RU2811705C2 - Coated window glass - Google Patents
Coated window glass Download PDFInfo
- Publication number
- RU2811705C2 RU2811705C2 RU2021119762A RU2021119762A RU2811705C2 RU 2811705 C2 RU2811705 C2 RU 2811705C2 RU 2021119762 A RU2021119762 A RU 2021119762A RU 2021119762 A RU2021119762 A RU 2021119762A RU 2811705 C2 RU2811705 C2 RU 2811705C2
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- layer
- opl
- thickness
- dielectric
- dielectric layer
- Prior art date
Links
Abstract
Description
Настоящее изобретение относится к подложке с покрытием, а точнее, настоящее изобретение относится к прозрачной подложке с покрытием, причем упомянутое покрытие содержит несколько слоев, некоторые из которых содержат функциональные слои, которые отражают солнечное излучение и/или инфракрасное излучение.The present invention relates to a coated substrate, and more specifically, the present invention relates to a transparent coated substrate, said coating comprising multiple layers, some of which contain functional layers that reflect solar radiation and/or infrared radiation.
Прозрачные подложки, содержащие, например, стекло, могут быть снабжены покрытиями для снижения излучательной способности («низкоэмиссионное покрытие») подложки и для достижения теплоизолирующих свойств при установке подложки, например, в здание, за счет отражения инфракрасного излучения, испускаемого, например, изнутри здания, и/или для снижения его проницаемости для солнечной энергии («покрытия для защиты от солнечной энергии»), для экранирования внутренних помещений от попадания избыточных количеств солнечной энергии (тепла). Transparent substrates containing, for example, glass can be provided with coatings to reduce the emissivity ("low-emissivity coating") of the substrate and to achieve thermal insulating properties when the substrate is installed, for example, in a building, by reflecting infrared radiation emitted, for example, from inside the building , and/or to reduce its permeability to solar energy (“solar protection coatings”), to shield interior spaces from excess solar energy (heat).
Покрытия, которые обеспечивают такую низкую излучательную способность (низкоэмиссионные) и/или защиту от солнечной энергии при нанесении на стеклянные подложки, можно осаждать, например, способами физического осаждения из паровой фазы, такими как напыление. Напыленные пакеты низкоэмиссионных и солнцезащитных покрытий обычно состоят из повторяющихся последовательностей, таких как, например:Coatings that provide such low emissivity (low emissivity) and/or solar control when applied to glass substrates can be deposited, for example, by physical vapor deposition methods such as sputtering. Sprayed low-e and solar control coating packages typically consist of repeating sequences such as:
«подложка/ последовательностьa базовых диэлектрических слоев/ серебро (Ag)/ последовательностьb диэлектрических слоев», причем каждая из диэлектрических последовательностей a и b не обязательно имеет одну и ту же толщину или состав. "substrate/ base dielectric layer sequence a / silver (Ag)/ dielectric layer sequence b ", wherein each of the dielectric sequences a and b does not necessarily have the same thickness or composition.
В слоистых системах этого типа, слой серебра служит в основном в качестве слоя, отражающего инфракрасное излучение (ИК), тогда как диэлектрические слои («DL») могут быть использованы, за счет подходящего подбора материала и толщины, для влияния на свойства пропускания и отражения в видимой области спектра, а также на энергию, испускаемую в виде тепловой энергии, т.е., на излучательную способность и пропускание солнечной энергии для стеклянной подложки с покрытием. In layered systems of this type, the silver layer serves primarily as an infrared (IR) reflective layer, while dielectric layers ("D L ") can be used, through suitable selection of material and thickness, to influence transmittance and reflections in the visible region of the spectrum, as well as the energy emitted as thermal energy, i.e., the emissivity and transmittance of solar energy for the coated glass substrate.
Отражения неблагоприятно влияют на видимость через стеклянные подложки. Эта проблема особо существенна для применений, где хорошая видимость через стеклянную подложку имеет решающее значение для их функционирования. Reflections adversely affect visibility through glass substrates. This problem is especially significant for applications where good visibility through the glass substrate is critical to their functionality.
В дополнение, в стекольной промышленности существует постоянный спрос на стеклянные подложки с покрытием, которые отвечают строгим требованиям к характеристикам автомобильного и архитектурного окисления с точки зрения теплоизоляционных свойств и желаемой низкой излучательной способности, в результате чего для покрытия стеклянных подложек на основе ряда диэлектрических материалов используются все более сложные последовательности слоев (или пакеты). Следовательно, в стекольной промышленности становится все более распространенным количество диэлектрических последовательностей в подложке с покрытием, равное двум или даже трем.In addition, there is a continued demand in the glass industry for coated glass substrates that meet the stringent automotive and architectural oxidation performance requirements in terms of thermal insulation properties and desired low emissivity, resulting in the use of a range of dielectric materials to coat glass substrates. more complex sequences of layers (or packages). Consequently, in the glass industry, a number of dielectric sequences in a coated substrate of two or even three is becoming increasingly common.
Например, в WO 2011/020974 описана прозрачная стеклянная подложка, обеспеченная тонкопленочной многослойной структурой, содержащей чередующийся массив, по меньшей мере, из трех металлических функциональных слоев и четырех антиотражающие покрытий, расположенных на каждой стороне металлических функциональных слоев, причем антиотражающие покрытия также содержат несколько слоев. For example, WO 2011/020974 describes a transparent glass substrate provided with a thin film multilayer structure comprising an alternating array of at least three metal functional layers and four anti-reflection coatings disposed on each side of the metal functional layers, the anti-reflection coatings also comprising multiple layers .
В Патенте US 5,595,825 раскрыта подложка, покрытая пакетом пленок, содержащим, по меньшей мере, три пленки, обладающие свойствами отражения в инфракрасной (ИК) части спектра, и который обладает высокой селективностью, т.е., высоким отношением коэффициента светопропускания TL к солнечному фактору (SF), (TL/SF), для данного значения TL. US Pat. No. 5,595,825 discloses a substrate coated with a film stack containing at least three films having reflective properties in the infrared (IR) region of the spectrum and which has high selectivity, i.e., a high ratio of light transmittance T L to solar factor (SF), (TL/SF), for a given value of T L .
В US 2013/0057951 описана система слоев с n функциональных слоев, например, на основе серебра и n+1 диэлектрических слоев. Важное значение имеет поглощающий слой, расположенный в пакете. US 2013/0057951 describes a layer system with n functional layers, for example based on silver and n+1 dielectric layers. The absorbent layer located in the bag is important.
В US 2017/0059753 также описана пленка с несколькими металлическими функциональными слоями (например, серебряными), по меньшей мере, с одним поглощающим слоем. Функциональные слои окружены слоями регулировки фазы (диэлектрическими слоями).US 2017/0059753 also describes a film with multiple metal functional layers (eg silver) with at least one absorbent layer. The functional layers are surrounded by phase control layers (dielectric layers).
В CN 102372447 раскрыто стекло с низкой излучательной способностью, содержащее четыре слоя серебряного покрытия для автомобильного и архитектурного стекла, как и в US 2011/0169402, однако, в US 2011/0169402 нет конкретных указаний о соотношении между толщиной серебряных слоев и диэлектрических слоев. CN 102372447 discloses low emissivity glass containing four layers of silver coating for automotive and architectural glass, as does US 2011/0169402, however US 2011/0169402 is not specific about the relationship between the thickness of the silver layers and the dielectric layers.
Аналогично, в US 2014/0347722, US 2018/0194675 и US 2018/0194676, описана система слоев покрытий с тремя серебряными слоями, однако, ни в одном из документов не описано соотношение между серебряными слоями и диэлектрическими слоями, указанное в настоящем изобретении.Similarly, US 2014/0347722, US 2018/0194675 and US 2018/0194676 describe a coating layer system with three silver layers, however, none of the documents describes the relationship between the silver layers and the dielectric layers specified in the present invention.
Однако, поскольку напыленные диэлектрические слои толще и медленнее осаждаются, чем, например, напыленные металлические слои, такие как серебряные, осаждение сложных последовательностей слоев на стеклянной подложке часто требует большого количества катодов на заводе по изготовлению покрытий. However, because sputtered dielectric layers are thicker and slower to deposit than, for example, sputtered metal layers such as silver, deposition of complex sequences of layers on a glass substrate often requires a large number of cathodes in the coating plant.
Первоначально, осаждение нескольких сложных пакетов покрытий на стеклянной подложке решалось путем установки дорогостоящих удлинений на линию нанесения покрытия на заводе по производству стекла, для получения достаточного количества катодов, пригодных для осаждения материалов покрытия требуемой толщины, количества, и др. Initially, deposition of multiple complex coating stacks on a glass substrate was accomplished by installing expensive extensions to the coating line at the glass manufacturing plant to obtain enough cathodes suitable for depositing coating materials of the required thickness, quantity, etc.
Это приводило, например, к установке избыточных секций откачки на удлинениях, что позволяет последовательно запускать несколько процессов реакционного осаждения. Однако, это достигается только с большими затратами и часто с огромными сбоями, поскольку линию нанесения покрытия обычно необходимо останавливать на продолжительный период времени, для завершения требуемых инженерных работ. Каждый новый катод и секция откачки также требует выполнения обеспечения электропитания, вакуумных насосов, секций конвейера, техобслуживания, измерительной аппаратуры и встраивания в систему управления. Такие изменения часто приводят к переналадке логистики ниже по производственной линии, и возможно даже к новым строительным работам или к расширению зданий. Поскольку требования наличия нескольких металлических слоев и/или более сложных пакетов становится все более распространенными, эти проблемы будут нарастать. This led, for example, to the installation of redundant pumping sections on extensions, which allows several reaction deposition processes to be launched sequentially. However, this is only achieved at great cost and often with enormous disruption, as the coating line usually needs to be shut down for extended periods of time to complete the required engineering work. Each new cathode and pumping section also requires power supply, vacuum pumps, conveyor sections, maintenance, instrumentation and control system integration. Such changes often lead to reconfigurations of logistics down the production line, and possibly even new construction work or building extensions. As requirements for multiple metal layers and/or more complex stacks become more common, these problems will increase.
В дополнение, тогда как увеличение количества функциональных металлических слоев, таких как серебряные, в последовательности покрытий способствует оптимизации солнцезащитных свойств покрытой подложка, повышенное количество функциональных металлических серебряных слоев неблагоприятно влияет на коэффициент светопропускания TL стеклянной подложки.In addition, while increasing the number of functional metal layers, such as silver, in a coating sequence helps optimize the solar control properties of the coated substrate, an increased number of functional metal silver layers adversely affects the light transmittance T L of the glass substrate.
Дополнительный эффект повышения количества слоев в покрытой подложке состоит в том, что это приводит к изменению внешнего цветового отражения покрытия, при обзоре под разными углами.An additional effect of increasing the number of layers in a coated substrate is that it causes a change in the external color reflection of the coating when viewed from different angles.
Поэтому, существует необходимость в получении покрытой стеклянной подложки, которая не только отвечает требованиям стекольной промышленности с точки зрения обеспечения нейтральной окраски и эффективного светопропускания, но которая также способна обеспечивать требуемые тепловые и солнцезащитные свойства.Therefore, there is a need to provide a coated glass substrate that not only meets the requirements of the glass industry in terms of providing neutral color and effective light transmission, but which is also capable of providing the required thermal and solar control properties.
Таким образом, целью настоящего изобретения является обеспечение усовершенствованной прозрачной стеклянной подложки, которая обеспечивает подходящие оптические и тепловые свойства. Thus, it is an object of the present invention to provide an improved transparent glass substrate that provides suitable optical and thermal properties.
Т.е., целью настоящего изобретения является обеспечение покрытых стеклянных подложек с низкой излучательной способностью (низкоэмиссионных) и/или солнцезащитных, способных выдерживать обычные влияния окружающей среды, например, при хранении, транспортировке и использовании, и которые обеспечивают требуемую, практически нейтральную окраску и оптические свойства. That is, it is an object of the present invention to provide low emissivity and/or solar control coated glass substrates capable of withstanding normal environmental influences, such as storage, transportation and use, and which provide the desired substantially neutral color and optical properties.
Дополнительной целью настоящего изобретения является обеспечение покрытых стеклянных подложек с высокой селективностью, т.е., предпочтительно, более 2,0 (в которых селективность=отношение коэффициента светопропускания и g-величины для блока с двойным остеклением (БДО)) и низким значением излучательной способности, т.е., предпочтительно, менее 3%, что соответствует низкому сопротивлению слоя.It is a further object of the present invention to provide coated glass substrates with high selectivity, i.e., preferably greater than 2.0 (in which selectivity=ratio of light transmittance and g-value for a double glazed unit (GDU)) and low emissivity value , i.e., preferably less than 3%, which corresponds to low layer resistance.
Для блока с двойным остеклением (БДО) в здании, полученного с покрытыми стеклянными подложками, очень желательно, чтобы покрытое стекло имело однородный цвет при внешнем отражении. Для достижения этого и для демонстрации превосходного эстетичного внешнего вида, важно, чтобы изменение цвета при внешнем отражении для покрытой стеклянной подложки при наблюдении под различными углами зрения было минимальным.For a double glazed unit (DGL) in a building produced with coated glass substrates, it is highly desirable that the coated glass has a uniform color upon external reflection. To achieve this and to demonstrate superior aesthetic appearance, it is important that the color change due to external reflection for the coated glass substrate when viewed from different viewing angles is minimal.
Поскольку при изготовлении покрытых стеклянных подложек могут возникнуть изменения толщины, крайне важной является минимизация любых изменений цвета, связанных с изменением толщины покрытия, для обеспечения внешнего вида с однородным цветом фасада здания, при установке в него блока с двойным остеклением, снабженным покрытой стеклянной подложкой. Since variations in thickness may occur during the manufacture of coated glass substrates, it is critical to minimize any color variations associated with changes in coating thickness to ensure a uniform color appearance to the building façade when installing a double glazing unit fitted with a coated glass substrate.
Поэтому, в заключении, целью настоящего изобретения является решение проблем, связанных с процессами и продуктами согласно уровню техники, которые были подробно описаны выше, и поиск возможностей для обеспечения экономически выгодных и коммерчески желательных стеклянных подложек с покрытием, которые отвечают требуемым оптическим свойствам в стекольной промышленности, например, с точки зрения мутности, светопропускания, а главное, цвета.Therefore, in conclusion, it is an object of the present invention to solve the problems associated with the processes and products of the prior art that have been described in detail above, and to seek opportunities to provide cost-effective and commercially desirable coated glass substrates that meet the required optical properties in the glass industry , for example, in terms of turbidity, light transmission, and most importantly, color.
Поэтому, согласно первому аспекту настоящего изобретения обеспечена прозрачная подложка, содержащая многослойный пакет покрытий, причем пакет покрытий содержит:Therefore, according to a first aspect of the present invention, there is provided a transparent substrate comprising a multilayer coating stack, wherein the coating stack comprises:
i) n функциональных металлических слоев, m; иi) n functional metal layers, m; And
ii) n плюс 1 (n+1) диэлектрических слоев, d, причем диэлектрические слои расположены до и после каждого функционального металлического слоя, и ii) n plus 1 (n+1) dielectric layers, d, with dielectric layers located before and after each functional metal layer, and
причем n - общее количество функциональных металлических слоев в пакете, отсчитываемое от подложки, и большее или равное 3; и wherein n is the total number of functional metal layers in the package, counted from the substrate, and greater than or equal to 3; And
причем каждый диэлектрический слой содержит один или более слоев,wherein each dielectric layer contains one or more layers,
характеризующаяся тем, что:characterized by the fact that:
геометрическая толщина слоя для каждого функционального металлического слоя в многослойном пакете покрытий Gm больше геометрической толщины слоя для каждого функционального металлического слоя, находящегося до него в многослойном пакете покрытий, т.е., Gmi+1 ˃ Gmi, the geometric layer thickness for each functional metal layer in a multilayer coating package Gm is greater than the geometric layer thickness for each functional metal layer located before it in a multilayer coating package, i.e., Gm i +1 ˃ Gm i ,
где i - позиция функционального металлического слоя в многослойном пакете покрытий, отсчитываемая от подложки, и при этомwhere i is the position of the functional metal layer in a multilayer coating package, measured from the substrate, and at the same time
для каждого диэлектрического слоя d, расположенного до и после каждого функционального металлического слоя m, оптическая толщина слоя для каждого диэлектрического слоя (opln) больше или равна оптической толщине слоя для диэлектрического слоя (opln-1), расположенного до него в пакете покрытий, при условии, что:for each dielectric layer d located before and after each functional metal layer m, the optical layer thickness for each dielectric layer (opl n ) is greater than or equal to the optical layer thickness for the dielectric layer (opl n-1 ) located before it in the coating package, provided that:
удвоенная оптическая толщина слоя первого диэлектрического слоя (opl1) в пакете покрытий меньше, чем оптическая толщина слоя второго диэлектрического слоя (opl2) в пакете покрытий, т.е., (2 × opl1) ˂ opl2; иthe doubled optical thickness of the first dielectric layer (opl 1 ) in the coating package is less than the optical thickness of the second dielectric layer (opl 2 ) in the coating package, i.e., (2 × opl 1 ) ˂ opl 2 ; And
удвоенная оптическая толщина слоя последнего диэлектрического слоя (opln+1) в пакете покрытий больше величины оптической толщины слоя предпоследнего диэлектрического слоя (opln), т.е., (opln) ˂ (opln+1) × 2.the doubled optical thickness of the layer of the last dielectric layer (opl n+1 ) in the coating package is greater than the optical thickness of the layer of the penultimate dielectric layer (opl n ), i.e., (opl n ) ˂ (opl n+1 ) × 2.
То есть, например, применительно к настоящему изобретению, когда многослойный пакет покрытий содержит три серебряные слои, оптическая толщина слоя каждого диэлектрика может быть выражена как:That is, for example, in relation to the present invention, when the multilayer coating stack contains three silver layers, the optical thickness of each dielectric layer can be expressed as:
(2 × opl1) ˂ opl2≤opln ˂ (opln+1×2), (2 × opl 1 ) ˂ opl 2 ≤opl n ˂ (opl n+1 ×2),
где n равно 3 и равно количеству функциональных металлических серебряных слоев.where n is 3 and equal to the number of functional metallic silver layers.
Когда многослойный пакет покрытий содержит четыре серебряных слоя, оптическая толщина слоя каждого диэлектрика может быть выражена как:When a multilayer plating stack contains four silver layers, the optical thickness of each dielectric layer can be expressed as:
(2 × opl1) ˂ opl2≤opl3≤opln ˂ (opln+1×2),(2 × opl 1 ) ˂ opl 2 ≤opl 3 ≤opl n ˂ (opl n+1 ×2),
где n равно 4 и равно количеству функциональных металлических серебряных слоев.where n is 4 and equal to the number of functional metallic silver layers.
Когда многослойный пакет покрытий содержит пять серебряных слоев, оптическая толщина слоя каждого диэлектрика может быть выражена как:When a multilayer plating stack contains five silver layers, the optical thickness of each dielectric layer can be expressed as:
(2 × opl1) ˂ opl2≤opl3≤opl4≤opln ˂ (opln+1×2).(2 × opl 1 ) ˂ opl 2 ≤opl 3 ≤opl 4 ≤opl n ˂ (opl n+1 ×2).
где n равно 5 и равно количеству функциональных металлических серебряных слоев, а когда многослойный пакет покрытий содержит шесть серебряных слоев, оптическая толщина слоя каждого диэлектрика может быть выражена как:where n is 5 and equal to the number of functional metallic silver layers, and when the multilayer coating stack contains six silver layers, the optical thickness of each dielectric layer can be expressed as:
(2 × opl1) ˂ opl2≤opl3≤opl4≤opl5 ≤ opln ˂ (opln+1×2).(2 × opl 1 ) ˂ opl 2 ≤opl 3 ≤opl 4 ≤opl 5 ≤ opl n ˂ (opl n+1 ×2).
где n равно 5 и равно количеству функциональных металлических серебряных слоев, и т.д.where n is 5 and equal to the number of functional metallic silver layers, etc.
Применительно к первому аспекту настоящего изобретения функциональный металлический слой может содержать серебро или золото, однако, является предпочтительным, чтобы функциональный металлический слой содержал серебро.In relation to the first aspect of the present invention, the functional metal layer may contain silver or gold, however, it is preferred that the functional metal layer contains silver.
Является предпочтительным, чтобы количество функциональных металлических слоев в многослойном пакете покрытий согласно настоящему изобретению могло составлять 3-6. Является более предпочтительным, чтобы количество функциональных металлических слоев в многослойном пакете покрытий составляло 4-6. Однако, является наиболее предпочтительным, чтобы количество функциональных металлических слоев в многослойном пакете покрытий составляло 4. It is preferred that the number of functional metal layers in the multilayer coating stack according to the present invention may be 3-6. It is more preferable that the number of functional metal layers in a multilayer coating stack is 4-6. However, it is most preferred that the number of functional metal layers in a multilayer coating stack be 4.
Применительно к пакету покрытий прозрачной подложки согласно первому аспекту настоящего изобретения, каждый диэлектрический слой может содержать один или более слоев материала, выбранного из: TiOx, SnO2, ZnO, ZnO:Al, ZrOx, TiOx, Nb2O5, Ta2O5, In2O3, Al2O3, SiO2 или их сплавов или смесей, таких как, например, ZnSnOx, InSnOx; и/или (окси)нитрида кремния и/или (окси)нитрида алюминия и/или их сплавов.In relation to a transparent substrate coating stack according to the first aspect of the present invention, each dielectric layer may comprise one or more layers of material selected from: TiO x , SnO 2 , ZnO, ZnO:Al, ZrO x , TiO x , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , In 2 O 3 , Al 2 O 3 , SiO 2 or their alloys or mixtures, such as, for example, ZnSnO x , InSnO x ; and/or (oxy)silicon nitride and/or (oxy)aluminum nitride and/or their alloys.
Между функциональным металлическим слоем и последующим диэлектрическим слоем в пакете покрытий, может быть нанесен поглощающий слой, выбранный из группы, содержащей один или более из: Ni, Cr, W, Nb, Ti, V или сплава и смесей, например, NiCr или NiV. Является предпочтительным, чтобы поглощающий слой был использован для регулирования пропускания света и энергии через пакет покрытий. Однако, в дополнение, поглощающий слой также можно использовать в качестве барьерного слоя.Between the functional metal layer and the subsequent dielectric layer in the coating stack, an absorbent layer selected from the group consisting of one or more of Ni, Cr, W, Nb, Ti, V or alloy and mixtures, for example NiCr or NiV, can be applied. It is preferred that the absorption layer be used to control the transmission of light and energy through the coating stack. However, in addition, the absorbent layer can also be used as a barrier layer.
Применительно к настоящему изобретению является предпочтительным, чтобы пакет покрытий имел угловой цветовой сдвиг 0-60° для внешнего отражения, при помещении в блок с двойным остеклением (БДО), Δa*, Δb*≤5. Это означает, что для всех углов зрения до 60°, цветовой сдвиг до угла зрения 0° для a* и b*будет составлять менее 5. In relation to the present invention, it is preferred that the coating package has an angular color shift of 0-60° for external reflection, when placed in a double glazed unit (DGL), Δa*, Δb*≤5. This means that for all visual angles up to 60°, the color shift to 0° visual angle for a* and b* will be less than 5.
Является более предпочтительным, чтобы пакет покрытий имел угловой цветовой сдвиг 0-60° для внешнего отражения, при помещении в блок с двойным остеклением (БДО), при Δb*≤4. Является наиболее предпочтительным, чтобы пакет покрытий имел угловой цветовой сдвиг 0-60° для внешнего отражения при помещении в блок с двойным остеклением (БДО), при Δa*, Δb*≤3. It is more preferable for the coating package to have an angular color shift of 0-60° for external reflection when placed in a double glazed unit (DGL), with Δb*≤4. It is most preferred that the coating package has an angular color shift of 0-60° for external reflection when placed in a double glazed unit (DGL), with Δa*, Δb*≤3.
Также, применительно к настоящему изобретению является предпочтительным, чтобы пакет покрытий имел цветовой сдвиг для внешнего отражения, когда он находится в блоке с двойным остеклением (БДО) с изменениями толщины на 3% (или более) для одного диэлектрического или металлического слоя, меньший или равный 5 для Δa* и меньший или равный 5 для Δb*. Т.е., если один диэлектрический или металлический слой в пакете покрытий изменяет целевую толщину на 3%, наблюдаемый цветовой сдвиг составляет менее 5 для a* и/или b*. It is also preferred for the purposes of the present invention that the coating stack has a color shift for external reflection when placed in a double glazed unit (GDU) with thickness variations of 3% (or more) for a single dielectric or metal layer less than or equal to 5 for Δa* and less than or equal to 5 for Δb*. That is, if one dielectric or metal layer in a coating stack changes the target thickness by 3%, the observed color shift is less than 5 for a* and/or b*.
Применительно к настоящему изобретению является предпочтительным, чтобы пакет покрытий имел цветовой сдвиг для внешнего отражения, когда он находится в блоке с двойным остеклением БДО, с изменениями толщины на 3% (или более) для одного диэлектрического или металлического слоя, меньший или равный 4 для Δa* и меньший или равный 4 для Δb*. For purposes of the present invention, it is preferred that the coating stack has a color shift for external reflection when placed in a double glazed BDO unit, with thickness variations of 3% (or more) per dielectric or metal layer less than or equal to 4 for Δa * and less than or equal to 4 for Δb*.
Применительно к настоящему изобретению является наиболее предпочтительным, чтобы пакет покрытий имел цветовой сдвиг для внешнего отражения, когда он находится в блоке с двойным остеклением БДО, с изменениями толщины на 3% (или более) для одного диэлектрического или металлического слоя, меньший или равно 3 для Δa* и меньший или равный 3 для Δb*. With respect to the present invention, it is most preferred that the coating package have a color shift for external reflection when placed in a double glazed BDO unit, with thickness variations of 3% (or more) for one dielectric or metal layer, less than or equal to 3 for Δa* and less than or equal to 3 for Δb*.
В дополнение, применительно к первому аспекту настоящего изобретения обеспечена прозрачная подложка, в которой многослойный пакет покрытий содержит:In addition, in connection with the first aspect of the present invention, there is provided a transparent substrate in which the multilayer coating stack comprises:
- первый диэлектрический слой, d1;- first dielectric layer, d 1 ;
- первый функциональный металлический слой m1; - first functional metal layer m 1 ;
- второй диэлектрический слой, d2;- second dielectric layer, d 2 ;
- второй функциональный металлический слой m2; - second functional metal layer m 2 ;
- третий диэлектрический слой, d3;- third dielectric layer, d 3 ;
- третий функциональный металлический слой m3;- third functional metal layer m 3 ;
- четвертый диэлектрический слой d4.- fourth dielectric layer d 4 .
Применительно к этому варианту воплощения первого аспекта настоящего изобретения каждый из первого, второго и третьего функционального металлического слоя может содержать слой серебра.In connection with this embodiment of the first aspect of the present invention, each of the first, second and third functional metal layer may comprise a layer of silver.
Также, применительно к этому варианту воплощения первого аспекта настоящего изобретения, первый диэлектрический слой d1, ближайший к стеклянной подложке, может содержать последовательно от стеклянной подложки слой на основе оксида титана (Ti) или, в качестве альтернативы, первый диэлектрический слой d1, ближайший к стеклянной подложке, может содержать последовательно от стеклянной подложки слой на основе оксида титана (Ti) и/или слой на основе оксида цинка (Zn).Also, in connection with this embodiment of the first aspect of the present invention, the first dielectric layer d1 closest to the glass substrate may comprise a titanium (Ti) oxide-based layer in series with the glass substrate or, alternatively, a first dielectric layer d1 closest to the glass substrate. substrate may comprise, in series with the glass substrate, a titanium oxide (Ti)-based layer and/or a zinc oxide (Zn)-based layer.
Дополнительно, второй диэлектрический слой d2 может содержать последовательно от стеклянной подложки слой на основе оксида цинка и слой на основе оксида цинка (Zn) и олова (Sn). Additionally, the second dielectric layer d2 may comprise, sequentially from the glass substrate, a zinc oxide layer and a zinc oxide (Zn) and tin (Sn) layer.
Третий диэлектрический слой d3 предпочтительно может содержать последовательно от стеклянной подложки слой на основе оксида цинка (Zn) и/или слой на основе оксида цинка (Zn) и олова (Sn). Третий диэлектрик также может содержать слой на основе оксида циркония (Zr) и/или слой на основе оксида титана. Третий диэлектрический слой может дополнительно содержать слой на основе оксида цинка, расположенный выше слоя на основе оксида титана. The third dielectric layer d 3 may preferably comprise, in series from the glass substrate, a zinc oxide (Zn) layer and/or a zinc oxide (Zn) and tin (Sn) layer. The third dielectric may also comprise a zirconium (Zr) oxide layer and/or a titanium oxide layer. The third dielectric layer may further comprise a zinc oxide layer located above the titanium oxide layer.
Между третьим металлическим слоем и четвертым диэлектрическим слоем в последовательности также может быть обеспечен поглощающий слой NiCr. Слой NiCr может быть предпочтительно обеспечен для регулировки светопропускания, для многослойного пакета покрытий.A NiCr absorbent layer may also be provided between the third metal layer and the fourth dielectric layer in the series. A NiCr layer may preferably be provided to control light transmission for a multi-layer coating stack.
Следовательно, многослойный пакет покрытий предпочтительно может содержать:Therefore, the multilayer coating stack may preferably comprise:
- первый диэлектрический слой, d1;- first dielectric layer, d 1 ;
- первый функциональный металлический слой m1; - first functional metal layer m 1 ;
- второй диэлектрический слой, d2;- second dielectric layer, d 2 ;
- второй функциональный металлический слой m2; - second functional metal layer m 2 ;
- третий диэлектрический слой, d3;- third dielectric layer, d 3 ;
- третий функциональный металлический слой m3;- third functional metal layer m 3 ;
- поглощающий слой a1; и- absorbing layer a 1 ; And
- четвертый диэлектрический слой d4.- fourth dielectric layer d 4 .
Дополнительно, четвертый диэлектрический слой может содержать слой на основе оксида цинка (Zn) и/или слой на основе оксида цинка (Zn) и олова (Sn). Additionally, the fourth dielectric layer may comprise a zinc oxide (Zn) layer and/or a zinc oxide (Zn) and tin (Sn) layer.
В дополнение, применительно к первому аспекту настоящего изобретения обеспечена прозрачная подложка, в которой многослойный пакет покрытий содержит:In addition, in connection with the first aspect of the present invention, there is provided a transparent substrate in which the multilayer coating stack comprises:
- первый диэлектрический слой, d1;- first dielectric layer, d 1 ;
- первый функциональный металлический слой m1; - first functional metal layer m 1 ;
- второй диэлектрический слой, d2;- second dielectric layer, d 2 ;
- второй функциональный металлический слой m2; - second functional metal layer m 2 ;
- третий диэлектрический слой, d3;- third dielectric layer, d 3 ;
- третий функциональный металлический слой m3;- third functional metal layer m 3 ;
- четвертый диэлектрический слой d4;- fourth dielectric layer d 4 ;
- четвертый функциональный металлический слой m4; и- fourth functional metal layer m 4 ; And
- пятый диэлектрический слой, d5.- fifth dielectric layer, d 5 .
Применительно к этому варианту воплощения первого аспекта настоящего изобретения первый, второй, третий и четвертый функциональный металлический слой может содержать слой серебра.In connection with this embodiment of the first aspect of the present invention, the first, second, third and fourth functional metal layer may comprise a layer of silver.
Также, первый, второй, третий и четвертый диэлектрические слои могут быть такими, как описано выше, а пятый диэлектрический слой может содержать слой на основе оксида цинка (Zn) и/или слой на основе оксида цинка (Zn) и олова (Sn). Also, the first, second, third and fourth dielectric layers may be as described above, and the fifth dielectric layer may comprise a zinc oxide (Zn) layer and/or a zinc oxide (Zn) and tin (Sn) layer.
Между третьим металлическим слоем и четвертым диэлектрическим слоем в последовательности также может быть обеспечен поглощающий слой NiCr. Слой NiCr может быть предпочтительно обеспечен для регулировки светопропускания, для многослойного пакета покрытий. Аналогично, между четвертым металлическим слоем и пятым диэлектрическим слоем в последовательности также может быть обеспечен поглощающий слой NiCr. A NiCr absorbent layer may also be provided between the third metal layer and the fourth dielectric layer in the series. A NiCr layer may preferably be provided to control light transmission for a multi-layer coating stack. Likewise, a NiCr absorption layer may also be provided between the fourth metal layer and the fifth dielectric layer in the series.
Следовательно, многослойный пакет покрытий предпочтительно может содержать:Therefore, the multilayer coating stack may preferably comprise:
- первый диэлектрический слой, d1;- first dielectric layer, d 1 ;
- первый функциональный металлический слой m1; - first functional metal layer m 1 ;
- второй диэлектрический слой, d2;- second dielectric layer, d 2 ;
- второй функциональный металлический слой m2; - second functional metal layer m 2 ;
- третий диэлектрический слой, d3;- third dielectric layer, d 3 ;
- третий функциональный металлический слой m3;- third functional metal layer m 3 ;
- поглощающий слой a1;- absorbent layer a 1 ;
- четвертый диэлектрический слой d4;- fourth dielectric layer d 4 ;
- четвертый функциональный металлический слой m4; - fourth functional metal layer m 4 ;
- поглощающий слой a2;- absorbent layer a 2 ;
- пятый диэлектрический слой, d5.- fifth dielectric layer, d 5 .
Дополнительно, применительно к первому аспекту настоящего изобретения каждый функциональный металлический слой может иметь толщину 5-25 нм. Является более предпочтительным, чтобы каждый функциональный металлический слой мог иметь толщину 6-23 нм. Является наиболее предпочтительным, чтобы каждый функциональный металлический слой мог иметь толщину 8-21 нм.Additionally, in relation to the first aspect of the present invention, each functional metal layer may have a thickness of 5-25 nm. It is more preferred that each functional metal layer may have a thickness of 6-23 nm. It is most preferred that each functional metal layer may have a thickness of 8-21 nm.
Применительно к первому аспекту настоящего изобретения является предпочтительным, чтобы первый диэлектрический слой d1 содержал последовательно от стеклянной подложки: слой на основе оксида титана (Ti) и/или слой на основе оксида цинка (Zn).With respect to the first aspect of the present invention, it is preferred that the first dielectric layer d 1 comprises, in sequential order from the glass substrate: a titanium oxide (Ti)-based layer and/or a zinc oxide (Zn)-based layer.
Также, применительно к первому аспекту настоящего изобретения, каждый из второго, третьего, четвертого и пятого диэлектрического слоя d2, d3, d4 и d5 может предпочтительно содержать последовательно от стеклянной подложки: Also, in relation to the first aspect of the present invention, each of the second, third, fourth and fifth dielectric layers d 2 , d 3 , d 4 and d 5 may preferably comprise, in series from the glass substrate:
i) слой на основе оксида цинка (Zn) и/или поглощающий слой на основе NiCr; и i) a zinc oxide (Zn)-based layer and/or a NiCr-based absorbent layer; And
ii) слой на основе оксида цинка (Zn) и олова (Sn) и/или оксида олова (Sn).ii) a layer based on zinc oxide (Zn) and tin (Sn) and/or tin oxide (Sn).
Поглощающий слой на основе NiCr также может присутствовать в пакете покрытий. Пакет покрытий может предпочтительно находиться в непосредственном контакте с функциональным металлическим слоем и может быть использован вместо слоя на основе оксида цинка (Zn).A NiCr-based absorbent layer may also be present in the coating package. The coating stack may preferably be in direct contact with the functional metal layer and may be used instead of a zinc oxide (Zn) based layer.
Также является предпочтительным, чтобы третий диэлектрический слой d3 содержал слой на основе оксида титана (Ti). It is also preferred that the third dielectric layer d 3 comprises a titanium oxide (Ti) based layer.
Пятый диэлектрический слой d5 может дополнительно содержать слой на основе оксида циркония (Zr). The fifth dielectric layer d 5 may further comprise a layer based on zirconium oxide (Zr).
В дополнение, применительно к первому аспекту настоящего изобретения, является предпочтительным, чтобы оптическая толщина первого диэлектрического слоя d1 находилась в диапазоне 30-70 нм. Оптическая толщина слоя равна произведению показателя преломления материала (измеренного при длине волны 550 нм) и геометрической толщины слоя материала.In addition, with respect to the first aspect of the present invention, it is preferable that the optical thickness of the first dielectric layer d 1 be in the range of 30-70 nm. The optical thickness of the layer is equal to the product of the refractive index of the material (measured at a wavelength of 550 nm) and the geometric thickness of the material layer.
Т.е., применительно к первому аспекту настоящего изобретения, является предпочтительным, чтобы удвоенная оптическая толщина первого диэлектрического слоя d1 была меньше, чем оптическая толщина второго диэлектрического слоя d2, вследствие чего, (2 x d1) ˂ d2. That is, with respect to the first aspect of the present invention, it is preferred that the double optical thickness of the first dielectric layer d 1 be less than the optical thickness of the second dielectric layer d 2 whereby, (2 xd 1 ) ˂ d 2 .
Является предпочтительным, чтобы оптическая толщина второго диэлектрического слоя d2 находилась в диапазоне 60-180 нм. Также, является предпочтительным, чтобы оптическая толщина второго диэлектрического слоя d2 была меньше или равна оптической толщине третьего диэлектрического слоя d3, т.е., d2≤d3. It is preferred that the optical thickness of the second dielectric layer d 2 be in the range of 60-180 nm. It is also preferable that the optical thickness of the second dielectric layer d 2 be less than or equal to the optical thickness of the third dielectric layer d 3 , ie, d 2 ≤d 3 .
Является предпочтительным, чтобы оптическая толщина третьего диэлектрического слоя d3 находилась в диапазоне 70-200 нм. Также, является предпочтительным, чтобы оптическая толщина третьего диэлектрического слоя d3 была меньше или равна оптической толщине четвертого диэлектрического слоя d4 т.е., d3 ≤ d4. It is preferred that the optical thickness of the third dielectric layer d 3 be in the range of 70-200 nm. It is also preferable that the optical thickness of the third dielectric layer d 3 be less than or equal to the optical thickness of the fourth dielectric layer d 4 ie, d 3 ≤ d 4 .
Является предпочтительным, чтобы оптическая толщина четвертого диэлектрического слоя d4 находилась в диапазоне 80-220 нм. Является предпочтительным, чтобы оптическая толщина пятого диэлектрического слоя находилась в диапазоне 45-120 нм.It is preferred that the optical thickness of the fourth dielectric layer d 4 be in the range of 80-220 nm. It is preferred that the optical thickness of the fifth dielectric layer is in the range of 45-120 nm.
Т.е., применительно к первому аспекту настоящего изобретения, является предпочтительным, чтобы оптическая толщина четвертого диэлектрического слоя d4 была меньше, чем удвоенная оптическая толщина пятого диэлектрического слоя d5, т.е., d4 ˂ (2 x d5).That is, with respect to the first aspect of the present invention, it is preferred that the optical thickness of the fourth dielectric layer d 4 be less than twice the optical thickness of the fifth dielectric layer d 5 , i.e., d 4 ˂ (2 x d 5 ).
Согласно второму аспекту настоящего изобретения обеспечен блок с двойным остеклением, включающий в себя прозрачную подложку с многослойным пакетом покрытий согласно первому аспекту настоящего изобретения. Является предпочтительным, чтобы все признаки, описанные выше применительно к прозрачной подложке и многослойному пакету покрытий согласно первому аспекту настоящего изобретения, также были применены для блока с двойным остеклением согласно второму аспекту настоящего изобретения.According to a second aspect of the present invention, there is provided a double glazing unit including a transparent substrate with a multi-layer coating stack according to the first aspect of the present invention. It is preferred that all of the features described above in relation to the transparent substrate and multi-layer coating stack according to the first aspect of the present invention are also applied to the double glazing unit according to the second aspect of the present invention.
Является предпочтительным, чтобы применительно к первому и ко второму аспекту настоящего изобретения прозрачная подложка содержала стекло, более предпочтительно, флоат-стекло.It is preferred for the first and second aspects of the present invention that the transparent substrate comprises glass, more preferably float glass.
Дополнительно, применительно к блоку с двойным остеклением согласно второму аспекту настоящего изобретения блок с двойным остеклением может обладать селективностью, большей или равной 1,9. Является более предпочтительным, чтобы селективность стеклопакета была больше или равна 2,0. Является наиболее предпочтительным, чтобы селективность стеклопакета была больше или равна 2,1. Селективность представляет собой отношение коэффициента светопропускания и g-величины (общего пропускания энергии) блока с двойным остеклением (БДО). Светопропускание и g-величину рассчитывают согласно стандарту EN 410, включенному в настоящую работу в виде ссылки. Additionally, with respect to the double glazing unit according to the second aspect of the present invention, the double glazing unit may have a selectivity greater than or equal to 1.9. It is more preferable that the selectivity of the glass unit be greater than or equal to 2.0. It is most preferable that the selectivity of the glass unit be greater than or equal to 2.1. Selectivity is the ratio of the light transmittance and the g-value (total energy transmission) of a double glazing unit (GDU). Light transmittance and g-value are calculated according to EN 410, which is incorporated by reference in this work.
Также, применительно к блоку с двойным остеклением согласно второму аспекту настоящего изобретения, является предпочтительным, чтобы блок с двойным остеклением демонстрировал угловую зависимость для внешнего отражения a* и b* 0-60°, меньшую или равную 5; более предпочтительно, меньшую или равную 4,0; и наиболее предпочтительно, меньшую или равную 3,0.Also, in relation to the double glazing unit according to the second aspect of the present invention, it is preferable that the double glazing unit exhibits an angular dependence for external reflection a* and b* 0-60° less than or equal to 5; more preferably less than or equal to 4.0; and most preferably less than or equal to 3.0.
В дополнение, является предпочтительным, чтобы блок с двойным остеклением согласно второму аспекту настоящего изобретения дополнительно содержал цветовой сдвиг с изменением толщины 3% для одного слоя, меньший или равный 5; более предпочтительно, меньший или равный 4,0; наиболее предпочтительно, меньший или равный 3,0.In addition, it is preferable that the double glazing unit according to the second aspect of the present invention further comprises a color shift with a thickness variation of 3% per layer, less than or equal to 5; more preferably less than or equal to 4.0; most preferably less than or equal to 3.0.
Варианты воплощения настоящего изобретения будут описаны в настоящей работе в виде не ограничивающих примеров и со ссылкой на Фигуры 1-5, на которых: Embodiments of the present invention will be described herein by way of non-limiting examples and with reference to Figures 1-5, in which:
Фигура 1 представляет собой поперечный разрез блока с двойным остеклением.Figure 1 is a cross-section of a double glazed unit.
Фигура 2 представляет собой графическое представление угловой зависимости (в градусах) внешнего отражения стандартного блока с двойным остеклением (БДО) от b* и приготовленного с покрытым стеклом согласно примеру 1.Figure 2 is a graphical representation of the angular reflection (in degrees) of a standard double glazed unit (GDU) versus b* and prepared with coated glass according to Example 1.
Фигура 3 представляет собой графическое представление угловой зависимости (в градусах) внешнего отражения стандартного блока с двойным остеклением (БДО) от b*, приготовленного с покрытым стеклом согласно примеру 2.Figure 3 is a graphical representation of the angular reflection (in degrees) of a standard double glazed unit (GDU) versus b* prepared with coated glass according to Example 2.
Фигура 4 представляет собой графическое представление угловой зависимости (в градусах) внешнего отражения стандартного блока с двойным остеклением (БДО) от a*, приготовленного с покрытым стеклом согласно примеру 3.Figure 4 is a graphical representation of the angular reflection (in degrees) of a standard double glazed unit (GDU) versus a* prepared with coated glass according to Example 3.
Фигура 5 представляет собой графическое представление угловой зависимости (в градусах) внешнего отражения стандартного блока с двойным остеклением (БДО) от a*, приготовленного с покрытым стеклом согласно примеру 4.Figure 5 is a graphical representation of the angular reflection (in degrees) of a standard double glazed unit (GDU) versus a* prepared with coated glass according to Example 4.
На Фигурах 2 и 3, b* представлено изменение цвета с синего на желтый в соответствии с цветовым пространством CIE LAB, а на Фигурах 4 и 5, a* представляет изменение цвета с зеленого на красный, в соответствии с цветовым пространством CIE LAB.In Figures 2 and 3, b* represents a color change from blue to yellow according to the CIE LAB color space, and in Figures 4 and 5, a* represents a color change from green to red according to the CIE LAB color space.
Для следующих примеров, детали которых представлены в Таблице 1, покрытия осаждали на стандартной панели из флоат-стекла толщиной 6 мм, со светопропусканием примерно 90%, с использованием магнетронных напылительных устройств переменного и/или постоянного тока (или импульсных устройств постоянного тока), где подходящим является применение среднечастотного распыления.For the following examples, details of which are presented in Table 1, coatings were deposited on a standard 6 mm thick float glass panel, with approximately 90% light transmittance, using AC and/or DC magnetron sputtering devices (or pulsed DC devices), where The use of mid-frequency spray is suitable.
Диэлектрические слои оксида цинка (Zn) и олова (Sn) были реактивно напылены из мишеней цинк-олово (массовое отношение Zn:Sn приблизительно составляло 50:50) в атмосфере напыления аргон/кислород (Ar/O2). Dielectric layers of zinc oxide (Zn) and tin (Sn) were reactively sputtered from zinc-tin targets (Zn:Sn mass ratio approximately 50:50) in an argon/oxygen (Ar/O 2 ) sputtering atmosphere.
Слои оксида титана (TiOx) были осаждены из мишени в виде металлического титана (Ti) или проводящего оксида титана (TiOx) в атмосфере напыления аргон/кислород (Ar/O2).Layers of titanium oxide (TiO x ) were deposited from a target in the form of metallic titanium (Ti) or conductive titanium oxide (TiO x ) in an argon/oxygen (Ar/O 2 ) sputtering atmosphere.
Слои ZnO:Al, ускоряющие рост, были напылены из мишеней в виде металлического цинка, легированного Al (содержание алюминия (Al) составляло примерно 2 мас.%) в атмосфере напыления Ar/O2.Growth-accelerating ZnO:Al layers were sputtered from Al-doped zinc metal targets (aluminum (Al) content approximately 2 wt%) in an Ar/O 2 sputtering atmosphere.
Функциональные слои, которые во всех примерах состояли в основном из чистого серебра (Ag), были напылены и серебряных мишеней в аргоновой (Ar) атмосфере напыления, без какого-либо добавления кислорода, и при парциальном давлении остаточного кислорода менее 10-4 мбар.The functional layers, which in all examples consisted primarily of pure silver (Ag), were sputtered onto silver targets in an argon (Ar) sputtering atmosphere, without any addition of oxygen, and at a residual oxygen partial pressure of less than 10-4 mbar.
Барьерные слои оксида цинка, легированного Al, также называемые ZAO, расположенные выше функциональных слоев на основе серебра, были напылены из мишени на основе проводящего оксида, - мишени ZnOx:Al в атмосфере напыления в виде чистого аргона (Ar), без добавления кислорода.Al-doped zinc oxide barrier layers, also called ZAO, located above the silver-based functional layers, were sputtered from a conductive oxide target, a ZnO x :Al target, in a pure argon (Ar) sputtering atmosphere, without the addition of oxygen.
Слои NiCr (которые могут служить в качестве поглощающих и/или барьерных слоев), расположенные непосредственно над функциональными слоями на основе серебра, были напылены из мишени на основе металлического NiCr в атмосфере напыления в виде чистого аргона.NiCr layers (which can serve as absorber and/or barrier layers) located directly above the silver-based functional layers were sputtered from a NiCr metal target in a pure argon sputtering atmosphere.
Таблица 1Table 1
В Таблице приведены геометрические толщины слоев в нм.The table shows the geometric layer thicknesses in nm.
(Сравнительный)(Comparative)
(Сравнительный)(Comparative)
0-60°Δa*,
0-60°
0-60°Δb*,
0-60°
В Таблице 1 представлены детали последовательностей слоев для сравнительных стеклянных панелей с покрытием и стеклянных панелей с покрытием согласно настоящему изобретению, наряду с результатами для каждой последовательности слоев, применительно к: Table 1 provides details of the layer sequences for comparative coated glass panels and coated glass panels according to the present invention, along with the results for each layer sequence, with respect to:
светопропусканию (TL), g-величине, селективности, цветовому сдвигу Δa*, Δb* при угловом измерении 0-60° и к цветовому сдвигу Δa*, Δb* для изменения толщины 3%. Все значения приведены для блока с двойным остеклением (БДО). Цветовой сдвиг - это всегда сдвиг внешнего отражения. Для каждого примера, слои были последовательно осаждены на панель из флоат-стекла толщиной 6 мм, и показаны, начиная со слоя наверху каждого столбца. light transmission (T L ), g-value, selectivity, color shift Δa*, Δb* for angular measurement 0-60° and color shift Δa*, Δb* for a thickness change of 3%. All values are given for a double glazed unit (BDO). A color shift is always a shift in external reflection. For each example, layers were deposited sequentially onto a 6mm thick float glass panel, and are shown starting with the layer at the top of each column.
Цветовые характеристики, т.е., характеристики цвета для каждого образца, были измерены и представлены с использованием надежно установленных координат CIE LAB L*, a*, b* (как описано например, в абзацах [0030] и [0031] патента WO 2004/063111A1, включенного в настоящую работу в виде ссылки). Color characteristics, i.e., color characteristics for each sample, were measured and presented using reliably established CIE LAB L*, a*, b* coordinates (as described for example in paragraphs [0030] and [0031] of the WO 2004 patent /063111A1, included in this work by reference).
В следующих примерах, в которых обеспечена оптическая толщина слоя покрытия, оптическую толщину слоя определяют с использованием значения показателя преломления 2,45 для TiOx, показателя преломления 2,07 для ZnO:Al (ZAO) и показателя преломления 2,07 для ZnSnOx.In the following examples, in which the optical thickness of the coating layer is provided, the optical thickness of the layer is determined using a refractive index value of 2.45 for TiO x , a refractive index of 2.07 for ZnO:Al (ZAO) and a refractive index of 2.07 for ZnSnO x .
Пример 1Example 1
Последовательность покрытий, описанная в Примере 1, была приготовлена следующим образом. На панель флоат-стекла 6 мм был нанесен первый слой оксида титана (TiOx), с образованием первой последовательности диэлектрических покрытий с оптической толщиной слоя opl1 46,6 нм. Поверх слоя оксида титана (TiOx) затем был нанесен слой оксида цинка, легированного алюминием (ZnO:Al), с оптической толщиной 7,3 нм. Следовательно, первый диэлектрический слой образуется с оптической толщиной opl1 53,9 нм. Поверх слоя ZnO:Al затем был нанесен первый серебряный функциональный слой (Ag слой 1) на толщину покрытия 9,3 нм. Барьерный слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с оптической толщиной слоя 4,1 нм, был затем осажден на первый серебряный функциональный слой (Ag слой 1), для защиты первого серебряного функционального слоя от последующей второй последовательности покрытий слоев оксида олова и цинка (ZnSnOx), нанесенной с оптической толщиной слоя 136,6 нм. Следовательно, была образована вторая последовательность диэлектрических слоев, содержащая слой оксида олова и цинка (ZnSnOx) и слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с комбинированной оптической толщиной слоя opl2 140,7 нм. Затем, второй серебряный функциональный слой (Ag слой 2) был нанесен поверх второго диэлектрического слоя, с толщиной 11,5 нм. За этим снова последовало нанесение второго барьерного слоя оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с оптической толщиной слоя 4,1 нм, поверх второго серебряного функционального слоя (Ag слой 2). Второй барьерный слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), затем был покрыт вторым слоем диэлектрического покрытия в виде оксида олова и цинка (ZnSnOx), с оптической толщиной слоя 64,2 нм. Второй слой оксида титана (TiOx) был нанесен, с образованием покрытия с оптической толщиной слоя 71,1 нм. На оксид титана был нанесен второй слой оксида цинка, легированного алюминием (ZnO:Al), с оптической толщиной 7,3 нм, для завершения третьей последовательности диэлектрических слоев, образованного из слоя оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), слоя оксида олова и цинка (ZnSnOx), слоя оксида цинка (TiOx) и слоя оксида цинка, легированного алюминием (ZnO:Al), имеющего оптическую толщину слоя opl3 146,7 нм. Выше третьей последовательности диэлектрических слоев затем был нанесен третий серебряный функциональный слой (Ag слой 3) с толщиной 15,6 нм. Затем, поверх третьего серебряного функционального слоя (Ag слой 3) был нанесен слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с оптической толщиной слоя 4,1 нм, а выше третьего слоя оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), был нанесен третий слой оксида олова и цинка (ZnSnOx), с оптической толщиной слоя 159,4 нм, с образованием четвертой последовательности диэлектрических слоев, с комбинированной оптической толщиной слоя, opl4 163,5 нм. Выше третьего слоя оксида олова и цинка (ZnSnOx) затем был нанесен четвертый серебряный функциональный слой (Ag слой 4), с толщиной 17,4 нм. Затем, выше четвертого серебряного функционального слоя (Ag слой 4) был осажден слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с оптической толщиной слоя 4,1 нм. Наконец, выше четвертого слоя оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), был нанесен четвертый слой оксида олова и цинка (ZnSnOx), с оптической толщиной слоя 82,8 нм, с завершением пятой последовательности диэлектриков с комбинированной оптической толщиной слоя opl5 86,9 нм.The coating sequence described in Example 1 was prepared as follows. A first layer of titanium oxide (TiO x ) was applied to a 6 mm float glass panel to form the first sequence of dielectric coatings with an optical layer thickness opl 1 of 46.6 nm. A layer of aluminum doped zinc oxide (ZnO:Al) with an optical thickness of 7.3 nm was then deposited on top of the titanium oxide (TiO x ) layer. Consequently, the first dielectric layer is formed with an optical thickness opl 1 of 53.9 nm. The first silver functional layer (Ag layer 1) was then deposited on top of the ZnO:Al layer to a coating thickness of 9.3 nm. An aluminum doped zinc oxide (ZAO) barrier layer with an optical layer thickness of 4.1 nm was then deposited onto the first silver functional layer (Ag layer 1), to protect the first silver functional layer from the subsequent second sequence of tin oxide and zinc oxide layer coatings. (ZnSnO x ), deposited with an optical layer thickness of 136.6 nm. Consequently, a second sequence of dielectric layers was formed comprising a zinc tin oxide (ZnSnO x ) layer and an aluminum doped zinc oxide (ZAO) layer with a combined optical layer thickness opl 2 of 140.7 nm. Next, a second silver functional layer (Ag layer 2) was deposited on top of the second dielectric layer, with a thickness of 11.5 nm. This was again followed by deposition of a second aluminum doped zinc oxide (ZAO) barrier layer, with an optical layer thickness of 4.1 nm, on top of the second silver functional layer (Ag layer 2). The second barrier layer of aluminum doped zinc oxide (ZAO) was then covered with a second layer of zinc tin oxide ( ZnSnOx ) dielectric coating with an optical layer thickness of 64.2 nm. A second layer of titanium oxide (TiO x ) was deposited to form a coating with an optical layer thickness of 71.1 nm. A second layer of aluminum doped zinc oxide (ZnO:Al) with an optical thickness of 7.3 nm was deposited on the titanium oxide to complete the third sequence of dielectric layers formed from an aluminum doped zinc oxide (ZAO) layer, a tin oxide layer, and a zinc oxide layer. (ZnSnO x ), a zinc oxide layer (TiO x ), and an aluminum doped zinc oxide layer (ZnO:Al) having an optical layer thickness opl 3 of 146.7 nm. Above the third sequence of dielectric layers, a third silver functional layer (Ag layer 3) with a thickness of 15.6 nm was then deposited. Then, a layer of aluminum doped zinc oxide (ZAO) with an optical layer thickness of 4.1 nm was deposited on top of the third silver functional layer (Ag layer 3), and a third layer of aluminum doped zinc oxide (ZAO) was deposited above the third layer of aluminum doped zinc oxide (ZAO). zinc and tin oxide ( ZnSnOx ), with an optical layer thickness of 159.4 nm, forming a fourth sequence of dielectric layers, with a combined optical layer thickness, opl 4,163.5 nm. Above the third zinc tin oxide layer ( ZnSnOx ) a fourth silver functional layer (Ag layer 4) was then deposited with a thickness of 17.4 nm. Then, above the fourth silver functional layer (Ag layer 4), a layer of aluminum doped zinc oxide (ZAO) was deposited with an optical layer thickness of 4.1 nm. Finally, above the fourth aluminum-doped zinc oxide (ZAO) layer, a fourth zinc tin oxide ( ZnSnOx ) layer was deposited with an optical layer thickness of 82.8 nm, completing the fifth dielectric sequence with a combined optical layer thickness of opl 5 86. 9 nm.
Поэтому, последовательность слоев, например, 1 может быть выражена в единицах оптической толщины слоя и геометрической толщины слоя для серебряных функциональных слоев как:Therefore, a layer sequence of e.g. 1 can be expressed in terms of optical layer thickness and geometric layer thickness for silver functional layers as:
стекло/TiOx, opl=46,6 нм/ZnO:Al, opl=7,3 нм/Ag1 9,3 нм/ZAO, opl=4,1 нм/ZnSnOx, opl=136,6 нм/Ag2 11,5 нм/ZAO, opl=4,1 нм/ZnSnOx, opl=64,2 нм/TiOx, opl=71,1 нм/ZnO:Al, opl=7,3 нм/Ag3 15,6 нм/ZAO, opl=4,1 нм/ZnSnOx 159,4 нм/Ag4 17,4 нм/ZAO, opl=4,1 нм/ZnSnOx, opl=82,8 нм, glass/TiO x , opl=46.6 nm/ZnO:Al, opl=7.3 nm/Ag 1 9.3 nm/ZAO, opl=4.1 nm/ZnSnO x , opl=136.6 nm/Ag 2 11.5 nm/ZAO, opl=4.1 nm/ZnSnO x , opl=64.2 nm/TiO x , opl=71.1 nm/ZnO:Al, opl=7.3 nm/Ag 3 15, 6 nm/ZAO, opl=4.1 nm/ZnSnO x 159.4 nm/Ag 4 17.4 nm/ZAO, opl=4.1 nm/ZnSnO x , opl=82.8 nm,
Значения «opl», выраженные выше и применительно к следующим примерам, представляют собой оптическую толщину слоя материала и получены на основе произведения показателя преломления для материала и геометрической толщины слоя материала, измеренной при длине волны 550 нм.The "opl" values expressed above and in relation to the following examples represent the optical thickness of the material layer and are derived from the product of the refractive index for the material and the geometric thickness of the material layer measured at a wavelength of 550 nm.
Оптические толщины слоев для каждой из пяти последовательности диэлектрических слоев opl1-opl5 могут быть подытожены как:The optical layer thicknesses for each of the five dielectric layer sequences opl 1 - opl 5 can be summarized as:
opl1=53,9 нм, opl2=140,7 нм, opl3=146,7 нм, opl4=163,5 нм, opl5=86,9 нм.opl 1 =53.9 nm, opl 2 =140.7 nm, opl 3 =146.7 nm, opl 4 =163.5 nm, opl 5 =86.9 nm.
В дополнение, в отношении примера 1, толщина каждого серебряного функционального слоя dAg повышается с ростом расстояния серебряного функционального слоя до стеклянной подложки. То есть, например, толщина второго серебряного функционального слоя dAg2 будет больше толщины первого серебряного функционального слоя dAg1. In addition, with respect to Example 1, the thickness of each dAg silver functional layer increases as the distance of the silver functional layer from the glass substrate increases. That is, for example, the thickness of the second silver functional layer dAg 2 will be greater than the thickness of the first silver functional layer dAg 1 .
Следовательно, что касается Примера 1 и согласно настоящему изобретению удовлетворяются следующие соотношения: Therefore, with regard to Example 1 and according to the present invention, the following relationships are satisfied:
i) в отношении толщины серебряных функциональных слоев, i) regarding the thickness of the silver functional layers,
dAg1 ˂ dAg2 ˂ dAg3 ˂ dAg4; иdAg 1 ˂ dAg 2 ˂ dAg 3 ˂ dAg 4 ; And
ii) в отношении толщины комбинированной последовательности диэлектрических слоев до, после и между каждым из серебряных функциональных слоев, ii) in relation to the thickness of the combined sequence of dielectric layers before, after and between each of the silver functional layers,
(opl1×2) ˂ opl2 ˂ opl3 ˂ opl4 ˂ (opl5×2)(opl 1 ×2) ˂ opl 2 ˂ opl 3 ˂ opl 4 ˂ (opl 5 ×2)
Блок с двойным остеклением (БДО) (1), как проиллюстрировано на Фигуре 1, был приготовлен с использованием стеклянного листа (2) с покрытием (5) толщиной 6 мм, как описано в Примере 1. Т.е., лист (2) из флоат-стекла с покрытием, с толщиной 6 мм, как подробно описано в Примере 1, был скомпонован со вторым, непокрытым листом (3) из флоат-стекла толщиной 4 мм. Два листа из стекла (2, 3) были скомпонованы так, чтобы покрытая сторона (5) покрытого стеклянного листа (2) была обращена к промежутку (8) (называемому позицией два в БДО при установке), т.е., покрытый стеклянный лист (2) находится ближе к внешней среде (10), чем непокрытый стеклянный лист (3), с образованием двойного стеклопакета с теплоизоляцией. Стеклянные листы были установлены с расстоянием промежутка между ними, равным 16 мм, а зазор (8) промежутка был заполнен на 90% газообразным аргоном и а 10% - воздухом. Таким образом, непокрытая поверхность (4) покрытого стеклянного листа (2) была представлена под позицией 1, а две непокрытые поверхности (6) и (7) второго стеклянного листа (3) были представлены, соответственно, под позициями 3 и 4. Свойства двойного остекления с низкоэмиссионным покрытием под позицией 2 были измерены в соответствии с EN 410. Результаты представлены в Таблице 2:A double glazing unit (DGL) (1), as illustrated in Figure 1, was prepared using a glass sheet (2) coated (5) with a thickness of 6 mm as described in Example 1. That is, sheet (2) of coated float glass, 6 mm thick, as detailed in Example 1, was assembled with a second, uncoated sheet (3) of 4 mm thick float glass. The two sheets of glass (2, 3) were arranged so that the coated side (5) of the coated glass sheet (2) faced the gap (8) (referred to as position two in the BDO when installed), i.e., the coated glass sheet (2) is closer to the outside environment (10) than the uncoated glass sheet (3), forming a thermally insulated double glazing unit. The glass sheets were installed with a gap distance between them equal to 16 mm, and the gap (8) of the gap was filled 90% with argon gas and 10% with air. Thus, the uncoated surface (4) of the coated glass sheet (2) was represented by position 1, and the two uncoated surfaces (6) and (7) of the second glass sheet (3) were represented by positions 3 and 4, respectively. glazings with low-e coating under position 2 were measured in accordance with EN 410. The results are presented in Table 2:
Таблица 2table 2
В Таблице 2, значение селективности равно отношению коэффициента светопропускания и g-величины для блока с двойным остеклением, в котором каждую величину рассчитывают с использованием EN 410, включенного в настоящую работу в виде ссылки.In Table 2, the selectivity value is equal to the ratio of the light transmittance and the g-value for a double glazed unit, in which each value is calculated using EN 410, which is incorporated herein by reference.
Что касается разности во внешнем отражении БДО, приготовленного с покрытием по Примеру 1 согласно настоящему изобретению для угла зрения 0-60°, применительно к a* и b*, было обнаружено, что Δa* = 1,0, а Δb* = 2,9. Графическое представление изменения b* в зависимости от угла зрения, например, 1, показанное на Фигуре 2, указывает на то, что покрытие, используемое в Примере 1, находится в рамках требуемых пределов.Regarding the difference in external reflection of the BDO prepared with the coating of Example 1 according to the present invention for a visual angle of 0-60°, with respect to a* and b*, it was found that Δa* = 1.0 and Δb* = 2, 9. A graphical representation of the change in b* as a function of viewing angle, eg 1, shown in Figure 2 indicates that the coating used in Example 1 is within the required limits.
Также, применительно к БДО, приготовленного с покрытием по Примеру 1 согласно настоящему изобретению, цветовые сдвиги с изменением толщины 3% составляют для Δa* = 2,5 и Δb* = 2,8. Т.е., значения для Δa* и Δb* для БДО, приготовленного с использованием покрытия согласно настоящему изобретению, находятся в рамках допустимого предела 5, а также находятся в рамках предпочтительного предела 4, и даже находятся в рамках особо предпочтительного предела 3. Also, in relation to BDO prepared with a coating according to Example 1 according to the present invention, color shifts with a change in thickness of 3% are for Δa* = 2.5 and Δb* = 2.8. That is, the values for Δa* and Δb* for BDO prepared using the coating of the present invention are within the acceptable limit of 5, and are also within the preferred limit of 4, and are even within the particularly preferred limit of 3.
Сравнительный Пример 2Comparative Example 2
Последовательность покрытий, описанная в Примере 2, была приготовлена следующим образом. На 6 мм панель из флоат-стекла был нанесен первый слой оксида титана (TiOx), с образованием первой последовательности диэлектрических покрытий opl1, оптической толщиной слоя 80,9 нм. Поверх слоя оксид титана (TiOx) затем был нанесен первый серебряный функциональный слой (Ag слой 1), с достижением толщины покрытия 14 нм. Затем, на первый серебряный функциональный слой (Ag слой 1) был нанесенн барьерный слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с оптической толщиной слоя 4,1 нм, для изоляции первого серебряного функционального слоя от последующей второй последовательности слоев покрытий из оксида олова и цинка (ZnSnOx), с оптической толщиной слоя 151,1 нм. Таким образом, была образованна вторая последовательность диэлектрических слоев, содержащих слой оксида олова и цинка (ZnSnOx) и слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с комбинированной оптической толщиной слоя 155,2 нм. Затем, выше второго диэлектрического слоя был нанесен второй серебряный функциональный слой (Ag слой 2), с толщиной 14 нм. Затем, выше второго серебряного функционального слоя (Ag слой 2) вновь был нанесен второй барьерный слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с оптической толщиной слоя 4,1 нм. Второй барьерный слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), затем был покрыт вторым слоем диэлектрического покрытия оксида олова и цинка (ZnSnOx), с оптической толщиной слоя 78,7 нм. Второй оксид титана (TiOx) слой был нанесен, с образованием покрытия с оптической толщиной слоя 73,5 нм, с завершением третьей последовательности диэлектрических слоев opl3, образованных из слоя оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), слоя оксида олова и цинка (ZnSnOx) и слоя оксида цинка (TiOx) и имеющего комбинированную оптическую толщину слоя 156,3 нм. Выше третьей последовательности диэлектрических слоев затем был нанесен третий серебряный функциональный слой (Ag слой 3) с толщиной 14 нм. Затем, поверх третьего серебряного функционального слоя (Ag слой 3) был нанесен слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с оптической толщиной слоя 4,1 нм, а выше третьего слоя оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), был нанесен третий слой оксида олова и цинка (ZnSnOx) с оптической толщиной слоя 130,4 нм, с образованием четвертой последовательности диэлектрических слоев, opl4, с комбинированной оптической толщиной слоя 134,6 нм. Затем, выше третьего слоя оксида олова и цинка (ZnSnOx) был нанесен четвертый серебряный функциональный слой (Ag слой 4) с толщиной 14 нм. Затем, выше четвертого серебряного функционального слоя (Ag слой 4) был нанесен слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с оптической толщиной слоя 4,1 нм. Наконец, выше четвертого слоя оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), был нанесен четвертый слой оксида олова и цинка (ZnSnOx), с оптической толщиной слоя 76,6 нм, с завершением пятой последовательности диэлектриков, opl5, с комбинированной оптической толщиной слоя 80,7 нм.The coating sequence described in Example 2 was prepared as follows. A first layer of titanium oxide (TiO x ) was deposited onto a 6 mm float glass panel to form the first sequence of opl 1 dielectric coatings, with an optical layer thickness of 80.9 nm. On top of the titanium oxide (TiO x ) layer, the first silver functional layer (Ag layer 1) was then deposited, achieving a coating thickness of 14 nm. Next, an aluminum doped zinc oxide (ZAO) barrier layer with an optical layer thickness of 4.1 nm was applied to the first silver functional layer (Ag layer 1) to isolate the first silver functional layer from the subsequent second sequence of tin oxide coating layers and zinc (ZnSnO x ), with an optical layer thickness of 151.1 nm. Thus, a second sequence of dielectric layers was formed comprising a zinc tin oxide (ZnSnO x ) layer and an aluminum doped zinc oxide (ZAO) layer with a combined optical layer thickness of 155.2 nm. Then, above the second dielectric layer, a second silver functional layer (Ag layer 2), with a thickness of 14 nm, was deposited. Then, above the second silver functional layer (Ag layer 2), a second barrier layer of aluminum doped zinc oxide (ZAO) was again deposited with an optical layer thickness of 4.1 nm. A second aluminum-doped zinc oxide (ZAO) barrier layer was then coated with a second zinc tin oxide (ZnSnO x ) dielectric coating layer with an optical layer thickness of 78.7 nm. A second titanium oxide (TiO x ) layer was deposited, forming a coating with an optical layer thickness of 73.5 nm, completing a third sequence of opl 3 dielectric layers formed from an aluminum doped zinc oxide (ZAO) layer, a zinc tin oxide layer ( ZnSnO x ) and a zinc oxide layer (TiO x ) and having a combined optical layer thickness of 156.3 nm. Above the third sequence of dielectric layers, a third silver functional layer (Ag layer 3) with a thickness of 14 nm was then deposited. Then, a layer of aluminum doped zinc oxide (ZAO) with an optical layer thickness of 4.1 nm was deposited on top of the third silver functional layer (Ag layer 3), and a third layer of aluminum doped zinc oxide (ZAO) was deposited above the third layer of aluminum doped zinc oxide (ZAO). tin oxide ( ZnSnOx ) with an optical layer thickness of 130.4 nm, forming a fourth sequence of dielectric layers, opl 4 , with a combined optical layer thickness of 134.6 nm. Then, above the third layer of zinc oxide (ZnSnO x ), a fourth silver functional layer (Ag layer 4) with a thickness of 14 nm was deposited. Then, above the fourth silver functional layer (Ag layer 4), a layer of aluminum doped zinc oxide (ZAO) was deposited with an optical layer thickness of 4.1 nm. Finally, above the fourth aluminum-doped zinc oxide (ZAO) layer, a fourth zinc tin oxide ( ZnSnOx ) layer was deposited with an optical layer thickness of 76.6 nm, completing the fifth dielectric sequence, opl 5 , with a combined optical layer thickness 80.7 nm.
Таким образом, последовательность слоев, например, 2 может быть выражена как:Thus, a sequence of layers, for example 2, can be expressed as:
стекло/TiOx, opl=80,9 нм/Ag 14 нм/ZAO, opl=4,1 нм/ZnSnOx, opl=151,2 нм/Ag 14 нм/ZAO, opl=4,1 нм/ZnSnOx, opl=78,7 нм/TiOx, opl=73,5 нм/Ag 14 нм/ZAO, opl=4,1 нм/ZnSnOx 130,4 нм/Ag 14 нм/ZAO, opl=4,1 нм/ZnSnOx, opl=76,6 нм, glass/TiO x , opl=80.9 nm/Ag 14 nm/ZAO, opl=4.1 nm/ZnSnO x , opl=151.2 nm/Ag 14 nm/ZAO, opl=4.1 nm/ZnSnO x , opl=78.7 nm/TiO x , opl=73.5 nm/Ag 14 nm/ZAO, opl=4.1 nm/ZnSnO x 130.4 nm/Ag 14 nm/ZAO, opl=4.1 nm /ZnSnO x , opl=76.6 nm,
Оптическая толщина слоя для каждой из пяти последовательностей диэлектрических слоев opl1-opl5 в Сравнительном примере 2 может быть подытожена как:The optical layer thickness for each of the five dielectric layer sequences opl 1 -opl 5 in Comparative Example 2 can be summarized as:
opl1=80,9 нм, opl2=155,2 нм, opl3=156,3 нм, opl4=134,5 нм, opl5=80,7 нм.opl 1 =80.9 nm, opl 2 =155.2 nm, opl 3 =156.3 nm, opl 4 =134.5 nm, opl 5 =80.7 nm.
Следовательно, для Сравнительного примера 2, следующее соотношение в отношении толщин серебряных функциональных слоев не удовлетворяется: Therefore, for Comparative Example 2, the following relationship regarding the thicknesses of the silver functional layers is not satisfied:
dAg1 ˂ dAg2 ˂ dAg3 ˂ dAg4.dAg 1 ˂ dAg 2 ˂ dAg 3 ˂ dAg 4 .
Вместо этого, в отношении толщины серебряных функциональных слоев для Сравнительного примера 2 имеет место следующее соотношение:Instead, with respect to the thickness of the silver functional layers for Comparative Example 2, the following relationship holds:
dAg1=dAg2=dAg3=dAg4.dAg 1 =dAg 2 =dAg 3 =dAg 4 .
Т.е., толщина каждого серебряного функционального слоя равна для всех слоев.That is, the thickness of each silver functional layer is equal for all layers.
Также, в отношении толщины комбинированной последовательности диэлектрических слоев до, после и между каждым из серебряных функциональных слоев, для Сравнительного примера 2, соотношение: Also, with respect to the thickness of the combined sequence of dielectric layers before, after and between each of the silver functional layers, for Comparative Example 2, the ratio is:
(opl1×2) ˂ opl2 ˂ opl3 ˂ opl4 ˂ (opl5×2)(opl 1 ×2) ˂ opl 2 ˂ opl 3 ˂ opl 4 ˂ (opl 5 ×2)
не выполняется, а вместо этого, удвоенная оптическая толщина первого диэлектрического слоя (opl1×2) будет больше оптической толщины второго диэлектрического слоя opl2; а комбинированная оптическая толщина слоя opl3 больше комбинированной оптической толщины слоя opl4.is not satisfied, but instead, twice the optical thickness of the first dielectric layer (opl 1 ×2) will be greater than the optical thickness of the second dielectric layer opl 2 ; and the combined optical thickness of the opl 3 layer is greater than the combined optical thickness of the opl 4 layer.
Следовательно, для Сравнительного примера 2 имеет следующее соотношение между комбинированной оптической толщиной слоев:Therefore, Comparative Example 2 has the following relationship between the combined optical thickness of the layers:
(opl1×2) ˃ opl2 ˂ opl3 ˃ opl4 ˂ (opl5×2)(opl 1 ×2) ˃ opl 2 ˂ opl 3 ˃ opl 4 ˂ (opl 5 ×2)
Блок с двойным остеклением (БДО) (1), как проиллюстрировано на Фигуре 1, был приготовлен с использованием 6 мм стеклянного листа (2) с покрытием (5), как описано в Сравнительном примере 2. Т.е., флоат-стеклянный лист (2) с покрытием толщиной 6 мм, как было подробно описано в Примере 2, был скомпонован со вторым, непокрытым листом (3) из флоат-стекла, толщиной 4 мм. Два листа стекла (2, 3) были скомпонованы так, чтобы покрытая сторона (5) покрытого стеклянного (2) листа была обращена к промежутку (8) (называемому позицией два в БДО, когда он установлен), и так, чтобы покрытый стеклянный лист (2) был ближе к внешней среде (10), чем непокрытый стеклянный лист (3), с образованием двойного стеклопакета с теплоизоляцией. Стеклянные листы были размещены так, чтобы расстояние промежутка между ними составляло 16 мм, а зазор (8) промежутка был бы заполнен на 90% газообразным аргон и а 10% - воздухом. Таким образом, непокрытая поверхность (4) покрытого стеклянного листа (2) была представлена под позицией 1, а две непокрытые поверхности (6) и (7) второго стеклянного листа (3) были представлены, соответственно, под позициями 3 и 4. Свойства двойного остекления с низкоэмиссионным покрытием по Сравнительному примеру 2 под позицией 2 были измерены в соответствии с EN 410. Результаты представлены в Таблице 3:A double glazing unit (DGL) (1), as illustrated in Figure 1, was prepared using a 6 mm glass sheet (2) with a coating (5) as described in Comparative Example 2. That is, a float glass sheet (2) coated with a thickness of 6 mm, as detailed in Example 2, was assembled with a second, uncoated sheet (3) of float glass, thickness 4 mm. The two sheets of glass (2, 3) were arranged so that the coated side (5) of the coated glass sheet (2) faced the gap (8) (referred to as position two in the BDO when installed), and so that the coated glass sheet (2) was closer to the external environment (10) than the uncoated glass sheet (3), forming a thermally insulated double glazing unit. The glass sheets were placed so that the distance between them was 16 mm, and the gap (8) of the gap was filled 90% with argon gas and 10% with air. Thus, the uncoated surface (4) of the coated glass sheet (2) was represented by position 1, and the two uncoated surfaces (6) and (7) of the second glass sheet (3) were represented by positions 3 and 4, respectively. The glazings with low-emissivity coating according to Comparative Example 2 under item 2 were measured in accordance with EN 410. The results are presented in Table 3:
Таблица 3Table 3
В Таблице 3, значение селективности равно отношению коэффициента светопропускания и g-величины для блока с двойным остеклением, в котором каждую величину рассчитывают с использованием EN 410, включенного в настоящую работу в виде ссылки.In Table 3, the selectivity value is equal to the ratio of the light transmittance and the g-value for a double glazed unit, in which each value is calculated using EN 410, incorporated herein by reference.
Было обнаружено, что разность во внешнем отражении БДО, приготовленного с покрытием согласно Сравнительному примеру 2 для угла зрения 0-60°, применительно к a* и b* составляет Δa* = 3,9 и Δb* = 9,4. Графическое представление изменения b* в зависимости от угла зрения, например, 2 показано на Фигуре 3. It was found that the difference in external reflection of BDO prepared with the coating according to Comparative Example 2 for a visual angle of 0-60°, with respect to a* and b*, was Δa* = 3.9 and Δb* = 9.4. A graphical representation of the change in b* depending on the viewing angle, for example, 2 is shown in Figure 3.
Также, применительно к БДО, приготовленному с покрытием по Примеру 2 (не соответствующему настоящему изобретению), цветовые сдвиги с изменением толщины 3% представлены для Δa* = 6,2 и Δb* = 8,0. Т.е., значения для Δa* и Δb* для БДО с использованием покрытия, подробно описанного в Сравнительном примере 2, сильно превышают даже приемлемый предел 5.Also, for BDO prepared with the coating of Example 2 (not in accordance with the present invention), color shifts with a thickness change of 3% are presented for Δa* = 6.2 and Δb* = 8.0. That is, the values for Δa* and Δb* for BDO using the coating detailed in Comparative Example 2 greatly exceed even the acceptable limit of 5.
Пример 3Example 3
Последовательность покрытий, описанная в Сравнительном примере 3, была приготовлена следующим образом. На 6 мм панель из флоат-стекла был нанесен первый слой оксида титана (TiOx), с образованием первой последовательности диэлектрических покрытий с оптической толщиной слоя opl1 53,9 нм. Поверх слоя оксида титана (TiOx) затем был нанесен первый серебряный функциональный слой (Ag слой 1), до достижения толщины покрытия 11,3 нм. Затем, на первый серебряный функциональный слой (Ag слой 1), для изоляции первого серебряного функционального слоя от последующей второй последовательности покрытий в виде слоев оксида олова и цинка (ZnSnOx), нанесенных с оптической толщиной слоя 165,6 нм, был осажден барьерный слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с оптической толщиной слоя 4,1 нм. Таким образом, была образована вторая последовательность диэлектрических слоев, содержащих слой оксида олова и цинка (ZnSnOx) и слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с комбинированной оптической толщиной слоя opl2 169,7 нм. Затем, выше второго диэлектрического слоя был нанесен второй серебряный функциональный слой (Ag слой 2), с толщиной 14,6 нм. За этим снова последовал второй барьерный слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с оптической толщиной слоя 4,1 нм, нанесенный выше второго серебряного функционального слоя (Ag слой 2). Второй барьерный слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), затем был покрыт вторым слоем диэлектрического покрытия оксида олова и цинка (ZnSnOx), с достижением оптической толщины слоя 51,8 нм. Второй слой оксида титана (TiOx) был нанесен, с образованием покрытия с оптической толщиной слоя 80,9 нм, с завершением третьей последовательности диэлектрических слоев, образованных из слоя оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), слоя оксида олова и цинка (ZnSnOx) и слоя оксида цинка (TiOx), имеющего оптическую толщину слоя opl3 136,8 нм. Выше третьей последовательности диэлектрических слоев затем был нанесен третий серебряный функциональный слой (Ag слой 3) с толщиной 15 нм. Затем, поверх третьего серебряного функционального слоя (Ag слой 3) был нанесен слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с оптической толщиной слоя 4,1 нм, а выше третьего слоя оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), был нанесен третий слой оксида олова и цинка (ZnSnOx), с оптической толщиной слоя 128,3 нм, с образованием четвертой последовательности диэлектрических слоев с комбинированной оптической толщиной слоя, opl4 132,4 нм. Затем, выше третьего слоя оксида олова и цинка (ZnSnOx) был нанесен четвертый серебряный функциональный слой (Ag слой 4), с толщиной 15,5 нм. Затем, выше нанесенного четвертого серебряного функционального слоя (Ag слой 4) был осажден слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с оптической толщиной слоя 4,1 нм. Наконец, выше четвертого слоя оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), был нанесен четвертый слой оксида олова и цинка (ZnSnOx), с оптической толщиной слоя 31,1 нм, с завершением пятой последовательности диэлектриков, с комбинированной оптической толщиной слоя opl5 35,2 нм.The coating sequence described in Comparative Example 3 was prepared as follows. A first layer of titanium oxide (TiO x ) was applied to a 6 mm float glass panel to form the first sequence of dielectric coatings with an optical layer thickness opl 1 of 53.9 nm. A first silver functional layer (Ag layer 1) was then deposited on top of the titanium oxide (TiO x ) layer to achieve a coating thickness of 11.3 nm. A barrier layer was then deposited onto the first silver functional layer (Ag layer 1) to isolate the first silver functional layer from the subsequent second sequence of zinc oxide ( ZnSnOx ) layers deposited at an optical layer thickness of 165.6 nm. aluminum doped zinc oxide (ZAO), with an optical layer thickness of 4.1 nm. Thus, a second sequence of dielectric layers was formed containing a zinc tin oxide (ZnSnO x ) layer and an aluminum doped zinc oxide (ZAO) layer with a combined optical layer thickness opl 2 of 169.7 nm. Then, above the second dielectric layer, a second silver functional layer (Ag layer 2), with a thickness of 14.6 nm, was deposited. This was again followed by a second aluminum doped zinc oxide (ZAO) barrier layer with an optical layer thickness of 4.1 nm deposited above the second silver functional layer (Ag layer 2). A second aluminum-doped zinc oxide (ZAO) barrier layer was then coated with a second zinc tin oxide (ZnSnO x ) dielectric coating layer, achieving an optical layer thickness of 51.8 nm. A second layer of titanium oxide (TiO x ) was deposited, forming a coating with an optical layer thickness of 80.9 nm, completing a third sequence of dielectric layers formed from an aluminum doped zinc oxide (ZAO) layer, a zinc tin oxide layer (ZnSnO x ) and a layer of zinc oxide (TiO x ), having an optical layer thickness opl 3 of 136.8 nm. Above the third sequence of dielectric layers, a third silver functional layer (Ag layer 3) with a thickness of 15 nm was then deposited. Then, a layer of aluminum doped zinc oxide (ZAO) with an optical layer thickness of 4.1 nm was deposited on top of the third silver functional layer (Ag layer 3), and a third layer of aluminum doped zinc oxide (ZAO) was deposited above the third layer of aluminum doped zinc oxide (ZAO). zinc and tin oxide ( ZnSnOx ), with an optical layer thickness of 128.3 nm, to form a fourth sequence of dielectric layers with a combined optical layer thickness, opl 4,132.4 nm. Then, above the third layer of zinc oxide (ZnSnO x ), a fourth silver functional layer (Ag layer 4), with a thickness of 15.5 nm, was deposited. Then, above the deposited fourth silver functional layer (Ag layer 4), a layer of aluminum doped zinc oxide (ZAO) was deposited with an optical layer thickness of 4.1 nm. Finally, above the fourth aluminum doped zinc oxide (ZAO) layer, a fourth zinc tin oxide ( ZnSnOx ) layer was deposited with an optical layer thickness of 31.1 nm, completing the fifth dielectric sequence, with a combined optical layer thickness of opl 5 35 ,2 nm.
Таким образом, последовательность слоев для Сравнительного примера 3 может быть выражена как:Thus, the layer sequence for Comparative Example 3 can be expressed as:
стекло/TiOx, opl=53,9 нм/Ag 11,3 нм/ZAO, opl=4,1 нм/ZnSnOx, opl=165,6 нм/Ag 14,6 нм/ZAO, opl=4,1 нм/ZnSnOx, opl=51,8 нм/TiOx, opl=80,9 нм/Ag 15 нм/ZAO, opl=4,1 нм/ZnSnOx 128,3 нм/Ag 15,5 нм/ZAO, opl=4,1 нм/ZnSnOx, opl=31,1 нм. glass/TiO x , opl=53.9 nm/Ag 11.3 nm/ZAO, opl=4.1 nm/ZnSnO x , opl=165.6 nm/Ag 14.6 nm/ZAO, opl=4.1 nm/ZnSnO x , opl=51.8 nm/TiO x , opl=80.9 nm/Ag 15 nm/ZAO, opl=4.1 nm/ZnSnO x 128.3 nm/Ag 15.5 nm/ZAO, opl=4.1 nm/ZnSnO x , opl=31.1 nm.
Комбинированные оптические толщины слоев для каждой из пяти последовательности диэлектрических слоев opl1-opl5 могут быть подытожены как: The combined optical layer thicknesses for each of the five dielectric layer sequences opl 1 -opl 5 can be summarized as:
opl1=53,9 нм, opl2=169,7 нм, opl3=136,8 нм, opl4=132,4 нм, opl5=35,2 нм.opl 1 =53.9 nm, opl 2 =169.7 nm, opl 3 =136.8 nm, opl 4 =132.4 nm, opl 5 =35.2 nm.
Применительно к серебряным функциональным слоям имеет место следующее соотношение:In relation to silver functional layers, the following relationship holds:
dAg1 ˂ dAg2 ˂ dAg3 ˂ dAg4 dAg 1 ˂ dAg 2 ˂ dAg 3 ˂ dAg 4
Однако, в отношении толщины комбинированной последовательности диэлектрических слоев до, после и между каждым из серебряных функциональных слоев, рассматриваемое соотношение, например, 1, а именно, However, with respect to the thickness of the combined sequence of dielectric layers before, after and between each of the silver functional layers, the ratio in question is, for example, 1, namely,
(opl1×2) ˂ opl2 ˂ opl3 ˂ opl4 ˂ (opl5×2)(opl 1 ×2) ˂ opl 2 ˂ opl 3 ˂ opl 4 ˂ (opl 5 ×2)
не выполняется для Сравнительного примера 3, а вместо этого, комбинированная оптическая толщина для второй последовательности диэлектрических слое opl2 будет меньше, чем удвоенная комбинированная оптический толщина слоя opl1; комбинированная оптическая толщина слоя opl2 будет больше комбинированной оптической толщины слоя opl3; и комбинированная оптическая толщина слоя opl3 будет больше комбинированной оптической толщины слоя opl4. Т.е., для Сравнительного примера 3 наблюдается следующее соотношение для комбинированной оптической толщины слое opl1-opl5: does not hold for Comparative Example 3, but instead, the combined optical thickness for the second sequence of dielectric layers opl 2 will be less than twice the combined optical thickness of the opl 1 layer; the combined optical thickness of the opl 2 layer will be greater than the combined optical thickness of the opl 3 layer; and the combined optical thickness of the opl 3 layer will be greater than the combined optical thickness of the opl 4 layer. That is, for Comparative Example 3 the following relationship is observed for the combined optical thickness of the opl 1 -opl 5 layer:
(opl1×2) ˃ opl2 ˃ opl3 ˃ opl4 ˂ (opl5×2)(opl 1 ×2) ˃ opl 2 ˃ opl 3 ˃ opl 4 ˂ (opl 5 ×2)
Блок с двойным остеклением (БДО) (1), как проиллюстрировано на Фигуре 1, был приготовлен с использованием 6 мм стеклянного листа (2) с покрытием (5), как описано в Сравнительном примере 3. Т.е., лист (2) из флоат-стекла с покрытием, толщиной 6 мм, как было подробно описано в Примере 3, был скомпонован со вторым непокрытым листом (3) из флоат-стекла, толщиной 4 мм. Два листа стекла (2, 3) были скомпонован так, чтобы покрытая сторона (5) покрытого стеклянного листа (3) была обращена к промежутку (8) (называемому позицией два в БДО, когда он установлен), т.е., покрытый стеклянный лист (5) находится ближе к внешней среде (10), чем непокрытый стеклянный лист (3), с образованием двойного стеклопакета с теплоизоляцией. Стеклянные листы были расположены с расстоянием промежутка 16 мм между ними, а зазор (8) промежутка был заполнен на 90% газообразным аргоном и на 10% - воздухом. Таким образом, непокрытая поверхность (4) покрытого стеклянного листа (2) была представлена под позицией 1, а две непокрытые поверхности (6) и (7) второго стеклянного листа (3) были представлены, соответственно, под позициями 3 и 4. Свойства двойного остекления с низкоэмиссионное покрытие из Сравнительного примера 3 под позицией 2 были измерены в соответствии с EN 410. Результаты представлены в Таблице 4:A double glazing unit (DGL) (1), as illustrated in Figure 1, was prepared using a 6 mm glass sheet (2) coated with (5) as described in Comparative Example 3. That is, sheet (2) of coated float glass, 6 mm thick, as detailed in Example 3, was assembled with a second uncoated sheet (3) of 4 mm thick float glass. The two sheets of glass (2, 3) were arranged so that the coated side (5) of the coated glass sheet (3) faced the gap (8) (called position two in the BDO when installed), i.e., the coated glass the sheet (5) is closer to the external environment (10) than the uncoated glass sheet (3), forming a thermally insulated double glazing unit. The glass sheets were placed with a gap of 16 mm between them, and the gap (8) of the gap was filled 90% with argon gas and 10% with air. Thus, the uncoated surface (4) of the coated glass sheet (2) was represented by position 1, and the two uncoated surfaces (6) and (7) of the second glass sheet (3) were represented by positions 3 and 4, respectively. glazings with low-emissivity coating from Comparative Example 3 under item 2 were measured in accordance with EN 410. The results are presented in Table 4:
Таблица 4Table 4
В Таблице 4, значение селективности равно отношению коэффициента светопропускания и g-величины для блока с двойным остеклением, в котором каждую величину рассчитывают с использованием EN 410, включенного в настоящую работу в виде ссылки.In Table 4, the selectivity value is equal to the ratio of the light transmittance and the g-value for a double glazed unit, in which each value is calculated using EN 410, incorporated herein by reference.
Было обнаружено, что разность во внешнем отражении БДО, приготовленного с покрытием согласно Сравнительному примеру 3, для угла зрения 0-60°, применительно к a* и b* составляет Δa* = 12,1 и Δb* = 1,7. Графическое представление изменения a* в зависимости от угла зрения, например, 3 показано на Фигуре 4. It was found that the difference in external reflection of BDO prepared with the coating according to Comparative Example 3 for a visual angle of 0-60°, with respect to a* and b*, was Δa* = 12.1 and Δb* = 1.7. A graphical representation of the change in a* depending on the viewing angle, for example, 3 is shown in Figure 4.
Также, применительно к БДО, приготовленному с покрытием по Примеру 3, цветовые сдвиги с изменением толщины 3% составляют Δa* = 10,6 и Δb* = 3,2.Also, in relation to BDO prepared with a coating according to Example 3, color shifts with a change in thickness of 3% are Δa* = 10.6 and Δb* = 3.2.
Т.е., значения Δa* для БДО с использованием покрытия, подробно описанного в Сравнительном примере 3, сильно превышают даже приемлемый предел 5.That is, the Δa* values for the BDO using the coating detailed in Comparative Example 3 greatly exceed even the acceptable limit of 5.
Пример 4Example 4
Последовательность покрытий, описанная в Примере 4, была приготовлена следующим образом. На 6 мм панель из флоат-стекла был нанесен первый слой оксида титана (TiOx), с образованием первой последовательности диэлектрических покрытий, с оптической толщиной слоя opl1 55,1 нм. Поверх слоя оксида титана (TiOx) затем был нанесен первый серебряный функциональный слой (Ag слой 1), до достижения толщины покрытия 8,9 нм. На первый серебряный функциональный слой (Ag слой 1), для изоляции первого серебряного функционального слоя от последующей второй последовательности слоев покрытий оксида олова и цинка (ZnSnOx), нанесенных с оптической толщиной слоя 132,5 нм, был затем осажден барьерный слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с оптической толщиной слоя 4,1 нм. Таким образом, была образована вторая последовательность диэлектрических слоев, содержащих слой оксида олова и цинка (ZnSnOx) и слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с комбинированной оптической толщиной слоя opl2 136,6 нм. Затем, выше второго диэлектрического слоя был нанесен второй серебряный функциональный слой (Ag слой 2), с толщиной 12 нм. За этим, выше второго серебряного функционального слоя (Ag слой 2) снова последовало нанесение дополнительного барьерного слоя оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), с оптической толщиной слоя 4,1 нм. Слой оксида цинка, легированного алюминием (ZAO), затем был покрыт слоем оксида олова и цинка (ZnSnOx), до достижения толщины 68,3 нм. Затем был нанесен слой оксида цинка (TiOx) толщиной 74,7 нм, с образованием третьей последовательности диэлектрических слоев opl3, с комбинированной оптической толщиной слоя 147,1 нм. Выше третьей последовательности диэлектрических слоев затем был нанесен третий серебряный функциональный слой (Ag слой 3), с толщиной 14,5 нм. На слой серебра затем был нанесен поглощающий слой нихрома толщиной 0,3 нм, со снижением коэффициента пропускания покрытия. Выше слоя NiCr был нанесен третий слой оксида олова и цинка (ZnSnOx), с оптической толщиной слоя 163,5 нм, с образованием четвертой последовательности диэлектрических слоев, с комбинированной эффективной оптической толщиной слоя opl4 163,5 нм. Выше третьего слоя оксида олова и цинка (ZnSnOx) затем был нанесен четвертый серебряный функциональный слой (Ag слой 4), с толщиной 16,9 нм. Затем, выше четвертого слоя серебра был нанесен слой нихрома, с оптической толщиной слоя 0,8 нм. Наконец, был нанесен четвертый слой оксида олова и цинка (ZnSnOx), с оптической толщиной слоя 84,9 нм, с завершением пятой последовательности диэлектриков, с комбинированной эффективной оптической толщиной слоя opl5 86,9 нм.The coating sequence described in Example 4 was prepared as follows. A first layer of titanium oxide (TiO x ) was applied to a 6 mm float glass panel to form the first sequence of dielectric coatings, with an optical layer thickness opl 1 of 55.1 nm. A first silver functional layer (Ag layer 1) was then deposited on top of the titanium oxide (TiO x ) layer to achieve a coating thickness of 8.9 nm. A zinc oxide barrier layer was then deposited onto the first silver functional layer (Ag layer 1) to isolate the first silver functional layer from the subsequent second sequence of zinc oxide ( ZnSnOx ) coating layers deposited at an optical layer thickness of 132.5 nm. doped with aluminum (ZAO), with an optical layer thickness of 4.1 nm. Thus, a second sequence of dielectric layers was formed containing a zinc tin oxide (ZnSnO x ) layer and an aluminum doped zinc oxide (ZAO) layer with a combined optical layer thickness opl 2 of 136.6 nm. Then, above the second dielectric layer, a second silver functional layer (Ag layer 2), with a thickness of 12 nm, was deposited. This was again followed above the second silver functional layer (Ag layer 2) by deposition of an additional aluminum doped zinc oxide (ZAO) barrier layer with an optical layer thickness of 4.1 nm. The aluminum doped zinc oxide (ZAO) layer was then coated with a zinc tin oxide ( ZnSnOx ) layer to achieve a thickness of 68.3 nm. A 74.7 nm thick layer of zinc oxide (TiO x ) was then deposited to form a third sequence of opl 3 dielectric layers, with a combined optical layer thickness of 147.1 nm. Above the third sequence of dielectric layers, a third silver functional layer (Ag layer 3), with a thickness of 14.5 nm, was then deposited. An absorbing layer of nichrome with a thickness of 0.3 nm was then applied to the silver layer, reducing the transmittance of the coating. Above the NiCr layer, a third layer of tin oxide ( ZnSnOx ) was deposited with an optical layer thickness of 163.5 nm, forming a fourth sequence of dielectric layers, with a combined effective optical layer thickness of opl 4,163.5 nm. Above the third zinc tin oxide (ZnSnO x ) layer, a fourth silver functional layer (Ag layer 4) was then deposited with a thickness of 16.9 nm. Then, above the fourth layer of silver, a layer of nichrome was deposited, with an optical layer thickness of 0.8 nm. Finally, a fourth zinc tin oxide (ZnSnO x ) layer was deposited with an optical layer thickness of 84.9 nm, completing the fifth dielectric sequence, with a combined effective optical layer thickness opl 5 of 86.9 nm.
Таким образом, последовательность слоев, например, 1, может быть выражена в единицах оптической толщины слоя и геометрической толщины слоя для серебряных функциональных слоев как:Thus, a layer sequence, for example 1, can be expressed in terms of optical layer thickness and geometric layer thickness for silver functional layers as:
стекло/TiOx, opl=55,1 нм/Ag 8,9 нм/ZAO, opl=4,1 нм/ZnSnOx, opl=132,5 нм/Ag 12 нм/ZAO, opl=4,1 нм/ZnSnOx, opl=68,3 нм/TiOx, opl=74,7 нм/Ag 14,5 нм/NiCr 0,3 нм/ZnSnOx 163,5 нм/Ag 16,9 нм/NiCr 0,8 нм/ZnSnOx, opl=84,9 нм. glass/TiO x , opl=55.1 nm/Ag 8.9 nm/ZAO, opl=4.1 nm/ZnSnO x , opl=132.5 nm/Ag 12 nm/ZAO, opl=4.1 nm/ ZnSnO x , opl=68.3 nm/TiO x , opl=74.7 nm/Ag 14.5 nm/NiCr 0.3 nm/ZnSnO x 163.5 nm/Ag 16.9 nm/NiCr 0.8 nm /ZnSnO x , opl=84.9 nm.
Оптические толщины слоев для каждой из пяти последовательностей диэлектрических слоев opl1-opl5 могут быть подытожены как: The optical layer thicknesses for each of the five dielectric layer sequences opl 1 - opl 5 can be summarized as:
opl1=55,1 нм, opl2=136,6 нм, opl3=147,1 нм, opl4=163,5 нм, opl5=84,9 нм.opl 1 =55.1 nm, opl 2 =136.6 nm, opl 3 =147.1 nm, opl 4 =163.5 nm, opl 5 =84.9 nm.
В дополнение, применительно к Примеру 4, толщина каждого серебряного функционального слоя dAg повышается с ростом расстояния от серебряного функционального слоя до стеклянной подложки. То есть, например, толщина второго серебряного функционального слоя dAg2 будет больше толщины первого серебряного функционального слоя dAg1. In addition, with respect to Example 4, the thickness of each dAg silver functional layer increases with increasing distance from the silver functional layer to the glass substrate. That is, for example, the thickness of the second silver functional layer dAg 2 will be greater than the thickness of the first silver functional layer dAg 1 .
Следовательно, применительно к Примеру 4 согласно настоящему изобретению удовлетворяются следующие соотношения: Therefore, in relation to Example 4 according to the present invention, the following relationships are satisfied:
i) в отношении толщин серебряных функциональных слоев, i) regarding the thicknesses of the silver functional layers,
dAg1 ˂ dAg2 ˂ dAg3 ˂ dAg4; иdAg 1 ˂ dAg 2 ˂ dAg 3 ˂ dAg 4 ; And
ii) в отношении толщины комбинированной последовательности диэлектрических слоев до, после и между каждым из серебряных функциональных слоев, ii) in relation to the thickness of the combined sequence of dielectric layers before, after and between each of the silver functional layers,
(opl1×2) ˂ opl2 ˂ opl3 ˂ opl4 ˂ (opl5×2)(opl 1 ×2) ˂ opl 2 ˂ opl 3 ˂ opl 4 ˂ (opl 5 ×2)
Блок с двойным остеклением (БДО) (1), как проиллюстрировано на Фигуре 1, был приготовлен с использованием 6 мм стеклянного листа (2) с покрытием (5), как описано в Примере 4. Т.е., лист (2) из флоат-стекла с покрытием, толщиной 6 мм, как было подробно описано в Примере 4, был скомпонован со вторым, непокрытым листом (3) из флоат-стекла, толщиной 4 мм. Два листа стекла (2, 3) были скомпонованы так, чтобы покрытая сторона (5) покрытого стеклянного листа (3) была обращена к промежутку (8) (называемому позицией два в БДО, когда он установлен), т.е., покрытый стеклянный лист (5) находится ближе к внешней среде (10), чем непокрытый стеклянный лист (3), с образованием двойного стеклопакета с теплоизоляцией. Стеклянные листы были расположены так, чтобы расстояние промежутка между ними составляло 16 мм, а зазор (8) промежутка был заполнен на 90% газообразным аргоном и на 10% - воздухом. Таким образом, непокрытая поверхность (4) покрытого стеклянного листа (2) присутствует под позицией 1, а две непокрытые поверхности (6) и (7) второго стеклянного листа (3) присутствуют под позициями 3 и 4 соответственно. Свойства двойного остекления с низкоэмиссионным покрытием под позицией 2 были измерены в соответствии с EN 410. Результаты представлены в Таблице 5:A double glazing unit (DGU) (1), as illustrated in Figure 1, was prepared using a 6 mm glass sheet (2) coated with (5) as described in Example 4. That is, sheet (2) of The 6 mm thick coated float glass as detailed in Example 4 was assembled with a second, uncoated 4 mm thick float glass sheet (3). The two sheets of glass (2, 3) were arranged so that the coated side (5) of the coated glass sheet (3) faced the gap (8) (called position two in the BDO when installed), i.e., the coated glass the sheet (5) is closer to the external environment (10) than the uncoated glass sheet (3), forming a thermally insulated double glazing unit. The glass sheets were arranged so that the gap between them was 16 mm, and the gap (8) of the gap was filled 90% with argon gas and 10% with air. Thus, the bare surface (4) of the coated glass sheet (2) is present at position 1, and the two bare surfaces (6) and (7) of the second glass sheet (3) are present at positions 3 and 4, respectively. The properties of double glazing with low-e coating under position 2 were measured in accordance with EN 410. The results are presented in Table 5:
Таблица 5Table 5
В Таблице 5, значение селективности равно отношению коэффициента светопропускания и g-величины для блока с двойным остеклением, в котором каждую величину рассчитывают с использованием EN 410, включенного в настоящую работу в виде ссылки.In Table 5, the selectivity value is equal to the ratio of the light transmittance and the g-value for a double glazed unit, in which each value is calculated using EN 410, incorporated herein by reference.
Было обнаружено, что разность во внешнем отражении БДО, приготовленного с покрытием согласно Сравнительному примеру 4, для угла зрения 0-60°, применительно к a* и b*, составляла Δa* = 2,2 и Δb* = 2,5. Графическое представление изменения a* в зависимости от угла зрения, например, 4 показано на Фигуре 5. It was found that the difference in external reflectance of BDO prepared with the coating according to Comparative Example 4 for a visual angle of 0-60°, with respect to a* and b*, was Δa* = 2.2 and Δb* = 2.5. A graphical representation of the change in a* depending on the viewing angle, for example, 4 is shown in Figure 5.
Также, применительно к БДО, приготовленному с покрытием по Примеру 4, цветовые сдвиги с изменением толщины 3% составляют Δa* = 2,9 и Δb* = 2,3. Т.е., значения для Δa* и Δb* для БДО, приготовленного с использованием покрытия по Примеру 4 согласно настоящему изобретению, находятся в рамках допустимого предела 5, а также в рамках предпочтительного предела 4, и даже в рамках особо предпочтительного предела 3. Also, in relation to BDO prepared with a coating according to Example 4, color shifts with a change in thickness of 3% are Δa* = 2.9 and Δb* = 2.3. That is, the values for Δa* and Δb* for BDO prepared using the coating of Example 4 according to the present invention are within the acceptable limit 5, as well as within the preferred limit 4, and even within the particularly preferred limit 3.
Обзор результатовReview of results
Таки образом, из вышеприведенных результатов видно, что покрытые стеклянные листы, приготовленные согласно настоящему изобретению (т.е., Примеры 1 и 4), обеспечивают хорошие солнцезащитные характеристики, с высокой селективностью 2,18-2,17. Также, оба Примера 1 и 4 показывают небольшое изменение внешнего цвета при различных углах зрения, при размещении на фасаде. Для обоих Примеров, является предпочтительным, чтобы изменение цвета под различными углами зрения, при помещении в блок с двойным остеклением имело значение Δa* и Δb* менее 3,0.Thus, from the above results, it is clear that the coated glass sheets prepared according to the present invention (ie, Examples 1 and 4) provide good solar control performance, with a high selectivity of 2.18-2.17. Also, both Examples 1 and 4 show a slight change in external color at different viewing angles when placed on the façade. For both Examples, it is preferred that the color change under different viewing angles, when placed in a double glazing unit, have a value of Δa* and Δb* of less than 3.0.
Что касается изготовления блоков с двойным остеклением (БДО), важное преимущество, связанное с настоящим изобретением, состоит в возможности получения БДО, которые демонстрируют слабое изменение цвета с изменением толщины слоя покрытия. Для обоих Примеров 1 и 4, как для Δa*, так и для Δb* наблюдалось изменение менее 3, при изменении толщины четвертого диэлектрического слоя пакета покрытий на 3%. With regard to the production of double glazed units (DGUs), an important advantage associated with the present invention is the ability to produce DGUs that exhibit little color change with changing thickness of the coating layer. For both Examples 1 and 4, a change of less than 3 was observed for both Δa* and Δb* when the thickness of the fourth dielectric layer of the coating stack changed by 3%.
Напротив, в Сравнительном примере 2, где все серебряные слои имели одинаковую толщину, а также соотношение для оптических толщин для каждого из требуемых диэлектрических слоев для настоящего изобретения не выполняется, селективность составляет 2,07, а цветовой сдвиг для покрытой подложки при различных углах зрения (0-60°), при формировании БДО, составляет более 5 для b*, и фактически Δb* = 9,4. Изменение цвета с изменением толщины на 3% для второго диэлектрического слоя по Примеру 2 также составляет более 5, соответственно, со значениями Δa* = 6,2 и Δb* = 8,0.In contrast, in Comparative Example 2, where all the silver layers had the same thickness, and the relationship for the optical thicknesses for each of the required dielectric layers for the present invention is not satisfied, the selectivity is 2.07, and the color shift for the coated substrate at different viewing angles ( 0-60°), when forming the BDO, is more than 5 for b*, and in fact Δb* = 9.4. The color change with a 3% change in thickness for the second dielectric layer in Example 2 is also more than 5, respectively, with values of Δa* = 6.2 and Δb* = 8.0.
В Сравнительном примере 3, требуемое соотношение для оптической толщины для диэлектрических слоев согласно настоящему изобретению снова не выполняется. Вместо этого, оптические толщины слоев для диэлектрических слоев в Примере 3, вместо повышения, снижаются по направлению от стеклянной подложки. В дополнение, селективность составляет 2,13, а цветовой сдвиг при различных углах зрения (0-60°) для БДО, образованного с покрытым стеклом согласно примеру 3, составляет более 5 для a*, и фактически, Δa* = 12,1. Наконец, изменение цвета, зафиксированное с изменением толщины на 3% для четвертого диэлектрического слоя в Примере 3, для a* также составляет более 5, со значением Δa* = 10,6.In Comparative Example 3, the required ratio for the optical thickness for the dielectric layers according to the present invention is again not satisfied. Instead, the optical layer thicknesses for the dielectric layers in Example 3, instead of increasing, decrease away from the glass substrate. In addition, the selectivity is 2.13 and the color shift at different viewing angles (0-60°) for the BDO formed with coated glass according to Example 3 is more than 5 for a*, and in fact, Δa* = 12.1. Finally, the color change recorded with a 3% thickness change for the fourth dielectric layer in Example 3 for a* is also greater than 5, with a value of Δa* = 10.6.
Claims (44)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB1820002.2 | 2018-12-07 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2021119762A RU2021119762A (en) | 2023-01-09 |
RU2811705C2 true RU2811705C2 (en) | 2024-01-16 |
Family
ID=
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070116967A1 (en) * | 2002-05-03 | 2007-05-24 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Substrate having thermal management coating for an insulating glass unit |
US20090297864A1 (en) * | 2008-05-27 | 2009-12-03 | Lingle Philip J | EMI filter for plasma display panel |
RU2502688C2 (en) * | 2009-05-08 | 2013-12-27 | Ппг Индастриз Огайо, Инк. | Solar control coating with high coefficient of solar heat gain |
RU2016142278A (en) * | 2014-03-28 | 2018-05-03 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | GLAZING PROVIDED BY A THIN-LAYER PACKAGE FOR PROTECTION FROM THE SUN |
US20180194675A1 (en) * | 2015-07-08 | 2018-07-12 | Saint-Gobain Glass France | Material provided with a stack having thermal properties |
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070116967A1 (en) * | 2002-05-03 | 2007-05-24 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Substrate having thermal management coating for an insulating glass unit |
US20090297864A1 (en) * | 2008-05-27 | 2009-12-03 | Lingle Philip J | EMI filter for plasma display panel |
RU2502688C2 (en) * | 2009-05-08 | 2013-12-27 | Ппг Индастриз Огайо, Инк. | Solar control coating with high coefficient of solar heat gain |
RU2016142278A (en) * | 2014-03-28 | 2018-05-03 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | GLAZING PROVIDED BY A THIN-LAYER PACKAGE FOR PROTECTION FROM THE SUN |
US20180194675A1 (en) * | 2015-07-08 | 2018-07-12 | Saint-Gobain Glass France | Material provided with a stack having thermal properties |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6444891B2 (en) | Anti solar glazing | |
US9896377B2 (en) | Low-emissivity and anti-solar glazing | |
US8003235B2 (en) | Coated glass pane | |
AU2012232886B2 (en) | Transparent substrate equipped with a thin-film multilayer | |
US20240352789A1 (en) | Coated glass pane | |
EP2797743B1 (en) | Low-e panels with ternary metal oxide dielectric layer and method for forming the same | |
US11709297B2 (en) | Articles coated with coatings containing light absorption materials | |
RU2747376C2 (en) | Substrate equipped with a set having thermal properties, its application and its manufacture | |
EP3004015A2 (en) | Low-emissivity glazing | |
EP1558950A1 (en) | An infra-red reflecting layered structure | |
US20130337200A1 (en) | Coated glazing | |
US20240253330A1 (en) | Glazing for preventing bird collisions | |
WO2022053507A1 (en) | Temperable uv reflecting coated glass sheet | |
KR20190139257A (en) | Solar Control Coatings for Laminated Glazing | |
GB2324098A (en) | Solar control coated glass | |
RU2683727C2 (en) | Architectural glass with low emission coating, having a multilayer structure, having a high strength, and / or way of its manufacture | |
RU2811705C2 (en) | Coated window glass | |
KR20200093862A (en) | Low-emissivity glass | |
AU2016267286A1 (en) | Laminated glass |