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WO2008136029A8 - Appareil pour le traitement par plasma froid d'un matériau en bande continue - Google Patents

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WO2008136029A8
WO2008136029A8 PCT/IT2007/000339 IT2007000339W WO2008136029A8 WO 2008136029 A8 WO2008136029 A8 WO 2008136029A8 IT 2007000339 W IT2007000339 W IT 2007000339W WO 2008136029 A8 WO2008136029 A8 WO 2008136029A8
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WO
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plasma treatment
gas
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PCT/IT2007/000339
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English (en)
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WO2008136029A1 (fr
Inventor
Stefano Fort
Giuseppe Ramponi
Stefano Restelli
Claudia Riccardi
Paola Esena
Riccardo Siliprandi
Maria Rosaria Massafra
Bruno Marcandalli
Original Assignee
Arioli S P A
Univ Milano Bicocca
Stazione Sperimentale Per La S
Stefano Fort
Giuseppe Ramponi
Stefano Restelli
Claudia Riccardi
Paola Esena
Riccardo Siliprandi
Maria Rosaria Massafra
Bruno Marcandalli
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Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
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    • B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract

Cette invention se rapporte à un appareil pour le traitement par plasma froid à température atmosphérique d'un matériau en bande continue (W). L'appareil comprend au moins un poste de traitement par plasma (1) se composant d'un rouleau de décharge (2) et d'une électrode adjacente (3) entre lesquels passe le matériau en bande continue (W), une chambre fermée (7) appropriée pour contenir ledit ou lesdits postes de traitement par plasma (1) et équipée d'un système d'étanchéité (8) approprié pour permettre l'acheminement du matériau en bande continue (W), ainsi qu'au moins un tuyau d'injection (9) approprié pour introduire un gaz de traitement près de l'électrode (3). De cette façon, il est possible d'obtenir la productivité du traitement continu et la flexibilité du traitement avec différent types de gaz tout en réduisant radicalement le temps et le coût de fonctionnement, étant donné qu'il n'y a ni problèmes d'étanchéités coûteuses et de besoin de recréer un vide après le changement du gaz de traitement, comme dans un appareil à vide, ni problèmes de consommation de gaz de traitement élevée et de limitation aux gaz de traitement bon marché et non polluants comme dans un appareil à chambre ouverte.
PCT/IT2007/000339 2007-05-08 2007-05-08 Appareil pour le traitement par plasma froid d'un matériau en bande continue WO2008136029A1 (fr)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3300095A1 (de) * 1982-01-06 1983-07-28 Sando Iron Works Co., Ltd., Wakayama Anlage zum kontinuierlichen behandeln von textilprodukten mit hilfe von niedertemperatur-plasma
JP2811820B2 (ja) * 1989-10-30 1998-10-15 株式会社ブリヂストン シート状物の連続表面処理方法及び装置
US5312647A (en) * 1992-07-24 1994-05-17 Dielectric Coating Industries Method and apparatus of vacuum deposition
AU742051B2 (en) * 1997-07-14 2001-12-13 University Of Tennessee Research Corporation, The Plasma treater systems and treatment methods
US6054018A (en) * 1998-08-28 2000-04-25 Wisconsin Alumni Research Foundation Outside chamber sealing roller system for surface treatment gas reactors
US6082292A (en) * 1999-01-05 2000-07-04 Wisconsin Alumni Research Foundation Sealing roller system for surface treatment gas reactors
DE60009771T2 (de) * 1999-02-15 2005-03-17 Konica Corp. Verfahren zur Oberflächenbehandlung, Verfahren zur Herstellung eines Tintenstrahl-Aufzeichnungsmaterials sowie durch dieses Verfahren hergestelltes Material

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