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WO2007039965A1 - 光導波路デバイス及び光導波路デバイスの製造方法 - Google Patents

光導波路デバイス及び光導波路デバイスの製造方法 Download PDF

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WO2007039965A1
WO2007039965A1 PCT/JP2006/312384 JP2006312384W WO2007039965A1 WO 2007039965 A1 WO2007039965 A1 WO 2007039965A1 JP 2006312384 W JP2006312384 W JP 2006312384W WO 2007039965 A1 WO2007039965 A1 WO 2007039965A1
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WO
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optical waveguide
waveguide device
light guide
guide member
light
Prior art date
Application number
PCT/JP2006/312384
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English (en)
French (fr)
Inventor
Tadashi Ono
Original Assignee
Mitsumi Electric Co., Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsumi Electric Co., Ltd. filed Critical Mitsumi Electric Co., Ltd.
Priority to EP06767043A priority Critical patent/EP1930756A1/en
Priority to US11/992,723 priority patent/US20090116787A1/en
Publication of WO2007039965A1 publication Critical patent/WO2007039965A1/ja

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Definitions

  • Optical waveguide device and method for manufacturing optical waveguide device are Optical waveguide device and method for manufacturing optical waveguide device
  • the present invention relates to an optical waveguide device and a method for manufacturing an optical waveguide device.
  • an optical waveguide device using a polymer resin material has been used as an optical communication component.
  • a technology has been developed in which an inclined surface of 45 degrees is formed at the end of the optical waveguide and the optical path is bent at a right angle by this inclined surface (see, for example, Patent Document 1). .
  • FIG. 5A is a top view of the optical waveguide device 31
  • FIG. 5B is a cross-sectional view of the optical waveguide device 31 in the cross section Y—Y of FIG. 5A
  • FIG. 5C is an optical waveguide in the cross section Z—Z of FIG. 5A
  • 3 is a sectional view of a device 31.
  • a light guide member 33 for guiding light and copper wirings 34 and 35 are provided on an electrical wiring film 32 such as a polyimide film. Yes. Actually, these upper surfaces are also covered with the electric wiring film, and the force for constructing the FPC is not shown here.
  • the light guide member 33 includes a protective layer 36, a cladding portion 37, and a protective layer 38 from the bottom, and a core portion having a higher refractive index than the cladding portion 37 is disposed inside the cladding portion 37. 39 is formed. 45 ° inclined surfaces are formed at both ends of the light guide member 33, and the surfaces thereof are coated with gold to form mirrors 40 and 41. Further, the light emitting element 42 and the electric wiring film 32, and the light receiving element 43 and the electric wiring film 32 are bonded by optical path members 44 and 45, respectively. The light emitted from the light emitting element 42 is reflected by the mirror 40 and travels through the core portion 39.
  • the circuit kit electrodes 46 and 47 are electrically connected through the connection members 50 and 51 by the copper wiring 34. Further, the circuit electrodes 48 and 49 are electrically connected by the copper wiring 35 via a connecting member (not shown).
  • Patent Document 1 JP 2001-166167 A
  • the optical waveguide device 31 as described above requires the electrical wiring film 32 to provide the copper wirings 34 and 35, the electrical wiring film 32 and the electrical wiring film 32 Light loss was caused by an adhesive (not shown) for connecting to the light guide member 33.
  • the light guide member 33 for optical coupling and the copper wirings 34 and 35 for electrical coupling had to be provided separately.
  • the present invention has been made in view of the above-described problems in the prior art, and an object thereof is to reduce optical loss in an optical waveguide device. Another object of the present invention is to reduce the manufacturing cost.
  • an optical waveguide device including a light guide member having a core portion in a cladding portion and extending in a light guide direction.
  • the light guide member is provided with metal wiring.
  • an inclined surface is formed at an end of the light guide member, and a metal is coated on the inclined surface, and the metal wiring is made of the same metal as the coating metal of the inclined surface. Is preferred.
  • the metal wiring is preferably provided on the same side of the inclined surface as the coating metal.
  • the light guide member is formed in a film shape.
  • the metal wiring is extended along the light guide direction.
  • a photoelectric conversion element that performs conversion between light and electricity is provided at an end of the light guide member.
  • the photoelectric conversion element at one end portion is a light emitting element.
  • the photoelectric conversion element at the other end is preferably a light receiving element.
  • an optical waveguide device including a light guide member having a core portion in a clad portion and extending in a light guide direction. Then, metal wiring is formed.
  • an inclined surface is formed at the end of the light guide member having a core portion in the cladding portion and extending in the light guide direction, and the inclined surface is coated with a metal.
  • the metal wiring is formed on the light guide member at the same time when the inclined surface is coated with metal.
  • FIG. 1A is a top view of an optical waveguide film cable 1 in an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1B is a cross-sectional view showing a cross section XX of the optical waveguide film cable 1 of FIG. 1A.
  • FIG. 2A is a diagram for explaining the formation of a lower cladding layer 10a.
  • FIG. 2B is a diagram for explaining the formation of the core layer 19.
  • FIG. 2C is a diagram for explaining the formation of the core portion 12.
  • FIG. 3A is a diagram for explaining the formation of an upper cladding layer 10b.
  • FIG. 3B is a diagram for explaining formation of inclined surfaces 13 and 14.
  • FIG. 4 is a diagram for explaining a method of forming mirrors 15 and 16 and gold wirings 17 and 18;
  • FIG. 5A is a top view of a conventional optical waveguide device 31.
  • FIG. 5A is a top view of a conventional optical waveguide device 31.
  • FIG. 5B is a cross-sectional view of the optical waveguide device 31 taken along a cross-section YY in FIG. 5A.
  • FIG. 5C is a cross-sectional view of the optical waveguide device 31 taken along a cross section Z—Z in FIG. 5A.
  • FIG. 1A is a top view of the optical waveguide film cable 1 in the present embodiment.
  • B is a sectional view showing a section XX of the optical waveguide film cable 1 of FIG. 1A.
  • the optical waveguide film cable 1 includes a light guide member 2 extending in the light guide direction (right direction in FIG. 1B), and an end portion of the light guide member 2
  • the light emitting element 3 is provided at one end
  • the light receiving element 4 is provided at the end opposite to the light emitting element 3, and the like.
  • the light emitting element 3 and the light guide member 2, and the light receiving element 4 and the light guide member 2 are bonded by optical path members 5 and 6.
  • the optical path members 5 and 6 have a role of adhering and fixing the light emitting element 3 and the light receiving element 4 and the light guide member 2 and a role of a refractive medium that stabilizes light transmission.
  • the light emitting element 3 is configured by, for example, a vertical cavity surface emitting laser (VCSEL), and is connected to the optical guide member 2 in accordance with an electric signal supplied from the outside. Emits light in a direction perpendicular to the contact surface (upward in Fig. 1B).
  • the light emitting element 3 is provided on the substrate 7.
  • the light receiving element 4 is composed of, for example, a PD (PhotoDiode), receives light in a direction perpendicular to the contact surface with the light guide member 2 (downward in FIG. 1B), and converts it into an electrical signal. .
  • the light receiving element 4 is provided on the substrate 8.
  • the light guide member 2 is in the form of a film and has flexibility.
  • the light guide member 2 includes a protective layer 9, a cladding portion 10, and a protective layer 11 from below, and a core portion 12 having a refractive index higher than that of the cladding portion 10 is formed inside the cladding portion 10.
  • the light emitted from the light emitting element 3 is reflected by the mirror 15, and the optical path is changed by 90 degrees. Then, the light propagates through the core portion 12, is reflected by the mirror 16, and is received by the light receiving element 4.
  • a method for manufacturing the optical waveguide film cable 1 will be described with reference to FIGS. 2A, 2B, 2 C, 3 A, 3 B, and 4.
  • a liquid resin thin film is formed on the protective layer 9 by a rotational film-forming method or the like, and the lower clad layer 10a is formed by heat treatment.
  • the protective layer 9 is also composed of a resin film such as polyimide or PET.
  • the lower clad layer 10a is made of a polymer resin material having optical transparency. For example, an epoxy resin, an acrylic resin, an imide resin, and the like are also configured.
  • a liquid resin thin film is formed on the lower cladding layer 10a by a rotational film-forming method or the like, and this is heat-treated to refract the lower cladding layer 10a.
  • the core layer 19 having a high rate is formed.
  • the core layer 19 is made of a polymer resin material having optical transparency, for example, epoxy resin, acrylic resin, imide resin, and the like.
  • a mask is applied to the core layer 19, and the core portion 12 is formed by photolithography and etching as shown in FIG. 2C.
  • a liquid resin thin film is formed by a rotational film forming method or the like, and this is subjected to heat treatment, whereby the core portion 12 is made of a material having the same composition as the lower cladding layer 10a. Cover the top cladding layer 10b. Further, the protective layer 11 is formed on the upper cladding layer 10b.
  • the protective layer 11 is composed of a resin film cover such as polyimide or PET.
  • the lower cladding layer 10a and the upper cladding layer 10b correspond to the cladding 10 shown in FIGS. 1A and 1B.
  • each layer shown in FIG. 3A is cut at 45 degrees to form inclined surfaces 13 and 14, and the light guide member 2 before being coated with gold is formed.
  • a vacuum film-forming method such as a vacuum deposition method or a sputtering method is used.
  • the mirrors 15 and 16 and the gold wirings 17 and 18 are formed at the same time.
  • Mirrors 15 and 16 have a practical film thickness of about 0.3 m.
  • the gold wirings 17 and 18 have a thickness of about.
  • the light-emitting element 3 and the light-receiving element 4 and the light guide member 2 are bonded by the optical path members 5 and 6, and the optical waveguide film cable 1 is completed.
  • the wirings may be provided on the side surface or the bottom surface of the light guide member 2 in which the gold wirings 17 and 18 are formed on the top surface of the light guide member 2 in FIG. 1B. Further, in the above embodiment, the gold wirings 17 and 18 are formed on the upper surface of the protective layer 11, but the wirings may be directly provided on the cladding portion 10.
  • the light guide member 2 when the light guide member 2 is coated with gold, a plurality of pattern masks may be used simultaneously.
  • an electrolytic plating method, an electroless plating method, or the like may be used.
  • an active metal such as CrZCu or CrZAl may be sandwiched and a base metal conductor may be placed.
  • angles of the mirrors 15 and 16 are formed at 45 degrees.
  • the angles of the mirrors 15 and 16 are not limited to this, and the light emitting element 3 or the light receiving element is used. The angle may be adjusted to minimize the optical loss according to the characteristics of the element 4.
  • the light emitting element 3 and the light receiving element 4 are provided on different substrates 7 and 8, respectively.
  • the light emitting element 3 and the light receiving element 4 are provided on the same substrate. It is good to be.
  • optical waveguide device and the method for manufacturing the optical waveguide device according to the present invention are useful in the field of optical communication, and can be applied to the technology of the portion that performs optical coupling and electrical coupling. Explanation of symbols

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Abstract

　光導波路デバイスにおける光損失を低減させる。また、製造時の低コスト化を図る。 　光ガイド部材２の両端部には、４５度の傾斜面１３，１４が形成されており、傾斜面１３，１４のコア部１２が露出する部分を覆うように、金がコーティングされてなるミラー１５，１６が設けられている。また、光ガイド部材２の上面には、光ガイド方向に沿って延在された金配線１７が施されている。ミラー１５，１６と金配線１７の位置に合わせて用意されたパターンマスクを用いて、真空蒸着法やスパッタリング法等の真空成膜法により光ガイド部材２に金をコーティングし、ミラー１５，１６と金配線１７とを同時に形成する。

Description

明 細 書
光導波路デバイス及び光導波路デバイスの製造方法
技術分野
[0001] 本発明は、光導波路デバイス及び光導波路デバイスの製造方法に関する。
背景技術
[0002] 近年、光通信用部品として、高分子榭脂材料を使用した光導波路デバイスが利用 されている。光導波路において光配線の方向を変えるために、光導波路の端部に 45 度の傾斜面を形成し、この傾斜面によって光路を直角に曲げる技術が開発されてい る (例えば、特許文献 1参照)。
[0003] また、光導波路とともに、電気的に接続するための配線を設ける場合には、例えば 、光導波路と、銅配線を設けた FPC (Flexible Printed Circuit)を貼り合わせた構成が 考えられる。図 5A、図 5B及び図 5Cを参照して、光導波路と銅配線を設けた光導波 路デバイス 31を説明する。図 5Aは、光導波路デバイス 31の上面図であり、図 5Bは 、図 5Aの断面 Y— Yにおける光導波路デバイス 31の断面図であり、図 5Cは、図 5A の断面 Z— Zにおける光導波路デバイス 31の断面図である。
[0004] 図 5A、図 5B及び図 5Cに示すように、ポリイミドフィルム等の電気配線用フィルム 32 の上に、光をガイドする光ガイド部材 33と、銅配線 34, 35と、が設けられている。実 際には、これらの上面も電気配線用フィルムで覆われて FPCが構成される力 ここで は図示を省略する。
[0005] 図 5Bに示すように、光ガイド部材 33は、下から保護層 36、クラッド部 37、保護層 3 8からなり、クラッド部 37の内部にはクラッド部 37より屈折率の高いコア部 39が形成さ れている。光ガイド部材 33の両端には 45度の傾斜面が形成されており、その表面に は金がコーティングされ、ミラー 40, 41が形成されている。また、発光素子 42と電気 配線用フィルム 32、受光素子 43と電気配線用フィルム 32は、それぞれ光路材 44, 4 5により接着されている。発光素子 42から発せられた光は、ミラー 40により反射され、 コア部 39内を進む。そして、他端のミラー 41により反射され、受光素子 43により受光 される。 [0006] また、図 5A及び図 5Cに示すように、銅配線 34により、接続部材 50, 51を介してサ 一キット電極 46, 47が電気的に接続されている。また、銅配線 35により、接続部材（ 図示せず）を介してサーキット電極 48, 49が電気的に接続されている。
特許文献 1 :特開 2001— 166167号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0007] しかし、上記のような光導波路デバイス 31では、銅配線 34, 35を設けるために電 気配線用フィルム 32が必要であるため、電気配線用フィルム 32や、電気配線用フィ ルム 32と光ガイド部材 33とを接続するための接着材（図示せず）により、光損失が生 じていた。また、光結合を行うための光ガイド部材 33と、電気結合を行うための銅配 線 34, 35と、をそれぞれ別に設けなければならな力つた。
[0008] 本発明は、上記の従来技術における問題に鑑みてなされたものであって、光導波 路デバイスにおける光損失を低減させることを課題とする。また、本発明は、製造時 の低コストィ匕を図ることを課題とする。
課題を解決するための手段
[0009] 上記課題を解決するために、本発明の第 1の側面によると、クラッド部内にコア部を 有し光ガイド方向に延在された光ガイド部材を備えた光導波路デバイスであって、前 記光ガイド部材に、金属配線が施されている。
[0010] また、前記光ガイド部材の端部に傾斜面が形成され、当該傾斜面に金属がコーテ イングされており、前記金属配線は、前記傾斜面のコーティング金属と同一の金属か らなることが好ましい。
[0011] また、前記金属配線は、前記傾斜面のコーティング金属と同じ側に施されているこ とが好ましい。
[0012] また、前記光ガイド部材は、フィルム状に形成されて 、ることが好ま U、。
[0013] また、前記金属配線は、前記光ガイド方向に沿って延在されて 、ることが好ま 、。
[0014] また、前記光ガイド部材の端部に、光と電気の相互間で変換を行う光電変換素子 が設けられて 、ることが好まし 、。
[0015] また、前記光ガイド部材の端部のうち、一方の端部の光電変換素子は発光素子で あり、他方の端部の光電変換素子は受光素子であることが好ましい。
[0016] 本発明の第 2の側面によると、クラッド部内にコア部を有し光ガイド方向に延在され た光ガイド部材を備えた光導波路デバイスの製造方法であって、前記光ガイド部材 に、金属配線を形成する。
[0017] 本発明の第 3の側面によると、クラッド部内にコア部を有し光ガイド方向に延在され た光ガイド部材の端部に傾斜面が形成され、当該傾斜面に金属がコーティングされ てなる光導波路デバイスの製造方法であって、前記傾斜面に金属をコーティングす る際に、同時に前記光ガイド部材に金属配線を形成する。
発明の効果
[0018] 本発明によれば、電気的な配線を別に設けるための電気配線用フィルムが不要で あるので、界面における散乱や反射を回避することができ、光損失を低減させること ができる。また、構成を簡素化することにより、低コストィ匕及び故障の低減を図ることが できる。
図面の簡単な説明
[0019] [図 1A]本発明の実施の形態における光導波路フィルムケーブル 1の上面図である。
[図 1 B]図 1 Aの光導波路フィルムケーブル 1の断面 X— Xを示す断面図である。
[図 2A]下部クラッド層 10aの形成を説明するための図である。
[図 2B]コア層 19の形成を説明するための図である。
[図 2C]コア部 12の形成を説明するための図である。
[図 3A]上部クラッド層 10bの形成を説明するための図である。
[図 3B]傾斜面 13, 14の形成を説明するための図である。
[図 4]ミラー 15, 16と金配線 17, 18の形成方法を説明するための図である。
[図 5A]従来の光導波路デバイス 31の上面図である。
[図 5B]図 5Aの断面 Y—Yにおける光導波路デバイス 31の断面図である。
[図 5C]図 5Aの断面 Z—Zにおける光導波路デバイス 31の断面図である。
発明を実施するための最良の形態
[0020] 以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図 1Aは、本実施の形態における光導波路フィルムケーブル 1の上面図であり、図 1 Bは、図 1 Aの光導波路フィルムケーブル 1の断面 X— Xを示す断面図である。
[0021] 図 1A及び図 1Bに示すように、光導波路フィルムケーブル 1は、光ガイド方向（図 1 Bにおいて右方向）に延在された光ガイド部材 2、光ガイド部材 2の端部のうち一方の 端部に設けられた発光素子 3、発光素子 3と反対側の端部に設けられた受光素子 4 等から構成される。発光素子 3と光ガイド部材 2、受光素子 4と光ガイド部材 2は、光路 材 5, 6により接着されている。光路材 5, 6は、発光素子 3及び受光素子 4と光ガイド 部材 2とを接着固定する役割と、光の透過を安定させる屈折媒質としての役割を有す る。
[0022] 発光素子 3は、例えば、面発光型半導体レーザ (VCSEL： Vertical Cavity Surface Emitting Laser)カゝら構成されており、外部から供給された電気信号に応じて、光ガイ ド部材 2との接触面に垂直な方向（図 1Bにおいて上方向）に光を発する。発光素子 3 は、基板 7の上に設けられている。
[0023] 受光素子 4は、例えば、 PD (PhotoDiode)から構成されており、光ガイド部材 2との 接触面に垂直な方向（図 1Bにおいて下方向）の光を受光し、電気信号に変換する。 受光素子 4は、基板 8の上に設けられている。
[0024] 光ガイド部材 2は、フィルム状であって可撓性を有する。光ガイド部材 2は、下から保 護層 9、クラッド部 10、保護層 11からなり、クラッド部 10の内部にはクラッド部 10より 屈折率の高 、コア部 12が形成されて 、る。
[0025] 図 1Bに示すように、光ガイド部材 2の両端部には、 45度の傾斜面 13, 14が形成さ れており、傾斜面 13, 14のコア部 12が露出する部分を覆うように、金がコーティング されてなるミラー 15, 16が設けられている。また、光ガイド部材 2のミラー 15, 16と同 じ側に、光ガイド方向に沿って延在された金配線 17, 18が施されている。ここで、ミラ 一 15, 16と同じ側とは、図 1Bにおいて光ガイド部材 2の上面側をいう。
[0026] 図 1Bに示すように、発光素子 3から発せられた光はミラー 15で反射され、 90度光 路変換される。そして、光は、コア部 12内を伝播し、ミラー 16で反射され、受光素子 4 により受光される。
[0027] 次に、図 2A、図 2B、図 2C、図 3A、図 3B及び図 4を参照して、光導波路フィルムケ 一ブル 1の製造方法を説明する。 [0028] まず、図 2Aに示すように、保護層 9の上に、回転成膜法等により液状の榭脂薄膜を 形成し、これを加熱処理することにより、下部クラッド層 10aを形成する。保護層 9は、 例えば、ポリイミド、 PET等の榭脂フィルム力も構成される。下部クラッド層 10aは、光 透過性を有する高分子榭脂材料からなり、例えば、エポキシ系榭脂、アクリル系榭脂 、イミド系榭脂等力も構成される。
[0029] 次に、図 2Bに示すように、下部クラッド層 10aの上に、回転成膜法等により液状の 榭脂薄膜を形成し、これを加熱処理することにより、下部クラッド層 10aより屈折率の 高いコア層 19を形成する。コア層 19は、光透過性を有する高分子榭脂材料カゝらなり 、例えば、エポキシ系榭脂、アクリル系榭脂、イミド系榭脂等力も構成される。次に、コ ァ層 19にマスクを塗布し、フォトリソグラフィ及びエッチング処理により、図 2Cに示す ように、コア部 12を形成する。
[0030] 次に、図 3Aに示すように、回転成膜法等により液状の榭脂薄膜を形成し、これを加 熱処理することにより、下部クラッド層 10aと同一組成の材料でコア部 12を覆って上 部クラッド層 10bを形成する。さらに、上部クラッド層 10bの上に保護層 11を形成する 。保護層 11は、例えば、ポリイミド、 PET等の榭脂フィルムカゝら構成される。下部クラッ ド層 10a及び上部クラッド層 10bが、図 1A及び図 1Bに示すクラッド部 10に相当する
[0031] 次に、図 3Bに示すように、図 3Aに示す各層の端部を 45度に切削加工して傾斜面 13, 14を形成し、金がコーティングされる前の光ガイド部材 2を形成する。
[0032] 次に、図 4に示すように、ミラー 15, 16と金配線 17, 18の位置に合わせて用意され たパターンマスク 20を用いて、真空蒸着法やスパッタリング法等の真空成膜法により 光ガイド部材 2に金をコーティングし、ミラー 15, 16と金配線 17, 18とを同時に形成 する。ミラー 15, 16は 0. 3 m程度で実用膜厚となる。また、金配線 17, 18は 程度の厚さであることが好まし 、。
[0033] そして、図 1Bに示すように、発光素子 3及び受光素子 4と光ガイド部材 2とを光路材 5, 6により接着し、光導波路フィルムケーブル 1が完成する。
[0034] 以上説明したように、本実施の形態によれば、電気的な配線を別に設けるための電 気配線用フィルムが不要であるので、界面における散乱や反射を回避することができ 、光損失を低減させることができる。また、ミラー 15, 16と金配線 17, 18とを同時に形 成するので、ミラー 15, 16と金配線 17, 18とを個々に形成する場合と比較して、製 造工程における工数を低減させることができる。また、構成を簡素化することにより、 低コストィ匕及び故障の低減を図ることができる。
[0035] なお、上記実施の形態における記述は、本発明に係る光導波路デバイスの例であ り、これに限定されるものではない。光導波路フィルムケーブル 1を構成する各部の 細部構成に関しても本発明の趣旨を逸脱することのない範囲で適宜変更可能である
[0036] 例えば、上記実施の形態では、図 1Bにおいて光ガイド部材 2の上面に金配線 17, 18を形成することとした力 光ガイド部材 2の側面又は下面に配線を設けることとして もよい。また、上記実施の形態では、保護層 11の上面に金配線 17, 18を形成するこ ととしたが、クラッド部 10に直接配線を設けることとしてもよい。
[0037] また、光ガイド部材 2に金をコーティングする際に、複数のパターンマスクを同時に 使用してもよい。また、真空成膜法以外に電解メツキ法、無電解メツキ法等を用いても よい。また、金をコーティングする代わりに、 CrZCu、 CrZAl等の活性金属を挟層し 、卑金属導体を載置することとしてもよい。
[0038] また、上記実施の形態では、ミラー 15, 16の角度が 45度に形成されている場合に ついて説明したが、ミラー 15, 16の角度はこれに限定されず、発光素子 3又は受光 素子 4の特性に応じて光損失が最小となる角度に調整することとしてもよい。
[0039] また、上記実施の形態では、発光素子 3と受光素子 4がそれぞれ異なる基板 7, 8の 上に設けられていることとしたが、発光素子 3と受光素子 4が同一基板上に設けられ て 、ることとしてもよい。
産業上の利用可能性
[0040] 本発明に係る光導波路デバイス及び光導波路デバイスの製造方法は、光通信分 野において有用であり、光結合と電気結合を行う部分の技術に適用可能である。 符号の説明
[0041] 1 光導波路フィルムケーブル (光導波路デバイス）
2 光ガイド部材 発光素子
受光素子
, 6 光路材
保護層
0 クラッド言
0a 下部クラッド層
0b 上部クラッド層1 保護層
2 コア咅
3, 14 傾斜面
, 16 ミラー
, 18 金配線
コア層
ノ《ターンマスク 光導波路デバイス 電気配線用フィルム 光ガイド部材
, 35 銅配線
保護層
クラッド言
保護層
コア咅
, 41 ミラー
発光素子
受光素子
, 45 光路材
, 47, 48, 49 サーキット

Claims

請求の範囲
[1] クラッド部内にコア部を有し光ガイド方向に延在された光ガイド部材を備えた光導波 路デバイスであって、
前記光ガイド部材に、金属配線が施されて ヽることを特徴とする光導波路デバイス
[2] 請求の範囲第 1項に記載の光導波路デバイスにおいて、
前記光ガイド部材の端部に傾斜面が形成され、当該傾斜面に金属がコーティング されており、
前記金属配線は、前記傾斜面のコーティング金属と同一の金属力 なることを特徴 とする光導波路デバイス。
[3] 請求の範囲第 2項に記載の光導波路デバイスにおいて、
前記金属配線は、前記傾斜面のコーティング金属と同じ側に施されて ヽることを特 徴とする光導波路デバイス。
[4] 請求の範囲第 1項力 請求の範囲第 3項のいずれか一項に記載の光導波路デバ イスにおいて、
前記光ガイド部材は、フィルム状に形成されて ヽることを特徴とする光導波路デバィ ス。
[5] 請求の範囲第 1項力 請求の範囲第 4項のいずれか一項に記載の光導波路デバ イスにおいて、
前記金属配線は、前記光ガイド方向に沿って延在されて 、ることを特徴とする光導 波路デバイス。
[6] 請求の範囲第 1項力 請求の範囲第 5項のいずれか一項に記載の光導波路デバ イスにおいて、
前記光ガイド部材の端部に、光と電気の相互間で変換を行う光電変換素子が設け られて ヽることを特徴とする光導波路デバイス。
[7] 請求の範囲第 6項に記載の光導波路デバイスにおいて、
前記光ガイド部材の端部のうち、一方の端部の光電変換素子は発光素子であり、 他方の端部の光電変換素子は受光素子であることを特徴とする光導波路デバイス。
[8] クラッド部内にコア部を有し光ガイド方向に延在された光ガイド部材を備えた光導波 路デバイスの製造方法であって、
前記光ガイド部材に、金属配線を形成することを特徴とする光導波路デバイスの製 造方法。
[9] クラッド部内にコア部を有し光ガイド方向に延在された光ガイド部材の端部に傾斜 面が形成され、当該傾斜面に金属がコーティングされてなる光導波路デバイスの製 造方法であって、
前記傾斜面に金属をコ一ティングする際に、同時に前記光ガイド部材に金属配線 を形成することを特徴とする光導波路デバイスの製造方法。
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