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JP2006124732A - 三次元形状造形物の製造装置 - Google Patents

三次元形状造形物の製造装置 Download PDF

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Abstract

【課題】雰囲気ガスの入れ替えが造形に要する時間に影響を与えることがないものとする。
【解決手段】チャンバー5内のステージ上に形成された粉末層10の所定箇所に光ビームLを照射して照射位置の粉末を焼結する光ビーム照射手段3と、ステージ上及び既に焼結された焼結層上に粉末層を供給する粉末供給手段2と、チャンバー内に配設されて焼結層の形成の繰り返しの合間に焼結層の積層物である造形物の外面の除去加工を行う加工手段4と、チャンバー内を不活性雰囲気とする給排手段6とを備える。給排手段6は加工手段4による除去加工中にチャンバー内の雰囲気ガスの入れ換えを行うものである。造形に要する時間中に当初から含まれている加工手段による除去加工中に雰囲気ガスの入れ替えを行う。
【選択図】図1

Description

本発明は金属粉末からなる粉末層に光ビームを照射して焼結層を形成するとともにこの焼結層を積層することで所望の三次元形状造形物を製造する三次元形状造形物の製造装置に関するものである。
ステージ上に形成した粉末層の所定箇所に光ビーム(指向性エネルギービーム、例えばレーザ)を照射することで該当箇所の粉末を焼結させて焼結層を形成し、この焼結層の上に粉末材料の新たな層を被覆して所定箇所に光ビームを照射することで該当箇所の粉末を焼結させて下層の焼結層と一体になった新たな焼結層を形成することを繰り返すとともに、焼結層の形成の繰り返しの合間に焼結層の積層物である造形物の外面の除去加工を行う光造形法が特開2002−115004号公報(特許文献1)に開示されている。
このものでは所定雰囲気下に保たれるチャンバー内にステージ及び粉末を供給して粉末層を形成する粉末供給手段を配置し、チャンバー外に配した光ビーム照射手段からチャンバーにおける光透過性の窓を通じて粉末層に対する光ビームの照射を行っている。
ところで粉末に高エネルギー光ビームを照射して粉末を焼結(いったん溶融させた後に凝固させる場合を含む)する際、ヒューム(粉末が金属粉末であれば金属蒸気など)が発生する。このヒュームは上昇して直上位置にある上記窓に付着したり焼き付いたりして窓を曇らせて光ビームの透過率を低下させてしまうために、焼結が安定しないとか焼結部分の密度を高くすることができなくて三次元形状造形物の強度が低下してしまうといった問題を招く。また、飛散した粉末によっても光ビームの透過率の低下を招く。
一方、光ビームの照射時にはチャンバー内を窒素等の不活性雰囲気ガスを満たすことで、焼結させた造形物が酸化状態となることがないようにしているのであるが、上記ヒュームは雰囲気ガスを汚染して、光ビームの透過率を低下させてしまう。
チャンバー内の雰囲気ガスを循環させるとともに循環路中に集塵部を具備する循環手段を設けることで、雰囲気ガスの汚染を抑えることができるが、集塵部で捕捉することができる粒子径の点などから、造形途中に雰囲気ガスを入れ替えなくては光ビームによる焼結に悪影響が生じることがある。
しかし、雰囲気ガスの入れ替えは、チャンバー内に圧縮空気を供給してそれまでチャンバー内に充填されていた不活性の雰囲気ガスを追い出し、その後、不活性ガスをチャンバー内に供給するという手順で行うことから、どうしても時間がかかるものであり、しかも雰囲気ガスの入れ替え中は光ビームの照射による焼結を行うことができないことから、造形途中に雰囲気ガスの入れ替えを行うことは、造形に要する時間を長くしてしまうことになる。
特開2002−115004号公報
本発明は上記の従来の問題点に鑑みて発明したものであって、その目的とするところは雰囲気ガスの入れ替えが造形に要する時間に影響を与えることがない三次元形状造形物の製造装置を提供することを課題とするものである。
上記課題を解決するために本発明に係る三次元形状造形物の製造装置は、チャンバー内のステージ上に形成された粉末層の所定箇所に光ビームを照射して照射位置の粉末を焼結する光ビーム照射手段と、ステージ上及び既に焼結された焼結層上に粉末層を供給する粉末供給手段と、チャンバー内に配設されて焼結層の形成の繰り返しの合間に焼結層の積層物である造形物の外面の除去加工を行う加工手段と、チャンバー内を不活性雰囲気とする給排手段とを備えている三次元形状造形物の製造装置であって、上記給排手段は加工手段による除去加工中にチャンバー内の雰囲気ガスの入れ換えを行うものであることに特徴を有している。造形に要する時間中に当初から含まれている加工手段による除去加工中に雰囲気ガスの入れ替えを行うようにしたものである。
チャンバー内の雰囲気ガスを循環させるとともに循環路中に集塵部を具備する循環手段を備えたものとしてもよく、この場合の循環手段は、チャンバー内からの吸気を行う吸気部とチャンバー内に向けて吐出する吐出部とが前記ステージの上方空間を挟んで対向配置されているもの、あるいはチャンバー内に配されて光ビーム通過空間を囲む傘内にチャンバー内からの吸気を行う吸気部を位置させているものを好適に用いることができる。
また上記循環手段における集塵部は、密閉されるとともに内部空間がチャンバー内と連通する容器内に配設されているものが好ましい。
本発明は、焼結層の形成の繰り返しの合間に行われる加工手段での除去加工中に、給排手段によるチャンバー内の雰囲気ガスの入れ換えがなされるものであり、造形に要する時間中に当初から含まれている除去加工中に雰囲気ガスの入れ替えがなされることから、雰囲気ガスの入れ替えが造形に要する時間を長くしてしまうことがないものである。
以下、本発明を添付図面に示す実施形態に基いて説明すると、図示例の三次元形状造形物の製造装置は、粉末層形成手段2と光ビーム照射手段3と加工手段4、そして粉末層形成手段2と除去加工用の加工手段4とを内部に納めているチャンバー5、さらにチャンバー5内の雰囲気を所定状態に保つための給排手段6で構成されているもので、上記粉末層形成手段2は、外周が囲まれた造形タンク21内をシリンダー駆動で上下に昇降するステージ22上に粉末タンク23内の金属粉末をスキージング用ブレード24で供給するとともに均すことで所定厚みΔt1の粉末層10をステージ22上に形成するものとして構成されている。
光ビーム照射手段3は、レーザー発振器30から出力されたレーザーをガルバノミラー31等のスキャン光学系を介して上記粉末層10に照射するものであり、チャンバー5外に配設されていて、該光ビーム照射手段3から出射された光ビームLはチャンバー5に設けられた光透過性の窓50を通じて粉末層に照射される。
加工手段4は図示例では上記粉末層形成手段2のベース部にXY駆動機構を介して設けたミーリングヘッドで構成されている。
給排手段6は、窒素源60と窒素供給弁61、圧縮空気源62,空気供給弁63、排気弁64,排気ファン65等で構成されたもので、光ビームLによる焼結中はチャンバー5内を窒素が充填された不活性雰囲気に保つ。図中66は酸素濃度計である。
このものにおける三次元形状造形物の製造は、ステージ22上に粉末タンク23から溢れさせた金属粉末をブレード24で供給すると同時にブレード24で均すことで第1層目の粉末層10を形成し、この粉末層10の硬化させたい箇所に光ビーム(レーザー)Lを照射して金属粉末を焼結させて焼結層11を形成する。
この後、ステージ22を少し下げて再度金属粉末を供給してブレード24で均すことで第1層目の粉末層10(と焼結層11)の上に第2層目の粉末層10を形成し、この第2層目の粉末層10の硬化させたい箇所に光ビームLを照射して粉末を焼結させて下層の焼結層11と一体化した焼結層11を形成する。
ステージ22を下降させて新たな粉末層10を形成し、光ビームLを照射して所要箇所を焼結層11とする工程を繰り返すことで、焼結層の積層物として目的とする三次元形状造形物を製造するものである。光ビームLの照射経路(ハッチング経路)は、製造しようとする造形物についての三次元CADデータから予め作成しておく。すなわち、三次元CADモデルから生成したSTLデータを等ピッチ(Δt1を0.05mmとした場合、0.05mmピッチ)でスライスした各断面の輪郭形状データを用いる。
そして、上記粉末層10を形成しては光ビームを照射して焼結層11を形成することを繰り返していくのであるが、焼結層11の全厚みがたとえば加工手段4であるミーリングヘッドの工具長さなどから求めた所要の値になれば、いったん加工手段4を作動させてそれまでに造形した造形物の表面を切削する。たとえば、ミーリングヘッド41の工具(ボールエンドミル)が直径1mm、有効刃長3mmで深さ3mmの切削加工が可能であり、粉末層10の厚みΔt1が0.05mmであるならば、60層の焼結層11を形成した時点で、加工手段4を作動させる。
この加工手段4による切削除去加工により、造形物表面に付着した粉末による低密度表面層を除去して造形物表面をきれいな面に保つ。加工手段4による切削加工経路は、光ビームの照射経路と同様に予め三次元CADデータから作成しておく。また、この照射経路を元に、加工手段4による切削加工に要する時間Tを演算しておく。
ここにおいて、金属粉末に光ビームを照射して焼結させる時、前述のようにヒュームHが発生し、チャンバー5内の不活性雰囲気ガスを汚染する。このために定期的に、あるいは不活性雰囲気ガスの汚染度が所定値まで高くなった時に、雰囲気ガスの入れ替えを行うのであるが、この雰囲気ガスの入れ替えは、粉末層形成手段2と光ビーム照射手段3と加工手段4並びに給排手段6の制御を司る制御装置7の制御の元に、加工手段4による加工工程中に給排手段6を作動させることで行う。
すなわち、雰囲気ガスの入れ替えは、排気弁64を開いて排気ファン65を作動させることで不活性雰囲気ガスを排出すると同時に空気供給弁63を開いて圧縮空気をチャンバー5内に導入することで、汚染されている雰囲気ガスを押し出し、その後、窒素供給弁61を開いて窒素源60からの窒素をチャンバー5内に導入することで行うのであるが、チャンバー5内に窒素を導入して充満させるのに要する時間tは既知であることから、制御装置7は焼結工程から加工工程に入った時点で上記空気供給による押し出し排気動作を開始する。この排気は、図2に示すように、切削加工に要する時間Tから上記窒素導入に要する時間tを差し引いた時間T−t時間だけ行い、次いで上記の窒素導入動作を行う。従って、加工手段4による切削加工が終了した時点では、雰囲気ガス(窒素)の入れ替えが完了しているものであり、このために直ちに次の焼結工程に入ることができる。
図1中の90は照射ターゲット91を撮像する撮像する撮像カメラ、92は照射ターゲット91を照明する照明である。加工手段4に付設されたこれら設備は、本来は加工手段4と光ビーム照射手段3との位置合わせや光ビーム照射位置の補正を行うために設けたものであるが、雰囲気ガスの汚染度が高くなれば、撮像カメラ90で撮像した照射ターゲット91の明るさ等が変化することから、この点を元に雰囲気ガスの汚染度を検出し、汚染度が高くなれば、雰囲気ガスの入れ替えを行うようにしてもよい。
図3はチャンバー5内の雰囲気ガスを循環させる循環手段8を別途設けたものを示しており、この循環手段8は循環用のファン80と集塵装置81とを備えている。ヒュームHを含んでいる雰囲気ガスは上記集塵装置81を通ることでヒュームHが除去される。
ここで、循環手段8におけるチャンバー5内の雰囲気ガスの吸気を行う吸気部85と、チャンバー5内に向けて吐出する吐出部86とは、前記ステージ22の上方空間を挟む位置に対向配置されており、吐出部86から吐出された雰囲気ガスはステージ22の上方空間を横切って吸気部85に向かうエアカーテンを構成することになる。このエアカーテンは、ヒュームHが光ビームLを透過させる窓50を汚すことを効果的に防止する。なお、上記吐出部86と吸気部85は図4に示すように窓50寄りの位置に配置してもよい。
循環手段8を設ける場合、図5に示すように、チャンバー5内に光ビームLの通過空間を囲む傘88を設けて、この傘88の内部に吸気部85を配置し、吐出部86を傘88の外部に配置するようにしてもよい。この時、傘88の上端は窓50の枠に近接乃至密着させ、傘88の下端は傘88の外の雰囲気ガスが傘88内に入りこむことができるように隙間を明けておく。ヒュームHは傘88内に閉じ込められてチャンバー5内の全体に広がることはなく、また吸気部85から効果的に吸い込まれて集塵されることになる。なお、この傘88は加工手段4で加工を行う際は上記位置から退避位置へ移動させることができるようになっている。
ところで、循環手段8における集塵装置81は、吸い込んだ気体の中から塵埃を捕集し、吸い込んだ気体は放出するように設計されていることから、集塵装置81そのものは気密性をさほど有しておらず、このために雰囲気ガスを循環させる循環手段8中に配置した場合、雰囲気ガスが漏れてしまうことになると同時に、循環させている雰囲気ガス中に酸素が入ってしまう虞を有している。
図6はこの点に対処したものを示しており、循環用のファン80と集塵装置81とを密閉した容器85内に配置するとともに、容器85の内部空間はチャンバー5内の空間とパイプ86により連通させている。集塵装置81から雰囲気ガスが漏れてもチャンバー5内とつながった容器85内に漏れるだけであり、外部に雰囲気ガスが放出されないことから、雰囲気ガスの使用量の低減することができると同時に、チャンバー5内の不活性雰囲気を保つことができる。
図7に示すように、上記容器85内に雰囲気ガス(窒素)を供給するようにしてもよい。循環手段8におけるファン80による負圧が原因で容器85内の気体を吸い込んでも、容器85内の気体は雰囲気ガスであることから、チャンバー5内の酸素濃度が上がることがないものである。また、容器85内に雰囲気ガスを加圧気味に加えるならば、容器85として気密性がさほど高くないものを用いることができる。
なお、集塵装置81やファン80を含む循環手段8の密閉度が高ければ、上記容器85が不要であることはもちろんである。
本発明の実施の形態の一例を示すブロック図である。 同上の動作の説明図である。 循環手段を設けた例を示すもので、(a)は概略水平断面図、(b)は部分縦断面図である。 他例の部分縦断面図である。 別の例を示すもので、(a)は概略断面図、(b)は傘の斜視図である。 循環手段の更に他例を示す断面図である。 循環手段の他の例を示す断面図である。
符号の説明
2 粉末供給手段
3 光ビーム照射手段
4 加工手段
5 チャンバー
6 給排手段

Claims (4)

  1. チャンバー内のステージ上に形成された粉末層の所定箇所に光ビームを照射して照射位置の粉末を焼結する光ビーム照射手段と、ステージ上及び既に焼結された焼結層上に粉末層を供給する粉末供給手段と、チャンバー内に配設されて焼結層の形成の繰り返しの合間に焼結層の積層物である造形物の外面の除去加工を行う加工手段と、チャンバー内を不活性雰囲気とする給排手段とを備えている三次元形状造形物の製造装置であって、上記給排手段は加工手段による除去加工中にチャンバー内の雰囲気ガスの入れ換えを行うものであることを特徴とする三次元形状造形物の製造装置。
  2. チャンバー内の雰囲気ガスを循環させるとともに循環路中に集塵部を具備する循環手段を備えており、該循環手段はチャンバー内からの吸気を行う吸気部とチャンバー内に向けて吐出する吐出部とが前記ステージの上方空間を挟んで対向配置されていることを特徴とする請求項1記載の三次元形状造形物の製造装置。
  3. チャンバー内の雰囲気ガスを循環させるとともに循環路中に集塵部を具備する循環手段と、チャンバー内の光ビーム通過空間を囲む傘とを備えるとともに、上記循環手段はチャンバー内からの吸気を行う吸気部を傘内に位置させていることを特徴とする請求項1記載の三次元形状造形物の製造装置。
  4. 循環手段における集塵部は密閉されるとともに内部空間がチャンバー内と連通する容器内に配設されていることを特徴とする請求項2または3記載の三次元形状造形物の製造装置。
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