KR20250119386A - Apparatus for stabilization gas flow of efem - Google Patents
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Abstract
본 발명은 EFEM의 내부에서 가스의 기류를 안정화시키는 EFEM의 기류 안정화 장치에 관한 것으로서, 도어 측으로 절곡 형성되어 가스를 유입시켜 기류를 안정화시키는 본체부와, 가스의 기류를 안정화시키도록 송풍구역에 송풍하는 송풍부와, 가스를 필터링하는 필터부와, 가스의 기류를 절곡시키도록 가이드하는 가이드부와 가스를 하방 직진성으로 균등하게 분산시켜 가스막을 형성하도록 배출하는 배출부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서 본 발명은 본체부의 내부에 공급된 가스를 하방 직진성으로 분산시켜 도어 측에 근접하게 가스막을 형성해서 가스의 기류를 안정화하여 외기의 유입을 차단하는 동시에 웨이퍼 용기의 습도를 저감할 수 있는 효과를 제공한다.The present invention relates to an airflow stabilization device for an EFEM that stabilizes a gas flow inside the EFEM, and is characterized by including a main body portion that is formed by bending toward the door to introduce gas and stabilize the airflow, a blower portion that blows air to a blower zone to stabilize the gas flow, a filter portion that filters the gas, a guide portion that guides the gas flow to bend it, and an exhaust portion that evenly distributes the gas in a straight downward direction to form a gas film and exhausts the gas. Therefore, the present invention provides an effect of stabilizing the gas flow by distributing the gas supplied to the inside of the main body portion in a straight downward direction to form a gas film close to the door side, thereby blocking the inflow of outside air and reducing the humidity of a wafer container.
Description
본 발명은 EFEM의 기류 안정화 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 EFEM의 내부에 설치되어 EFEM의 내부에서 가스의 기류를 안정화시키는 EFEM의 기류 안정화 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an airflow stabilization device of an EFEM, and more particularly, to an airflow stabilization device of an EFEM that is installed inside an EFEM and stabilizes the airflow of gas inside the EFEM.
반도체 제조 공정에 있어서 웨이퍼 및 이에 형성되는 반도체 소자는 고정밀도의 물품으로, 보관 및 운반 시 외부의 오염 물질과 충격으로부터 손상되지 않도록 주의해야 한다. 특히, 웨이퍼의 보관 및 운반의 과정에서 그 표면이 먼지, 수분, 각종 유기물 등과 같은 불순물에 의해 오염되지 않도록 관리가 필요하다.In the semiconductor manufacturing process, wafers and the semiconductor devices formed on them are high-precision items. Care must be taken to protect them from external contaminants and impacts during storage and transport. In particular, wafers require careful management during storage and transport to prevent their surfaces from being contaminated by impurities such as dust, moisture, and various organic substances.
종래에는 반도체의 제조 수율 및 품질의 향상을 위하여, 클린룸(clean room) 내에서의 웨이퍼의 처리가 이루어지곤 하였다. 그러나 소자의 고집적화, 미세화, 웨이퍼의 대형화가 진행됨에 따라, 비교적 큰 공간인 클린룸을 관리하는 것이 비용적으로도 기술적으로도 곤란해져 왔다. Traditionally, wafer processing was performed in clean rooms to improve semiconductor manufacturing yield and quality. However, with the advancement of device integration and miniaturization, and the increasing size of wafers, managing these relatively large clean rooms has become increasingly difficult, both financially and technically.
이에 최근에는 클린룸 내 전체의 청정도를 향상시키는 대신, 웨이퍼 주위의 국소적인 공간에 대하여 집중적으로 청정도를 향상시키는 국소환경(mini-environment)의 청정 방식이 적용된다.Recently, instead of improving the cleanliness of the entire cleanroom, a local environment (mini-environment) cleaning method is applied that focuses on improving the cleanliness of a local space around the wafer.
한편, 반도체 제조 공정은 식각, 증착, 에칭과 같은 다양한 단위 공정들이 순차적으로 반복된다. 각 공정 처리 과정에서 웨이퍼 상에 이물질 또는 오염 물질이 잔존하게 되어 불량이 발생하거나 반도체 공정 수율이 낮아지는 문제가 있었다.Meanwhile, the semiconductor manufacturing process involves a series of sequential, repetitive unit processes, such as etching, deposition, and etching. During each process, foreign substances or contaminants remain on the wafer, leading to defects and reduced semiconductor process yields.
따라서 반도체 공정에 있어서, 웨이퍼는 여러 프로세스 챔버 또는 반도체처리 공간으로 이송되는데 이때, 웨이퍼를 하나의 처리 공간에서 다른 처리 공간으로 이송시키는 동안 웨이퍼에 이물질이나 오염 물질이 부착되는 것을 최소화하기 위한 다양한 수단이 구비되어 있다.Therefore, in semiconductor processes, wafers are transferred to multiple process chambers or semiconductor processing spaces, and various means are provided to minimize the attachment of foreign substances or contaminants to the wafers while the wafers are transferred from one processing space to another.
EFEM(Equipment Front End Module)을 포함하는 반도체 공정장치는, 도 1에 나타낸 바와 같이 로드포트모듈(110; LPM(Load Port Module)), 웨이퍼 용기(120; FOUP(Front Opening Unified Pod)), 팬필터유닛(130; FFU(Fan Filter Unit)) 및 웨이퍼 반송실(140)을 포함하여 이루어져 있다.A semiconductor process equipment including an Equipment Front End Module (EFEM) is composed of a load port module (110; LPM (Load Port Module)), a wafer container (120; FOUP (Front Opening Unified Pod)), a fan filter unit (130; FFU (Fan Filter Unit)), and a wafer transfer room (140), as shown in FIG. 1.
웨이퍼를 고청정한 환경에서 보관하기 위하여 개구 통합형 포드(Front-Opening Unified Pod ; FOUP)라는 웨이퍼 용기(120)가 사용되며, 웨이퍼 용기(120) 에서 반도체 처리공간으로 웨이퍼가 이동하는 경로에 웨이퍼 반송실(140)이 형성되고, 웨이퍼 반송실(140)은 팬필터유닛(130)에 의하여 청정한 공간으로 유지된다.In order to store wafers in a clean environment, a wafer container (120) called a Front-Opening Unified Pod (FOUP) is used, and a wafer transfer room (140) is formed in the path along which the wafer moves from the wafer container (120) to the semiconductor processing space, and the wafer transfer room (140) is maintained as a clean space by a fan filter unit (130).
웨이퍼 반송실(140) 내에 설치된 아암 로봇 등의 웨이퍼 반송수단에 의해, 웨이퍼 용기(120) 내의 웨이퍼가 로드포트모듈(110) 를 통하여 웨이퍼 반송실(140) 내로 반출되거나 또는 웨이퍼 반송실(140)로부터 웨이퍼 용기(120) 내에 수납할 수 있도록 구성된다. The wafer in the wafer container (120) is configured to be transported into the wafer transfer room (140) through the load port module (110) or stored in the wafer container (120) from the wafer transfer room (140) by a wafer transfer means such as an arm robot installed in the wafer transfer room (140).
로드포트모듈(110)의 도어(111)와 웨이퍼 용기(120)의 전방면에 설치된 도어가 밀착된 상태에서 동시에 개방되고, 개방된 영역을 통하여 웨이퍼가 반출되거나 또는 수납된다.The door (111) of the load port module (110) and the door installed on the front surface of the wafer container (120) are opened simultaneously while in close contact, and the wafer is taken out or stored through the opened area.
일반적으로, 반도체 처리 공정을 거친 웨이퍼 표면에는 공정 후 발생하는 퓸 (Fume)이 잔류하고 이에 의해 화학반응 발생되어 반도체 웨이퍼의 생산성을 저하시키는 원인으로 작용한다.In general, fumes generated after the process remain on the surface of wafers that have gone through a semiconductor processing process, and this causes chemical reactions, which lowers the productivity of semiconductor wafers.
나아가 웨이퍼의 반출 또는 수납을 위하여 웨이퍼 용기(120)의 도어가 오픈된 경우, 웨이퍼 용기(120)의 내부의 퍼지 가스 농도는 일정 수준 유지되도록 제어되고 웨이퍼 용기 내로 유입된 외기는 필터링되도록 동작한다.Furthermore, when the door of the wafer container (120) is opened for the purpose of removing or storing the wafer, the purge gas concentration inside the wafer container (120) is controlled to be maintained at a certain level, and the outside air flowing into the wafer container is filtered.
하지만, 웨이퍼 용기(120) 내부로 유입된 외기에 의해 웨이퍼 용기(120)의 내부에 일부 필터링되지 않은 공기가 존재하게 되고, 웨이퍼 반송실(140)의 대기 환경은 미립자가 제어된 청정 공기이기는 하지만 산소, 수분 등이 포함되어 있고, 이러한 공기가 웨이퍼 용기(120)의 내부로 유입되어 내부 습도가 상승하게 되면 웨이퍼의 표면이 외기에 함유된 수분 또는 산소에 의해 산화될 가능성이 있다. However, some unfiltered air exists inside the wafer container (120) due to the outside air flowing into the wafer container (120), and although the atmospheric environment of the wafer transfer room (140) is clean air with controlled particulates, it contains oxygen, moisture, etc., and if such air flows into the inside of the wafer container (120) and the internal humidity increases, there is a possibility that the surface of the wafer will be oxidized by the moisture or oxygen contained in the outside air.
따라서, 웨이퍼 반송실(140)로부터 웨이퍼 용기(120)로 외기가 유입되는 것을 효과적으로 차단할 수 있는 수단으로서, 종래에는 로드포트모듈(110)과 웨이퍼 용기(120)의 덮개의 개폐에 의해 이중의 도어 개폐 수단을 구비함으로써 외기를 차단할 수는 있으나, 상하 방향으로 슬라이딩 이동하는 도어 부재를 구비함으로써 로드 포트의 구성이 상당히 복잡해지는 문제가 있었다. Accordingly, as a means to effectively block outside air from flowing into the wafer container (120) from the wafer return room (140), outside air can be blocked by providing a double door opening/closing means by opening/closing the cover of the load port module (110) and the wafer container (120) in the past, but there was a problem in that the configuration of the load port became considerably complicated by providing a door member that slides in the up/down direction.
그 뿐만 아니라, 도어 부재를 상하로 이동시켜 외기를 차단함에 따라, 웨이퍼의 반출 및 수납에 소요되는 시간이 상당히 증가하게 되고, 이로 인해 웨이퍼 용기의 내부 습도가 변화되어 반도체의 제조 수율의 감소로 이어지게 되는 문제점이 있었다.In addition, as the door member moves up and down to block outside air, the time required for removing and storing wafers increases significantly, which causes changes in the internal humidity of the wafer container, leading to a problem of a decrease in the semiconductor manufacturing yield.
특히, 웨이퍼 용기(120)에서 웨이퍼가 출입하는 출입구에서 외기가 웨이퍼 용기(120)의 내부로 유입되어 출입구에서 내부 습도가 상승하게 되면 웨이퍼의 표면이 외기에 함유된 수분 또는 산소에 의해 손상되어 수율이 저하되는 문제도 있었다.In particular, there was a problem that when outside air was introduced into the inside of the wafer container (120) through the entrance through which the wafer was taken in and out of the wafer container (120), and the internal humidity increased at the entrance, the surface of the wafer was damaged by moisture or oxygen contained in the outside air, resulting in a decrease in yield.
또한, 웨이퍼 용기(120)에서 웨이퍼가 출입하는 출입구에서 에어커튼 발생부위와의 이격거리에 의해서 에어커튼의 효과가 저감되거나 외기가 웨이퍼 용기(120)의 내부로 유입되어 출입구에서 내부 습도가 상승하게 되는 문제도 있었다.In addition, there was a problem in which the effect of the air curtain was reduced due to the distance between the entrance through which wafers entered and exited the wafer container (120) and the air curtain generation area, or outside air was introduced into the inside of the wafer container (120), causing the internal humidity to increase at the entrance.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해소하기 위해 안출한 것으로서, EFEM의 LPM의 상부에 도어 측으로 절곡 형성된 본체부와 송풍부와 필터부와 가스의 기류를 절곡시키도록 가이드하는 가이드부를 구비함으로써, 본체부의 내부에 공급된 가스를 하방 직진성으로 균등하게 분산시켜 도어 측에 근접하게 가스막을 형성해서 가스의 기류를 안정화하여 외기의 유입을 차단하는 동시에 웨이퍼 용기의 습도를 저감할 수 있는 EFEM의 기류 안정화 장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다. The present invention has been devised to solve the above-described conventional problems, and the purpose of the present invention is to provide an airflow stabilization device for an EFEM, which comprises a main body part formed by bending toward the door at the upper part of an LPM of an EFEM, a blower part, a filter part, and a guide part for guiding the airflow of gas to bend, thereby uniformly distributing the gas supplied to the inside of the main body part in a downward straight direction and forming a gas film close to the door side to stabilize the gas flow and block the inflow of outside air while reducing the humidity of a wafer container.
또한, 본 발명은 본체부의 상단에 가스를 유입시키는 유입부를 구비하고 유입부로서 유입플레이트와 메쉬플레이트와 구획플레이트를 구비함으로써, 가스의 유입시 이물질을 제거하는 동시에 송풍부와 격벽부의 구획공간에 대응하도록 가스를 각각 유입시켜 가스의 유입성능을 향상시킬 수 있는 EFEM의 기류 안정화 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. In addition, the present invention provides an airflow stabilization device of an EFEM that has an inlet for introducing gas into the upper part of the main body and has an inlet plate, a mesh plate, and a partition plate as the inlet, thereby removing foreign substances when gas is introduced and simultaneously introducing gas to correspond to the partition space of the blower and the partition wall, thereby improving the gas introduction performance.
또한, 본 발명은 본체부로서 제1 본체와 제2 본체와 제3 본체을 구비함으로써, 유입부에 의해 유입되는 가스를 본체부의 상부에서 하방으로 절곡해서 배출하여 가스의 접근성 및 주입성을 향상시키는 동시에 다중의 균일한 가스막을 도어 측에 근접하도록 형성하여 웨이퍼 반송실의 공기의 흐름에 따른 간섭을 줄이고 외기 차단 가스막을 형성할 수 있는 EFEM의 기류 안정화 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. In addition, the present invention provides an airflow stabilization device of an EFEM that has a first body, a second body, and a third body as a main body, and thereby improves accessibility and injectability of gas by bending the gas introduced through the inlet portion downward from the upper part of the main body and discharging it, and at the same time forms multiple uniform gas films close to the door side, thereby reducing interference with the air flow in the wafer transfer room and forming an external air blocking gas film.
또한, 본 발명은 필터부로서 필터프레임과 격벽프레임과 필터부재를 구비함으로써, 송풍부에 의해 공급되는 가스를 필터링하여 에어에 포함된 이물질이나 미세먼지 등과 같은 불순물을 필터링에 의해 제거하여 송풍부와 분사부에 의해 분산 공급되는 가스의 오염을 방지하여 웨이퍼 용기의 수율을 향상시킬 수 있는 EFEM의 기류 안정화 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. In addition, the present invention has another object to provide an airflow stabilization device of an EFEM that can improve the yield of a wafer container by filtering gas supplied by a blower unit and removing impurities such as foreign substances or fine dust contained in the air by filtering by including a filter frame, a partition frame, and a filter member as a filter unit, thereby preventing contamination of gas distributed and supplied by the blower unit and the injection unit.
또한, 본 발명은 가이드부로서 경사형의 가이드 블럭과 가이드 플레이트를 구비함으로써, 구획공간 별로 가스의 유동성을 향상시키도록 가이드하는 동시에 도어 측에 근접하게 가스막을 형성하도록 가스의 절곡을 가이드해서 가스의 기류를 안정화시킬 수 있는 EFEM의 기류 안정화 장치를 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다. In addition, the present invention provides an airflow stabilization device of an EFEM that can guide the gas to improve the fluidity of the gas in each compartment space by providing an inclined guide block and a guide plate as a guide part, and at the same time, guide the gas to bend to form a gas film close to the door side, thereby stabilizing the gas flow.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, EFEM의 내부에서 가스의 기류를 안정화시키는 EFEM의 기류 안정화 장치로서, EFEM의 LPM의 상부에 설치되되 LPM의 도어 측으로 절곡 형성되어, 가스를 유입시켜 기류를 안정화시키는 본체부(10); 상기 본체부(10)의 내부 상방에 설치되어, 가스의 기류를 안정화시키도록 송풍구역에 송풍하는 송풍부(30); 상기 송풍부(30)의 하부에 설치되어, 상기 송풍부(30)에 의해 공급되는 가스를 필터링하는 필터부(50); 상기 필터부(50)의 하부 일방에 설치되어, 가스의 기류를 절곡시키도록 가이드하는 가이드부(60); 및 상기 본체부(10)의 내부 하방에 설치되어, 상기 본체부(10)의 내부에 공급된 가스를 하방 직진성으로 분산시켜 가스막을 형성하도록 배출하는 배출부(70);를 포함하는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the present invention is characterized by comprising: a body part (10) which is installed on the upper part of an LPM of the EFEM and is formed by bending toward the door side of the LPM to introduce gas and stabilize the airflow; a blower part (30) which is installed on the upper part of the interior of the body part (10) and blows air to a blowing zone to stabilize the gas airflow; a filter part (50) which is installed on the lower part of the blower part (30) and filters the gas supplied by the blower part (30); a guide part (60) which is installed on one side of the lower part of the filter part (50) and guides the gas airflow to bend; and a discharge part (70) which is installed on the lower part of the interior of the body part (10) and discharges the gas supplied to the interior of the body part (10) to form a gas film by dispersing the gas in a downward straight direction.
또한, 본 발명은 상기 본체부(10)의 상단에 설치되어, 가스를 유입시키는 유입부(20);를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention is characterized in that it further includes an inlet (20) installed at the upper end of the main body (10) to introduce gas.
본 발명의 상기 유입부(20)는, 상기 본체부(10)의 상단에 설치되어, 가스를 유입시키는 유입플레이트; 상기 유입플레이트의 하부에 설치되어, 가스를 분산시키는 메쉬플레이트; 및 상기 메쉬플레이트의 하부에 설치되어, 가스를 복수개의 구역으로 구획해서 유입시키는 구획플레이트;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The inlet (20) of the present invention is characterized by including: an inlet plate installed at the upper end of the main body (10) to introduce gas; a mesh plate installed at the lower end of the inlet plate to disperse gas; and a partition plate installed at the lower end of the mesh plate to introduce gas by dividing it into a plurality of zones.
또한, 본 발명은 상기 송풍부(30)의 내부에 이격 설치되어, 상기 송풍부(30)의 송풍구역을 복수개로 구획하는 격벽부(40);를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the present invention is characterized in that it further includes a partition wall (40) installed spaced apart from each other inside the blower (30) to divide the blower section (30) into a plurality of blower zones.
본 발명의 상기 본체부(10)는, 가스를 하방으로 유입시키도록 연통 형성된 제1 본체; 상기 제1 본체의 하부에 측방으로 절곡하도록 연통 형성된 제2 본체; 및 상기 제2 본체의 하부에 하방으로 절곡하도록 연통 형성된 제3 본체;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The main body (10) of the present invention is characterized by including a first main body formed in communication to allow gas to flow downward; a second main body formed in communication to be bent laterally at the lower portion of the first main body; and a third main body formed in communication to be bent downward at the lower portion of the second main body.
본 발명의 상기 필터부(50)는, 상기 본체부(10)의 내부에 설치되는 필터프레임; 상기 필터프레임의 내부공간에 설치되어, 상기 필터프레임의 내부공간을 복수개로 구획하는 격벽프레임; 및 상기 격벽프레임에 의해 구획된 상기 필터프레임의 내부 구획공간에 각각 설치되는 필터부재;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The filter unit (50) of the present invention is characterized by including: a filter frame installed inside the main body unit (10); a partition frame installed in the internal space of the filter frame to divide the internal space of the filter frame into a plurality of sections; and filter members installed in each of the internal partition spaces of the filter frame divided by the partition frame.
본 발명의 상기 가이드부(60)는, 상기 본체부(10)의 절곡부위에 가스의 기류를 가이드하도록 소정각도로 경사지게 형성된 가이드 블럭; 및 상기 가이드 블럭의 상부에 입설되어, 가스의 기류를 복수개의 구획공간으로 가이드하도록 복수개가 이격 형성된 가이드 플레이트;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The guide part (60) of the present invention is characterized by including a guide block formed to be inclined at a predetermined angle to guide a gas flow at a bending portion of the main body part (10); and a guide plate formed in a plurality of spaced apart sections, which is installed on the upper portion of the guide block to guide a gas flow into a plurality of compartment spaces.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명은 EFEM의 LPM의 상부에 도어 측으로 절곡 형성된 본체부와 송풍부와 필터부와 가스의 기류를 절곡시키도록 가이드하는 가이드부를 구비함으로써, 본체부의 내부에 공급된 가스를 하방 직진성으로 균등하게 분산시켜 도어 측에 근접하게 가스막을 형성해서 가스의 기류를 안정화하여 외기의 유입을 차단하는 동시에 웨이퍼 용기의 습도를 저감할 수 있는 효과를 제공한다.As described above, the present invention provides a main body portion formed by bending toward the door at the upper portion of the LPM of the EFEM, a blower portion, a filter portion, and a guide portion that guides the gas flow to bend, thereby evenly distributing the gas supplied to the inside of the main body portion in a downward straight direction to form a gas film close to the door side, thereby stabilizing the gas flow and blocking the inflow of outside air, while at the same time providing an effect of reducing the humidity of the wafer container.
또한, 본체부의 상단에 가스를 유입시키는 유입부를 구비하고 유입부로서 유입플레이트와 메쉬플레이트와 구획플레이트를 구비함으로써, 가스의 유입시 이물질을 제거하는 동시에 송풍부와 격벽부의 구획공간에 대응하도록 가스를 각각 유입시켜 가스의 유입성능을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by providing an inlet for introducing gas at the top of the main body and providing an inlet plate, a mesh plate, and a partition plate as the inlet, foreign substances are removed when gas is introduced, and gas is introduced to correspond to the partition space of the blower and the bulkhead, respectively, thereby providing an effect of improving gas introduction performance.
또한, 본체부로서 제1 본체와 제2 본체와 제3 본체을 구비함으로써, 유입부에 의해 유입되는 가스를 본체부의 상부에서 하방으로 절곡해서 배출하여 가스의 접근성 및 주입성을 향상시키는 동시에 다중의 균일한 가스막을 도어 측에 근접하도록 형성하여 웨이퍼 반송실의 공기의 흐름에 따른 간섭을 줄이고 외기 차단 가스막을 형성할 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by providing a first body, a second body, and a third body as the main body, the gas introduced through the inlet is discharged by bending downward from the upper part of the main body, thereby improving the accessibility and injectability of the gas, and at the same time, by forming multiple uniform gas films close to the door side, it provides the effect of reducing interference with the flow of air in the wafer transfer room and forming an external air blocking gas film.
또한, 필터부로서 필터프레임과 격벽프레임과 필터부재를 구비함으로써, 송풍부에 의해 공급되는 가스를 필터링하여 에어에 포함된 이물질이나 미세먼지 등과 같은 불순물을 필터링에 의해 제거하여 송풍부와 분사부에 의해 분산 공급되는 가스의 오염을 방지하여 웨이퍼 용기의 수율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by providing a filter frame, a partition frame, and a filter member as a filter section, the gas supplied by the blower section is filtered to remove impurities such as foreign substances or fine dust contained in the air through filtering, thereby preventing contamination of the gas supplied by the blower section and the injection section, thereby providing an effect of improving the yield of the wafer container.
또한, 가이드부로서 경사형의 가이드 블럭과 가이드 플레이트를 구비함으로써, 구획공간 별로 가스의 유동성을 향상시키도록 가이드하는 동시에 도어 측에 근접하게 가스막을 형성하도록 가스의 절곡을 가이드해서 가스의 기류를 안정화시킬 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by providing an inclined guide block and a guide plate as a guide section, it provides an effect of stabilizing the gas flow by guiding the bending of the gas to form a gas film close to the door side while improving the fluidity of the gas in each compartment.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 EFEM의 기류 안정화 장치를 구비한 EFEM을 나타내는 구성도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 EFEM의 기류 안정화 장치를 구비한 EFEM을 나타내는 단면도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 EFEM의 기류 안정화 장치를 나타는 개략도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 EFEM의 기류 안정화 장치의 상부를 나타는 구성도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 EFEM의 기류 안정화 장치의 하부를 나타는 구성도.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 의한 EFEM의 기류 안정화 장치의 필터부를 나타는 단면도.FIG. 1 is a schematic diagram showing an EFEM equipped with an airflow stabilization device according to one embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a cross-sectional view showing an EFEM equipped with an airflow stabilization device according to one embodiment of the present invention.
Figure 3 is a schematic diagram showing an airflow stabilization device of an EFEM according to one embodiment of the present invention.
Fig. 4 is a schematic diagram showing the upper part of an airflow stabilization device of an EFEM according to one embodiment of the present invention.
Fig. 5 is a schematic diagram showing the lower part of an airflow stabilization device of an EFEM according to one embodiment of the present invention.
Fig. 6 is a cross-sectional view showing a filter section of an airflow stabilization device of an EFEM according to one embodiment of the present invention.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일 실시예를 더욱 상세히 설명한다. Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in more detail with reference to the attached drawings.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 의한 EFEM의 기류 안정화 장치를 구비한 EFEM을 나타내는 구성도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 EFEM의 기류 안정화 장치를 구비한 EFEM을 나타내는 단면도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 의한 EFEM의 기류 안정화 장치를 나타는 개략도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 EFEM의 기류 안정화 장치의 상부를 나타는 구성도이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 EFEM의 기류 안정화 장치의 하부를 나타는 구성도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 의한 EFEM의 기류 안정화 장치의 필터부를 나타는 단면도이다.FIG. 1 is a schematic diagram showing an EFEM having an airflow stabilization device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view showing an EFEM having an airflow stabilization device according to an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a schematic diagram showing an airflow stabilization device according to an embodiment of the present invention, FIG. 4 is a schematic diagram showing the upper part of an airflow stabilization device according to an embodiment of the present invention, FIG. 5 is a schematic diagram showing the lower part of an airflow stabilization device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a cross-sectional view showing a filter part of an airflow stabilization device according to an embodiment of the present invention.
본 발명의 일 실시예에 의한 EFEM의 기류 안정화 장치를 구비한 EFEM(Equipment Front End Module)은, 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 로드포트모듈(110; LPM(Load Port Module)), 웨이퍼 용기(120; FOUP(Front Opening Unified Pod)), 팬필터유닛(130; FFU(Fan Filter Unit)) 및 웨이퍼 반송실(140)을 포함하여 이루어져, EFEM의 기류 안정화 장치가 장착된 EFEM(Equipment Front End Module)이다. An EFEM (Equipment Front End Module) equipped with an airflow stabilization device of an EFEM according to one embodiment of the present invention is an EFEM (Equipment Front End Module) equipped with an airflow stabilization device of an EFEM, which comprises a load port module (110; LPM (Load Port Module)), a wafer container (120; FOUP (Front Opening Unified Pod)), a fan filter unit (130; FFU (Fan Filter Unit)), and a wafer transfer room (140), as shown in FIGS. 1 and 2.
로드포트모듈(110; LPM)은, 반도체 제조용 웨이퍼를 담아두는 웨이퍼 용기(120; FOUP(Front Opening Universal Pod))의 도어를 열거나 닫으면서 웨이퍼가 반송될 수 있도록 해주는 장치이다.A load port module (110; LPM) is a device that opens or closes the door of a wafer container (120; FOUP (Front Opening Universal Pod)) that holds wafers for semiconductor manufacturing, thereby allowing the wafers to be returned.
이러한 로드포트모듈(110; LPM)은, 스테이지 유닛에 웨이퍼 용기(120; FOUP(Front Opening Unified Pod))가 장착되면 웨이퍼 용기(120)의 내부로 질소가스를 주입하고, 웨이퍼 용기(120)의 내부의 오염물질을 웨이퍼 용기(120)의 외부로 배출하여 웨이퍼 용기(120)의에 저장되어 이송되는 웨이퍼가 오염물질로 인하여 훼손되는 것을 방지하는 구성이다.This load port module (110; LPM) is configured to inject nitrogen gas into the interior of the wafer container (120; FOUP (Front Opening Unified Pod)) when the wafer container (120) is mounted on the stage unit, and to discharge contaminants inside the wafer container (120) to the exterior of the wafer container (120), thereby preventing wafers stored and transported in the wafer container (120) from being damaged by contaminants.
본 실시예의 EFEM의 기류 안정화 장치는, 웨이퍼 용기(120)와 웨이퍼 반송실(140)의 사이에서 웨이퍼 용기(120)의 전면에 설치되어, 웨이퍼 용기(120)의 내부 습도를 설정값으로 유지하도록 웨이퍼가 출입하는 출입구에 외기 차단 가스막 또는 에어 커튼을 형성하게 된다.The airflow stabilization device of the EFEM of this embodiment is installed on the front side of the wafer container (120) between the wafer container (120) and the wafer transfer room (140), and forms an outside air blocking gas film or air curtain at the entrance through which wafers enter and exit so as to maintain the internal humidity of the wafer container (120) at a set value.
웨이퍼 용기(120)는 내부에 복수의 웨이퍼가 적재되는 적재공간이 형성되고, 도어가 개방되며 웨이퍼가 반출되도록 하거나 또는 수납되도록 한다. 이러한 웨이퍼 용기(120)는 개구 통합형 포드(Front-Opening Unified Pod ; FOUP)로 이루어질 수 있다.A wafer container (120) has a loading space formed inside where multiple wafers are loaded, and a door is opened to allow wafers to be taken out or stored. This wafer container (120) may be formed as a front-opening unified pod (FOUP).
웨이퍼 반송실(140)은, 복수의 웨이퍼가 적재되는 웨이퍼 용기(120)와, 반도체 공정에 의해 웨이퍼가 처리되는 처리공간(미도시)의 사이에 형성되는 공간으로서, 웨이퍼 반송실(140)은 웨이퍼를 하나의 처리 공간에서 다른 처리 공간으로 반송로봇 등의 이송수단에 의해 이송되는 동안 웨이퍼에 이물질이나 오염 물질이 부착되는 것을 최소화하기 위하여 청정한 공간으로 유지하게 된다.The wafer transfer room (140) is a space formed between a wafer container (120) in which a plurality of wafers are loaded and a processing space (not shown) in which wafers are processed by a semiconductor process. The wafer transfer room (140) is maintained as a clean space to minimize foreign substances or contaminants from attaching to wafers while they are being transferred from one processing space to another by a transfer means such as a transfer robot.
팬필터유닛(130)은, 웨이퍼 반송실(140)의 상부에 설치되며, 퓸과 같은 분자성 오염 물질, 먼지와 같은 미립자가 제거함으로써 웨이퍼 반송실(140) 내의 공기를 청정하게 유지한다. 통상 웨이퍼 반송실(140) 내의 공기의 흐름은 팬필터유닛(130)이 설치된 상부에서 하부로 형성된다.The fan filter unit (130) is installed at the top of the wafer transfer room (140) and keeps the air inside the wafer transfer room (140) clean by removing molecular contaminants such as fumes and fine particles such as dust. Normally, the air flow inside the wafer transfer room (140) is formed from the top where the fan filter unit (130) is installed to the bottom.
도 3 내지 도 5에 나타낸 바와 같이, 본 실시예에 의한 EFEM의 기류 안정화 장치는, 본체부(10), 유입부(20), 송풍부(30), 격벽부(40), 필터부(50), 가이드부(60) 및 배출부(70)를 포함하여 이루어져, EFEM의 내부에서 가스의 기류를 안정화시키는 EFEM의 기류 안정화 장치이다.As shown in FIGS. 3 to 5, the airflow stabilization device of the EFEM according to the present embodiment is an airflow stabilization device of the EFEM that includes a main body (10), an inlet (20), a blower (30), a partition wall (40), a filter (50), a guide (60), and an exhaust (70), and stabilizes the airflow of gas inside the EFEM.
본체부(10)는, EFEM의 LPM의 상부에 설치되되 LPM의 도어 측으로 절곡 형성되어, 가스를 유입시켜 기류를 안정화시키는 본체부재로서, 제1 본체(11), 제2 본체(12) 및 제3 본체(13)로 이루어져 있다.The main body (10) is a main body member that is installed on the upper part of the LPM of the EFEM and is formed by bending toward the door side of the LPM to introduce gas and stabilize the airflow, and is composed of a first main body (11), a second main body (12), and a third main body (13).
제1 본체(11)는, 질소가스, 퍼지가스, CDA(Clean Dry Air), 불활성기체 등과 같은 가스를 하방으로 유입시키도록 연통 형성된 본체부재로서, 상부가 개방되어 팬필터유닛(130)으로부터 가스가 공급되거나 상면 또는 측면에 별도의 가스공급설비와 연결되어 가스가 유입되는 연통부재로 이루어져 있다.The first main body (11) is a main body member formed with a communication channel to allow gases such as nitrogen gas, purge gas, CDA (Clean Dry Air), and inert gases to flow downward, and is formed with a communication channel member that is open at the top so that gas is supplied from a fan filter unit (130) or connected to a separate gas supply facility on the upper surface or side so that gas is supplied.
제2 본체(12)는, 제1 본체(11)의 하부에 측방으로 절곡하도록 연통 형성된 제2 본체부재로서, 제1 본체(11)의 내부공간에 유입된 가스를 하부 측방으로 절곡시키도록 측방으로 절곡 형성되어 있다.The second main body (12) is a second main body member formed to be laterally bent at the lower portion of the first main body (11), and is formed to be laterally bent so as to bend gas introduced into the internal space of the first main body (11) to the lower side.
제3 본체(13)는, 제2 본체(12)의 하부에 하방으로 절곡하도록 연통 형성된 제3 본체부재로서, 제12 본체(12)의 내부공간에 유입된 가스를 하부 하방으로 절곡시키도록 하방으로 절곡 형성되어 있다.The third main body (13) is a third main body member formed to be bent downwardly at the lower portion of the second main body (12), and is formed to be bent downwardly so as to bend gas introduced into the internal space of the 12th main body (12) downwardly.
유입부(20)는, 본체부(10)의 상단에 설치되어 본체부(10)의 내부공간으로 가스를 유입시키는 유입부재로서, 유입플레이트, 메쉬플레이트 및 구획플레이트로 이루어져 있다.The inlet (20) is an inlet member installed at the top of the main body (10) to introduce gas into the internal space of the main body (10), and is composed of an inlet plate, a mesh plate, and a partition plate.
유입플레이트는, 본체부(10)의 상단에 설치되어 가스를 유입시키는 플레이트부재로서, 송풍부(30)와 격벽부(40)에 의한 복수개의 격벽 내부공간에 각각 가스를 유입시키도록 복수개의 유입구역으로 구획된 플레이트로 이루어져 있다.The inlet plate is a plate member installed at the top of the main body (10) to introduce gas, and is composed of a plate divided into a plurality of inlet zones to introduce gas into each of the plurality of internal spaces of the partition walls by the blower (30) and the partition wall (40).
메쉬플레이트는, 유입플레이트의 하부에 설치되어 가스를 분산시키는 플레이트부재로서, 송풍부(30)와 격벽부(40)에 의한 복수개의 격벽 내부공간에 각각 가스를 유입시키도록 복수개의 유입구역에 대응하는 메쉬부재로 이루어져 있다.The mesh plate is a plate member installed at the bottom of the inlet plate to disperse gas, and is composed of mesh members corresponding to multiple inlet zones so as to introduce gas into each of the multiple internal spaces of the partition walls by the blower (30) and the partition wall (40).
구획플레이트는, 메쉬플레이트의 하부에 설치되어 가스를 복수개의 구역으로 구획해서 유입시키는 플레이트부재로서, 송풍부(30)와 격벽부(40)에 의한 복수개의 격벽 내부공간에 각각 가스를 유입시키도록 복수개의 유입구역을 구획하는 구획부재로 이루어져 있다.The partition plate is a plate member installed at the bottom of the mesh plate to divide gas into multiple zones and introduce gas. It is composed of a partition member that divides multiple inflow zones so that gas is introduced into each of the multiple partition internal spaces by the blower (30) and the partition wall (40).
송풍부(30)는, 본체부(10)의 내부 상방에 설치되어 가스의 기류를 안정화시키도록 송풍구역에 균등하게 송풍하는 송풍부재로서, 복수개의 송풍팬이 격벽부(40)에 의해 구획된 복수개의 송풍구역에 각각 개별적으로 제어되어 송풍하도록 설치되어 있다.The blower (30) is a blower member installed on the upper part of the interior of the main body (10) to evenly blow air into the blower zone to stabilize the gas flow, and a plurality of blower fans are installed to individually control and blow air into the plurality of blower zones partitioned by the partition wall (40).
격벽부(40)는, 송풍부(30)의 내부에 복수개가 이격 설치되어 송풍부(30)의 송풍구역을 복수개로 구획하는 격벽부재로서, 복수개의 송풍팬에 의한 송풍구역을 복수개로 구획하도록 본체부(10)의 내부공간에 입설된 복수개의 격벽으로 이루어져 있다.The bulkhead (40) is a bulkhead member that is installed at a plurality of intervals inside the blower (30) to divide the blower section (30) into a plurality of blower zones, and is composed of a plurality of bulkheads installed in the internal space of the main body (10) to divide the blower section by a plurality of blower fans into a plurality of blower zones.
필터부(50)는, 송풍부(30)의 하부에 설치되어 송풍부(30)에 의해 공급되는 가스를 필터링하는 필터부재로서, 도 6에 나타낸 바와 같이 필터프레임(51), 격벽프레임(52) 및 필터부재(53)로 이루어져 있다.The filter unit (50) is a filter element installed at the bottom of the blower unit (30) and filters the gas supplied by the blower unit (30), and is composed of a filter frame (51), a partition frame (52), and a filter element (53) as shown in Fig. 6.
필터프레임(51)은, 본체부(10)의 내부에 설치되되 송풍부(30)의 하부에 설치되는 프레임부재로서, 본체부(10)의 내부공간에 고정되어 설치되도록 본체부(10)의 내부 둘레의 형상과 대응한 형상으로 형성된 프레임으로 이루어져 있다.The filter frame (51) is a frame member installed inside the main body (10) and installed below the blower (30), and is formed as a frame with a shape corresponding to the shape of the inner circumference of the main body (10) so as to be fixedly installed in the inner space of the main body (10).
격벽프레임(52)은, 필터프레임(51)의 내부공간에 설치되어 필터프레임(51)의 내부공간을 복수개로 구획하는 프레임부재로서, 필터프레임(51)의 내부공간을 복수개로 구획하도록 입설된 복수개의 격벽으로 이루어져 있다.The bulkhead frame (52) is a frame member that is installed in the internal space of the filter frame (51) to divide the internal space of the filter frame (51) into a plurality of sections, and is composed of a plurality of bulkheads installed to divide the internal space of the filter frame (51) into a plurality of sections.
이러한 격벽프레임(52)은, 금속재 또는 플라스틱 등과 같은 합성수지재의 격벽으로 형성하고 필터부재(53)를 필터프레임(51)에 고정시킬때 우레탄 침전을 하며, 삽입된 격벽을 동시 침전하여 일체화하는 것도 가능함은 물론이다.This bulkhead frame (52) is formed as a bulkhead of a synthetic resin material such as metal or plastic, and when the filter member (53) is fixed to the filter frame (51), urethane precipitation is performed, and it is also possible to integrate the inserted bulkheads by simultaneously precipitating them.
필터부재(53)는, 격벽프레임(52)에 의해 구획된 필터프레임(51)의 내부 구획공간에 각각 설치되는 필터부재로서, 송풍부(30)에 의해 공급되는 가스를 필터링하는 필터링하게 된다.The filter member (53) is a filter member installed in each internal compartment space of the filter frame (51) partitioned by the bulkhead frame (52), and filters the gas supplied by the blower (30).
이러한 필터부재(53)로는 가스에 포함된 이물질이나 미세먼등과 같은 불순물을 필터링하여 제거하도록 울파필터 또는 헤파필터 등과 같은 필터부재로 이루어져 있다.These filter elements (53) are made of filter elements such as an ULPA filter or a HEPA filter to filter and remove impurities such as foreign substances or fine dust contained in the gas.
또한, 본체부(10)의 제1 본체(11)의 일방에는 제1 본체(11)의 내부공간에 설치된 필터부(50)의 필터부재(53)를 교체시 제1 본체(11)의 일부를 개폐하도록 개폐편이 설치되어 있는 것이 가능함은 물론이다In addition, it is possible that an opening/closing member is installed on one side of the first body (11) of the main body (10) to open/close a part of the first body (11) when replacing the filter member (53) of the filter part (50) installed in the internal space of the first body (11).
가이드부(60)는, 필터부(50)의 하부 일방에 설치되어 가스의 기류를 절곡시키도록 가이드하는 가이드부재로서, 가이드 블럭 및 가이드 플레이트로 이루어져 있다.The guide part (60) is a guide member installed on one side of the lower part of the filter part (50) to guide the gas flow to bend it, and is composed of a guide block and a guide plate.
가이드 블럭은, 본체부(10)의 절곡부위에 가스의 기류를 가이드하도록 소정각도로 경사지게 형성된 블럭부재로서, 제2 본체(12)와 제3 본체(12) 사이의 일단에 설치되어 가스의 기류를 절곡시키도록 소정각도의 경사면이 형성된 경사형 블럭으로 이루어져 있다.The guide block is a block member formed to be inclined at a predetermined angle to guide the gas flow at the bending portion of the main body (10), and is installed at one end between the second main body (12) and the third main body (12) and is made of an inclined block with an inclined surface formed at a predetermined angle to bend the gas flow.
가이드 플레이트는, 가이드 블럭의 상부에 입설되어 가스의 기류를 복수개의 구획공간으로 가이드하도록 복수개가 이격 형성된 가이드 플레이트부재로서, 제2 본체(12)와 제3 본체(12) 사이에 복수개가 입설되어 가스의 기류를 복수개의 구회공간에서 개별적으로 절곡시키도록 절곡 형성된 절곡 플레이트로 이루어져 있다.The guide plate is a guide plate member formed in a plurality of spaced apart sections to be installed on the upper portion of the guide block and guide the gas flow into a plurality of compartment spaces, and is formed of a plurality of folded plates installed between the second main body (12) and the third main body (12) and individually folded to bend the gas flow into a plurality of compartment spaces.
배출부(70)는, 본체부(10)의 내부 하방에 설치되어 본체부(10)의 내부에 공급된 가스를 하방 직진성으로 균등하게 분산시켜 가스막을 형성하도록 배출하는 배출부재로서, 배출프레임 및 배출플레이트로 이루어져 있다.The discharge unit (70) is a discharge member installed at the lower part of the interior of the main body (10) and discharges gas supplied to the interior of the main body (10) by evenly distributing it in a downward straight direction to form a gas film, and is composed of a discharge frame and a discharge plate.
배출프레임은, 본체부(10)의 내부공간의 하부에 설치되는 프레임부재로서, 제3 본체(13)의 내부공간에 설치되어 가스의 기류를 균일하게 배출시키는 프레임으로 이루어져 있다.The exhaust frame is a frame member installed in the lower part of the internal space of the main body (10), and is composed of a frame installed in the internal space of the third main body (13) to uniformly discharge the gas flow.
배출플레이트는, 배출프레임의 일방에 연통하도록 설치되는 플레이트부재로서, 본체부(10)의 내부 하단에서 하방으로 절곡된 가스를 하방으로 직진성으로 균등하게 분산 배출시켜 도어 측에 근접해서 가스 차단막을 형성하도록 배출하는 배출수단으로 이루어져 있다.The discharge plate is a plate member installed to communicate with one side of the discharge frame, and is configured as a discharge means that evenly distributes and discharges gas bent downward from the inner lower part of the main body (10) in a straight downward direction to form a gas blocking film close to the door side.
이러한 배출플레이트로는 웨이퍼 용기의 출입구의 상부에 근접해서 가스를 직진성으로 균등하게 분배해서 배출시키도록 단면이 벌집형상이나 원형상으로 형성된 복수개의 배출홀을 구비한 배출관으로 이루어져 있는 것이 바람직하다.It is preferable that such a discharge plate be formed of a discharge pipe having a plurality of discharge holes formed in a honeycomb or circular cross-section so as to evenly distribute and discharge gas in a straight line near the upper part of the entrance of the wafer container.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 EFEM의 LPM의 상부에 도어 측으로 절곡 형성된 본체부와 송풍부와 필터부와 가스의 기류를 절곡시키도록 가이드하는 가이드부를 구비함으로써, 본체부의 내부에 공급된 가스를 하방 직진성으로 균등하게 분산시켜 도어 측에 근접하게 가스막을 형성해서 가스의 기류를 안정화하여 외기의 유입을 차단하는 동시에 웨이퍼 용기의 습도를 저감할 수 있는 효과를 제공한다.As described above, according to the present invention, by providing a main body portion formed by bending toward the door side at the upper portion of the LPM of the EFEM and a guide portion that guides the airflow of the blower portion, the filter portion, and the gas to bend, the gas supplied to the inside of the main body portion is evenly distributed downwardly and a gas film is formed close to the door side to stabilize the airflow of the gas, thereby blocking the inflow of outside air and providing an effect of reducing the humidity of the wafer container.
또한, 본체부의 상단에 가스를 유입시키는 유입부를 구비하고 유입부로서 유입플레이트와 메쉬플레이트와 구획플레이트를 구비함으로써, 가스의 유입시 이물질을 제거하는 동시에 송풍부와 격벽부의 구획공간에 대응하도록 가스를 각각 유입시켜 가스의 유입성능을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by providing an inlet for introducing gas at the top of the main body and providing an inlet plate, a mesh plate, and a partition plate as the inlet, foreign substances are removed when gas is introduced, and gas is introduced to correspond to the partition space of the blower and the bulkhead, respectively, thereby providing an effect of improving gas introduction performance.
또한, 본체부로서 제1 본체와 제2 본체와 제3 본체을 구비함으로써, 유입부에 의해 유입되는 가스를 본체부의 상부에서 하방으로 절곡해서 배출하여 가스의 접근성 및 주입성을 향상시키는 동시에 다중의 균일한 가스막을 도어 측에 근접하도록 형성하여 웨이퍼 반송실의 공기의 흐름에 따른 간섭을 줄이고 외기 차단 가스막을 형성할 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by providing a first body, a second body, and a third body as the main body, the gas introduced through the inlet is discharged by bending downward from the upper part of the main body, thereby improving the accessibility and injectability of the gas, and at the same time, by forming multiple uniform gas films close to the door side, it provides the effect of reducing interference with the flow of air in the wafer transfer room and forming an external air blocking gas film.
또한, 필터부로서 필터프레임과 격벽프레임과 필터부재를 구비함으로써, 송풍부에 의해 공급되는 가스를 필터링하여 에어에 포함된 이물질이나 미세먼지 등과 같은 불순물을 필터링에 의해 제거하여 송풍부와 분사부에 의해 분산 공급되는 가스의 오염을 방지하여 웨이퍼 용기의 수율을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by providing a filter frame, a partition frame, and a filter member as a filter section, the gas supplied by the blower section is filtered to remove impurities such as foreign substances or fine dust contained in the air through filtering, thereby preventing contamination of the gas supplied by the blower section and the injection section, thereby providing an effect of improving the yield of the wafer container.
또한, 가이드부로서 경사형의 가이드 블럭과 가이드 플레이트를 구비함으로써, 구획공간 별로 가스의 유동성을 향상시키도록 가이드하는 동시에 도어 측에 근접하게 가스막을 형성하도록 가스의 절곡을 가이드해서 가스의 기류를 안정화시킬 수 있는 효과를 제공한다.In addition, by providing an inclined guide block and a guide plate as a guide section, it provides an effect of stabilizing the gas flow by guiding the bending of the gas to form a gas film close to the door side while improving the fluidity of the gas in each compartment.
이상 설명한 본 발명은 그 기술적 사상 또는 주요한 특징으로부터 벗어남이 없이 다른 여러 가지 형태로 실시될 수 있다. 따라서 상기 실시예는 모든 점에서 단순한 예시에 지나지 않으며 한정적으로 해석되어서는 안 된다. The present invention described above can be implemented in various other forms without departing from its technical spirit or essential characteristics. Therefore, the above embodiments are merely illustrative in all respects and should not be construed as limiting.
10: 본체부
20: 유입부
30: 송풍부
40: 격벽부
50: 필터부
60: 가이드부
70: 배출부10: Main body
20: Inlet
30: Blower
40: Bulkhead
50: Filter section
60: Guide Department
70: Exhaust
Claims (6)
EFEM의 LPM의 상부에 설치되되 LPM의 도어 측으로 절곡 형성되어, 가스를 유입시켜 기류를 안정화시키는 본체부(10);
상기 본체부(10)의 내부 상방에 설치되어, 가스의 기류를 안정화시키도록 송풍구역에 송풍하는 송풍부(30);
상기 송풍부(30)의 하부에 설치되어, 상기 송풍부(30)에 의해 공급되는 가스를 필터링하는 필터부(50);
상기 필터부(50)의 하부 일방에 설치되어, 가스의 기류를 절곡시키도록 가이드하는 가이드부(60); 및
상기 본체부(10)의 내부 하방에 설치되어, 상기 본체부(10)의 내부에 공급된 가스를 하방 직진성으로 분산시켜 가스막을 형성하도록 배출하는 배출부(70);를 포함하는 것을 특징으로 하는 EFEM의 기류 안정화 장치.As an EFEM airflow stabilization device that stabilizes the gas flow inside the EFEM,
A main body (10) installed on the upper part of the LPM of the EFEM and formed by bending toward the door side of the LPM to introduce gas and stabilize the airflow;
A blower (30) installed on the upper part of the interior of the main body (10) and blowing air to the blower zone to stabilize the gas flow;
A filter unit (50) installed at the lower part of the blower unit (30) to filter the gas supplied by the blower unit (30);
A guide part (60) installed on one side of the lower portion of the above filter part (50) and guiding the gas flow to bend it; and
An airflow stabilization device of an EFEM, characterized by including a discharge unit (70) installed at the lower part of the interior of the main body (10) and discharging the gas supplied to the interior of the main body (10) in a downward straight direction to form a gas film.
상기 본체부(10)의 상단에 설치되어, 가스를 유입시키는 유입부(20);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 EFEM의 기류 안정화 장치.In the first paragraph,
An airflow stabilization device of EFEM, characterized in that it further includes an inlet (20) installed at the upper end of the main body (10) and introducing gas.
상기 송풍부(30)의 내부에 이격 설치되어, 상기 송풍부(30)의 송풍구역을 복수개로 구획하는 격벽부(40);를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 EFEM의 기류 안정화 장치.In the first paragraph,
An airflow stabilization device of EFEM, characterized in that it further includes a partition wall (40) installed spaced apart from the inside of the blower (30) to divide the blower zone of the blower (30) into a plurality of sections.
상기 본체부(10)는,
가스를 하방으로 유입시키도록 연통 형성된 제1 본체;
상기 제1 본체의 하부에 측방으로 절곡하도록 연통 형성된 제2 본체; 및
상기 제2 본체의 하부에 하방으로 절곡하도록 연통 형성된 제3 본체;를 포함하는 것을 특징으로 하는 EFEM의 기류 안정화 장치.In the first paragraph,
The above main body (10) is
A first body formed with a flue to allow gas to flow downward;
A second body formed to be laterally bent at the lower portion of the first body; and
An airflow stabilization device of EFEM, characterized in that it includes a third body formed in communication with the lower part of the second body so as to be bent downward.
상기 필터부(50)는,
상기 본체부(10)의 내부에 설치되는 필터프레임;
상기 필터프레임의 내부공간에 설치되어, 상기 필터프레임의 내부공간을 복수개로 구획하는 격벽프레임; 및
상기 격벽프레임에 의해 구획된 상기 필터프레임의 내부 구획공간에 각각 설치되는 필터부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 EFEM의 기류 안정화 장치.In the first paragraph,
The above filter part (50) is
A filter frame installed inside the main body (10);
A partition frame installed in the internal space of the filter frame to divide the internal space of the filter frame into a plurality of parts; and
An airflow stabilization device of an EFEM, characterized in that it includes a filter member each installed in an internal compartment space of the filter frame partitioned by the bulkhead frame.
상기 가이드부(60)는,
상기 본체부(10)의 절곡부위에 가스의 기류를 가이드하도록 소정각도로 경사지게 형성된 가이드 블럭; 및
상기 가이드 블럭의 상부에 입설되어, 가스의 기류를 복수개의 구획공간으로 가이드하도록 복수개가 이격 형성된 가이드 플레이트;를 포함하는 것을 특징으로 하는 EFEM의 기류 안정화 장치.In the first paragraph,
The above guide part (60) is,
A guide block formed at a predetermined angle to guide the gas flow in the bending portion of the main body (10); and
An airflow stabilization device of an EFEM, characterized in that it comprises a plurality of guide plates spaced apart from each other, installed on the upper part of the guide block to guide the gas flow into a plurality of compartment spaces.
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|---|---|---|---|
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