KR910000841B1 - Silver coated material and making method - Google Patents
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Abstract
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Description
본 발명은 전기적 접속성, 야금적 접합성(납땜성, 본딩성), 내식성에 뛰어난 은피복 전기재료에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to silver coated electrical materials that are excellent in electrical connectivity, metallurgical bonding (solderability, bonding) and corrosion resistance.
동 또는 동합금, 니켈 또는 니켈합금, 철합금, 알루미늄 또는 알루미늄합금 등의 도전성 기체 또는 세라믹스, 플라스틱 등의 비도전성 기체의 표면의 일부 또는 전부에 은 또는 은합금, 예를들면 Ag-Au, Ag-Sb, Ag-In, Ag-Cu, Ag-Se, Ag-Pt 등을 피복한 피복 전기재료는 전기, 전자재료로서 널리 실용되고 있다.Silver or silver alloys, such as Ag-Au, Ag-, on some or all of the surface of conductive substrates such as copper or copper alloys, nickel or nickel alloys, iron alloys, aluminum or aluminum alloys or non-conductive substrates such as ceramics and plastics Coating electrical materials coated with Sb, Ag-In, Ag-Cu, Ag-Se, Ag-Pt and the like are widely used as electric and electronic materials.
이는 은이 도전성, 내식성에 뛰어나므로 전기재료로서는 최고의 것이지만 귀금속으로서 고가이므로, 특히 전기접속성이 뛰어남을 필요로 하는 부분에 한하여 사용하여야 하는 것으로서 은피복 자체도 가능하면 얇은 것이 바람직함은 경제적 이유상 분명하다.Since silver is excellent in electrical conductivity and corrosion resistance, it is the best as an electrical material, but it is expensive as a precious metal. Therefore, it should be used only for the part that needs excellent electrical connection. Do.
이와 같은 기체표면에 은피복한 전기재료가 전기, 전자재료로서 사용되고 있는 예를들면, 반도체의 리드프레임에서는 적어도 실리콘칩을 납땜하는 장착부나 Au 선을 와이어 본딩하는 부분에만 은피복이 되어 있다.For example, an electric material coated with silver on the surface of the substrate is used as an electric or electronic material. For example, in a lead frame of a semiconductor, silver coating is applied only to a mounting portion for soldering silicon chips or a wire bonding portion for Au wire.
스위치, 릴레이, 코넥터 등의 전기접점, 각종 전자부품의 프린트기판 장착부에 닿는 리드선이나 단자, 나아가 전기기기, 항공기 등의 배선재료로서도 은피복 전기재료가 사용되어 있다. 기체표면의 일부에만 부분도금에 의하여 은피복한 것도 가공 용도에 널리 사용되고 있다.Silver-covered electrical materials are also used as wiring materials for electrical contacts such as switches, relays, connectors and the like, and lead wires and terminals that touch printed board mounting portions of various electronic components, and also electrical equipment and aircraft. Silver coating by partial plating only on a part of the surface of the substrate is also widely used for processing applications.
즉 본 발명의 대상인 기체(基體)에 은피복한 전기재료는 은특유의 물리적, 화학적 성질을 살려서 납땜성이나 본딩성 등의 야금적 접합성에 뛰어남이 요구되는 용도나 전기적 접속성이 뛰어남이 요구되는 전기접점 등의 용도에 널리 사용되고 있는 것이다.In other words, the electrical material coated on the substrate, which is the object of the present invention, is required to be excellent in the use of electrical properties such as solderability and bonding properties and excellent electrical connection by utilizing the physical and chemical properties peculiar to silver. It is widely used for uses, such as an electrical contact.
이와 같은 용도에 사용되는 은피복 전기재료는 그 용도상 당연히 장기에 걸친 실용기간 중 그 성질이 열화하지 않을 것, 그것이 사용되는 부품의 제조공정에 있어서 받는 열적, 화학적 처리에 의하여 그 특성을 잃지 않을 것이 요구되고 있다.The silver-coated electrical materials used for these applications will of course not degrade their properties over the long term of their practical use, nor will they lose their properties by the thermal and chemical treatments received in the manufacturing process of the parts in which they are used. Is required.
이 요구에 따라서 은피복 전기재료가 그 본래의 성능을 발휘하기 위하여는 은피복의 두께는 적어도 1μ, 통상적으로는 3~6μ을 요구하는 것으로 되어 있다.According to this request, in order for the silver-coated electric material to exhibit its original performance, the thickness of the silver-coated is required to be at least 1 μ, usually 3 to 6 μ.
그러나 이미 설명한 바와 같이 은은 고가이므로 원가저하를 위하여 은피복을 보다 얇게하려는 요구가 매우 강하게 나타나고 있다.However, as already explained, since silver is expensive, there is a strong demand for thinner silver coatings for cost reduction.
그리하여 은피복의 두께를 원가저하를 위하여 얇게하면 다음과 같은 문제가 발생한다.Thus, if the thickness of the silver coating is thinned for cost reduction, the following problems occur.
(1) 은피복 전기재료의 제조방법, 제조조건에 따라 다르지만 은피복이 다공성을 갖게되어 은피복에 소위 핀홀(Pin hole)이 생겨서 기재가 노출되기 쉽다.(1) Silver coating Depending on the manufacturing method and manufacturing conditions of the electrical material, the silver coating has a porosity, so that a so-called pin hole is formed in the silver coating, and thus the substrate is easily exposed.
(2) 도전성 기재인 경우에는 기재 중의 비귀금속 성분이 은피복 중에 고상확산 반응하여 은피복 최외부에 도달하여 거기서 산화되어 이 전기재료 표면에 부식 생성물이 축적되기 쉽다.(2) In the case of a conductive base material, the non-noble metal component in the base material undergoes a solid phase diffusion reaction in the silver coating, reaches the outermost surface of the silver coating, is oxidized there, and corrosion products easily accumulate on the surface of this electrical material.
이는 고상확산 반응이 온도의 지수 함수적 속도로 진행하는 것이므로 이 전기재료가 고온에 노출될 경우에는 특히 현저하게 나타나는 것이다.This is particularly noticeable when the electrical material is exposed to high temperatures since the solid-state diffusion reaction proceeds at an exponential rate of temperature.
이상 2가지 문제는 은보다 고가인 금을 사용한 금피복 전기재료에 있어서도 더욱 현저하게 나타나는 것이지만 금피복 전기재료의 경우에는 기체와 금피복과의 사이에 Ni로써 또는 중간층을 형성함으로써 해결하였다.The above two problems are more remarkable in gold-coated electrical materials using gold, which is more expensive than silver, but in the case of gold-coated electrical materials, they are solved by forming an intermediate layer as Ni or between the gas and the gold-coated electrical materials.
은피복 전기재료에 있어서도 Ni 중간층을 형성하는 것은 반도체 리드프레임이나 전기접점 등에 사용될 경우에는 실용화되어 있다. 통례적으로 두께 0.5~3μ의 Ni 중간층을 형성함으로써 핀홀의 생성이나 기체금속의 은피복 중에의 고상확산을 방지하고 있는 것이다.Also in the silver-coated electric material, forming the Ni intermediate layer has been put to practical use when used in semiconductor lead frames, electrical contacts, or the like. Conventionally, by forming a Ni intermediate layer with a thickness of 0.5 to 3 mu, the formation of pinholes and solid phase diffusion in the silver coating of the base metal are prevented.
그러나 이와 같은 Ni 중간층을 형성하여도 은피복 전기재료의 은피복을 더 얇게한 경우, 이 전기재료가 부품으로서 조립되는 공정에 있어서 고온에 노출될 경우에는 문제해결책이 되지 않는다.However, even when such a Ni intermediate layer is formed, when the silver coating of the silver-coated electric material is made thinner, it is not a problem solution when it is exposed to high temperature in the process of assembling this electric material as a component.
예를들면 은피복 전기재료가 부품의 구성 부재로서 공업적으로 가장 대량으로 사용되고 있는 전자부품은 이 전기재료를 납땜함으로써 조립되며, 또 이 전자부품 자체가 프린트 회로판 등에 납땜에 의하여 장착됨이 일반적이며, 이 전기재료는 고온에 노출된다. 또 수지주형, 경화, 나아가 성능을 조정하기 위한 에이징, 건조, 증착, 스퍼터링 등의 공정에 있어서도 고온에 노출된다. 이들 공정은 통상 150~400℃의 온도에서 행해지며 대기중에서 행해지는 일이 많다.For example, electronic parts in which silver-coated electric materials are used in the industrial mass as the constituent members of components are assembled by soldering these electric materials, and the electronic parts themselves are generally mounted by soldering on printed circuit boards. This electrical material is exposed to high temperatures. Moreover, it exposes to high temperature also in processes, such as resin casting, hardening, and aging, drying, vapor deposition, and sputtering for adjusting performance. These processes are normally performed at the temperature of 150-400 degreeC, and they are performed in air | atmosphere in many cases.
은피복 전기재료를 사용하는 장점의 하나는 이와 같은 고온의 대기 중에서 여러가지의 처리공정을 행할 수 있는 점이며, 일부의 수지경화에서는 고온산소의 존재가 불가결한 경우마저 있다.One of the advantages of using silver-coated electric materials is that various treatment steps can be performed in such a high temperature atmosphere, and in some resin curing, the presence of high temperature oxygen is indispensable.
이와 같은 고온산소의 존재하에서의 처리를 받을 때는 은피복 전기재료에 있어서는 니켈 중간층을 있게하는 일도 아무런 문제해결책이 되지 못하여 이 전기재료의 납땜성은 격감하며, 경우에 따라서는 은피복의 박리마저 일어나게 된다. 이는 니켈 중간층을 갖는 피복 전기재료에는 나타나지 않는 은피복 전기재료 고유의 문제로서 발명자들은 예의 연구결과 이것이 다음 이유에 의함을 규명하였다. 즉,In the case of the treatment in the presence of such high temperature oxygen, the provision of a nickel intermediate layer in the silver-coated electric material is no problem solution, and the solderability of the electric material is drastically reduced, and in some cases even peeling of the silver-coated material occurs. This is a problem inherent in silver-coated electrical materials that do not appear in coated electrical materials with nickel interlayers. The inventors have found that this is due to the following reasons. In other words,
(1) 150~400℃의 온도에서는 대기중의 산소는 은피복 층을 재빨리 투과하여 은피복의 밑에 있는 니켈 중간층 표면에 도달하여서 Ni와의 산화반응을 일으킨다. 투과산소는 원자상이라고 추정되며, 특히 활성이 있으므로 니켈 중간층 표면이 산화 니켈(NiO)로 싸여버려, 은 및 니켈과의 금속결합이 단절되어 은피복과 니켈 중간층의 밀착성이 없어져서 은피복 박리의 원인이 된다.(1) At temperatures between 150 and 400 ° C, oxygen in the atmosphere quickly penetrates through the silver-coated layer and reaches the surface of the nickel intermediate layer underneath the silver-coated to cause oxidation with Ni. The permeated oxygen is assumed to be atomic, and since it is particularly active, the surface of the nickel interlayer is encased in nickel oxide (NiO), and the metal bond between silver and nickel is interrupted, resulting in the loss of adhesion between the silver coating and the nickel interlayer, causing the silver coating to peel off. do.
(2) 은은 납땜 조중에 가장 신속히 용해하는 금속으로 통상 사용되는 납땜 조건에서는 1초간에 2~3μ 두께로 용해해 버리므로 은피복이 얇은 경우, 상기에 의하여 생성한 산화 니켈이 은피복 전기재료의 표면에 노출해 버려서 이 전기재료의 납땜성은 현저하게 저하해 버리게 된다.(2) Silver is the metal which dissolves most rapidly in the soldering bath. In the soldering conditions normally used, it dissolves in thickness of 2 to 3 μm for 1 second. Therefore, when the silver coating is thin, the nickel oxide produced by the above-described method When exposed to the surface, the solderability of this electrical material is significantly reduced.
본 발명은 이상과 같은 상황을 감안하여 개발된 은피복 전기재료와 그 제조방법으로서 그 목적은 다음과 같다.The present invention has been developed in view of the above situation, the silver-coated electric material and its manufacturing method are as follows.
피복 전기재료로서는 다음 제특성을 갖는 것을 얻는 것이다.As a covering electrical material, what has the following characteristics is obtained.
(1) 얇은 은피복에서도 기체의 부식을 유효하게 지지할 수 있는 내식성을 갖는 것일 것.(1) It should have corrosion resistance which can support gas corrosion effectively even in thin silver coating.
(2) 종래의 은피복 전기재료 보다도 황화환경 등에 있어서 내식성이 양호한 것일 것.(2) Corrosion resistance should be better in sulfided environment than in conventional silver-coated electric materials.
(3) 은피복의 밀착성이 양호하고 고온에 노출되었을 경우에도 은피복의 박리가 일어나지 않을 것.(3) Good adhesion of silver coating and no peeling of silver coating even when exposed to high temperature.
(4) 고온에 있어서도 기체가 은피복 중에 확산하지 않고, 은피복의 도전성, 내식성 등의 성능저하를 초래하지 않을 것.(4) The gas should not diffuse in the silver coating even at high temperatures, and the performance of the silver coating, such as conductivity and corrosion resistance, should not be reduced.
(5) 비산화성 분위기 중에서는 물론 산화성 고온 분위기 중에서도 납땜성 등의 야금적 접합성을 고도로 유지할 수 있을 것.(5) Metallurgical bonding such as solderability should be maintained highly in a non-oxidizing atmosphere as well as in an oxidizing high temperature atmosphere.
(6) 장기간 보존되어 있어도 접촉저항 등의 전기접속성을 고도로 유지할 수 있을 것.(6) Even if it is stored for a long time, it should be able to maintain high electrical connectivity such as contact resistance.
(7) 은의 주요결함의 하나인 실버 마이그레이션(Silver Migration)에 관하여도 그 감수성(susceptibility)이 낮을 것.(7) The susceptibility of silver migration, one of the major defects of silver, should be low.
주:Silver Migration이란 직류의 인가된 전기회로간에서측의 온도체로부터 Ag 이온이 Migration하여측에 석출하여 성장하여서 단락을 일으키는 현상이다.Note: Silver migration means that between the authorized electrical circuits of direct current Ag ions migrate from the temperature body on the side It is a phenomenon that precipitates on the side and grows to cause a short circuit.
(8) 은피복의 기계적 강도가 높고 내마모성이 양호할 것.(8) Silver coating has high mechanical strength and good wear resistance.
제조방법으로서는 이상과 같은 제특성을 만족하는 은피복 전기재료를 효율적으로, 그리고 공업적 규모로 제조하는 제조방법을 발견하는 일이다.As a manufacturing method, the manufacturing method which manufactures the silver coating electrical material which satisfy | fills the above various characteristics efficiently and on an industrial scale is discovered.
이상의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 다음과 같은 구성을 이루고 있는 것이다. 즉 제1발명은 도전성 또는 비도전성 기체의 표면의 일부 또는 전부에 은피복을 한 은피복 전기재료에 있어, 기체와 은피복과의 사이에 Ni, Co, Cr, Pd 또는 이들의 합금으로부터 선택된 금속군종의 적어도 1종 이상으로된 제1중간층과, Sn, Cd, Td, Ru 또는 이들의 합금으로부터 선택된 금속군중의 적어도 1종 이상으로 된 제2중간층을 기체로부터 제1중간층, 제2중간층의 순으로 형성함을 특징으로 하는 은피복 전기재료이며, 그 제2발명은 제1발명에 있어 특히 기체가 도전성인 경우에 기체상의 제1중간층, 제2중간층, 은피복의 3층을 각각 전기도금에 의하여 순차형성함을 특징으로 하는 은피복 전기재료의 제조방법이다.In order to achieve the above object, the present invention constitutes the following configuration. That is, the first invention is a silver-coated electric material which is silver-coated on a part or all of the surface of a conductive or non-conductive gas, and the metal group selected from Ni, Co, Cr, Pd or alloys thereof between the gas and the silver-coated A first intermediate layer of at least one of the following, and a second intermediate layer of at least one of a group of metals selected from Sn, Cd, Td, Ru, or an alloy thereof, from the base to the first intermediate layer, and the second intermediate layer. A silver-coated electric material characterized in that the second invention is the first invention, in particular, when the base is conductive, the first intermediate layer, the second intermediate layer, three layers of the silver coating by the electroplating, respectively It is a manufacturing method of a silver-coated electric material characterized by forming sequentially.
제1발명에 있어 이와 같은 구성을 함으로써 이 은피복 전기재료의 야금적 접합성(납땜성, 본딩성), 전기접속성, 내식성, 나아가 내마모성이 개선되어 실버 마이그레이션에 대한 감수성도 저하한다.Such a construction in the first invention improves the metallurgical bonding (solderability, bonding), electrical connectivity, corrosion resistance, and wear resistance of the silver-coated electrical material, thereby lowering the susceptibility to silver migration.
제1발명에 있어 기체가 Ni, Co, Cr, Pd 또는 이들의 합금인 경우, 또는 기체표면에 이미 Ni, Co, Cr, Pd 또는 이들의 합금층이 형성되어 있는 경우에는 기체에 의하여 제1중간층으로서 대신할 수가 있음은 본 발명의 구성상 명백하다.In the first invention, when the substrate is Ni, Co, Cr, Pd or an alloy thereof, or when Ni, Co, Cr, Pd or an alloy layer thereof is already formed on the surface of the substrate, the first intermediate layer is formed by the substrate. It is obvious in the configuration of the present invention that can be substituted as.
제1중간층으로서 상기 구성을 선택한 이유는 Ni, Co, Cr, Pd은 고융점 금속으로서, 은과 모두 반응하지 않으며 또는 실용 조건에서는 반응하지 않기 때문이며, 또 은피복 전기재료의 기체로서 가장 일반적이며 다량으로 사용되고 있는 동 또는 동합금과도 반응하기 힘든것이기 때문이다. Cr은 특히 동계 기재에 대하여 베리어로서 유효하게 작용하는 것이나 일반적으로 딱딱하고 무른 성질이 있으므로 과잉의 두께나 가공성을 요하는 용도에 사용함은 피해야 한다.Ni, Co, Cr, and Pd are selected as the first intermediate layer because they are high melting point metals, which do not react with silver or under practical conditions, and are the most common and large amounts of gases for silver-coated electric materials. This is because it is difficult to react with the copper or copper alloy used. Cr is particularly effective as a barrier to copper base materials, but in general, it is hard and soft and should be used for applications requiring excessive thickness or processability.
바람직한 제1중간층으로서는 Ni, Co, Cr, Pd 단체, 또는 Ni, Co, Cr, Pd 중의 1종 또는 2종 이상을 합계하여 10% 이상 함유하는 것이 좋다. 10% 미만에서는 기체의 은피복 중에의 확산방지 효과가 현저하지 못하기 때문이다. 합금의 예로서는 Ni-Co, Ni-Pd, Ni-Co-Pd, Co-Pd, Ni-Cr, Ni-Zn, Ni-Fe, Co-Zn, Ni-Cu, Co-Sn, Ni-P, Co-B 등이 있다. 제1중간층의 두께는 많은 실용조건에 있어 0.1~5μ이 적당하다. 0.1μ 미만에서는 중간층의 기능인 기체의 은피복 중에의 확산방지와 후술한 제2중간층의 기능이 충분히 발휘되지 못하기 때문이며, 5μ을 넘어도 그 효과는 증대하지 않으므로 비경제적이기 때문이다.As a preferable 1st intermediate | middle layer, it is good to contain 10% or more of 1 type, or 2 or more types of Ni, Co, Cr, Pd single body, or Ni, Co, Cr, Pd in total. This is because the diffusion preventing effect of the gas on the silver coating is less than 10%. Examples of alloys include Ni-Co, Ni-Pd, Ni-Co-Pd, Co-Pd, Ni-Cr, Ni-Zn, Ni-Fe, Co-Zn, Ni-Cu, Co-Sn, Ni-P, Co -B and so on. The thickness of the first intermediate layer is suitably 0.1 to 5 mu in many practical conditions. This is because if the thickness is less than 0.1 µ, the diffusion prevention of the gas, which is a function of the intermediate layer, in the silver coating and the function of the second intermediate layer described below are not sufficiently exhibited.
제2중간층은 Sn, Cd, Pd, Ru 또는 이들의 합금으로서 되며, 이 제2중간층은 제1중간층의 고온산화를 방지하지만 제2중간층을 구성하는 금속이 Sn, Cd의 경우와 Pd, Ru의 경우와는 고온산화 방지의 기구가 다르다고 추측된다.The second intermediate layer may be Sn, Cd, Pd, Ru, or an alloy thereof. The second intermediate layer prevents high temperature oxidation of the first intermediate layer, but the metal constituting the second intermediate layer is Sn, Cd, and Pd, Ru. It is assumed that the mechanism for preventing high temperature oxidation is different from the case.
즉, Sn, Cd의 경우는 이들이 저융점 금속으로서, 은에 가용성이며 산소와의 친화력이 강하므로 은피복 중에 재빨리 확산하여서 외부 기체로부터 은피복 중에 침입하여 오는 산소와 결합하거나, 산소의 침입속도를 억제하거나 하여 제1중간층 표면에 산소가 도달함을 저지하는 것으로 추측된다.That is, in the case of Sn and Cd, these are low melting point metals, which are soluble in silver and have a high affinity with oxygen, so they diffuse quickly in the silver coating and combine with oxygen that enters the silver coating from an external gas, or increase the oxygen penetration rate. It is supposed to suppress or prevent oxygen from reaching the surface of the first intermediate layer.
한편 Pd, Ru의 경우는 Pd, Ru은 고융점 금속으로서 산소와의 친화력이 극히 희박하므로 외부 기체로부터 은피복 중을 투과하여 오는 산소의 베리어(barrier)가 되어 산소가 제1중간층 표면에 도달함을 저지하는 것으로 추측된다.On the other hand, in the case of Pd and Ru, Pd and Ru are high melting point metals and have a very low affinity with oxygen, so that they become barriers to oxygen passing through the silver coating from an external gas and oxygen reaches the surface of the first intermediate layer. It is estimated to stop.
제2중간층의 두께로서는 통상의 실용조건에 있어서는 0.01~2μ이 적당하다. 0.01μ 미만에서는 상기 제1중간층 표면에의 산소 도달저지의 효과가 그다지 현저하지 않으며, 2μ을 넘어도 그 효과는 그다지 증대하지 않으므로 경제적으로 불리하기 때문이다.As thickness of a 2nd intermediate | middle layer, 0.01-2 micrometers is suitable in normal practical conditions. This is because the effect of inhibiting oxygen attainment on the surface of the first intermediate layer is not so remarkable at less than 0.01 mu, and it is economically disadvantageous even if it exceeds 2 mu.
Pd, Ru은 백금족에 속하는 귀금속인데 저비중의 비교적 염가의 귀금속으로서 은 가격의 10배 정도의 가격이므로 이와 같은 두께, 특히 0.01~0.1μ의 박막으로 사용함으로써 은피복의 두께를 대폭 감소할 수가 있다면 경제적인 은 절감책으로서의 효과도 있다.Pd and Ru are precious metals belonging to the platinum group, which are relatively inexpensive precious metals. They are about 10 times the price of silver, so if the thickness of the silver coating can be greatly reduced by using such a thin film, especially 0.01 ~ 0.1μ, Economical silver savings are also effective.
제2중간층으로서는 이미 설명한 바와 같이 Sn, Cd, Pd, Ru의 단체만 아니라 이들의 합금도 유효하며, 경우에 따라서는 합금쪽이 유효할때도 있다.As described above, not only Sn, Cd, Pd, and Ru, but also alloys thereof are effective as the second intermediate layer, and in some cases, the alloy is also effective.
Sn, Cd은 활성 금속으로서 전기 도금법에 의하여 이 위에 은을 피복할때 일부 도금액 중에 용출하거나 은과 치환하여 용출하거나 하는 수가 있으므로 은피복과의 밀착성 저하 등의 원인이 되는 경우가 있으며, 이와 같은 경우에는 Sn-Pd, Sn-Bi, Sn-Cu, Sn-Ni, Sn-Zn, Sn-Co, Cd-Cu 등의 합금이 제2중간층으로서 유효하다.Sn and Cd are active metals, which may be eluted in some plating liquids or replaced by silver when the silver is coated thereon by electroplating, which may cause a decrease in adhesion to silver coating. In such a case, Alloys such as Sn-Pd, Sn-Bi, Sn-Cu, Sn-Ni, Sn-Zn, Sn-Co, Cd-Cu and the like are effective as the second intermediate layer.
Pd, Ru은 귀금속으로서 고가이므로 Pd을 40% 이상 함유하는 Pd-Ni, Pd-Co 또는 Pd-Ni-Co 합금을 제2중간층으로서 사용함으로써 원가를 감소시킬 수 있다.Since Pd and Ru are expensive as noble metals, the cost can be reduced by using Pd-Ni, Pd-Co or Pd-Ni-Co alloy containing 40% or more of Pd as the second intermediate layer.
제2중간층으로서 사용되는 금속중 Sn은 Cd 보다 독성이 적으며 그리고 은과의 반응성이 뛰어나므로 특히 실용상 유효하지만 과잉의 두께의 Sn은 은피복의 성능의 저하를 초래하므로 Sn을 제2중간층으로서 사용할 경우에는 Sn의 두께는 음피복 두께의 1/500~1/10정도가 특히 바람직하다.Among the metals used as the second intermediate layer, Sn is less toxic than Cd and excellent in reactivity with silver, which is particularly effective in practical use, but the excessive thickness of Sn causes a decrease in the performance of the silver coating, so Sn is used as the second intermediate layer. In the case of use, the thickness of Sn is particularly preferably about 1/500 to 1/10 of the thickness of the sound coating.
본 발명에 있어서의 제 1 중간층인 Ni, Co, Cr, Pd 또는 이들의 합금은 제 2 중간층 금속의 일부인 Sn, Cd와는 반응하기 어려운 것이므로 제1중간층의 존재에 의하여 제2중간층인 Sn, Cd은 기체와 반응함이 없이 은피복중에 안정하게 확산하여 상기와 같은 은피복 중에서의 산소 보집효과를 발휘할 수가 있는 것이다. 만일에 이와 같은 제1중간층이 없는 경우는 특히 기체가 동 또는 동합금이면 동과 반응해 버려서 상기와 같은 제2중간층으로서의 효과는 얻어지지 않는다.In the present invention, since Ni, Co, Cr, Pd, or alloys thereof, which are difficult to react with Sn and Cd, which are part of the second intermediate metal, Sn, Cd, which is the second intermediate layer due to the presence of the first intermediate layer, It can diffuse stably in silver coating without reacting with gas, and can exhibit the oxygen retention effect in such silver coating. If there is no such first intermediate layer, especially if the gas is copper or copper alloy, it will react with copper and the effect as the second intermediate layer will not be obtained.
이 제2중간층의 기능을 발휘시키기 위한 제1중간층의 효과는 제1중간층이 Ni-Zn 합금인때에 특히 유효하다.The effect of the first intermediate layer for exerting the function of the second intermediate layer is particularly effective when the first intermediate layer is a Ni—Zn alloy.
이제까지의 설명에 의하여 명백한 바와 같이 중간층은 기체로부터 제1중간층, 제2중간층의 순으로 형성하지 않으면 안된다.As apparent from the above description, the intermediate layer must be formed from the gas in the order of the first intermediate layer and the second intermediate layer.
이상의 본 발명 은피복 전기재료의 제조방법으로서는 각층을 기계적 크릿, 증착, 스퍼터링에 의하여 형성함도 공업적으로 가능하지만 전기도금법에 의함이 가장 실용적이다.Although the present invention is industrially possible to form each layer by mechanical creep, vapor deposition, and sputtering as the method for producing a coated electrical material, it is most practical by the electroplating method.
제1중간층, 제2중간층, 은피복은 모두 통상의 전기도금법에 의하여 능률적으로 형성할 수가 있으며 또한 이들 3층을 연속적으로 순차 형성할 수가 있기 때문이다. 또한 중요한 점은 각층을 소정의 두께로 제어하는 점, 특히 제2중간층과 같은 얇은 층을 소정의 두께로 제어함은 전기도금때에 파라데이의 법칙에 따른 전기량을 투입함으로써 비로소 용이하게 실현할 수 있다는 점이다.This is because the first intermediate layer, the second intermediate layer, and the silver coating can all be efficiently formed by a conventional electroplating method, and these three layers can be formed sequentially in succession. In addition, it is important to control each layer to a predetermined thickness, and in particular, to control a thin layer such as a second intermediate layer to a predetermined thickness can be easily realized by inputting an electric quantity according to Faraday's law during electroplating. Is the point.
다음에 본 발명을 실시예에 의하여 설명한다.Next, an Example demonstrates this invention.
[실시예 1]Example 1
다이오드용 리드선으로서 Ag 도금 Cu 선(0.6mmØ)이 있다. 헤더(header) 가공된 선의 선단에 Si 칩을 고 Pb 납땜으로 접착하고 이를 봉지수지로 경화하여 다이오드를 완성하는 것인데, 상기 납땜은 350℃×15분(H2중)에서 행하며, 큐어는 215℃×10hrs(대기중)에서 행하는 가열공정으로서 이들 처리후도 납땜성(Solderability)이 유지되지 않으면 안되는 것이다. 실시예로서 0.6mmØ의 Cu 선을 일반적인 방법에 의하여 전해탈지한후 산으로 세척하고 이어서 하기조를 사용하여 전기도금을 행하여 표 1에 나타낸 각종의 중간층을 갖는 Ag 도금 Cu 선을 얻는다.As the lead wire for the diode, there is an Ag plated Cu wire (0.6 mmØ). The Si chip is bonded to the tip of the header machined line by high Pb soldering and cured with an encapsulating resin to complete the diode. The soldering is performed at 350 ° C. × 15 minutes (in H 2 ), and the curing is at 215 ° C. Solderability must be maintained even after these treatments as a heating step performed at 10 hrs (in air). As an example, a Cu wire of 0.6 mm Ø was electrolytically degreased by a general method, washed with acid, and then electroplated using the following bath to obtain Ag-plated Cu wire having various intermediate layers shown in Table 1.
이 Ag 도금 Cu선을 상기 다이오드 제조의 조건과 같은 350℃×15분(H2중), 215℃×10시간(대기중) 가열처리한 후 MIL-Standard에 준하여 Eutectic Solder bath 235℃로 5초 담근후 땜납 젖은 면적의 비율을 측정하여 표 1에 그 결과를 나타냈다.The Ag-plated Cu wire was heat-treated at 350 ° C. × 15 minutes (in H 2 ) and 215 ° C. × 10 hours (in air) under the same conditions as those of the above diode manufacturing, and then 5 seconds in Eutectic Solder bath 235 ° C. in accordance with MIL-Standard After immersion, the ratio of the solder wetted area was measured, and the results are shown in Table 1.
[표 1]TABLE 1
표 1에 의하여 명백한 바와 같이 본 발명품 No.1~13은 납땜성의 최저목표인 젖은율 90%을 은피복 두께 1.0μ에서 모두 깨끗히 가지고 있는데 대하여 중간층이 없는 종래품(No.14, 15)에 있어서는 은피복 두께 3.5μ에서 간신히 90%에 달하며, Ni중간층만을 갖는 종래품(No.16, 17)에서는 은피복 두께 3.5μ에서도 젖은율이 40% 밖에 되지 않음을 알 수 있다.As apparent from Table 1, the present inventions Nos. 1 to 13 have a wetness ratio of 90%, which is the minimum target of solderability, in a silver coating thickness of 1.0μ. However, in the conventional products (Nos. 14 and 15) without an intermediate layer, It is barely reached 90% at the silver coating thickness of 3.5μ, and it can be seen that in the conventional products having only Ni intermediate layer (No. 16, 17), the wet rate is only 40% even at the thickness of 3.5μ of the silver coating.
제2중간층으로서 사용하는 Pd나 Ru은 은보다 약 10배 비싼 금속이지만 이를 제2중간층으로서 0.08μm 두께로 함으로써 은피복 두께를 2.6μm 줄일 수가 있게 되어 충분히 경제적으로 알맞음을 알 수 있다.Although Pd or Ru used as the second intermediate layer is about 10 times more expensive than silver, the thickness of 0.08 μm as the second intermediate layer can reduce the thickness of the silver coating to 2.6 μm, which is economically sufficient.
[실시예 2]Example 2
반도체 리드프레임(Lead frame)으로서 Fe-14Cr 합금조(0.32t)가 사용되었다. 일반적인 방법에 의하여 프레스 성형하여 16핀 프레임으로 하고 이어서 전면에 7μ의 Ag을 도금하여 사용된다. 본품의 Ag을 3.5μ으로 절감하기 위하여 본 발명을 응용하였다. 중앙의 탭(Tab)부에 Si의 집적회로소자가 납땜되어 소자상의 전극과 프레임의 내부 리드부와는 30μmØ의 Au선으로 초음파 용접된다. 전자는 400℃×5분, 후자는 200℃×15분의 가열조건(대기중)에 견디지 않으면 안된다.Fe-14Cr alloy bath (0.32t) was used as a semiconductor lead frame. It is press-molded by a general method to make a 16-pin frame, followed by plating 7μ Ag on the front surface. The present invention was applied to reduce the Ag of the product to 3.5μ. An integrated circuit element of Si is soldered to the center tab portion, and ultrasonic welding is performed between the electrode on the element and the inner lead portion of the frame with an Au wire of 30 탆 diameter. The former must withstand heating conditions (in air) at 400 ° C for 5 minutes and the latter at 200 ° C for 15 minutes.
실시예 1에 나타낸 도금방법 및 하기의 도금방법에 의하여 표 2에 나타낸 각종의 은피복 리드프레임을 만들고 각각에 대하여 다음의 시험을 행하였다.By the plating method shown in Example 1 and the following plating method, various silver-coated lead frames shown in Table 2 were made, and the following tests were performed for each.
[시험 Ⅰ:납땜성 시험][Test I: Solderability Test]
400℃×5분 대기 가열후 95% Pb-5% Sn의 350℃조에 3초 담그고, 젖은 면적을 측정하였다.After 400 ° C × 5 minutes atmospheric heating, the sample was immersed in a 350 ° C bath of 95% Pb-5% Sn for 3 seconds, and the wet area was measured.
[시험 Ⅱ:본딩성 시험][Test II: Bonding Test]
400℃×5분 가열하고 냉각후 다시 200℃×15분 가열한후 전기의 Au 선을 본딩압력 45gr로써 초음파 용접하였다. 20분(本)의 평균 인장강도를 구하였다.After heating at 400 ° C. for 5 minutes, cooling, and again heating at 200 ° C. for 15 minutes, the Au wire was ultrasonically welded with a bonding pressure of 45 gr. The average tensile strength of 20 minutes was obtained.
[시험 Ⅲ:실버 마이그레이션 시험][Test III: Silver Migration Test]
2본의 리드부를 절취하여 상기 가열처리후 2mm 간격으로 정성여지상에 고정하고 60℃×95% RH로써 25V의 직류전압을 가하고 24hr 방치후의 극간저항을 측정하였다.The two lead portions were cut out and fixed on a qualitative filter at 2 mm intervals after the heat treatment, and a DC voltage of 25 V was applied at 60 ° C. × 95% RH, and the interpole resistance after standing for 24 hours was measured.
이상 3종의 시험결과를 표 2에 나타낸다.Table 3 shows the test results of the above three types.
[표 2]TABLE 2
표 2에 의하여 명백한 바와 같이 본 발명품 리드프레임 No.1~8은 은피복 3.5μ 이라도 모두 야금적 접합성(시험 Ⅰ, Ⅱ)에 뛰어나며, 시험 Ⅲ에 의한 극간저항도 크고, 실버 마이그레이션의 위험이 적은 것임을 알 수 있다.As is apparent from Table 2, the lead frames Nos. 1 to 8 of the present invention are excellent in metallurgical bonding (tests I and II) even with 3.5μ silver coating, and have a large gap resistance due to test III and a low risk of silver migration. It can be seen that.
이에 대하여 종래품 리드프레임 No.9은 접합성도 충분하지 못하고 실버 마이그레이션의 위험도 크다. 또 은피복 두께 7μ의 종래품 리드프레임 No.10은 접합성은 양호하지만 실버 마이그레이션의 위험성이 있는 것임을 알 수 있다.On the other hand, the conventional leadframe No. 9 is not sufficient in bonding and has a high risk of silver migration. In addition, it can be seen that the conventional leadframe No. 10 having a silver coating thickness of 7 mu is good in bonding but has a risk of silver migration.
[실시예 3]Example 3
키보드 스위치용 접점 스프링으로서 0.5μAg 도금, 인청동조(ph-osphorous bronze)(0.08t Sn=8.0%)가 사용되어 있다. 본품에 본 발명을 적용하기 위하여 실시예 1, 2 및 하기에 나타낸 도금법을 사용하여 표 3에 나타낸 각종의 은피복 접점 스프링을 제조하였다. 이들 접점으로서의 장기 성능을 확인하기 위하여 하기의 2조건에 의하여 에이징 처리한후 접촉저항을 측정하였다. 이 측정은 선단 반원형(R=4.0mm)의 Ag 봉을 접점 스프링에 75gr 하중으로 압접하고 100mA의 전류를 흘려 행하였다. 그 결과를 표 3에 나타낸다.As a contact spring for keyboard switches, 0.5μAg plating and ph-osphorous bronze (0.08t Sn = 8.0%) are used. In order to apply the present invention to the product, various silver-covered contact springs shown in Table 3 were prepared using the plating methods shown in Examples 1 and 2 and below. In order to confirm the long-term performance as these contacts, the contact resistance was measured after the aging treatment under the following two conditions. This measurement was carried out by pressing a semi-circular tip (R = 4.0 mm) Ag rod to a contact spring with a 75gr load and passing a current of 100 mA. The results are shown in Table 3.
에이징 IAging I
60℃, 상대습도 95%의 가습조에 1000hr 유지1000hr in a humidification tank with 60 ℃ and 95% relative humidity
에이징 ⅡAging II
200℃ 대기중에서 10hr 처리10hr in air at 200 ℃
[표 3]TABLE 3
표 3에 의하여 명백한 바와 같이 본 발명을 적용한 은피복 접점 스프링은 종래품에 비하여 에이징후의 접촉저항이 작으며, 에이징에 의한 접촉저항의 열화가 경감되어 있음을 알 수 있다.As apparent from Table 3, the silver-coated contact spring to which the present invention is applied has a smaller contact resistance after aging and a deterioration in contact resistance due to aging compared to the conventional products.
다음에 본 실시예 3에 있어서 에이징처리 Ⅰ을 행한 접점 스프링 표면에 대하여 양극 환원(Cathodic Reduction)법에 의하여 그 표면의 부식 생성물을 분석한 결과 Cu의 산화물과 Ag의 황화물이 검출되었다. 환원에 필요한 전기량에 의하여 그 양을 나타내면 표 4와 같다.Next, as a result of analyzing the corrosion products on the surface of the contact spring surface subjected to the aging treatment I in the third embodiment by Cathodic Reduction, oxides of Cu and sulfides of Ag were detected. Table 4 shows the amount by the amount of electricity required for reduction.
[표 4]TABLE 4
즉 본 발명을 적용한 은피복 접접 스프링 표면에는 종래품에 비하여 부식 생성물이 적으며 특히 제2중간층으로서 Sn을 사용한 No.1, 2, 3에 있어 현저하다. 이는 미량의 Sn이 은피복 중에 확산하여 합금화하여 은피복의 내식성을 높였기 때문이라고 추측된다.In other words, the surface of the silver-coated contact spring to which the present invention is applied has less corrosion products than the conventional products, and is particularly remarkable in Nos. 1, 2, and 3 using Sn as the second intermediate layer. This is presumably because a small amount of Sn diffused in the silver coating and alloyed to increase the corrosion resistance of the silver coating.
이상 설명한 바와 같이 본 발명의 은피복 전기재료는 야금적 접합성, 전기접속성, 내식성에 뛰어나고 또 그 제조방법은 정제도가 우수한 각 중간층 및 은피복을 용이하게 그리고 효율적으로 얻어지는 방법으로서, 전기, 전자공업상 현저한 효과를 나타내는 것이다.As described above, the silver-coated electric material of the present invention is a method of easily and efficiently obtaining each intermediate layer and silver-coated which is excellent in metallurgical bonding, electrical connection and corrosion resistance, and its manufacturing method is electric and electronic industry. It shows a significant effect.
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