[go: up one dir, main page]

CN100338154C - 一种带有透明导电层的显示装置 - Google Patents

一种带有透明导电层的显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN100338154C
CN100338154C CNB031016189A CN03101618A CN100338154C CN 100338154 C CN100338154 C CN 100338154C CN B031016189 A CNB031016189 A CN B031016189A CN 03101618 A CN03101618 A CN 03101618A CN 100338154 C CN100338154 C CN 100338154C
Authority
CN
China
Prior art keywords
coating
film
conducting layer
display unit
transparency conducting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB031016189A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1442453A (zh
Inventor
高宫直树
国光康德
安达谦二
森一伦
野田一郎
若林淳美
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=26392662&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CN100338154(C) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Sumitomo Osaka Cement Co Ltd filed Critical Sumitomo Osaka Cement Co Ltd
Publication of CN1442453A publication Critical patent/CN1442453A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100338154C publication Critical patent/CN100338154C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/02—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of metals or alloys
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22—Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
    • H01J29/867—Means associated with the outside of the vessel for shielding, e.g. magnetic shields
    • H01J29/868—Screens covering the input or output face of the vessel, e.g. transparent anti-static coatings, X-ray absorbing layers
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05F—STATIC ELECTRICITY; NATURALLY-OCCURRING ELECTRICITY
    • H05F1/00—Preventing the formation of electrostatic charges
    • H05F1/02—Preventing the formation of electrostatic charges by surface treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/922—Static electricity metal bleed-off metallic stock

Landscapes

  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

本发明的透明导电层形成用涂料含有优选自银、金、铜、铂、钯、钌、铑、铱、锇、铼和镍，且平均粒径在20nm以下的至少两种金属微粒，该透明导电层形成用涂料中包含的至少两种金属微粒的含量占该透明导电涂层的形成成分的10-100重量%，由此得到了高的透明度、可调色性和导电率，极高的防静电效能和电磁屏蔽效能，并能控制透射图象的色调。此外，在耐盐性、耐酸性、抗氧化能力和抗紫外线能力等方面耐久性极好，故能够形成透明导电涂层有利地用于各种类型的显示装置的防静电和电磁屏蔽。

Description

一种带有透明导电层的显示装置
本申请是基于申请日为1997年6月2日的PCT申请WO 97/48107所提交的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种能够形成透明导电层的透明导电层形成用涂料，它具有高的透明度、可调色性和导电率，极高的抗静电效能和电磁屏蔽效能，并具有大大改进了的诸如在耐盐性、耐酸性、抗氧化能力和抗紫外线能力方面的耐久性。
背景技术
按常规，具有高介电常数的透明材料诸如玻璃和塑料，往往导致积聚静电荷和允许电磁波透射。尤其是在经常被用于电视显象管和计算机显示器的阴极射线管和等离子显示器上，由于显示器上产生的静电，会使灰尘聚集其上，以致可见度降低，并能发射会影响其附近的电磁波。由于上述原因，已在电视显象管和计算机显示器所采用的阴极射线管和等离子显示器的显示屏上粘贴了各种透明导电膜，用于阻止静电荷和/或屏蔽电磁波。
常规的各种透明导电膜的生产方法是在显示屏上形成一种诸如氧化铟之类的透明导电氧化物，此透明导电氧化物则借助于阴极溅涂或蒸汽喷涂而使其粘附在显示装置的显示屏上，或者，透明导电膜的生产方法为在显示屏的正表面上涂以掺锑氧化锡的悬浮状流体和二氧化硅溶胶粘结剂。另外，有一些透明导电膜通过利用干扰效应而具有防反射功能，这干扰效应是由于在复杂的薄膜表面上的反射而产生的，通过采用将至少一层具有与透明导电涂层不同的折射率的透明防反射涂层叠压在透明导电膜的上层和/或底层的方法便能形成复杂的薄膜表面。
作为用来形成不仅能防止静电荷积聚，而且具有高到足以屏蔽显示装置的显示屏发射的电磁波的透明导电膜的常规方法，一种是将显示屏放置在蒸汽喷涂箱中，然后在其上淀积氧化铟化合物或氧化锡化合物的方法(物理气相淀积法)，和一种是通过诸如铟或锡的有机化合物，或含盐溶液的热分解，在显示屏上形成一层透明导电膜的方法(化学气相淀积法)。
虽然在仅用作抗静电膜其厚度可较小的情况下，用上述方法形成的透明导电膜是足够透明的，但当用作电磁波屏蔽层或电极膜时，因为要求有高的电导率而必须将其制成稍微厚些，其结果是透明度可能降低，且荧光屏变暗，以及产生诸如对特定的光波长吸收问题，这可以引起导电膜变色和引起透射图象的色彩变得不自然。另外，由于使用上述物理气相淀积法或化学气相淀积法来形成薄膜时要求真空或高温，故为了在大面积基片上形成透明导电膜所需要的投资费用可能变得非常高，效率可能下降，而生产成本可能上升。
已提出了几种用于在大块基片上有效地形成透明导电膜又能扼制设备投资费用的涂覆方法。例如，包含有机铟化合物的几种涂覆材料公开于日本专利申请书，首次公布号No.昭52-1497，和含有溶解于水或有机溶解中的铟盐或锡盐的几种涂覆材料公开于日本专利申请书，首次公布号No.昭63-6401，日本专利申请书，首次公布号No.昭55-51737，日本专利申请书，首次公布号No.昭58-82407，日本专利申请书，首次公布号No.昭57-36714和日本专利申请书，首次公布号No.昭60-220507。可是，因为利用这些涂覆材料来形成透明导电膜要求在涂于基片后需在至少350℃的高温下作热处理，所以，对能用于基片的材料有一些限制，并在生产工序方面有许多约束。
有些涂覆材料，其中的透明导电氧化物诸如氧化锡和氧化铟的微粒或胶粒弥散于聚合物溶液或粘结剂树脂中，这类涂覆材料公开于日本专利申请书，二次公布号No.昭35-6616，日本专利申请书，首次公布号No.昭57-85866，日本专利申请书，首次公布号No.昭58-91777和日本专利申请书，首次公布号No.昭62-278705。相信这些涂覆材料能够在相对较低的温度下形成透明导电膜。
可是，所有上述透明导电膜要求涂膜的厚度制得薄些，以便获得具有实用水平的透明度；将它们制得薄会引起导电率下降，以致虽然它们可用于防静电的场合，但它们不足以满足电屏蔽场合；将它们制得厚会引起透明度下降，这会使荧光屏变暗和限制了应用的可能性。
作为一种具有极好的电磁屏蔽效能和抗反射效能的透明导电膜，日本专利申请书，首次公布号No.平8-77832公开了这种透明导电膜，它包括一种由具有平均粒径为2～20nm的金属微粒构成的透明导电涂层和一种具有较低折射率的透明涂层。虽然可以预料这种透明导电膜能有电磁屏蔽效能，但对取决于金属的光透射频谱的透射光在特定波长上发生的吸收问题没有提供解决办法，由此造成导电膜变色和透射图象的色彩变得不自然了，且也不能期望会提供足够的抗反射效能。
除上述以外，如果仅是为了形成导电膜，则日本专利申请书，首次公布号No.平4-23484，公开了一种使用涂覆材料进行涂覆的方法，这种涂覆材料中的还原金属胶粒弥散于感光树脂中，和日本专利申请书，首次公布号No.平4-196009公开了一种利用丝网印刷法将导电胶印刷在绝缘的绿色板上的方法，但这些材料都是不透明的，故不会产生透明导电膜。
本发明已能解决上述问题，故本发明的目的是要提供一种透明导电层形成用涂料，它应具有高的透明度、可调色性和导电率，极好的抗静电效能和电磁屏蔽效能，能调整透射图象的色调，以及具有大大改进诸如在耐盐性、耐酸性、抗氧化能力、及抗紫外线能力方面的耐久性。
发明内容
发明者们为解决上述问题作了刻苦研究，终于获得了本发明，他们发现一种具有由包含特定量的、选自银、金、铜、铂、钯、钌、铑、铱、锇、铼和镍，且平均粒径在100nm以下，理想的在20nm以下的至少两种金属微粒的透明导电涂层形成用涂料形成的透明导电涂层的透明导电膜，能以相对较低的成本生产出来，这种透明导电膜有着高的透明度、可调色性和导电率，极高的抗静电效能和电磁屏蔽效能，能够调整透射图象的色调，并且在诸如在耐盐性、耐酸性、抗氧化能力和抗紫外线能力方面有着大大改进了的耐久性。
这样，本发明提供了一种透明导电层形成用涂料是一种含有选自银、金、铜、铂、钯、钌、铑、铱、锇、铼和镍，且平均粒径在100nm以下，理想的在20nm以下的至少两种金属微粒的透明导电层形成用涂料，其特征是该透明导电层形成用涂料中包含的至少两种金属微粒的含量占该透明导电层的形成成分的10-100重量％。
在上述发明中，至少二种金属微粒中的一种优选银微粒。
在上述发明中，至少二种金属微粒中的一种优选钯微粒。
在上述发明中，至少两种金属微粒包含钯微粒和银微粒，且其比例优选为Pd∶Ag＝30～99wt％∶70～1wt％。
上述发明中的透明导电涂层形成用涂料中含有45重量％以上的醇。
附图简述
图1是本发明涉及的具有用透明导电层形成用涂料形成的透明导电层的优选的低反射率透明导电膜的剖面图；图2是针对本发明的优选实施方案的X射线衍射图。
实行本发明的最佳方式
将参照附图1对实行本发明的最佳模式的一个实例进行说明。在图1上，这种低反射率透明导电膜10在显示装置的显示屏3的正表面上形成，而形成的方法是将透明导电膜1和有着不同于上述透明导电膜1的折射率的透明薄膜2顺序地叠压在显示屏3上。
这种透明导电涂层1包含有钯和银，其总量至少为10wt％。钯和银在此混合物中的比例，若用Pd∶Ag的比来表示，则应优选30～99wt％∶70～1wt％。虽然钯和银可以作为各自独立的微粒包含在透明导电涂层1中，但它们中至少一部分应优选使它们熔化，以形成连续的金属薄膜，和至少其一部分形成由钯和银组成的合金。
当钯和银以微粒形式存在于这种透明导电涂层1中时，这些微粒处于相互接触状态中，且至少其一部分被熔化，形成连续的合金薄膜。所以，不仅导电率高，其结果是防静电效能和电磁屏蔽效能极高，而且透明度也高，同时因为金属的一部分是钯，所以甚至在金属腐蚀环境中，例如在盐水或阳光下，其导电率并没有降低，且获得了诸如在耐盐性、耐酸性、抗氧化能力和抗紫外线能力方面的极高的耐久性。另外，因为金属的一部分是银，所以能保证具有足够的导电率，同时能在与只使用钯相比成本减低的情况下生产。
这种透明导电涂层1包含有平均粒径优选为20nm或更小的钯微粒和银微粒，而优选的形成方法是，通过使用旋转涂覆机将含有至少45wt％醇的涂料涂敷在显示屏3上，然后在优选的150-250℃温度下烘烤。发明者们发现，由于这种涂料中所包含的金属微粒的平均粒径是20nm或更小，所以即使烘烤温度低如150-250℃，这些微粒也将会熔化，以致至少会局部形成合金薄膜。另外，这种涂料中的醇降低了含有金属微粒的涂料的粘度和表面张力，由此形成的涂膜具有均匀的厚度，且涂料中的醇在防止金属微粒形成二次颗粒方面也特别有效。
图1上所示本发明的实施方式所涉及的优选低反射率透明导电膜10具有单层的透明薄膜2，这透明薄膜在透明导电涂层1的上面形成，且有着与其不同的折射率。透明薄膜2是由有着相对低的折射率的SiO2或诸如之类的化合物形成。透明薄膜2存在于透明导电涂层1之上，有效地防止了低反射率透明导电膜10对环境光的反射，而且这透明薄膜的存在除了有助于上述的透明度、防静电、电磁屏蔽和耐久性外，还有助于防反射。
按照本发明的实施方式所涉及的更优选的低反射率透明导电膜中，形成最外层涂层的是透明粗糙涂层。这种透明粗糙涂层优选由具有低折射率的透明膜组成，并有着粗糙剖面的表面，故能散射来自低反射率透明导电膜表面所反射的光，并使显示屏具有抗眩光效能。
按照本发明的实施方式所涉及的更优选的低反射率透明导电膜中的透明导电涂层1或透明薄膜2，至少其中之一包含有着色剂。这种着色剂能吸收处在400～800nm可见光波长带范围内的特定波长带上的光，这可见光波长带根据透明导电涂层中所含金属种类确定，同时，增加着色剂能达到改善透射图象的对比度和/或当透射图象的颜色似乎不自然时可达到调整色彩的目的，作为上述处理的结果，获得具有改善了感受性的低反射率透明导电膜是可能的。
正如图1所示，本发明实施方式所涉及的优选显示装置在其显示屏3的正表面上形成有上述低反射率透明导电膜10，由于有了低反射率透明导电膜，本发明的实施方式所涉及的显示装置就能防静电荷，以致能防止灰尘或诸如此类的东西的积集，能有效地屏蔽电磁波，以防止各种类型的电磁干扰，荧光屏具有高的透明度，故而透射图象鲜明，能有效地防止环境光的反射，故而感受性高，且透射图象清晰，以及能调整色彩，故而透射图象具有的颜色显得自然。此外，能在恶劣的环境条件下，在长的时间周期内防止这些性能的下降。
下面将对每个组件作详细说明。
本发明的透明导电膜基本上具有包含至少二种从银、金、铜、铂、钯、钌、铑、铱、锇、铼和镍中选出的金属，其总量为10wt％以上的金属的透明导电涂层。
在上述透明导电膜中，二种金属中至少一种应优选银。其理由是能相对容易地和经济地使银呈胶质悬浮状流体，银具有高的导电率和极高的防静电效能及电磁屏蔽效能，又能形成极好的透明导电涂层。
钯应优选用作与银相结合的金属。其理由是钯有着高的导电率和化学稳定性，有高度的抗氯化物、硫化物和氧化物这类环境的性能，而且它不会改变透射图象的色彩，因为它不吸收处于可见光波长带400-800nm范围内的特定波长带上的光，故而不会降低透射图象的可见度。
虽然银是一种在耐盐性、耐酸性等方面耐久性较低的金属，但银和钯相结合起来使用便能形成一种在耐盐性、耐酸性等方面具有极高耐久性的透明导电膜，这是因为在透明导电涂层形成后，即使在相对较低的烘烤温度150-250℃下，钯和银也将会熔化形成Pd-Ag合金。
当钯和银一起使用时，比例量应这样选择，使Pd∶Ag＝30～99wt％∶70～1wt％。若钯的含量比例较高，则透明导电膜在耐盐性、耐酸性等方面的耐久性将会提高。
当透明导电涂层中的金属的至少一部分采用银时，金是另一种可以在此使用的金属的实例。虽然银对可见光范围内的较短波长有着特有的吸收作用并因此会有一种稍许淡黄的颜色施加于透射图象的趋势，但掺入相对少量的金后，会使透射频谱在可见光范围内变得平坦，从而校正了透射图象的色彩偏差。
在透明导电涂层中的金属含量至少为10wt％的理由是，若含量少于10wt％导电率就会下降，并变得难于获得基本电磁屏蔽效能。
透明导电涂层中的金属可以各自独立的微粒形式存在，可以是至少一部分熔化形成连续金属薄膜，可以在熔化的至少二种金属中的至少一部分形成合金，结果形成合金薄膜，或者可以是微粒和合金薄膜的混合状态。
上述透明导电层可以通过将含有优选自银、金、铜、铂、钯、钌、铑、铱、锇、铼和镍，且平均粒径在20nm以下的至少两种金属微粒的透明导电层形成用涂料，该透明导电层形成用涂料中包含的上述至少两种金属微粒的含量占该透明导电层的形成成分的10-100重量％的透明导电层形成用涂料涂敷于基材后，然后在150～250℃温度下烘烤的方法来形成。当金属微粒的平均粒径是20nm或更小时，即使在150～250℃相对较低的烘烤温度下也能促进颗粒的熔化和熔成合金，最终形成既有极好的导电率又有极好的透明度的透明导电膜。
另一方面，如果在形成透明导电膜的涂覆材料中的金属微粒的平均粒径超过20nm，那么涂覆膜对光的吸收变得太强，以致不能得到具有实用水平的透明度的透明导电膜。
上述形成透明导电膜的涂覆材料应优选包含至少上述二种金属微粒和包含其量至少45wt％的醇。醇降低了含有金属微粒的涂覆材料的粘度和表面张力，故而能形成均匀厚度的涂覆膜，且在防止金属微粒二次成粒方面特别有效。若醇的含量少于45wt％，上述效能便不能充分激发。
虽然对可以用于形成透明导电膜的涂覆材料的醇种类没有特别限制，低级醇、高级醇和乙二醇可以使用。尤其是考虑到要降低涂覆材料的粘度和表面张力，应优选采用含有1～4个碳原子的低级醇，例如，甲醇、乙醇、n-丙醇、异丙醇、n-丁醇、次丁醇、特丁醇或这些的二种或更多种的混合物。
除上述至少二种金属微粒和乙醇之外，上述形成透明导电膜的涂覆材料还可以包含无机微粒，这类无机微粒包括硅、铝、锆、铈、钛、钇、锌、镁、铟、锡、锑或钾等的氧化物、复合氧化物或氮化物，尤其是作为主要组分的铟的氧化物、复合氧化物或氮化物，能进一步提高透明导电膜的透明度。这些无机微粒的平均粒径应优选100nm或更小的，且根据上述同样的理由，更优选50nm或更小。
上述形成透明导电膜的涂覆材料也可以包含粘结剂组分，以增加透明导电膜的膜强度。可以采用的粘结剂组分的实例包括有机合成树脂，诸如聚酯树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、蜜胺树脂、氨基甲酸乙脂树脂、丁缩醛树脂和紫外线硬化树脂，包括诸如硅、钛和锆之类金属的烃氧化物类水解产物，以及包括诸如硅酮单体类和硅酮齐聚物类的有机/无机粘结剂组分。
尤其要优先采用以下式表示的作为粘结剂使用的化合物：
                          M(OR)mRn
(式中M代表Si、Ti或Zr，R代表C1-C4烷基，m代表1～4的整数，n代表0～3的整数)，它们的部分水解产物，或它们的一种或更多种的混合物。
添加的粘结剂组分的量应优选10wt％或更小，因为若添加量过大，会引起透明导电膜的导电率下降。
为了增加粘结剂组分和金属微粒之间的亲合力，可以用诸如硅酮偶合剂和钛酸脂偶合剂之类的偶合剂，或用诸如羧酸盐、聚羧酸盐、磷脂盐、磺酸盐或聚磺酸盐之类的亲脂性表面处理剂，对金属微粒的表面进行处理。
此外，形成透明导电膜的涂覆材料，可以包含各种类型的表面活性剂和/或，若有需要，可对pH进行调整，以便使涂覆材料中的上述金属微粒保持悬浮稳定性。可用于此目的的表面活性剂的实例包括诸如聚羧酸盐类、磺酸盐类和磷脂盐类这类阴离子表面活性剂，包括诸如聚乙烯醇类、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇和纤维素之类的高分子表面活性剂，以及包括诸如胺盐类的阳离子表面活性剂。另外，通过添加无机酸类、无机碱类或有机碱类的办法可以调整pH。此外，除上述悬浮稳定剂外，还可以添加硅酮表面活性剂或氟类表面活性剂，以便调整显示屏基体材料诸如玻璃或塑料的泄漏和密封性能。
生产形成透明导电膜的涂覆材料的方法无特别的限制。例如，它可采用下述方法生产，将包含上述至少二种金属微粒的胶状溶剂与上述乙醇、无机微粒和粘结剂(若需要)相混合，然后利用诸如超声波搅拌器或混砂机之类常规采用的悬浮技术进行均匀搅拌。
作为一个实例，透明导电涂层可以用以下方法形成。一种方法包括分别地制备胶态悬浮流体，每种上述流体包含有平均粒径为20nm或更小的单独上述一种金属微粒，例如银溶胶或钯溶胶，然后将它们按指定的比例混合在一起，并加入上述的醇、透明无机微粒和/或(如需要)加入粘结剂，以便制备含有至少二种金属微粒的形成透明导电膜的涂覆材料，将这种涂覆材料均匀地涂敷在显示屏的基体材料上，要使得透明导电涂层中的金属含量在干燥处理之后将会变得至少为10wt％，进行干燥处理，然后在150～250℃之某一定温下烘烤一小时。
用来形成透明导电涂层的另一种方法包括分别地制备胶态悬浮流体，例如银溶胶和钯溶胶，每种上述流体包含有平均粒径为20nm或更小的单独一种上述金属微粒和上述的醇、透明无机微粒和/或如需要加上粘结剂，将这些涂覆材料均匀地涂敷于基体材料，要使透明导电涂层中的金属比例在作干燥处理后将变成指定值，进行干燥处理，然后烘烤。在这种方法中对涂覆的顺序则没有特别的限制。
实施方式涉及的透明导电膜可以通过将上述形成透明导电膜的涂覆材料涂于显示屏或诸如此类的基体材料上，然后进行烘烤以形成膜的方法来形成。这种涂覆可以采用任何通常熟知的薄膜涂覆技术，例如旋涂、辊涂、刮涂、棒涂、喷涂、弯月面涂(meniscus coating)、浸涂或照相凹版印刷来完成。在这些涂覆方法中，旋涂是尤其优选的涂覆方法，因为它能在短的时间内形成厚度均匀的薄膜。
在涂覆之后，对涂覆膜作干燥处理，然后在150～250℃下烘烤，以便在基体材料的表面上形成透明导电涂层。由此形成的透明导电涂层可以呈光滑涂层，或可为有着不规则的叠层结构，网格状结构或羽毛状结构。
曾发现，由于在形成透明导电膜的涂覆材料中的金属微粒的粒径极小，当形成涂覆膜时，即使在正常的粗颗粒不会熔化的惊人地低的烘烤温度150-250℃下，至少有一部分金属微粒也会熔化，形成连续的金属薄膜。根据由显微镜作出的观察表明，这是清楚的。另外，作为例子，当包含有平均粒径为20nm或更小的钯微粒和银微粒的涂覆膜在175℃下烘烤时，这薄膜的表面电阻率低至100～1000Ω/方，从而表明了晶间电阻减小。由于这种效果在有相对低熔点的银存在时特别明显，故即使银粒的数量大约只有按重量计百分之几的量级，与只使用钯微粒的情况相比，也能极大地改善薄膜的表面电阻率。
另外，曾发现在其中至少上述二种金属微粒已熔化了的金属薄膜中产生有合金。根据对含有钯微粒和银微粒的涂覆膜在175℃下烘烤制成的样件所作的X射线衍射能清楚说明上述情况，其中由于钯和银存在造成的峰值群不能判明，而由于Pd-Ag合金造成的单个峰值能观察到，正如图2所示。由于产生了合金，本发明的透明导电膜有着高的导电率，同时也获得了在耐盐性、耐酸性、抗氧化能力和抗紫外线能力方面高水平的耐久性。
透明导电涂层的厚度应优选为5～200nm。尤其是将厚度制成5～50nm，便能得到良好的透明度，同时又能保持足够的抗静电效能和电磁屏蔽效能。在厚度低于5nm的情况下，不仅变得难以获得足够的电磁屏蔽效能，而且也变得难以形成均匀的膜层。另一方面，如果厚度超过200nm，在导电率方面不会出现问题，但透明度降低，从而降低了透射图象的可见度。
透明导电膜中的至少上述二种金属的总含量应这样选择，使得在考虑到上述膜层厚度的情况下能得到要求的电磁屏蔽效能。
一般而言，电磁屏蔽效能能用以下公式1表达：
公式1：S(dB)＝50+10log(1/ρf)+1.7t(f/ρ)
(式中S(dB)代表电磁屏蔽效能，ρ(Ω·cm)代表导电膜有体积电阻率，f(MHz)代表电磁波频率，和t(cm)代表导电膜的厚度)。
既然这样，正如上面所述，厚度t是极薄的，以致电磁屏蔽效能S可通过略去公式1中含有的厚度t项以下面公式2近似表达：
公式2：S(dB)＝50+10log(1/ρf)
也就是，若透明导电膜的体积电阻率(ρ)能做到尽可能小，则相对于电磁波的宽的频率范围将产生较大的屏蔽效能。通常，如果S＞30dB就认为电磁屏蔽效能是有效的，若S＞60dB，则认为是极好的。因为能加以控制的电磁波频率通常为10kHz～1000MHz，故透明导电涂层的体积电阻率(ρ)应优选小于或等于103Ω·cm，以便获得良好的电磁屏蔽效能，此时的膜层厚度为200nm或更小。
为了满足这种条件，透明导电涂层应包含其量至少为10wt％的上述金属。如果上述金属含量小于10wt％，则导电率将降低，以致使其难以获得基本电磁屏蔽效能。
如果由于除钯以外的金属的含量造成透明导电涂层变色，则通过借助于紫外线照射、红外线照射、微波照射、X-射线照射或γ射线照射来遏制透明导电膜中该金属的光吸收特性，也能调整色彩。
实施方式涉及的透明导电膜也可由单层透明导电涂层构成，或由许多层没有电子传导性能的透明薄膜形成的多层透明导电涂层叠压构成。
下面将对实施方式涉及的低反射率透明导电膜作说明。
这种低反射率透明导电膜有着至少一层透明薄膜，这种透明薄膜的折射率则不同于位于透明导电膜上面和/或下面的透明导电涂层的折射率。这透明薄膜借助于干扰效应消除或降低了来自该膜边界的环境光的反射，并用来使透明导电膜具有抗反射效能。这透明薄膜不一定限于单层，可以由多层构成。
通常，在多层的薄膜中，边界反射防止能力是由薄膜的折射率和厚度以及叠合的薄膜数量确定。因此，通过对透明导电膜和对考虑了叠合的膜层数目的透明薄膜的恰当设计，还能使本发明的低反射率透明导电膜具有有效的抗反射效能。
在多层薄膜中，这些透明薄膜不仅能防止边界处的反射，而且当将其用在显示装置的显示屏上时，还能预期其具有保护荧光屏免受外力影响的效能。所以，优选在实际应用上具有足够强度的和有着比透明导电膜要低的折射率的透明薄膜，以便将其提供在透明导电膜上。因此，获得能实际用于显示装置例如阴极射线管和等离子显示器的低反射率透明导电膜是可能的。
能形成透明薄膜的材料的实例包括热塑塑料、热硬化树脂和光子/电子束硬化树脂，诸如聚酯树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂和丁缩醛树脂；诸如硅、铝、钛和锆之类金属的烃氧化物类的水解产物；以及硅酮单基物类和硅酮齐聚物类，这些既可单独使用也可作为混合物使用。
特别优选的透明薄膜是具有高的表面硬度和相对低折射率的SiO2薄膜。能够形成如同SiO2薄膜这样的材料的实例是用下面公式表达的化合物：
                      Si(OR)mRn
(式中R代表C1-C4烷基，m代表1～4的整数，n代表0～3的整数，m+n等于4)，它们的部分水解产物，或它们的一种或更多种的混合物。作为这类化合物的实例，考虑到形成薄膜的能力、透明度、膜的强度和抗反射性能，四乙氧基硅烷(Si(OC2H5)4)是适用的。
也可以添加各种类型的树脂、金属氧化物、复合氧化物或氮化物，或由于烘烤以形成这些涂层所需的前体，只要它们允许把透明薄膜的折射率调整到与透明导电膜的折射率不同。
可以采用任何方法来形成透明薄膜，其中一种与形成透明导电膜的方法一样，就是利用含有上述组分的涂覆流体(形成透明导电膜的涂覆材料)进行均匀涂覆。虽然可以采用旋涂、辊涂、刮涂、棒涂、喷涂、弯月面涂、浸涂、照相凹版印刷，或诸如此类的方法进行涂覆，但尤其优选的是旋涂。涂覆之后，对涂覆膜进行干燥处理，然后优选采用烘烤或光子/电子束照射的方法来形成硬膜。
实施方式涉及的低反射率透明导电膜可以有一层透明粗糙涂层，亦即透明膜有着粗糙外形作为最外层。这透明粗糙涂层具有散射来自低反射率透明导电膜表面所反射的光的效能，故而能使显示屏具有抗眩光效能。为了获得足够的抗眩光效能，优选形成的粗糙表面能使光泽度(发光度)比平滑表面的光泽度减小10～40％，优选20～40％。如果光泽度减小超过40％，这常常会同时发生光雾值超过3％，在这种情况下，该膜的表面可能会变白，以致降低了诸如透射图象的图象分辨率之类的可见度。
透明粗糙涂层的粗糙表面的形状可恰当地加以选择，这取决于用途，例如为了减小环境光的反射和为了使透明图象能清楚地感受到。典型形状的实例包括这样一类形状，即有多层半球状或园锥状隆起物或凹坑有规则或不规则地分布在表面上；包括这样一类形状，即有多层肋条状凸台和凹槽呈百叶窗式或波纹状排列；还包括这样一类形状，即有多层有规则或不规则的沟纹形成在平滑表面上。
在任何一种上述形状中，不平度的高度差(凸台顶端和凹槽底部之间的高度之差值)应优选平均为0.01～1μm，以便能使光泽度的减小达到20-40％。当高度差小于0.01μm时，得到的表面基本上是平滑表面，且不可能得到足够的抗眩光效能。另一方面，如果高度差超过1μm，光雾值便增加，以致降低了透射图象的分辨率。
为了在透明导电膜的上表面上形成透明粗糙涂层，可以采用将粘度调整得恰当的透明涂覆材料喷涂到透明薄膜上以形成一层不连续涂层(微粒涂层)，然后进行烘烤的方法。另外，也可采用以下办法来形成，即给透明薄膜涂上一层厚度均匀的含有诸如SiO2微粒这类透明微粒及介质的透明涂覆材料，然后使溶剂脱水，以便形成含有透明微粒的不平度。此外，还可以采用压花或浸蚀的方法在平滑透明导电膜的表面上形成不平度。
如果能将透明粗糙涂层的折射率调整到不同于透明导电涂层的折射率，那么，透明粗糙涂层将不仅能有效地散射环境光的反射，而且能有效地防止层间反射。另外，考虑到膜的强度和抗反射性能，透明粗糙涂层应如同透明薄膜的情况一样优选制成硬涂层。当考虑到这些特点后，为了膜的强度和抗反射效能，透明粗糙涂层应优选采用与形成透明薄膜所用的相同的涂覆材料，诸如四乙氧硅烷涂覆材料，来形成。
构成实施方式涉及的低反射率透明导电膜涂层的至少一层可以包含着色剂。添加着色剂是通过掩蔽效应来调整透射图象的色彩，以便提供自然外观，当由于透明导电涂层中所含金属造成透射光光谱有偏差时，添加着色剂又能用来改善透射图象的色彩对比度。例如，当银用作一种金属时，将赋予透明导电涂层淡黄颜色，因为银吸收可见光范围内400～530nm较短波长上的光，这样造成透射图象的色彩显得不自然。为了平化整个可见光波长范围内的透射光光谱，添加着色剂有着校正的作用，因此能改善透射图象的色彩。
适用于本发明的低反射率透明导电膜的着色剂是蓝色、紫色和黑色着色剂。在这些着色剂中，紫色颜料和蓝色颜料在调整透射图象色调方面尤其有效，而虽然黑色颜料也有调色作用，但同时它们另有增加透射图象的色彩对比度的作用。
适用的着色剂的实例包括有机和无机颜料，例如酞青蓝颜料、花青蓝颜料、阴丹士林蓝颜料、二嗪紫颜料、苯胺黑颜料、碱性蓝颜料、氧化钛、氧化铬、铁黑色颜料、钛蓝颜料、青天蓝颜料、铬酸锌、佛青蓝颜料、锰紫颜料、钴紫颜料、普鲁士蓝颜料和碳黑颜料；并包括蓝色、紫色或黑色染料，例如偶氮染料、蒽醌染料、靛类染料、酞花菁染料、碳染料、苯醌亚胺染料、甲川染料、氮萘染料、硝基染料、亚硝基染料、苯醌染料、萘醌染料、萘二甲酰亚氨基染料和perinone染料。
但是，实施方式涉及的低反射率透明导电膜除了包含用于调色用途的，还可用作色彩目的的着色剂，例如用于使荧光屏具有特定的颜色。
另外，除了上述常规的着色剂外，还可以使用那些已经用于或建议用于透明导电膜或阴极射线管的显示屏上的其它着色剂，例如，那些具有有选择地吸收除三种基本颜色以外的可见光的滤光效应的着色剂(作为例子，可参看日本专利申请书，首次公布号No.平1-320742，日本专利申请书，首次公布号No.平3-11532，和日本专利申请书，首次公布号No.平3-254048)，那些通过减小可见光总透光度的方法获得高对比度效能的着色剂(作为例子，可参看日本专利申请书，首次公布号No.平6-80903)，那些通过其使用能获得抗反射效能的着色剂，由于这类着色剂吸收了叠层中的光，因而抗反射效能大致与抗反射膜中的最小反射率相对应(例如，可参看日本专利申请书，首次公布号No.平5-203804)，以及那些能吸收特定波长的可见光而获得使眼睛感到柔和的自然图象的着色剂(例如，可参看日本专利申请书，首次公布号No.平7-151903)。
本发明的低反射率透明导电膜能有效地应用于各种类型显示装置的显示屏，诸如阴极射线管、等离子显示器、液晶显示器、接触式控制屏，以及电光显示装置，机动车辆和建筑物的窗户，和微波炉的观察窗。
本发明的显示装置在显示屏上形成有上述低反射率透明导电膜。这种显示装置能防止静电荷积聚在显示屏上，故而灰尘不能粘附到图象显示屏上，这种显示装置能屏蔽电磁波，故而能防止各种类型的电磁干扰，还有着极好的光透射性，故而图象鲜明，有着均匀的厚度，故而显示屏的外观得到改善，又有着受控的反射，故而可见度良好，在耐盐性、耐酸性、抗氧化能力和抗紫外线能力方面，也有着高的耐久性，故而即使在金属腐蚀环境诸如在盐水中或阳光下，导电率也不会降低。
尤其是实施方式涉及的显示装置，当其透明导电膜包含钯时，它是高度抗卤素盐类的，这种卤素盐包含在运输过程中由海水和搬运人员的汗水产生的盐组分中，它是高度抗温泉中的硫化氢气体的，是高度抗酸性流体的，诸如SOx气体和大气层中的酸雨，以及是高度抗氧化物气体的，诸如由紫外线照射产生的臭氧，而且即使将上述装置置于包括上述劣化因素的环境条件中，它也能保持诸如在抗静电效能、电磁屏蔽效能、抗反射效能、保持色彩和在长的时间周期内保持膜的强度方面的初始性能。
实例
在下文中将借助一些实例来详细阐明本发明，但从任何意义上讲，本发明不受这些实例的限制。
以下制备的是实例和对比实例都需使用的基本流体。
(含水钯溶胶)
将含有0.15mmol/l的氯化钯的含水溶液和含有0.024mmol/l的氢硼化钠的含水溶液混合在一起，然后将合成的胶质分散流体进行浓缩，以获得含有0.189mol/l钯微粒(平均粒径为10nm)的含水溶胶。
(含水铂溶胶)
将含有0.25mmol/l的氯铂酸水合物的含水溶液和含有0.15mmol/l的氢硼化钠含水溶液混合在一起，然后将合成的胶质悬浮流体进行浓缩，以获得含有0.103mol/l铂微粒(平均粒径为10nm)的含水溶胶。
(含水银溶胶)
在使含有溶解于其中的柠檬酸钠二水合物(14g)和硫酸亚铁(7.5g)的含水溶液(60g)保持在5℃的同时，将含有溶解于其中的硝酸银(2.5g)的含水溶液(25g)加入，以获得带淡红褐色的银溶胶。在采用离心分离和冲洗方法将上述银溶胶中的杂质排除之后，加入纯净水以获得含有0.185mol/l银微粒(平均粒径为10nm)的含水溶胶。(形成透明薄膜的涂覆材料)
将四乙氧基硅烷(0.8g)，0.1N盐酸(0.8g)和乙醇(98.4g)混合在一起以形成均匀的含水溶液。
(实例1)
-透明导电层形成用涂料的制备：
含水钯溶胶                        15g
含水银溶胶                        35g
异丙醇                            10g
乙醇                              40g
将上面列出的组分混合在一起，然后将合成的流体混合物通过超声波扩散机(BRANSON超声波仪器制造公司的“Sonifer 450”)制成分散液，用以制备实例1的透明导电层形成用涂料。
-膜的形成：
使用旋转涂覆机将上述透明导电层形成用涂料涂覆在显象管的显示屏上。在进行了干燥处理后，利用旋转涂覆机同样地再将上述透明导电层形成用涂料涂覆在上述涂层的表面上，然后将这显象管放入干燥箱中，并在150℃下烘烤1小时，以形成低反射率透明导电膜，由此生产出防反射、高导电率涂膜的阴极射线管。
(实例2)
-透明导电层形成用涂料的制备：
含水钯溶胶                    35g
含水银溶胶                    15g
异丙醇                           10g
乙醇                             40g
将上面列出的组分混合在一起，然后采用与实例1同样的方法制备实例2的透明导电层形成用涂料。
-膜的形成：
以与实例1一样的相同方法使用和处理上述透明导电层形成用涂料，以生产防反射、高导电率涂膜的阴极射线管。
(实例3)
-透明导电层形成用涂料的制备：
含水钯溶胶                       45g
含水银溶胶                       5g
异丙醇                           10g
乙醇                             40g
将上面列出的组分混合在一起，然后采用与实例1同样的方法制备实例3的透明导电层形成用涂料。
-膜的形成：
以与实例1一样的相同方法使用和处理上述透明导电层形成用涂料，以生产出防反射、高导电率涂膜的阴极射线管。
(实例4)
-透明导电层形成用涂料的制备：
含水钯溶胶                        25g
含水银溶胶                        25g
异丙醇                            10g
乙醇                              40g
将上面列出的组分混合在一起，然后采用与实例1同样的方法制备实例4的透明导电层形成用涂料。
-膜的形成：
以与实例1一样的相同方法使用和处理上述透明导电层形成用涂料，以生产出具有防反射、高导电率涂膜的阴极射线管。
(实例5)
-透明导电层形成用涂料的制备：
含水钯溶胶                        12.5g
含水铂溶胶                    12.5g
含水银溶胶                    25g
异丙醇                        10g
乙醇                          40g
将上面列出的组分混合在一起，然后采用与实例1同样的方法制备实例5的透明导电层形成用涂料。
-膜的形成：
以与实例1一样的相同方法使用和处理上述透明导电层形成用涂料，以生产出具有防反射、高导电率涂膜的阴极射线管。
(对比实例1)
-透明导电层形成用涂料的制备：
含水银溶胶                        50g
异丙醇                            10g
乙醇                              40g
将上面列出的组分混合在一起，然后采用与实例1同样的方法制备对比实例1的透明导电层形成用涂料。
-膜的形成：
以与实例1一样的相同方法使用和处理上述透明导电层形成用涂料，以生产出对比实例1的防反射、高导电率涂膜的阴极射线管。
(对比实例2)
-透明导电层形成用涂料制备：
掺锑氧化锡粉末(SUMITOMO OSAKA
CEMENT，平均粒径0.01μm)           1.5g
纯化水                             78.5g
丁基溶纤剂                         10.0g
IPA                                10.0g
将上面列出的组分混合在一起，然后采用超声波扩散机(BRANSON超声波仪器制造公司的“Sonifier 450”)制成悬浮液，用以制备对比实例2的透明导电层形成用涂料。
-膜的形成：
使用旋转涂覆机将上述透明导电层形成用涂料涂覆在显象管的显示屏上。在进行了干燥处理后，利用旋转涂覆机同样地再将上述形成透明导电膜涂覆材料涂覆在上述涂层的表面上，然后采用在干燥箱内在150℃下烘烤1小时的办法形成低反射率透明导电膜，由此生产出对防反射、高导电率涂膜的阴极射线管。
上述实例1～5和对比实例1和2的透明导电层形成用涂料中所含金属的类型和数量表明在表1上。
表1
  涂覆材料   金属种类   金属含量(重量份)
  实例1   PdAg   0.30.7
  实例2   PdAg   0.70.3
  实例3   PdAg   0.90.1
  实例4   PdAg   0.50.5
  实例5   PdPtAg   0.250.250.50
  对比实例1   Ag   1.0
  对比实例2   ATO*1)   1.0
*1)掺锑氧化锡
(评价性测量)
借助于以下的装置或方法测量在阴极射线管上形成的低反射率透明导电膜的性质。
透光度：TOKYO DENSHOKU“自动光雾测量仪H III DP”。
光雾：  TOKYO DENSHOKU“自动光雾测量仪H III DP”。
表面电阻：MITSUBISHI化学公司“Rolesta AP”(4-接点法)
透光度差值：HITACHI，有限公司“U-3500”自动记录分光光度计可用来确定可见光范围内最大透光度和最小透光度之间的差值。
(在可见光范围内，最大-最小透光度差值越小，透光度越平坦，透射图象的色彩越清晰。尤其是当为10％或更小时，透射图象的颜色接近于黑色，且能获得高度的清晰度。)
反射率：EG和G GAMMASCIENTIFIC “型号C-11”
电磁屏蔽：利用上述已知公式1在标准测试频率0.5MHz下计算得出。
耐盐性：浸没在盐水中3天后在0.5MHz下的电磁屏蔽性能。
平面间的间隙：导电材料的平面间的间隙能用X射线衍射仪进行测量。X射线衍射值表示实例1～5和对比实例1中(1，1，1)平板和对比实例2中(1，1，0)平板的平面间间隙，其中()中的数值表示理论值。
测量结果表明在表2和表3上。
表2
  透光度(％)   光雾值(％)   表面电阻(Ω/平方)   透光度差值(％)
 实例1实例2实例3实例4实例5对比实例1对比实例2   70.170.170.370.571.276.3102.7   0.00.00.00.00.00.10.1   1×1025×1028×1023×1025×1026×1025×107   103258201
表3
  反射率(％)   0.5MHz的电磁屏蔽效能(dB)   耐盐性   平面间的间隙(A)
 实例1实例2实例3实例4实例5对比实例1对比实例2   0.60.30.50.20.40.91.0   87.280.278.282.480.275.056.0   82.580.178.281.879.410.156.0   2.33(2.33)2.27(2.28)2.25(2.26)2.30(2.30)2.31(2.31)2.36(2.36)3.36(3.35)
表2和表3的结果表明，实例1～5的使用透明导电层形成用涂料制造的阴极射线管样件，由于在其显示屏上涂有包含上述至少二种其总量至少为10wt％的金属的透明导电层的低反射率透明导电膜，故它们都具有良好的透光度、小的透光度差值、低的反射率、且基本上没有可察觉的光雾，因此透射图象明亮，有着自然的色彩，且边缘清晰。另外，表面电阻小，故而抗静电效能大，同时电磁屏蔽效能极好。此外，它们有着极好的耐盐性这一事实表明它们还有着极高的耐久性。
对平面间的间隔作的X射线分析法测量结果表明，根据单个物质的峰值，能检测出在实例1～5的使用透明导电层形成用涂料制造的透明导电涂层中的金属，这些峰值大致与按下述比例构成的合金的平面间间隙(理论数值)相对应：Pd∶Ag＝3∶7，Pd∶Ag＝7∶3，Pd∶Ag＝9∶1，Pd∶Ag＝5∶5和Pd∶Pt∶Ag＝2.5∶2.5∶5.0，这证实了上述二种或三种金属在透明导电涂层中形成了合金。
与此相反，涂有通常熟知的低反射率透明导电膜的对比实例1的使用透明导电层形成用涂料制造的阴极射线管具有由单种金属(Ag)的微粒构成的透明导电涂层，所以，在可见光透射频谱上有着高的透光度差值，以致色彩存在有偏差，透射图象的颜色显得不自然。另外，反射强，能观察到光雾，因此感受性不足。此外，耐盐性极低，以致耐久性不足。另一方面，对比实例2的使用透明导电层形成用涂料制造的阴极射线管有着由掺锑氧化锡构成的透明导电涂层，故有高的反射率和显示出光雾，以致感受性不足。另外，表面电阻高，以致电磁屏蔽效能不足，因此，与本发明的使用透明导电层形成用涂料制造的阴极射线管相比，作为低反射率电磁屏蔽显示装置，其价值基本上是低的。
工业应用性
如上所述，本发明的透明导电层形成用涂料含有优选自银、金、铜、铂、钯、钌、铑、铱、锇、铼和镍，且平均粒径在20nm以下的至少两种金属微粒，该透明导电层形成用涂料中包含的至少两种金属微粒的含量占该透明导电涂层的形成成分的10-100重量％，由此得到了高的透明度、可调色性和导电率，极高的防静电效能和电磁屏蔽效能，并能控制透射图象的色调。此外，在耐盐性、耐酸性、抗氧化能力和抗紫外线能力等方面耐久性极好，故能够形成透明导电涂层有利地用于各种类型的显示装置的防静电和电磁屏蔽。

Claims (10)

1.一种显示装置，其特征在于，在显示装置的显示面，具有含有合计量10重量％以上的选自银、金、铜、铂、钯、钌、铑、铱、锇、铼和镍的至少两种金属的、膜厚在5～200nm范围的透明导电层。
2.权利要求1记载的显示装置，其特征是：上述透明导电层中的至少二种金属微粒中的一种是银微粒。
3.权利要求1记载的显示装置，其特征是：上述透明导电层中的至少二种金属微粒中的一种是钯微粒。
4.权利要求1记载的显示装置，其特征是：上述透明导电层含有钯和银，且其比例为Pd∶Ag＝30～99重量％∶70～1重量％。
5.权利要求1所述显示装置，其特征在于，上述透明导电层中的金属的一部分是经熔化形成连续的金属薄膜而成的。
6.权利要求1所述显示装置，其特征在于，上述透明导电层中的金属的一部分是形成合金而成的。
7.如权利要求1所述显示装置，其特征在于，上述透明导电层是通过将含有选自银、金、铜、铂、钯、钌、铑、铱、锇、铼和镍的至少两种金属微粒，且这些金属微粒的平均粒径为100nm以下的透明导电层用涂料涂布到显示装置的显示面上之后，在150～250℃的温度范围内烘烤而形成的。
8.如权利要求7所述显示装置，其特征在于，上述透明导电层用涂料含有45重量％以上的醇。
9.如权利要求1所述显示装置，其特征在于，在上述透明导电膜的上层、或下层、或上层和下层，设置至少一层具有与上述透明导电层的折射率不同的折射率的透明薄膜。
10.如权利要求9所述显示装置，其特征在于，上述透明薄膜含有SiO2。
CNB031016189A 1996-06-11 1997-06-02 一种带有透明导电层的显示装置 Expired - Fee Related CN100338154C (zh)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP149505/96 1996-06-11
JP14950596 1996-06-11
JP149505/1996 1996-06-11
JP52053/97 1997-03-06
JP52053/1997 1997-03-06
JP5205397 1997-03-06

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN97191023A Division CN1104012C (zh) 1996-06-11 1997-06-02 透明导电膜,低反射率透明导电膜,和显示器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1442453A CN1442453A (zh) 2003-09-17
CN100338154C true CN100338154C (zh) 2007-09-19

Family

ID=26392662

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN97191023A Expired - Fee Related CN1104012C (zh) 1996-06-11 1997-06-02 透明导电膜,低反射率透明导电膜,和显示器
CNB031016189A Expired - Fee Related CN100338154C (zh) 1996-06-11 1997-06-02 一种带有透明导电层的显示装置

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN97191023A Expired - Fee Related CN1104012C (zh) 1996-06-11 1997-06-02 透明导电膜,低反射率透明导电膜,和显示器

Country Status (8)

Country Link
US (1) US6143418A (zh)
EP (1) EP0848386B1 (zh)
JP (1) JP3442082B2 (zh)
KR (1) KR19990036350A (zh)
CN (2) CN1104012C (zh)
DE (1) DE69734431T2 (zh)
TW (1) TW402630B (zh)
WO (1) WO1997048107A1 (zh)

Families Citing this family (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69739681D1 (de) 1996-09-26 2010-01-14 Asahi Glass Co Ltd Schutzplatte für ein Plasma-Display und Verfahren zur Herstellung derselben
JP4263780B2 (ja) 1996-12-26 2009-05-13 株式会社日本触媒 無機分散安定剤およびそれを用いた樹脂粒子の製法
EP0910864B1 (en) * 1997-04-28 2004-11-24 Koninklijke Philips Electronics N.V. Display device comprising an anti-static, anti-reflection filter and a method of manufacturing an anti-reflection filter on a cathode ray tube
TW505685B (en) * 1997-09-05 2002-10-11 Mitsubishi Materials Corp Transparent conductive film and composition for forming same
US6343865B1 (en) * 1998-02-17 2002-02-05 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Non-glare film, polarizing device and display device
JPH11250834A (ja) * 1998-03-03 1999-09-17 Hitachi Ltd カラー陰極線管
EP1074907A4 (en) * 1998-04-24 2005-11-16 Nissha Printing TOUCHSCREEN
JP3644476B2 (ja) * 1998-04-30 2005-04-27 松下電器産業株式会社 携帯用電子機器
JP2000043484A (ja) * 1998-07-30 2000-02-15 Ricoh Co Ltd 電子黒板システム
US6510005B1 (en) * 1998-10-27 2003-01-21 Irving S. Goldstein Filter for illusion apparatus
KR100453188B1 (ko) 1999-05-31 2004-10-15 삼성에스디아이 주식회사 콘트라스트가 향상된 음극선관 및 그 제조방법
US6480250B1 (en) * 1999-06-02 2002-11-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Low-reflection transparent conductive multi layer film having at least one transparent protective layer having anti-smudge properties
KR100309209B1 (ko) * 1999-07-31 2001-09-29 구본준, 론 위라하디락사 액정 표시장치 제조방법 및 그 제조방법에 따른 액정표시장치
KR100615154B1 (ko) * 1999-08-19 2006-08-25 삼성에스디아이 주식회사 콘트라스트가 향상된 음극선관
DE60023614T2 (de) * 1999-08-26 2006-07-27 Sumitomo Metal Mining Co. Ltd. Transparente, electrisch leitende Struktur und Verfahren zu ihrer Herstellung, Beschichtungs-Fluid dafür und Anzeigevorrichtung mit dieser Struktur
US6706219B2 (en) * 1999-09-17 2004-03-16 Honeywell International Inc. Interface materials and methods of production and use thereof
JP2002083518A (ja) * 1999-11-25 2002-03-22 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 透明導電性基材とその製造方法並びにこの透明導電性基材が適用された表示装置、および透明導電層形成用塗液とその製造方法
US6922224B1 (en) * 2000-03-23 2005-07-26 National Semiconductor Corporation Silicon-backed microdisplay with a glass-side passivation layer
NO20011710L (no) 2000-04-04 2001-10-05 Tokin Corp Lysemitterende element, plasma fremvisningspanel og CRT- fremvisningsanordning i stand til å undertrykke höyfrekvent stöy
HK1047653A1 (zh) * 2000-08-11 2003-02-28 Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. 透明导电膜及显示装置
JP4781604B2 (ja) * 2000-08-11 2011-09-28 石原産業株式会社 金属コロイド溶液の製造方法、該金属コロイド溶液を含む二液性塗料及びその製造方法と利用
JP2002231161A (ja) * 2001-01-30 2002-08-16 Hitachi Ltd 陰極線管とその製造方法
KR100786854B1 (ko) 2001-02-06 2007-12-20 삼성에스디아이 주식회사 디스플레용 필터막, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치
US6623662B2 (en) * 2001-05-23 2003-09-23 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Carbon black coating for CRT display screen with uniform light absorption
KR100507842B1 (ko) * 2002-01-11 2005-08-17 에스케이씨 주식회사 플라즈마 디스플레이 판넬용 전면 광학 필터
JP4479161B2 (ja) * 2002-03-25 2010-06-09 住友金属鉱山株式会社 透明導電膜とこの透明導電膜形成用塗布液および透明導電性積層構造体と表示装置
US7601406B2 (en) * 2002-06-13 2009-10-13 Cima Nanotech Israel Ltd. Nano-powder-based coating and ink compositions
US7736693B2 (en) * 2002-06-13 2010-06-15 Cima Nanotech Israel Ltd. Nano-powder-based coating and ink compositions
US7566360B2 (en) * 2002-06-13 2009-07-28 Cima Nanotech Israel Ltd. Nano-powder-based coating and ink compositions
KR20020064244A (ko) * 2002-07-02 2002-08-07 삼성코닝 주식회사 전자파 차폐능이 우수한 백라이트용 광 확산 필름
CN101522947A (zh) * 2005-06-10 2009-09-02 西玛耐诺技术以色列有限公司 增强的透明导电涂料及其制备方法
JP5124822B2 (ja) * 2005-07-19 2013-01-23 Ｄｏｗａエレクトロニクス株式会社 複合金属粉体およびその分散液の製造法
DE102005062421A1 (de) * 2005-12-27 2007-06-28 Vega Grieshaber Kg Heizeinrichtung für ein Feldgerätedisplay
JP2008164787A (ja) 2006-12-27 2008-07-17 Epson Imaging Devices Corp 液晶表示装置
KR100856508B1 (ko) * 2007-06-15 2008-09-04 주식회사 잉크테크 투명도전막 및 이의 제조방법
JP2010003060A (ja) * 2008-06-19 2010-01-07 Hitachi Displays Ltd タッチパネル付き表示装置
CN101713834B (zh) * 2008-10-07 2011-12-14 甘国工 高透光导电膜系
US20120295071A1 (en) 2009-12-28 2012-11-22 Toray Industries, Inc. Conductive laminated body and touch panel using the same
CN103493151A (zh) 2011-02-23 2014-01-01 迪睿合电子材料有限公司 透明导电膜、信息输入装置及电子设备
CN102214499B (zh) * 2011-03-21 2012-11-21 明基材料有限公司 含纳米银线的软性透明导电膜及其制造方法
KR20140009461A (ko) 2011-03-28 2014-01-22 도레이 카부시키가이샤 도전 적층체 및 터치 패널
HK1204140A1 (zh) * 2012-03-06 2015-11-06 迪睿合电子材料有限公司 透明導電膜、導電性元件、組合物、輸入裝置、顯示裝置和電子儀器
JP6255679B2 (ja) * 2012-03-06 2018-01-10 デクセリアルズ株式会社 透明導電膜、導電性素子、組成物、有色自己組織化材料、入力装置、表示装置および電子機器
TWI556267B (zh) * 2013-10-17 2016-11-01 三星Ｓｄｉ股份有限公司 透明導體和包含其的光學顯示器
TWI500048B (zh) 2013-12-30 2015-09-11 Ind Tech Res Inst 透明導電膜組合物及透明導電膜
WO2016144312A1 (en) * 2015-03-09 2016-09-15 Whirlpool Corporation Microwave oven having door with transparent panel
CN104951009B (zh) * 2015-07-01 2018-05-29 任剑岚 用于计算机的电磁屏蔽窗口
US10007302B2 (en) * 2016-02-15 2018-06-26 Neocoil, Llc Magnetic resonance imaging compatible mobile computing device
CN108179391A (zh) * 2017-12-25 2018-06-19 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 信息显示用柔性多层透明导电薄膜的制备方法
CN112888288B (zh) * 2021-01-18 2022-10-28 哈尔滨工业大学 一种基于超薄掺杂金属/介质复合结构的电磁屏蔽曲面光学窗

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63241804A (ja) * 1987-03-30 1988-10-07 東レ株式会社 透明導電性フイルム
JPH0649269A (ja) * 1992-03-27 1994-02-22 Mitsubishi Materials Corp 鱗片状Ａｇ−Ｐｄ合金導電性フィラー材及びそれを含む製品

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB599675A (en) * 1943-11-22 1948-03-18 Johnson Matthey Co Ltd Improvements in or relating to anti-glare, heat-reflecting light filters
US4262040A (en) * 1978-08-30 1981-04-14 Engelhard Minerals & Chemicals Corporation Decoration for ceramics having the appearance of gold
JPS5551737A (en) * 1978-10-09 1980-04-15 Tokyo Denshi Kagaku Kabushiki Transparent, electrically conductive film forming coating solution and film forming method
JPS5736714A (ja) * 1980-08-13 1982-02-27 Hitachi Ltd Tomeidenkyokunoseizohoho
JPS5785866A (en) * 1980-11-18 1982-05-28 Mitsubishi Metal Corp Antistatic transparent paint
JPS5882407A (ja) * 1981-11-11 1983-05-18 トヨタ自動車株式会社 透明導電膜の形成方法
JPS5891777A (ja) * 1981-11-25 1983-05-31 Mitsubishi Metal Corp 導電性透明塗料
US4565719A (en) * 1982-10-08 1986-01-21 Optical Coating Laboratory, Inc. Energy control window film systems and methods for manufacturing the same
JPS60220507A (ja) * 1984-04-16 1985-11-05 松下電器産業株式会社 透明導電膜およびその形成方法
JPS62278705A (ja) * 1986-05-26 1987-12-03 多木化学株式会社 透明導電材料
JPS6364012A (ja) * 1986-09-05 1988-03-22 Mitsubishi Electric Corp 整合望遠鏡の取付方法
JPH088080B2 (ja) * 1986-12-24 1996-01-29 株式会社東芝 陰極線管及び陰極線管の製造方法
JP2801600B2 (ja) * 1988-06-22 1998-09-21 株式会社東芝 陰極線管
EP0336304A1 (en) * 1988-04-04 1989-10-11 The B.F. Goodrich Company Ultra thin, electrically conductive coatings having high transparency and method for producing same
JPH0311532A (ja) * 1989-06-09 1991-01-18 Hitachi Ltd 陰極線管
JPH0365530A (ja) * 1989-08-02 1991-03-20 Hitachi Ltd 被膜の形成方法
JP3039945B2 (ja) * 1990-03-02 2000-05-08 株式会社日立製作所 カラーブラウン管
JP2913317B2 (ja) * 1990-05-18 1999-06-28 日清紡績株式会社 感光性樹脂組成物及び導電パターンの形成方法
JPH04196009A (ja) * 1990-11-27 1992-07-15 Taiyo Yuden Co Ltd 導電性ペーストとその製造方法
JP3320776B2 (ja) * 1991-06-19 2002-09-03 株式会社東芝 反射防止膜および表示装置
EP0533255A1 (en) * 1991-09-19 1993-03-24 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method of manufacturing a coating
JP2859783B2 (ja) * 1992-08-31 1999-02-24 住友大阪セメント株式会社 帯電防止・高屈折率膜形成用塗料および帯電防止・反射防止膜付き透明材料積層体および表示装置
TW250618B (zh) * 1993-01-27 1995-07-01 Mitsui Toatsu Chemicals
JP3262248B2 (ja) * 1993-08-31 2002-03-04 住友大阪セメント株式会社 反射防止膜
EP0649160B1 (en) * 1993-10-18 2001-09-19 Philips Electronics N.V. Method of manufacturing a coating on a display screen and a display device comprising a display screen having a coating
JP3302186B2 (ja) * 1994-09-01 2002-07-15 触媒化成工業株式会社 透明導電性被膜付基材、その製造方法および該基材を備えた表示装置
US5911899A (en) * 1995-06-15 1999-06-15 Mitsui Chemicals, Inc. Corrosion-proof transparent heater panels and preparation process thereof
JPH09286936A (ja) * 1996-04-22 1997-11-04 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 透明導電膜形成用塗布液、これを用いた透明導電膜及びその形成方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63241804A (ja) * 1987-03-30 1988-10-07 東レ株式会社 透明導電性フイルム
JPH0649269A (ja) * 1992-03-27 1994-02-22 Mitsubishi Materials Corp 鱗片状Ａｇ−Ｐｄ合金導電性フィラー材及びそれを含む製品

Also Published As

Publication number Publication date
EP0848386A4 (en) 2001-05-23
CN1104012C (zh) 2003-03-26
JP3442082B2 (ja) 2003-09-02
DE69734431D1 (de) 2005-12-01
DE69734431T2 (de) 2006-05-24
US6143418A (en) 2000-11-07
KR19990036350A (ko) 1999-05-25
TW402630B (en) 2000-08-21
HK1015066A1 (zh) 1999-10-08
EP0848386A1 (en) 1998-06-17
EP0848386B1 (en) 2005-10-26
CN1198835A (zh) 1998-11-11
WO1997048107A1 (fr) 1997-12-18
CN1442453A (zh) 2003-09-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100338154C (zh) 一种带有透明导电层的显示装置
CN1241232C (zh) 透明导电性基材、其制法及形成透明涂层用涂液和显示装置
CN1035262C (zh) 防带电高折射率膜的涂料、透明材料层合体和阴极射线管
CN1102084C (zh) 表面有多层膜的粉末及其制备方法
CN1930599A (zh) 透明层叠体
CN1355891A (zh) 滤光器
CN1177899C (zh) 形成透明导电层用的涂液
JP2009114326A (ja) 近赤外線吸収粘着体用分散液、近赤外線吸収粘着体、プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターおよびプラズマディスプレイパネル
CN1482854A (zh) 形成透明导电薄膜的涂层液，带薄膜的基层及显示设备
CN1109601A (zh) 透射屏及其制造方法
CN1436156A (zh) 透明涂膜基片、形成透明膜用的涂液及显示装置
CN1254336C (zh) 贵金属型微粒子分散液的制造方法及其用途
CN1188471C (zh) 导电颜料粉和用该导电颜料粉形成的透明导电膜
CN1290956A (zh) 具有平坦面板面的彩色阴极射线管
CN1278805C (zh) 铟系金属微粒的制造方法
CN101061399A (zh) 滤光片
CN1195878A (zh) 具有场防漏涂层的彩色阴极射线管
CN1639807A (zh) 导电膜及其制造方法以及具有该导电膜的基材
CN1191604C (zh) 显示装置及其制造方法
CN1278136C (zh) 叠层体及使用该叠层体的显示器用滤光器
CN1159389C (zh) 着色涂敷剂和彩色灯泡
CN1214402C (zh) 透明导电膜及显示装置
CN1787967A (zh) 制造透明涂布膜的涂布液与具有透明涂布膜的底材与显示装置
CN1233017C (zh) 彩色阴极射线管及其制造方法
CN1488698A (zh) 透明薄膜形成用涂布液及带透明薄膜的基体材料、显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20070919

Termination date: 20130602