 함유시켜 분산 처리하는 방법 등을 들 수 있으며, 이 방법에 따르면 안료가 조성물 중에 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액을 얻을 수 있다.It is preferable to use a pigment dispersant in which the particle size is uniformly dispersed as the pigment. One example of a method for uniformly dispersing the particle size of the pigment is a method of dispersing treatment by containing a pigment dispersant, and according to this method, a pigment dispersion in which the pigment is uniformly dispersed in the composition can be obtained.

상기의 안료 분산제의 구체적인 예로는 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성, 폴리에스테르계, 폴리아민계 등의 계면활성제 등을 들 수 있고, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the pigment dispersant include surfactants such as cationic, anionic, nonionic, amphoteric, polyester, and polyamine surfactants, which may be used alone or in combination of two or more. .

상기 안료 분산제는 안료의 탈응집 및 안정성 유지를 위해 첨가되는 것으로서 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 것을 제한 없이 사용할 수 있다. 바람직하게는 BMA(부틸메타아크릴레이트) 또는 DMAEMA(N,N-디메틸아미노에틸메타아크릴레이트)를 포함하는 아크릴레이트계 분산제(이하, 아크릴 분산제라고 함)를 함유하는 것이 좋다. 이때, 상기 아크릴 분산제는 한국 공개특허 2004-0014311호에서 제시된 바와 같은 리빙 제어방법에 의해 제조된 것을 적용하는 것이 바람직한데, 상기 리빙 제어방법을 통해 제조된 아크릴레이트계 분산제의 시판품으로는 DISPER BYK-2000, DISPER BYK-2001, DISPER BYK-2070, DISPER BYK-2150 등을 들 수 있다. 상기 예시된 아크릴 분산제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The pigment dispersant is added to maintain the deagglomeration and stability of the pigment, and those generally used in the art may be used without limitation. Preferably, it is good to contain an acrylate-based dispersant (hereinafter referred to as an acrylic dispersant) containing BMA (butyl methacrylate) or DMAEMA (N,N-dimethylaminoethyl methacrylate). At this time, it is preferable to apply the acrylic dispersant prepared by the living control method as suggested in Korean Patent Publication No. 2004-0014311, and the commercial product of the acrylate-based dispersant prepared through the living control method is DISPER BYK- 2000, DISPER BYK-2001, DISPER BYK-2070, and DISPER BYK-2150. The above-exemplified acrylic dispersants may be used alone or in combination of two or more.

상기 안료 분산제는 상기한 아크릴 분산제 이외에 다른 수지 타입의 안료 분산제를 사용할 수도 있다. 상기 다른 수지 타입의 안료 분산제로는 공지된 수지 타입의 안료 분산제, 특히 폴리우레탄, 폴리아크릴레이트로 대표되는 폴리카르복실산 에스테르, 불포화 폴리아미드, 폴리카르복실산, 폴리카르복실산의 (부분적)아민염, 폴리카르복실산의 암모늄염, 폴리카르복실산의 알킬아민염, 폴리실록산, 장쇄 폴리아미노아미드 포스페이트염, 히드록실기-함 폴리카르복실산의 에스테르 및 이들의 개질 생성물, 프리(free) 카르복실기를 갖는 폴리에스테르와 폴리(저급 알킬렌이민)의 반응에 의해 형성된 아미드 또는 이들의 염과 같은 유질의 분산제; (메트)아크릴산-스티렌 코폴리머, (메트)아크릴산-(메트)아크릴레이트 에스테르 코폴리머, 스티렌-말레산 코폴리머, 폴리비닐 알코올 또는 폴리비닐 피롤리돈과 같은 수용성 수지 또는 수용성 폴리머 화합물; 폴리에스테르; 개질 폴리아크릴레이트; 에틸렌옥사이드/프로필렌 옥사이드의 부가생성물, 포스페이트에스테르 등을 들 수 있다. 상기한 수지형 분산제의 시판품으로 양이온계 수지 분산제로서는, 예를 들면, BYK(빅) 케미사의 DISPER BYK-160, DISPER BYK-161, DISPER BYK-162, DISPER BYK-163, DISPER BYK-164, DISPER BYK-166, DISPER BYK-171, DISPER BYK-182, DISPER BYK-184; BASF사의 EFKA-44, EFKA-46, EFKA-47, EFKA-48,EFKA-4010, EFKA-4050, EFKA-4055, EFKA-4020, EFKA-4015, EFKA-4060, EFKA-4300, EFKA-4330, EFKA-4400, EFKA-4406, EFKA-4510, EFKA-4800 ; Lubrizol사의 SOLSPERSE-24000, SOLSPERSE-32550, NBZ-4204 /10; 카와켄 파인 케미컬사의 히노액트(HINOACT) T-6000, 히노액트 T-7000, 히노액트 T-8000; 아지노모토사의 아지스퍼(AJISPUR) PB-821, 아지스퍼 PB-822, 아지스퍼 PB-823; 쿄에이샤 화학사의 플로렌 (FLORENE) DOPA-17HF, 플로렌 DOPA-15BHF, 플로렌 DOPA-33, 플로렌 DOPA-44 등을 들 수 있다. 상기한 아크릴 분산제 이외에 다른 수지 타입의 안료 분산제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있으며, 아크릴 분산제와 병용하여 사용할 수도 있다. As the pigment dispersant, other resin-type pigment dispersants may be used in addition to the above-described acrylic dispersant. The other resin-type pigment dispersants include known resin-type pigment dispersants, particularly polycarboxylic acid esters represented by polyurethanes and polyacrylates, unsaturated polyamides, polycarboxylic acids, and (partial) polycarboxylic acids. Amine salts, ammonium salts of polycarboxylic acids, alkylamine salts of polycarboxylic acids, polysiloxanes, long-chain polyaminoamide phosphate salts, esters of hydroxyl group-containing polycarboxylic acids and modified products thereof, free carboxyl groups oily dispersants such as amides formed by the reaction of a polyester with a poly(lower alkylenimine) or salts thereof; water-soluble resins or water-soluble polymer compounds such as (meth)acrylic acid-styrene copolymer, (meth)acrylic acid-(meth)acrylate ester copolymer, styrene-maleic acid copolymer, polyvinyl alcohol or polyvinyl pyrrolidone; Polyester; modified polyacrylate; adducts of ethylene oxide/propylene oxide, phosphate esters, and the like. As the cationic resin dispersant for the above-described resin type dispersant, for example, DISPER BYK-160, DISPER BYK-161, DISPER BYK-162, DISPER BYK-163, DISPER BYK-164, DISPER BYK (Big) Chemie Co., Ltd. BYK-166, DISPER BYK-171, DISPER BYK-182, DISPER BYK-184; BASF's EFKA-44, EFKA-46, EFKA-47, EFKA-48, EFKA-4010, EFKA-4050, EFKA-4055, EFKA-4020, EFKA-4015, EFKA-4060, EFKA-4300, EFKA-4330, EFKA-4400, EFKA-4406, EFKA-4510, EFKA-4800; SOLSPERSE-24000, SOLSPERSE-32550, NBZ-4204/10 from Lubrizol; HINOACT T-6000, HINOACT T-7000, and HINOACT T-8000 from Kawaken Fine Chemical; AJISPUR PB-821, AJISPUR PB-822, AJISPUR PB-823 from Ajinomoto; FLORENE DOPA-17HF, FLORENE DOPA-15BHF, FLORENE DOPA-33, FLORENE DOPA-44 and the like available from Kyoeisha Chemical Co., Ltd. In addition to the above acrylic dispersant, other resin type pigment dispersants may be used alone or in combination of two or more, and may be used in combination with an acrylic dispersant.

상기 안료 분산제의 사용량은 사용되는 상기 안료의 고형분 100 질량%에 대하여 5 내지 60 질량%, 더욱 바람직하게는 15 내지 50 질량% 범위이다. 안료 분산제의 함량이 상기의 기준으로 60 질량%를 넘게 되면 점도가 높아질 수 있으며, 5 질량% 미만일 경우에는 안료의 미립화가 어렵거나, 분산 후 겔화 등의 문제를 야기할 수 있다.The amount of the pigment dispersant is in the range of 5 to 60% by mass, more preferably 15 to 50% by mass, based on 100% by mass of the solid content of the pigment used. If the content of the pigment dispersant exceeds 60% by mass based on the above, the viscosity may increase, and if it is less than 5% by mass, it may be difficult to atomize the pigment or cause problems such as gelation after dispersion.

상기 안료 분산액의 함유량은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분 100 중량%에 대하여 5 내지 80 중량%, 바람직하게는 10 내지 70 중량% 포함되는 것이 좋다. 상기 안료 분산액이 상기 기준으로 5 내지 80 중량% 포함되는 경우에는 박막을 형성하여도 화소의 색농도가 충분하고, 현상시 비화소부의 누락성이 저하되지 않기 때문에 잔사가 발생하기 어려우므로 바람직하다.The content of the pigment dispersion is 5 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight based on 100% by weight of the solid content in the colored photosensitive resin composition. When the pigment dispersion is contained in an amount of 5 to 80% by weight based on the above, the color density of pixels is sufficient even when a thin film is formed, and the omission of non-pixel parts is not reduced during development, so that residues are hardly generated.

본 발명에서 착색 감광성 수지 조성물 중의 총 고형분 함량이란 착색 감광성 수지 조성물로부터 용제를 제외한 나머지 성분의 총 함량을 의미한다.In the present invention, the total solid content in the colored photosensitive resin composition means the total content of the remaining components except for the solvent in the colored photosensitive resin composition.

(B)알칼리 가용성 수지(B) alkali soluble resin

상기 알칼리 가용성 수지는 패턴을 형성할 때의 현상 처리 공정에서 이용되는 알칼리 현상액에 대해서 가용성을 부여하는 성분으로써, 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 것을 제한없이 사용할 수 있으며, 바람직하게는 불포화 이중결합을 포함하는 단량체로부터 유래된 반복단위를 포함할 수 있다.The alkali-soluble resin is a component that imparts solubility to an alkali developing solution used in the developing process when forming a pattern, and generally used in the art may be used without limitation, and preferably contains an unsaturated double bond. It may include a repeating unit derived from a monomer having

상기 불포화 이중결합을 포함하는 단량체는 그 종류가 특별히 한정되는 것은 아니며, 예를 들어, 스티렌, 비닐톨루엔, α-메틸스티렌, 4-메틸스티렌, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등의 방향족 비닐 화합물; N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-페닐말레이미드, N-o-히드록시페닐말레이미드, N-m-히드록시페닐말레이미드, N-p-히드록시페닐말레이미드, N-o-메틸페닐말레이미드, N-m-메틸페닐말레이미드, N-p-메틸페닐말레이미드, N-o-메톡시페닐말레이미드, N-m-메톡시페닐말레이미드, N-p-메톡시페닐말레이미드 등의 N-치환 말레이미드계 화합물; 및 3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-트리플루오로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-페닐옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 2-(메타크릴로일옥시메틸)-4-트리플루오로메틸옥세탄 등의 불포화 옥세탄계 화합물 등이 있다.The type of the monomer containing the unsaturated double bond is not particularly limited, and examples thereof include styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, 4-methylstyrene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m- Methoxy styrene, p-methoxy styrene, o-vinylbenzyl methyl ether, m-vinyl benzyl methyl ether, p-vinyl benzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, p -Aromatic vinyl compounds such as vinylbenzyl glycidyl ether; N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-o-hydroxyphenylmaleimide, N-m-hydroxyphenylmaleimide, N-p-hydroxyphenylmaleimide, N-o-methylphenylmaleimide, N-m -N-substituted maleimide compounds such as methylphenylmaleimide, N-p-methylphenylmaleimide, N-o-methoxyphenylmaleimide, N-m-methoxyphenylmaleimide, and N-p-methoxyphenylmaleimide; and 3-(methacryloyloxymethyl)oxetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-3-ethyloxetane, 3-(methacryloyloxymethyl)-2-trifluoromethyloxetane , 3-(methacryloyloxymethyl)-2-phenyloxetane, 2-(methacryloyloxymethyl)oxetane, 2-(methacryloyloxymethyl)-4-trifluoromethyloxetane and unsaturated oxetane-based compounds such as the like.

상기 불포화 이중결합을 포함하는 단량체는 각각 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The monomers containing the unsaturated double bond may be used alone or in combination of two or more.

상기 불포화 이중결합을 포함하는 단량체의 함량은 특별히 한정되지 않으나, 알칼리 가용성 수지를 구성하는 반복단위 전체 100 몰%에 대하여 5 내지 50 몰%로 포함되는 것이 바람직하다.The content of the monomer containing the unsaturated double bond is not particularly limited, but is preferably included in an amount of 5 to 50 mol% based on 100 mol% of the entire repeating unit constituting the alkali-soluble resin.

상기 알칼리 가용성 수지의 산가는 30 내지 150mgKOH/g인 것이 바람직하다. The acid value of the alkali-soluble resin is preferably 30 to 150 mgKOH / g.

상기 알칼리 가용성 수지의 산가가 상기 범위 내일 경우 상기 착색 감광성 수지 조성물이 충분한 현상 속도를 확보할 수 있으며, 기판과 착색 감광성 수지 조성물의 밀착성이 감소되어 패턴의 단락이 발생하는 현상을 방지할 수 있고, 안료 분산액과의 상용성이 우수하여, 안료 분산액이 석출되는 현상을 방지할 수 있다. 또한, 착색 감광성 수지 조성물의 저장 안정성이 저하되는 현상을 방지하여 점도의 상승을 방지할 수 있다.When the acid value of the alkali-soluble resin is within the above range, the colored photosensitive resin composition can secure a sufficient developing rate, and the adhesion between the substrate and the colored photosensitive resin composition is reduced to prevent short circuiting of the pattern, The compatibility with the pigment dispersion is excellent, and the precipitation of the pigment dispersion can be prevented. In addition, it is possible to prevent an increase in viscosity by preventing a phenomenon in which the storage stability of the colored photosensitive resin composition is lowered.

또한, 겔 투과 크로마토그래피(GPC; 테트라히드로퓨란을 용출용제로 함)로 측정한 폴리스티렌 환산 중량평균분자량(이하, 간단히 '중량평균분자량'이라고 한다)이 3,000 내지 100,000, 바람직하게는 5,000 내지 50,000인 알칼리 가용성 수지가 바람직하다. 분자량이 상기 범위에 있으면, 코팅 필름의 경도가 향상되어, 잔막율이 높고, 현상액 중의 비-노출부의 용해성이 탁월하고 해상도가 향상되는 경향이 있어 바람직하다.In addition, the weight average molecular weight in terms of polystyrene (hereinafter simply referred to as 'weight average molecular weight') measured by gel permeation chromatography (GPC; using tetrahydrofuran as an elution solvent) is 3,000 to 100,000, preferably 5,000 to 50,000. Alkali-soluble resins are preferred. When the molecular weight is within the above range, the hardness of the coating film is improved, the residual film rate is high, the solubility of the non-exposed portion in the developing solution is excellent, and the resolution tends to be improved, which is preferable.

알칼리 가용성 수지의 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]는 1.5 내지 6.0인 것이 바람직하고, 1.8 내지 4.0인 것이 보다 바람직하다. 분자량분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]가 1.5 내지 6.0이면 현상성이 우수하기 때문에 바람직하다.The molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn)] of the alkali-soluble resin is preferably 1.5 to 6.0, more preferably 1.8 to 4.0. The molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw)/number average molecular weight (Mn)] of 1.5 to 6.0 is preferable because developability is excellent.

상기 알칼리 가용성 수지는 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분 100 중량%에 대하여 10 내지 80 중량%, 바람직하게는 10 내지 70 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지가 상기 범위로 포함되는 경우, 현상액에서의 용해성이 충분하여 패턴 형성이 용이하며, 현상시 노광부의 화소 부분의 막 감소가 방지되어 비화소 부분의 누락성이 양호해질 수 있다.The alkali-soluble resin may be included in an amount of 10 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight based on 100% by weight of the solid content in the colored photosensitive resin composition. When the alkali-soluble resin is included within the above range, pattern formation is easy due to sufficient solubility in the developing solution, and film reduction of the pixel portion of the exposed portion is prevented during development, so that non-pixel portion omission may be improved.

(C)광중합성 화합물(C) photopolymerizable compound

상기 광중합성 화합물은 하기 광중합 개시제의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로, 단관능 단량체 또는 2관능 이상의 단량체를 사용할 수 있으며, 바람직하게는 2관능 이상의 다관능 단량체를 사용할 수 있다. The photopolymerizable compound is a compound that can be polymerized by the action of the following photopolymerization initiator, and a monofunctional monomer or a bifunctional or higher functional monomer may be used, preferably a bifunctional or higher multifunctional monomer.

상기 단관능 단량체의 구체적인 예로는, 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸 아크릴레이트 또는 N-비닐피롤리돈 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the monofunctional monomer include nonylphenylcarbitol acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-ethylhexylcarbitol acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate or N-vinyl group. Rolidone and the like, but are not limited thereto.

상기 2관능 단량체의 구체적인 예로는, 1,6-헥산디올디(메타) 아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타) 아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르 또는 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등이 있으며, 3관능 이상의 단량체의 구체적인 예로는, 트리메틸올 프로판트리(메타) 아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리 (메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스 리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴 레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 또는 디펜타 에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. Specific examples of the bifunctional monomer include 1,6-hexanedioldi(meth)acrylate, ethylene glycoldi(meth)acrylate, neopentylglycoldi(meth)acrylate, and triethylene glycoldi(meth)acrylate. , bis(acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A or 3-methylpentanediol di(meth)acrylate, and the like, and specific examples of the trifunctional or higher functional monomer include trimethylol propane tri(meth)acrylate, ethoxyl Rated trimethylolpropane tri(meth)acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, pentaerythritol tetra(meth)acrylate, dipentaerythritol penta( meth)acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, propoxylated dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, or dipentaerythritol hexa(meth)acrylate, but are not limited thereto no.

상기 광중합성 화합물은 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분 100 중량%에 대하여 5 내지 45 중량% 포함되는 것이 바람직하고, 특히 7 내지 45 중량%로 포함되는 것이 보다 바람직하다. 상기 광중합성 화합물이 상기의 기준으로 5 내지 45 중량% 포함되는 경우에는 화소부의 강도나 평활성이 양호하게 되기 때문에 바람직하다.The photopolymerizable compound is preferably included in an amount of 5 to 45% by weight based on 100% by weight of the solid content in the colored photosensitive resin composition, and more preferably 7 to 45% by weight. When the photopolymerizable compound is contained in an amount of 5 to 45% by weight based on the above, it is preferable because the strength and smoothness of the pixel portion become good.

(D)광중합 개시제(D) photopolymerization initiator

상기 광중합 개시제는 광중합성 화합물을 중합시킬 수 있는 것이면 그 종류를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있다. 특히, 상기 광중합 개시제는 중합특성, 개시효율, 흡수파장, 입수성, 가격 등의 관점에서 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 옥심 화합물 및 티오크산톤계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.The photopolymerization initiator may be used without particular limitation as long as it can polymerize a photopolymerizable compound. In particular, the photopolymerization initiator is an acetophenone-based compound, a benzophenone-based compound, a triazine-based compound, a biimidazole-based compound, an oxime compound, and a thioxanthone-based compound from the viewpoint of polymerization characteristics, initiation efficiency, absorption wavelength, availability, price, etc. It is preferable to use at least one compound selected from the group consisting of compounds.

상기 아세토페논계 화합물의 구체적인 예로는 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온, 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등을 들 수 있다. Specific examples of the acetophenone-based compound include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 2-hydroxy-1-[4-(2-hydroxyl) Roxyethoxy) phenyl] -2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-[4-(1-methylvinyl)phenyl]propan-1 -one, 2-(4-methylbenzyl)-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)butan-1-one, etc. are mentioned.

상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등이 있다. Examples of the benzophenone-based compound include benzophenone, methyl 0-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3',4,4'-tetra ( tert-butyl peroxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and the like.

상기 트리아진계 화합물의 구체적인 예로는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. Specific examples of the triazine-based compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6 -(4-methoxynaphthyl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl)-6-(4-methoxystyryl)-1,3,5-triazine, 2,4-bis(trichloromethyl)-6-[2-(5-methylfuran-2- yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine , 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl )-6-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-1,3,5-triazine; and the like.

상기 비이미다졸 화합물의 구체적인 예로는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4’5,5’-테트라페닐-1,2’-비이미다졸 또는 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4’5,5’-테트라페닐-1,2’-비이미다졸이 바람직하게 사용된다.Specific examples of the biimidazole compound include 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(2,3-dichloro). Phenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(alkoxyphenyl)biimidazole , 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetra(trialkoxyphenyl)biimidazole, 2,2-bis(2,6-dichlorophenyl)-4, 4'5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole or an imidazole compound in which the phenyl group at the 4,4',5,5' position is substituted with a carboalkoxy group; and the like. Among these, 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis(2,3-dichlorophenyl)-4,4' ,5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2-bis(2,6-dichlorophenyl)-4,4'5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole are preferably used do.

상기 옥심 화합물의 구체적인 예로는 o-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있으며, 시판품으로 바스프사의 OXE01, OXE02가 대표적이다.Specific examples of the oxime compound include o-ethoxycarbonyl-α-oxyimino-1-phenylpropan-1-one, and OXE01 and OXE02 from BASF are typical commercial products.

상기 티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등이 있다.Examples of the thioxanthone-based compounds include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and the like. there is

또한, 상기 광중합 개시제는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 감도를 향상시키기 위해서, 광중합 개시 보조제를 더 포함할 수 있다. 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물은 광중합 개시 보조제를 함유함으로써, 감도가 더욱 높아져 생산성을 향상시킬 수 있다.In addition, the photopolymerization initiator may further include a photopolymerization initiator to improve the sensitivity of the colored photosensitive resin composition of the present invention. The colored photosensitive resin composition according to the present invention contains a photopolymerization initiation auxiliary, so that the sensitivity is further increased and productivity can be improved.

상기 광중합 개시 보조제는, 예를 들어 아민 화합물, 카르복실산 화합물, 티올기를 가지는 유기 황화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있다. As the photopolymerization initiation aid, for example, at least one compound selected from the group consisting of an amine compound, a carboxylic acid compound, and an organic sulfur compound having a thiol group may be preferably used.

상기 아민 화합물로는 방향족 아민 화합물을 사용하는 것이 바람직하며, 구체적으로 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭: 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 사용할 수 있다.As the amine compound, it is preferable to use an aromatic amine compound, specifically, an aliphatic amine compound such as triethanolamine, methyldiethanolamine, and triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4- Isoamyl dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N,N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone (common name: Michler's ketone) ), 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, etc. can be used.

상기 카르복실산 화합물은 방향족 헤테로아세트산류인 것이 바람직하며, 구체적으로 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다. The carboxylic acid compound is preferably an aromatic heteroacetic acid, specifically phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthioacetic acid Acetic acid, chlorophenylthioacetic acid, dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, naphthoxyacetic acid, etc. are mentioned.

상기 티올기를 가지는 유기 황화합물의 구체적인 예로서는 2-머캅토벤조티아졸, 1,4-비스(3-머캅토부티릴옥시)부탄, 1,3,5-트리스(3-머캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 트리메틸올프로판트리스(3-머갑토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트), 테트라에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트) 등을 들 수 있다.Specific examples of the organic sulfur compound having a thiol group include 2-mercaptobenzothiazole, 1,4-bis(3-mercaptobutyryloxy)butane, 1,3,5-tris(3-mercaptobutyloxyethyl)- 1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, trimethylolpropanetris(3-mercaptopropionate), pentaerythritoltetrakis(3-mercaptobutyl rate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate), tetraethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), etc. can

상기 광중합 개시제는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 고형분 100 중량%에 대하여 0.1 내지 40 중량%, 바람직하게는 1 내지 30 중량% 포함될 수 있다. 상기 광중합 개시제가 상기 함량 범위에 포함되는 경우, 착색 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 노광 시간이 단축되므로 생산성이 향상되며 높은 해상도를 유지할 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 상술한 조건의 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도와 상기 화소부의 표면에서의 평활성이 양호해질 수 있다. 또한 상기 광중합 개시 보조제의 경우 전체 광중합 개시제중 10 내지 90 중량%, 바람직하는 20 내지 90 중량%를 포함해야 한다. 전체 광중합 개시제중 광중합 개시 보조제의 비율이 10 중량% 미만일 경우 염료에 의한 감도 저하가 극복되지 못하고 현상공정중 패턴의 단락이 발생하기 쉽다. The photopolymerization initiator may be included in an amount of 0.1 to 40% by weight, preferably 1 to 30% by weight, based on 100% by weight of the solid content of the colored photosensitive resin composition of the present invention. When the photopolymerization initiator is included in the content range, the colored photosensitive resin composition is highly sensitive and the exposure time is shortened, which is preferable because productivity is improved and high resolution can be maintained. In addition, the strength of the pixel portion formed using the composition under the above-described conditions and the smoothness of the surface of the pixel portion may be improved. In addition, in the case of the photopolymerization initiation aid, 10 to 90% by weight, preferably 20 to 90% by weight, of the total photopolymerization initiator. When the ratio of the photopolymerization initiation aid in the total photopolymerization initiator is less than 10% by weight, the decrease in sensitivity due to the dye cannot be overcome and the pattern short circuit is likely to occur during the developing process.

또한, 상기 광중합 개시 보조제를 더 사용하는 경우, 상기 광중합 개시 보조제는 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 고형분 총 중량을 기준으로 알칼리 가용성 수지와 광중합성 화합물의 함량에 대해서 0.1 내지 40 중량%, 바람직하게는 1 내지 30 중량% 포함될 수 있다. 상기 의 사용량이 상술한 0.1 내지 40 중량%의 범위 내에 있으면 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아지고, 상기 조성물을 사용하여 형성되는 컬러필터의 생산성이 향상되는 효과를 제공한다.In addition, when the photopolymerization initiation auxiliary agent is further used, the photopolymerization initiation auxiliary agent is preferably 0.1 to 40% by weight based on the total solid weight of the colored photosensitive resin composition of the present invention based on the content of the alkali-soluble resin and the photopolymerizable compound. may be included in an amount of 1 to 30% by weight. When the amount of the above is within the range of 0.1 to 40% by weight, the sensitivity of the colored photosensitive resin composition is further increased, and the productivity of a color filter formed using the composition is improved.

(E)첨가제(E) additives

화학식 1로 표시되는 화합물Compound represented by Formula 1

본 발명의 일 실시예에 있어서, 기재간 밀착성 문제를 개선하기 위해, 착색 감광성 수지 조성물은 첨가제로서 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 한다.In one embodiment of the present invention, in order to improve the adhesion problem between substrates, the colored photosensitive resin composition is characterized in that it contains a compound represented by the following formula (1) as an additive.

하기 화학식 1로 표시되는 화합물은 구조내 -S-S- 결합을 포함하며, 이들이 하나 이상의 탄화수소를 통해, R 및 R’와 연결되는 구조를 갖는다. 이러한 구조에 따라, 미세패턴 형성시 밀착성 증진 효과에 기여하는데, 구체적으로 자외선 또는 열 경화시 조사되는 에너지로 인해 화학식 1의 -S-S- 결합이 끊어지면서 경화된 수지 조성물의 표면 가교밀도가 높아져, 미세패턴 제조 시 경화도 및 밀착성이 향상되게 된다. The compound represented by Chemical Formula 1 includes -S-S- bonds in the structure, and has a structure in which they are connected to R and R' through one or more hydrocarbons. According to this structure, it contributes to the effect of enhancing adhesion when forming micropatterns. Specifically, the surface crosslinking density of the cured resin composition increases as the -S-S- bond of Chemical Formula 1 is broken due to the energy irradiated during UV or thermal curing, thereby increasing the fineness of the cured resin composition. The degree of curing and adhesion are improved during pattern production.

[화학식 1][Formula 1]

상기 화학식 1에서, R 및 R’은, 각각 독립적으로, 카르복시기, 하이드록시기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 탄소수 2 내지 10의 알키닐기, 탄소수 3 내지 12의 카보닐기, 탄소수 3 내지 12의 방향족 치환기, 또는 탄소수 3 내지 12의 헤테로 방향족 치환기일 수 있다. In Formula 1, R and R' are each independently a carboxy group, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, and a carbo group having 3 to 12 carbon atoms. It may be a yl group, an aromatic substituent having 3 to 12 carbon atoms, or a heteroaromatic substituent having 3 to 12 carbon atoms.

n은, 각각 독립적으로, 1 내지 5의 정수이다.n is each independently an integer of 1 to 5.

바람직하게는, R 및 R’은, 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 탄소수 3 내지 6의 헤테로 방향족 치환기, 치환 또는 비치환의 비닐기, 카르복시기, 하이드록시기, 벤조일기, 페닐기, 퓨릴기 또는 페놀기일 수 있으며, 더욱 바람직하게 비닐기 또는 카르복시기일 수 있다.Preferably, R and R' are each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a heteroaromatic substituent having 3 to 6 carbon atoms, a substituted or unsubstituted vinyl group, a carboxy group, a hydroxyl group, a benzoyl group, a phenyl group, a furyl group Or it may be a phenol group, more preferably a vinyl group or a carboxy group.

착색 감광성 수지 조성물에 상기 화학식 1로 표시되는 화합물이 조성물의 고형분 100 중량%에 대하여 0.05 내지 0.50 중량% 소량 포함될 수 있고, 보다 바람직하게 0.10 내지 0.40 중량% 포함되는 경우, 미세패턴의 들뜸 현상을 개선하는 데 효과적이다. 상기 범위를 미만 또는 초과하여 포함되는 경우, 미세패턴에서 밀착성 증진 효과가 줄어드는 경향이 있다. 이것은 자외선 또는 열 경화시 조사되는 에너지로 인해 상기 화학식 1의 -S-S- 결합이 끊어지면서 패턴 표면 및 조성물 내의 타 작용기들과 결합함으로써 경화된 수지 조성물의 표면 가교밀도가 높아져, 미세패턴 제조 시 경화도 및 밀착성이 향상된다.The colored photosensitive resin composition may contain a small amount of the compound represented by Formula 1 in an amount of 0.05 to 0.50% by weight based on 100% by weight of the solid content of the composition, and more preferably in an amount of 0.10 to 0.40% by weight, improving the lifting phenomenon of the micropattern. effective in doing When included below or in excess of the above range, the adhesion enhancing effect in the micropattern tends to decrease. This is because the -S-S- bond of Formula 1 is broken due to the energy irradiated during ultraviolet or heat curing, and the surface crosslinking density of the cured resin composition increases by combining with other functional groups in the pattern surface and composition, thereby increasing the curing rate during micropattern production. and adhesion is improved.

또한, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물에서 반복단위 n이 많을수록 소수성이 증가하며, 조성물 내에서 결합성 또한 증가한다.In addition, in the compound represented by Formula 1, as the number of repeating units n increases, hydrophobicity increases, and binding property in the composition also increases.

구체적으로, 상기 화학식 1은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-9 중 선택되는 1종 이상일 수 있다.Specifically, Chemical Formula 1 may be one or more selected from Chemical Formulas 1-1 to 1-9.

[화학식 1-1][Formula 1-1]

[화학식 1-2][Formula 1-2]

[화학식 1-3][Formula 1-3]

[화학식 1-4][Formula 1-4]

[화학식 1-5][Formula 1-5]

[화학식 1-6][Formula 1-6]

[화학식 1-7][Formula 1-7]

[화학식 1-8][Formula 1-8]

[화학식 1-9][Formula 1-9]

기타 첨가제Other Additives

기타 첨가제는 필요에 따라 선택적으로 첨가될 수 있는 것으로서, 예를 들면 고분자 화합물, 경화제, 계면활성제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등을 들 수 있다. Other additives may be selectively added as needed, and include, for example, a polymer compound, a curing agent, a surfactant, an adhesion accelerator, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and an aggregation inhibitor.

상기 고분자 화합물의 구체적인 예로는 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다. Specific examples of the polymer compound include curable resins such as epoxy resin and maleimide resin, thermoplastic resins such as polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, and polyurethane. can

상기 경화제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위해 사용되며, 경화제의 구체적인 예로는 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다. The curing agent is used for deep curing and increasing mechanical strength, and specific examples of the curing agent include an epoxy compound, a polyfunctional isocyanate compound, a melamine compound, an oxetane compound, and the like.

상기 경화제에서 에폭시 화합물의 구체적인 예로는 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노블락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 또는 이러한 에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물, 부타디엔 (공)중합체 에폭시화물, 이소프렌 (공)중합체 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레트 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아눌레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of the epoxy compound in the curing agent include bisphenol A-based epoxy resins, hydrogenated bisphenol A-based epoxy resins, bisphenol F-based epoxy resins, hydrogenated bisphenol F-based epoxy resins, noblock type epoxy resins, other aromatic epoxy resins, and alicyclic epoxy resins. , glycidyl ester-based resins, glycidylamine-based resins, or brominated derivatives of these epoxy resins, aliphatic, alicyclic or aromatic epoxy compounds other than epoxy resins and their brominated derivatives, butadiene (co)polymer epoxides, isoprene ( Co) polymer epoxide, glycidyl (meth) acrylate (co) polymer, triglycidyl isocyanurate, etc. are mentioned.

상기 경화제에서 옥세탄 화합물의 구체적인 예로는 카르보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다. Specific examples of the oxetane compound in the curing agent include carbonate bisoxetane, xylene bisoxetane, adipate bisoxetane, terephthalate bisoxetane, cyclohexanedicarboxylic acid bisoxetane, and the like.

상기 경화제는 경화제와 함께 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화 보조 화합물을 병용할 수 있다. 상기 경화 보조 화합물은 예를 들면 다가 카르본산류, 다가 카르본산 무수물류, 산 발생제 등이 있다. 상기 다가 카르본산 무수물류는 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있다. 상기 에폭시 수지 경화제의 구체적인 예로는, 상품명(아데카하도나 EH-700, 아데카공업㈜ 제조), 상품명(리카싯도 HH, 신일본이화㈜ 제조), 상품명(MH-700, 신일본이화㈜ 제조) 등을 들 수 있다. 상기에서 예시한 경화제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The curing agent may be used in combination with a curing auxiliary compound capable of ring-opening polymerization of an epoxy group of an epoxy compound and an oxetane skeleton of an oxetane compound together with the curing agent. Examples of the curing auxiliary compound include polyvalent carboxylic acids, polyvalent carboxylic acid anhydrides, and acid generators. The polyhydric carboxylic acid anhydrides may be commercially available as epoxy resin curing agents. Specific examples of the epoxy resin curing agent include a product name (Adeka Hadona EH-700, manufactured by Adeka Industrial Co., Ltd.), a product name (Rikashiddo HH, manufactured by Shin Nippon Ewha Co., Ltd.), a product name (MH-700, Shin Nippon Ewha Co., Ltd.) production), etc. The curing agents exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

상기 계면활성제는 감광성 수지 조성물의 피막 형성성을 보다 향상시키기 위해 사용할 수 있으며, 불소계 계면활성제 또는 실리콘계 계면활성제 등이 바람직하게 사용될 수 있다.The surfactant may be used to further improve the film formation of the photosensitive resin composition, and a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant may be preferably used.

상기 실리콘계 계면활성제는 예를 들면 시판품으로서 다우코닝 도레이 실리콘사의 DC-3PA, DC-7PA, SH-11PA, SH-21PA, SH-8400 등이 있고 GE 도시바 실리콘사의 TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460, TSF-4452 등이 있다. 상기 불소계 계면활성제는 예를 들면 시판품으로서 다이닛본 잉크 가가꾸 고교사의 메가피스 F-470, F-471, F-475, F-482, F-489 등이 있다. 상기 예시된 계면활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. The silicone-based surfactants include, for example, DC-3PA, DC-7PA, SH-11PA, SH-21PA, SH-8400 of Dow Corning Toray Silicon Co., Ltd. as commercial products, and TSF-4440, TSF-4300, TSF of GE Toshiba Silicone Co., Ltd. -4445, TSF-4446, TSF-4460, TSF-4452, etc. Examples of the fluorine-based surfactant include Megapiece F-470, F-471, F-475, F-482, and F-489 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd. as commercial products. The surfactants exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

상기 밀착 촉진제의 구체적인 예로서는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 상기에서 예시한 밀착 촉진제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 상기 밀착 촉진제는 착색 감광성 수지 조성물의 고형분에 대하여 중량 분율로 통상 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.05 내지 2중량% 포함될 수 있다. Specific examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(2-methoxyethoxy)silane, N-(2-aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2-( 3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethyne Toxysilane, 3-isocyanate propyl trimethoxysilane, 3-isocyanate propyl triethoxysilane, etc. are mentioned. Adhesion promoters exemplified above may be used alone or in combination of two or more. The adhesion promoter may be included in a weight fraction of usually 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 2% by weight, based on the solid content of the colored photosensitive resin composition.

상기 산화 방지제의 구체적인 예로는 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다. Specific examples of the antioxidant include 2,2'-thiobis(4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, and the like.

상기 자외선 흡수제의 구체적인 예로는 2-(3-tert-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다. Specific examples of the ultraviolet absorber include 2-(3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotyriazole, alkoxybenzophenone, and the like.

상기 응집 방지제의 구체적인 예로는 폴리아크릴산 나트륨 등을 들 수 있다.Specific examples of the aggregation inhibitor include sodium polyacrylate and the like.

(F)(F) 용제solvent

상기 용제는 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 다른 성분들을 용해시키는데 효과적인 것이면, 통상의 착색 감광성 수지 조성물에서 사용되는 용제를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있으며, 특히 에테르류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알콜류, 에스테르류 또는 아미드류 등이 바람직하다.As long as the solvent is effective in dissolving other components included in the colored photosensitive resin composition, solvents used in conventional colored photosensitive resin compositions may be used without particular limitation, and in particular, ethers, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols, and esters. or amides are preferred.

상기 용제는 구체적으로 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸 에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트 등의 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류, 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 등의 알코올류, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류, γ-부티롤락톤 등의 환상 에스테르류 등을 들 수 있다.The solvent is specifically ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dipropyl ether and diethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol alkyl ether acetates such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, Alkylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, methoxybutyl acetate and methoxypentyl acetate, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and mesitylene, methyl ethyl ketone , acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as cyclohexanone, alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, glycerin, ethyl 3-ethoxypropionate, 3- Cyclic esters, such as esters, such as methoxy methyl propionate, and (gamma)-butyrolactone, etc. are mentioned.

상기 용제는 도포성 및 건조성면에서 비점이 100℃ 내지 200℃인 유기 용제가 바람직하며 좀더 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 시클로헥사논, 에틸락테이트, 부탈락테이트, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등을 이용할 수 있다.The solvent is preferably an organic solvent having a boiling point of 100 ℃ to 200 ℃ in terms of coating and drying properties, more preferably propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, cyclohexanone, ethyl lactate, butalak tate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate and the like can be used.

상기 예시한 용제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물의 총 중량을 기준으로 20 내지 90 중량%, 바람직하게는 30 내지 85 중량% 포함될 수 있다. 상기 용제가 상술한 20 내지 90 중량%의 범위이면, 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음), 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해지는 효과를 제공한다.Each of the above-exemplified solvents may be used alone or in combination of two or more, and may be included in an amount of 20 to 90% by weight, preferably 30 to 85% by weight, based on the total weight of the colored photosensitive resin composition of the present invention. When the solvent is in the range of 20 to 90% by weight, the coating property is good when applied with a coating device such as a roll coater, a spin coater, a slit and spin coater, a slit coater (sometimes referred to as a die coater), an inkjet, or the like. provides a disengagement effect.

<컬러필터 및 표시장치><Color filter and display device>

또한, 본 발명은, 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물로 제조되는 컬러 필터와 상기 컬러 필터를 포함하는 고체 촬상 소자를 제공한다. 본 발명의 컬러필터 및 고체 촬상 소자는, 편광판을 포함하지 않는 것일 수 있으며, 편광판을 포함하는 것도 본 발명의 범위에 해당된다.Further, the present invention provides a color filter made of the colored photosensitive resin composition according to the present invention and a solid-state imaging device including the color filter. The color filter and the solid-state imaging device of the present invention may not include a polarizing plate, and including a polarizing plate also falls within the scope of the present invention.

상기 고체 촬상 소자로서는, CCD(Charge-Coupled Device, 전하결합소자) 이미지 센서 및 CMOS(complementary metal-oxide-semiconductor) 이미지 센서 등이 있을 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니며 적용이 가능한 이 분야에 알려진 모든 표시 장치를 예시할 수 있다.The solid-state imaging device may include, but is not limited to, a CCD (Charge-Coupled Device) image sensor and a CMOS (complementary metal-oxide-semiconductor) image sensor, and all displays known in the applicable field device can be exemplified.

컬러필터는 전술한 본 발명의 착색 감광성 수지 조성물을 기재 상에 도포하고, 광경화 및 현상하여 패턴을 형성함으로써 제조할 수 있다.The color filter may be prepared by coating the colored photosensitive resin composition of the present invention described above on a substrate, and photocuring and developing to form a pattern.

먼저, 착색 감광성 수지 조성물을 기재에 도포한 후 가열 건조함으로써 용매 등의 휘발 성분을 제거하여 평활한 도막을 얻는다.First, by applying the colored photosensitive resin composition to a substrate and then heating and drying, volatile components such as solvents are removed to obtain a smooth coating film.

도포 방법으로는, 예를 들어 스핀 코트, 유연 도포법, 롤 도포법, 슬릿 앤드 스핀 코트 또는 슬릿 코트법 등에 의해 실시될 수 있다. 도포 후 가열건조(프리베이크), 또는 감압 건조 후에 가열하여 용매 등의 휘발 성분을 휘발시킨다. 여기에서, 가열 온도는 통상 70 내지 200℃ 바람직하게는 80 내지 130℃이다. 가열건조 후의 도막 두께는 0.1 내지 8㎛ 정도이다. 이렇게 하여 얻어진 도막에, 목적으로 하는 패턴을 형성하기 위한 마스크를 통해 자외선을 조사한다. 이 때, 노광부 전체에 균일하게 평행 광선이 조사되고, 또한 마스크와 기판의 정확한 위치 맞춤이 실시되도록, 마스크 얼라이너나 스테퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다. 자외선을 조사하면, 자외선이 조사된 부위의 경화가 이루어진다.As the coating method, for example, spin coating, casting coating, roll coating, slit and spin coating, or slit coating may be used. After application, heat drying (prebaking) or drying under reduced pressure is followed by heating to volatilize volatile components such as solvents. Here, the heating temperature is usually 70 to 200°C and preferably 80 to 130°C. The coating film thickness after drying by heating is about 0.1 to 8 μm. The coating film obtained in this way is irradiated with ultraviolet rays through a mask for forming a target pattern. At this time, it is preferable to use a device such as a mask aligner or a stepper so that parallel light rays are uniformly irradiated to the entire exposure area and accurate positioning of the mask and the substrate is performed. When irradiated with ultraviolet rays, the portion irradiated with ultraviolet rays is cured.

상기 자외선으로는 g선(파장: 436㎚), h선, i선(파장: 365㎚) 등을 사용할 수 있다. 자외선의 조사량은 필요에 따라 적절히 선택될 수 있는 것이며, 본 발명에서 이를 한정하지는 않는다. 경화가 종료된 도막을 현상액에 접촉시켜 비노광부를 용해시켜 현상하면 목적으로 하는 패턴 형상을 형성할 수 있다. As the ultraviolet rays, g-rays (wavelength: 436 nm), h-rays, i-rays (wavelength: 365 nm), and the like may be used. The irradiation amount of ultraviolet rays can be appropriately selected as needed, and is not limited thereto in the present invention. When the cured coating film is contacted with a developing solution to dissolve the unexposed portion and develop, a desired pattern shape can be formed.

상기 현상 방법은, 액첨가법, 디핑법, 스프레이법 등 어느 것을 사용하여도 무방하다. 또한 현상시에 기판을 임의의 각도로 기울여도 된다. 상기 현상액은 통상 알칼리성 화합물과 계면 활성제를 함유하는 수용액이다. 상기 알칼리성 화합물은, 무기 및 유기 알칼리성 화합물의 어느 것이어도 된다. 무기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 인산수소2나트륨, 인산2수소나트륨, 인산수소 2암모늄, 인산2수소암모늄, 인산2수소칼륨, 규산 나트륨, 규산 칼륨, 탄산 나트륨, 탄산 칼륨, 탄산 수소나트륨, 탄산 수소 칼륨, 붕산 나트륨, 붕산 칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 또한, 유기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 테트라메틸암모늄히드록사이드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록사이드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다.As the developing method, any of a liquid addition method, a dipping method, a spray method, and the like may be used. Further, the substrate may be tilted at an arbitrary angle during development. The developing solution is usually an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant. Any of inorganic and organic alkaline compounds may be sufficient as the said alkaline compound. Specific examples of the inorganic alkaline compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, potassium carbonate , sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, ammonia and the like. Further, specific examples of the organic alkaline compound include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, Monoisopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine, etc. are mentioned.

이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물은, 각각 단독 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 알칼리 현상액 중의 알칼리성 화합물의 농도는, 바람직하게는 0.01 내지 10 중량%이고, 보다 바람직하게는 0.03 내지 5 중량%이다.These inorganic and organic alkaline compounds can be used individually or in combination of two or more types, respectively. The concentration of the alkaline compound in the alkaline developing solution is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.03 to 5% by weight.

상기 알칼리 현상액 중의 계면 활성제는 비이온계 계면 활성제, 음이온계 계면 활성제 또는 양이온계 계면 활성제로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나를 사용할 수 있다.As the surfactant in the alkali developer, at least one selected from the group consisting of nonionic surfactants, anionic surfactants, and cationic surfactants may be used.

상기 비이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌지방산에스테르, 폴리옥시에틸렌알 킬아민 등을 들 수 있다.Specific examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene aryl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene/oxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters, and polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid esters, glycerin fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters, and polyoxyethylene alkylamines.

상기 음이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 라우릴알코올황산에 스테르나트륨이나 올레일알코올황산에스테르나트륨 등의 고급 알코올 황산에스테르염류, 라우릴황산나트륨이나 라우릴황산암모늄 등의 알킬황산염류, 도데실벤젠술폰산나트륨이나 도데실나프탈렌술폰산나트륨 등의 알킬아릴술폰산염류 등을 들 수 있다.Specific examples of the anionic surfactant include higher alcohol sulfate ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate or sodium oleyl alcohol sulfate, alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate or ammonium lauryl sulfate, dodecylbenzenesulfonic acid Alkylaryl sulfonic acid salts, such as sodium and sodium dodecyl naphthalene sulfonate, etc. are mentioned.

상기 양이온계 계면 활성제의 구체적인 예로는 스테아릴아민염산염이나 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 이들 계면 활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the cationic surfactant include amine salts or quaternary ammonium salts such as stearylamine hydrochloride or lauryltrimethylammonium chloride. These surfactants can be used alone or in combination of two or more.

상기 현상액 중의 계면 활성제의 농도는, 통상 0.01 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.05 내지 8 중량%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5 중량%이다. The concentration of the surfactant in the developing solution is usually 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 8% by weight, and more preferably 0.1 to 5% by weight.

현상 후, 수세하고, 또한 필요에 따라 80 내지 230℃에서, 바람직하게는 80 내지 120℃에서 10 내지 60 분의 포스트베이크를 실시할 수도 있다.After development, it is washed with water and, if necessary, post-baked at 80 to 230°C, preferably at 80 to 120°C for 10 to 60 minutes.

이하, 본 발명을 실시예에 기초하여 더욱 상세하게 설명하지만, 하기에 개시되는 본 발명의 실시 형태는 어디까지 예시로써, 본 발명의 범위는 이들의 실시 형태에 한정되지 않는다. 본 발명의 범위는 특허청구범위에 표시되었고, 더욱이 특허 청구범위 기록과 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경을 함유하고 있다. 또한, 이하의 실시예, 비교예에서 함유량을 나타내는 "%" 및 "부"는 특별히 언급하지 않는 한 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the embodiments of the present invention disclosed below are only examples, and the scope of the present invention is not limited to these embodiments. The scope of the present invention has been indicated in the claims, and furthermore contains all changes within the meaning and range equivalent to the written claims. In the following Examples and Comparative Examples, "%" and "parts" indicating content are based on mass unless otherwise specified.

제조예 1: 안료 분산액 a―1의 제조Preparation Example 1: Preparation of pigment dispersion a-1

안료로서 C.I. 피그먼트 레드 254 14.0 중량%, 안료 분산제로서 DISPERBYK-2001 (BYK사 제조) 6.0 중량%, 용매로서 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 80.0 중량%를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합/분산하여 안료 분산액 a-1을 제조하였다.As a pigment, C.I. 14.0% by weight of Pigment Red 254, 6.0% by weight of DISPERBYK-2001 (manufactured by BYK) as a pigment dispersant, and 80.0% by weight of propylene glycol methyl ether acetate as a solvent were mixed/dispersed for 12 hours by a bead mill to obtain a pigment dispersion a-1 was manufactured.

제조예 2: 안료 분산액 a―2의 제조Preparation Example 2: Preparation of pigment dispersion a-2

안료로서 C.I. 피그먼트 옐로우 139 14.5 중량%, 안료 분산제로서 DISPERBYK-2001 (BYK사 제조) 5.0 중량%, 용매로서 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 80.5 중량%를 비드밀에 의해 12시간 동안 혼합/분산하여 안료 분산액 a-2를 제조하였다.As a pigment, C.I. 14.5% by weight of Pigment Yellow 139, 5.0% by weight of DISPERBYK-2001 (manufactured by BYK) as a pigment dispersant, and 80.5% by weight of propylene glycol methyl ether acetate as a solvent were mixed/dispersed by a bead mill for 12 hours to obtain a pigment dispersion a-2 was manufactured.

제조예 3: 알칼리 가용성 수지의 합성 Preparation Example 3: Synthesis of alkali-soluble resin

환류 냉각기, 적하 깔대기 및 교반기를 구비한 1L의 플라스크 내에 질소를 0.02L/분으로 흐르게 하여 질소 분위기로 하고, 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르아세테이트 200g을 도입하여, 100℃로 승온 후 아크릴산 33.9g(0.47몰), 노르보넨 4.7g(0.05몰), 비닐톨루엔 56.7g(0.48몰) 및 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르 아세테이트 150g을 포함하는 혼합물에 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 3.6g을 첨가한 용액을 적하 로트로부터 2시간에 걸쳐 플라스크에 적하하여 100℃에서 5시간 더 교반을 계속하였다. In a 1 L flask equipped with a reflux condenser, dropping funnel and stirrer, nitrogen was flowed at 0.02 L/min to create a nitrogen atmosphere, 200 g of propylene glycol monomethyl ether acetate was introduced, the temperature was raised to 100 ° C, and 33.9 g of acrylic acid (0.47 mol) ), 4.7 g (0.05 mol) of norbornene, 56.7 g (0.48 mol) of vinyltoluene and 150 g of propylene glycol monomethyl ether acetate, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) 3.6 The solution to which g was added was added dropwise to the flask over 2 hours from the dropping funnel, and stirring was continued at 100°C for further 5 hours.

이어서, 플라스크내 분위기를 질소에서 공기로 하고, 글리시딜메타크릴레이트 42.6g [0.30몰(본 반응에 사용한 아크릴산에 대하여 64몰%)]을 플라스크내에 투입하여 110℃에서 6시간 반응을 계속하고, 고형분 산가가 79㎎KOH/g인 불포화기 함유 수지 A-1을 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량평균분자량은 6,600이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 1.9이었다.Next, the atmosphere in the flask was changed from nitrogen to air, and 42.6 g of glycidyl methacrylate (0.30 mol (64 mol% based on the acrylic acid used in this reaction)) was introduced into the flask, and the reaction was continued at 110 ° C. for 6 hours. , an unsaturated group-containing resin A-1 having a solid acid value of 79 mgKOH/g was obtained. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 6,600, and the molecular weight distribution (Mw/Mn) was 1.9.

실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 7: 착색 감광성 수지 조성물의 제조Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 7: Preparation of colored photosensitive resin composition

하기 표 1의 성분 및 함량을 사용하여 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다.A colored photosensitive resin composition was prepared using the ingredients and contents of Table 1 below.

- a―1: 제조예 1에 따른 안료 분산액- a-1: Pigment dispersion according to Preparation Example 1

- a―2: 제조예 2에 따른 안료 분산액- a-2: Pigment dispersion according to Preparation Example 2

- 알칼리 가용성 수지(B): 제조예 3에 따른 알칼리 가용성 수지- Alkali-soluble resin (B): Alkali-soluble resin according to Preparation Example 3

- 광중합성 화합물(C): KAYARAD DPHA(닛본가야꾸 제조)- Photopolymerizable compound (C): KAYARAD DPHA (manufactured by Nippon Kayaku)

- 광중합 개시제(D): Irgacure OXE-01(바스프 사) - Photopolymerization initiator (D): Irgacure OXE-01 (BASF)

- e-1: SH-8400(한국다우코닝㈜)- e-1: SH-8400 (Dow Corning Korea Co., Ltd.)

- e-2: (시그마알드리치 사)- e-2: (Sigma-Aldrich)

- e-3: (시그마알드리치 사)-e-3: (Sigma-Aldrich)

- e-4: (시그마알드리치 사)- e-4: (Sigma-Aldrich)

- e-5: 3-메타아크릴로일옥시 프로필트리메톡시 실란(신에츠 사)-e-5: 3-methacryloyloxy propyltrimethoxy silane (Shin-Etsu Co., Ltd.)

- 용제(F): Propylene glycol methyl ether acetate(KH NEOCHEM CO., LTD.)- Solvent (F): Propylene glycol methyl ether acetate (KH NEOCHEM CO., LTD.)

실험예Experimental example

(1) 패턴의 밀착성 평가(1) Evaluation of pattern adhesion

23℃의 청정실에서 6인치 크기의 Si-wafer의 표면 상에, 상기 실시예 및 비교예에서 얻은 감광성 조성물을 스핀 코팅법에 의해서 도포한 후, 100℃에서 90초간 건조시켜 휘발 성분을 휘발시켜서 감광성 조성물 층을 형성하였다. 23℃로 냉각시킨 후, 형성된 감광성 조성물 층에 i-line stepper를 이용하여 노광하였다. 노광된 도막이 형성된 웨이퍼를 0.2중량% 테트라메틸암모늄 히드록사이드(TMAH) 수용액으로 현상하고, 220℃에서 180초간 후 가열하여 화소를 형성하였다. 얻어진 화소의 두께는 0.5μm였다. 형성된 화소의 해상도는 1.5, 1.0, 0.5μm이었다. 상기에서 얻어진 들뜸 없이 100% 남아있는지를 CD-SEM Image를 통해 확인하였다. 그 결과를 하기 표 2에 기재하였다.On the surface of a 6-inch Si-wafer in a clean room at 23 ° C, the photosensitive composition obtained in the above Examples and Comparative Examples was applied by spin coating, and then dried at 100 ° C for 90 seconds to volatilize the volatile components, thereby forming a photosensitive composition. A composition layer was formed. After cooling to 23° C., the formed photosensitive composition layer was exposed to light using an i-line stepper. The wafer on which the exposed coating film was formed was developed with a 0.2% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH), and then heated at 220° C. for 180 seconds to form pixels. The obtained pixel thickness was 0.5 μm. The resolutions of the formed pixels were 1.5, 1.0, and 0.5 μm. It was confirmed through CD-SEM Image that 100% of the remaining without the lifting obtained above. The results are shown in Table 2 below.

<평가 기준><Evaluation Criteria>

1: 형성된 패턴이 40% 미만 남아있음 1: Less than 40% of the formed pattern remains

2: 형성된 패턴이 40% 이상 60% 미만 남아있음2: More than 40% and less than 60% of the formed pattern remains

3: 형성된 패턴이 60% 이상 80% 미만 남아있음 3: More than 60% and less than 80% of the formed pattern remains

4: 형성된 패턴이 80 % 이상 100% 미만 남아있음4: More than 80% and less than 100% of the formed pattern remains

5: 형성된 패턴이 들뜸 없이 100 % 남아있음5: The formed pattern remains 100% without lifting

(2) 내열성 평가(2) Heat resistance evaluation

23℃의 청정실에서 4인치 크기의 Glass Wafer 의 표면 상에, 상기 실시예 및 비교예에서 얻은 감광성 조성물을 스핀 코팅법에 의해서 도포한 후, 100℃에서 90초간 건조시켜 휘발 성분을 휘발시켜서 감광성 조성물 층을 형성하였다. 23℃로 냉각시킨 후, 형성된 감광성 조성물 층에 MA6를 이용하여 노광하였다. 노광된 도막이 형성된 웨이퍼를 0.2중량% 테트라메틸암모늄 히드록사이드(TMAH) 수용액으로 현상하고, 220℃에서 180초 후가열하여 도막을 형성하였다. 얻어진 도막의 두께는 모두 0.5μm였다. 내열성 테스트는 230℃에서 1시간 진행하였다. 제조된 기판은 평가 전/후의 색 변화를 계산하여 비교 평가하였다. 이 때 사용되는 식은 L*, a*, b*로 정의되는 3차원 색도계에서의 색변화를 나타내는 하기 수학식 1에 의해 계산 되었으며 그 결과는 하기 표 3에 기재하였다.The photosensitive composition obtained in Examples and Comparative Examples was applied by spin coating on the surface of a 4-inch glass wafer in a clean room at 23 ° C., and then dried at 100 ° C. for 90 seconds to volatilize the volatile components, thereby forming the photosensitive composition. layer was formed. After cooling to 23° C., the formed photosensitive composition layer was exposed to light using MA6. The wafer on which the exposed coating film was formed was developed with a 0.2% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH), and then heated at 220° C. for 180 seconds to form a coating film. The thickness of the obtained coating film was all 0.5 micrometer. The heat resistance test was conducted at 230° C. for 1 hour. The prepared substrates were compared and evaluated by calculating color changes before and after evaluation. The equation used at this time was calculated by Equation 1 below, which represents the color change in the three-dimensional colorimetric system defined by L * , a * , b * , and the results are shown in Table 3 below.

[수학식 1][Equation 1]

ΔEab(L*, a*, b*) = {(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2 ΔEab(L * , a * , b * ) = {(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 } 1/2

○: ΔEab* 3.0 미만,○: Less than ΔEab * 3.0,

△: ΔEab* 3.0 이상 4.0 미만△: ΔEab * 3.0 or more and less than 4.0

×: ΔEab* 4.0 초과×: greater than ΔEab * 4.0

상기 표 2 및 표 3의 실험데이터를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 착색 감광성 수지 조성물을 포함하여 제조된 실시예 1 내지 4의 경우 1.5, 1.0 및 0.5μm의 각 패턴 사이즈에서 관찰결과, 형성된 패턴이 들뜸 현상 없이 100% 남아있으며, 내열성 테스트에서 우수한 결과를 나타낸 반면, 착색 감광성 수지 조성물이 본 발명에서 벗어나는 비교예 1 내지 7는, 특히 1.0 및 0.5μm의 각 패턴 사이즈에서 패턴의 들뜸이 관찰되었으며, 실시예 대비 내열성이 떨어졌다.Referring to the experimental data in Tables 2 and 3, in the case of Examples 1 to 4 prepared including the colored photosensitive resin composition according to an embodiment of the present invention, the observation results at each pattern size of 1.5, 1.0 and 0.5 μm, While the formed pattern remained 100% without lifting and showed excellent results in the heat resistance test, Comparative Examples 1 to 7, in which the colored photosensitive resin composition was out of the present invention, showed lifting of the pattern, especially at each pattern size of 1.0 and 0.5 μm. It was observed, and the heat resistance was lower than that of the examples.

특히, 화학식 1로 표시되는 화합물을 상기 착색 감광성 수지 조성물의 고형분 100 중량%에 대하여 0.05 내지 0.50 중량%의 범위에서벗어나는 비교예 2 내지 5보다, 화학식 1로 표시되는 화합물을 전혀 포함하지 않은 비교예 1, 6 및 7의 경우 패턴의 밀착성 및 내열성이 더욱 떨어지는 것으로 관찰되었다.In particular, compared to Comparative Examples 2 to 5 in which the compound represented by Formula 1 is out of the range of 0.05 to 0.50% by weight based on 100% by weight of the solid content of the colored photosensitive resin composition, Comparative Examples that do not contain the compound represented by Formula 1 at all In the case of 1, 6 and 7, it was observed that the adhesiveness and heat resistance of the pattern were further deteriorated.

따라서, 본 발명에 따른 착색 감광성 수지 조성물 및 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 고체 촬상 소자는, 패턴의 들뜸이 없는 우수한 밀착력 및 내열성을 가지는 것을 확인할 수 있었다.Therefore, it was confirmed that the colored photosensitive resin composition according to the present invention and the color filter and solid-state imaging device manufactured using the same have excellent adhesion and heat resistance without lifting of the pattern.

Claims (7)

(A)안료 분산액, (B)알칼리 가용성 수지, (C)광중합성 화합물, (D)광중합 개시제, (E)첨가제 및 (F)용제를 포함하며,
상기 (E)첨가제는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 상기 착색 감광성 수지 조성물의 고형분 100 중량%에 대하여 0.05 내지 0.50 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는, 착색 감광성 수지 조성물:
[화학식 1]

상기 화학식 1에서,
R 및 R’은, 각각 독립적으로, 카르복시기, 하이드록시기, 탄소수 1 내지 10의 알킬기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐기, 탄소수 2 내지 10의 알키닐기, 탄소수 3 내지 12의 카보닐기, 탄소수 3 내지 12의 방향족 치환기 또는 탄소수 3 내지 12의 헤테로 방향족 치환기이고,
n은, 각각 독립적으로, 1 내지 5의 정수이다.
(A) a pigment dispersion, (B) an alkali soluble resin, (C) a photopolymerizable compound, (D) a photopolymerization initiator, (E) an additive and (F) a solvent;
The (E) additive comprises 0.05 to 0.50% by weight of the compound represented by Formula 1 based on 100% by weight of the solid content of the colored photosensitive resin composition, colored photosensitive resin composition:
[Formula 1]

In Formula 1,
R and R' are each independently a carboxy group, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, a carbonyl group having 3 to 12 carbon atoms, and a carbon atom having 3 to 10 carbon atoms. An aromatic substituent of 12 or a heteroaromatic substituent of 3 to 12 carbon atoms;
n is each independently an integer of 1 to 5.
청구항 1에 있어서,
상기 화학식 1은 하기 화학식 1-1 내지 화학식 1-9 중 선택되는 1종 이상인, 착색 감광성 수지 조성물.
[화학식 1-1]

[화학식 1-2]

[화학식 1-3]

[화학식 1-4]

[화학식 1-5]

[화학식 1-6]

[화학식 1-7]

[화학식 1-8]

[화학식 1-9]
The method of claim 1,
Chemical Formula 1 is one or more selected from the following Chemical Formulas 1-1 to 1-9, the colored photosensitive resin composition.
[Formula 1-1]

[Formula 1-2]

[Formula 1-3]

[Formula 1-4]

[Formula 1-5]

[Formula 1-6]

[Formula 1-7]

[Formula 1-8]

[Formula 1-9]
청구항 1에 있어서,
상기 (A)안료 분산액은 1종 이상의 안료를 포함하는, 착색 감광성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The (A) pigment dispersion contains at least one pigment, the colored photosensitive resin composition.
청구항 1에 있어서,
상기 광중합성 화합물은 단관능 단량체 및 2관능 이상의 단량체 중 적어도 1종 이상을 포함하는, 착색 감광성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The photopolymerizable compound is a colored photosensitive resin composition comprising at least one of a monofunctional monomer and a bifunctional or higher functional monomer.
청구항 1에 있어서,
상기 첨가제는 고분자 화합물, 경화제, 계면활성제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제 및 응집 방지제로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는, 착색 감광성 수지 조성물.
The method of claim 1,
The additive is a colored photosensitive resin composition comprising at least one selected from the group consisting of a polymer compound, a curing agent, a surfactant, an adhesion accelerator, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and an aggregation inhibitor.
청구항 1 내지 5 중 어느 한 항에 따른 착색 감광성 수지 조성물로 제조된 착색패턴을 포함하는 컬러필터.A color filter comprising a colored pattern made of the colored photosensitive resin composition according to any one of claims 1 to 5. 청구항 6에 따른 컬러필터를 포함하는 고체 촬상 소자.A solid-state imaging device comprising the color filter according to claim 6.
KR1020220022490A 2022-02-21 2022-02-21 Colored photosensitive resin composition, color filter and solid-state imaging element using the same Pending KR20230125639A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220022490A KR20230125639A (en) 2022-02-21 2022-02-21 Colored photosensitive resin composition, color filter and solid-state imaging element using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020220022490A KR20230125639A (en) 2022-02-21 2022-02-21 Colored photosensitive resin composition, color filter and solid-state imaging element using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20230125639A true KR20230125639A (en) 2023-08-29

Family

ID=87802399

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020220022490A Pending KR20230125639A (en) 2022-02-21 2022-02-21 Colored photosensitive resin composition, color filter and solid-state imaging element using the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20230125639A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025063496A1 (en) 2023-09-20 2025-03-27 주식회사 엘지에너지솔루션 Battery pack and vehicle comprising same battery pack

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120014728A (en) 2010-08-10 2012-02-20 동우 화인켐 주식회사 Coloring photosensitive resin composition, coloring pattern and color filter using the same
KR102233483B1 (en) 2015-03-27 2021-03-26 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition and color filter manufactured by the same

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120014728A (en) 2010-08-10 2012-02-20 동우 화인켐 주식회사 Coloring photosensitive resin composition, coloring pattern and color filter using the same
KR102233483B1 (en) 2015-03-27 2021-03-26 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition and color filter manufactured by the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025063496A1 (en) 2023-09-20 2025-03-27 주식회사 엘지에너지솔루션 Battery pack and vehicle comprising same battery pack

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6625511B2 (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and display device including the same
JP2015041104A (en) Colored photosensitive resin composition, and color filter and display device including the same
KR20120036117A (en) A colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device having the same
KR101962481B1 (en) A colored photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
KR20160060410A (en) A color photosensitive resin composition
CN108459466B (en) Colored photosensitive resin composition for red pixel, color filter and application thereof
KR20140008033A (en) Colored photosensitive resin composition and color filter using the same
KR20230125639A (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and solid-state imaging element using the same
KR102543959B1 (en) IR-pass Photosensitive Resin Composition
CN108333871B (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and display device comprising same
KR20150028463A (en) A black photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
CN104345550B (en) Colored photosensitive resin composition, colour filter and the liquid crystal display device with the colour filter
KR102542889B1 (en) Colored Photosensitive Resin Composition for Solid State Imaging Device, Color Filter and Solid State Imaging Device
KR20150022172A (en) A color photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
KR102192236B1 (en) A color photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
KR20230121331A (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and display device using the same
KR102832123B1 (en) Infrared transmission photosensitive resin composition and infrared transmission filter
KR20150028524A (en) Colored Photosensitive Resin Composition, Color Filter, and Liquid Crystal Display Device Having the Same
KR102543947B1 (en) Colored Photosensitive Resin Composition for Solid State Imaging Device, Color Filter and Solid State Imaging Device
KR101689058B1 (en) Colored photosensitive resin composition and color filter using the same
KR101840595B1 (en) Colored Photosensitive Resin Composition for Red Pixel, Color Filter and Display Device
KR20170082312A (en) Colored photosensitive resin composition and color filter using the same
KR20240050149A (en) Colored Photosensitive Resin Composition, Color Filter and Display Device
KR20250075070A (en) Colored Photosensitive Resin Composition, Color Filter and Display Device
KR20250112515A (en) Colored Photosensitive Resin Composition for Solid State Imaging Device, Color Filter and Solid State Imaging Device

Legal Events

Date Code Title Description
PA0109 Patent application

St.27 status event code: A-0-1-A10-A12-nap-PA0109

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

PG1501 Laying open of application

St.27 status event code: A-1-1-Q10-Q12-nap-PG1501

A201 Request for examination
PA0201 Request for examination

St.27 status event code: A-1-2-D10-D11-exm-PA0201

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

D13-X000 Search requested

St.27 status event code: A-1-2-D10-D13-srh-X000

P22-X000 Classification modified

St.27 status event code: A-2-2-P10-P22-nap-X000

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

R18-X000 Changes to party contact information recorded

St.27 status event code: A-3-3-R10-R18-oth-X000

E902 Notification of reason for refusal
PE0902 Notice of grounds for rejection

St.27 status event code: A-1-2-D10-D21-exm-PE0902

T11-X000 Administrative time limit extension requested

St.27 status event code: U-3-3-T10-T11-oth-X000

E13-X000 Pre-grant limitation requested

St.27 status event code: A-2-3-E10-E13-lim-X000

P11-X000 Amendment of application requested

St.27 status event code: A-2-2-P10-P11-nap-X000

P13-X000 Application amended

St.27 status event code: A-2-2-P10-P13-nap-X000