JP2008298630A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体集積回路に係り、より詳しくは、テストパッド制御回路を有する半導体集積回路に関する。 The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having a test pad control circuit.
半導体集積回路チップの検査において、内部電源をテストモードで外に取り出し、電圧テストを行うモードがある。この場合、複数のチップがテスト用ボード又は基板に搭載されてテストされる。このため、各チップの内部電源電圧の取り出しパッドは、共通のチェック端子に接続され、順次、選択されたチップの内部電源電圧だけがパッドに取り出されてテストされる構成になっている。 In the inspection of the semiconductor integrated circuit chip, there is a mode in which an internal power supply is taken out in a test mode and a voltage test is performed. In this case, a plurality of chips are mounted on a test board or substrate and tested. For this reason, the internal power supply voltage extraction pad of each chip is connected to a common check terminal, and only the internal power supply voltage of the selected chip is sequentially extracted and tested.
ところで、測定される内部電圧が高電圧である場合、選択時におけるチップの内部電圧が所定のレベルを超えたとき、または非選択時におけるチップのパッドの電圧が所定のレベルを超えたときには、高電圧による障害が発生しないよう何らかの対策が講じられる必要がある。特許文献1には、マルチチップパッケージに実装された複数のチップを共通のパッドを通じてテストする場合、テストモードに必要な高電圧の代わりに、電源電圧レベルのノーマル電圧を外部パッドを通じて入力した後、選択されたチップの内部でこのノーマル電圧を昇圧することにより、他のチップの高電圧による損傷を防止する旨の記載がある。
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、その目的は、選択時及び非選択時の高電圧状態をチェックし、高電圧による障害が発生しないよう耐圧緩和制御を行うテストパッド制御回路を有する半導体集積回路を提供することにある。 The present invention has been made to solve such a problem, and its purpose is to check the high voltage state at the time of selection and non-selection and to perform withstand voltage relaxation control so as not to cause a failure due to the high voltage. An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit having a test pad control circuit.
本発明の半導体集積回路は、テストパッド制御回路を有する半導体集積回路であって、内部高電圧電源に接続された第1のスイッチトランジスタと、パッドに接続された第2のスイッチトランジスタと、制御信号により、第1のスイッチトランジスタをオンし、内部高電圧電源が所定の電圧を越えたことを示す第1の検出信号により、保有しているトランジスタ回路に印加される電圧を緩和する第1のスイッチ制御回路と、制御信号により、第2のスイッチトランジスタをオンし、パッドに印加された電圧が所定の電圧を越えたことを示す第2の検出信号により、保有しているトランジスタ回路に印加される電圧を緩和する第2のスイッチ制御回路と、パッドに印加された電圧が所定の電圧を越えると第2の検出信号を発生するレベル検出回路とを有し、制御信号による選択時において、半導体集積回路の第1及び第2のスイッチ制御回路は、第1および第2のスイッチトランジスタをオンし、且つ、第1のスイッチ制御回路は、内部高電圧電源が所定の電圧を越えると、第1の検出信号により、保有しているトランジスタ回路に印加される電圧を緩和し、第2のスイッチ制御回路は、第2の検出信号により、保有しているトランジスタ回路に印加される電圧を緩和し、非選択時において、半導体集積回路の第1及び第2のスイッチ制御回路は、第1および第2のスイッチトランジスタをオフし、且つ、第2のスイッチ制御回路は、パッドに印加された電圧が所定の電圧を越えると、第2の検出信号により、保有しているトランジスタ回路に印加される電圧を緩和することを特徴とする。 A semiconductor integrated circuit of the present invention is a semiconductor integrated circuit having a test pad control circuit, and includes a first switch transistor connected to an internal high voltage power supply, a second switch transistor connected to a pad, a control signal The first switch that turns on the first switch transistor and relaxes the voltage applied to the held transistor circuit by the first detection signal indicating that the internal high-voltage power supply has exceeded a predetermined voltage. The control circuit and the control signal turn on the second switch transistor, and the second detection signal indicating that the voltage applied to the pad has exceeded a predetermined voltage is applied to the transistor circuit that is held. A second switch control circuit for relaxing the voltage, and a level detection circuit for generating a second detection signal when the voltage applied to the pad exceeds a predetermined voltage. When the control signal is selected, the first and second switch control circuits of the semiconductor integrated circuit turn on the first and second switch transistors, and the first switch control circuit When the high-voltage power supply exceeds a predetermined voltage, the voltage applied to the transistor circuit that is held is relaxed by the first detection signal, and the second switch control circuit is held by the second detection signal. The first and second switch control circuits of the semiconductor integrated circuit turn off the first and second switch transistors and the second The switch control circuit is characterized in that when the voltage applied to the pad exceeds a predetermined voltage, the voltage applied to the held transistor circuit is relaxed by the second detection signal. That.
本発明の半導体集積回路のレベル検出回路は、外部テスターからの活性化信号を受信する独立のパッドを有し、活性化信号により動作することを特徴とする。 The level detection circuit of the semiconductor integrated circuit according to the present invention has an independent pad for receiving an activation signal from an external tester, and is operated by the activation signal.
本発明の半導体集積回路によれば、選択時及び非選択時の高電圧状態をチェックし、高電圧による障害が発生しないよう耐圧緩和制御を行うテストパッド制御回路を有する半導体集積回路が可能となるため、複数の半導体集積回路チップのテストパッドを共通に接続して、内部電源テストを連続して行う場合、安全にテストを実施できる半導体集積回路を提供することが可能となる。 According to the semiconductor integrated circuit of the present invention, a semiconductor integrated circuit having a test pad control circuit that checks a high voltage state at the time of selection and non-selection and performs withstand voltage relaxation control so that a failure due to the high voltage does not occur can be realized. Therefore, when the test pads of a plurality of semiconductor integrated circuit chips are connected in common and the internal power supply test is continuously performed, it is possible to provide a semiconductor integrated circuit that can safely perform the test.
本発明による半導体集積回路の実施の形態について、図を用いて説明する。図2は、本発明による半導体集積回路チップのテストにおける接続構成を示す接続図である。図2において、複数の半導体集積回路チップがメモリテスターに接続されている。各チップの内部電圧は、順次、テストパッド制御回路100により制御されてパッドに取り出され、メモリテスターにより検査される。次にチップのテストパッド制御回路100の動作について説明する。
Embodiments of a semiconductor integrated circuit according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a connection diagram showing a connection configuration in a test of a semiconductor integrated circuit chip according to the present invention. In FIG. 2, a plurality of semiconductor integrated circuit chips are connected to a memory tester. The internal voltage of each chip is sequentially controlled by the test
図1は、本発明のテストパッド制御回路の回路構成を示すブロック図である。図1において、テストパッド制御回路100を構成する第1のスイッチトランジスタ10のドレインと第2のスイッチトランジスタ15のドレインとは、互いに接続されている。第1のスイッチトランジスタ10のソースは、第1のPウエル12と内部高電圧電源HVNEGとに接続されている。第2のスイッチトランジスタ15のソースは、第2のPウエル17とパッド25とに接続されている。
FIG. 1 is a block diagram showing a circuit configuration of a test pad control circuit according to the present invention. In FIG. 1, the drain of the
第1のスイッチ制御回路30−1の制御信号入力端INは、テストイネーブル信号TESTENに接続され、出力端OUTは、第1のスイッチトランジスタ10のゲートに接続され、検出信号入力端HVDETは、第1の検出信号NEGDETに接続され、負電圧入力端VNEGは、内部高電圧電源HVNEGに接続されている。第2のスイッチ制御回路30−2の制御信号入力端INは、テストイネーブル信号TESTENに接続され、出力端OUTは、第2のスイッチトランジスタ15のゲートに接続され、負電圧入力端VNEGは、パッド25に接続されている。レベル検出回路20の負電圧入力端VNEGは、パッド25に接続され、検出信号出力端DETOUTは、第2のスイッチ制御回路30−2の検出信号入力端HVDETに接続されている。なおレベル検出回路20は、周知のレベル検出回路であってよい。
The control signal input terminal IN of the first switch control circuit 30-1 is connected to the test enable signal TESTEN, the output terminal OUT is connected to the gate of the
内部高電圧電源HVNEGのレベルをテスターでモニタするチップの選択モードにおいて、第1及び第2のスイッチ制御回路30−1、2は、テストイネーブル信号TESTENのハイレベルを受信し、第1及び第2のスイッチトランジスタ10、15をオンする。これにより、内部高電圧電源HVNEGはパッド25に伝達され、テスターでモニタされる。非選択モードにおいては、パッドを共有している他のチップの出力をチップ内に取り込まないように、テストイネーブル信号TESTENのローレベルを受信し、第1及び第2のスイッチトランジスタ10、15をオフする。このように、第1及び第2のスイッチ制御回路30−1、2は、基本的には、第1のスイッチトランジスタ10及び第2のスイッチトランジスタ15を、それぞれ確実にスイッチ動作させるためのレベルシフタとして動作している。
In the chip selection mode in which the level of the internal high voltage power supply HVNEG is monitored by a tester, the first and second switch control circuits 30-1 and 30-2 receive the high level of the test enable signal TESTEN and receive the first and second The
図3は、第1及び第2のスイッチ制御回路を示す回路図である。図3において、PMOSトランジスタ31、32のソース及びPMOSトランジスタ34、35のソースは、それぞれインバータ38の出力端に接続されている。PMOSトランジスタ31、32のドレインは、NMOS33のドレインに接続されるとともに、PMOSトランジスタ34のゲートに接続されている。PMOSトランジスタ34、35のドレインは、NMOS36のドレインに接続されるとともに、PMOSトランジスタ32のゲート及び出力端OUTに接続されている。NMOS33のゲートはPMOSトランジスタ32のゲートに、ソースは負電圧入力端VNEGに接続されている。NMOS36のゲートはPMOSトランジスタ34のゲートに、ソースは負電圧入力端VNEGに接続されている。
FIG. 3 is a circuit diagram showing the first and second switch control circuits. In FIG. 3, the sources of
NOR回路37の出力端はPMOSトランジスタ35のゲートに、一方の入力端は検出信号入力端HVDETに、他方の入力端はPMOSトランジスタ31のゲートに接続されている。インバータ38の入力端は、検出信号入力端HVDETに接続されている。NOR回路39の出力端はPMOSトランジスタ31のゲートに、一方の入力端は検出信号入力端HVDETに、他方の入力端はインバータ40の出力端に接続されている。インバータ40の入力端は、制御信号入力端INに接続されている。
The output terminal of the
図4は、第1及び第2のスイッチ制御回路の各ノードにおける電圧を示す電圧レベル表である。図4aにおいて、選択時である制御信号入力端INのテストイネーブル信号TESTENがハイレベルで、且つ、内部高電圧電源HVNEGが一定の電圧範囲内(例えば0〜−5Vの範囲)である検出信号入力端HVDETの第1の検出信号NEGDETがローレベルである状態2のとき、インバータ38の出力端のノードLSVDD及びノードBのレベルはハイレベルとなり、ノードAのレベルはローレベルとなる。このためPMOSトランジスタ35とNMOSトランジスタ33とがオンし、PMOSトランジスタ32がオフするためノードCはローレベルとなる。ここでPMOSトランジスタ34がオンし、NMOSトランジスタ36がオフするため、出力端OUTはインバータ38の出力端のノードLSVDDのハイレベルを出力し、第1のスイッチトランジスタ10をオンする。同様に第2のスイッチトランジスタ15もオンされ、内部高電圧電源HVNEGはパッド25に伝達され、テスターでモニタされる。
FIG. 4 is a voltage level table showing voltages at the respective nodes of the first and second switch control circuits. In FIG. 4a, the detection signal input when the test enable signal TESTEN at the control signal input terminal IN at the time of selection is at a high level and the internal high voltage power supply HVNEG is within a certain voltage range (for example, a range of 0 to -5V). When the first detection signal NEGDET at the terminal HHDET is in the
また、非選択時である制御信号入力端INのテストイネーブル信号TESTENがローレベルで、且つ、内部高電圧電源HVNEGが一定の電圧範囲内である検出信号入力端HVDETの第1の検出信号NEGDETがローレベルである状態1のとき、ノードBのレベルはローレベルとなり、インバータ38の出力端のノードLSVDD及びノードA、Cのレベルはハイレベルとなる。このためPMOSトランジスタ34、35はオフし、NMOS36がオンするため、出力端OUTは負電圧入力端VNEGの電圧である内部高電圧電源HVNEGのレベルを出力し、第1のスイッチトランジスタ10をオフする。同様に第2のスイッチトランジスタ15もオフされ、パッド25に掛かる電圧が、内部に伝達されることはない。
In addition, when the test enable signal TESTEN at the control signal input terminal IN that is not selected is at a low level and the internal high voltage power supply HVNEG is within a certain voltage range, the first detection signal NEGDET at the detection signal input terminal HHDET is In the
状態2から、内部高電圧電源HVNEGが所定の値を越えた(例えば−5V以下)ことを示すHVDETの第1の検出信号NEGDETがハイレベルである(半導体集積回路内で生成される)状態4に遷移すると、インバータ38の出力端のノードLSVDD、ノードA及びノードBのレベルはローレベルとなる。このときPMOSトランジスタ35とPMOSトランジスタ31がオフ状態になるが、PMOSトランジスタ32とPMOSトランジスタ34とNMOSトランジスタ33とNMOSトランジスタ36で構成されるラッチにより状態2における論理状態が保持されるため、出力端OUTはインバータ38の出力端のノードLSVDDのローレベルを出力し、第1のスイッチトランジスタ10をオンする。同様に第2のスイッチトランジスタ15もオンになる。
From
このように、内部高電圧電源HVNEGが所定の値を越えた場合は、NMOSトランジスタ36のドレイン電圧はインバータ38の出力端のノードLSVDDと同じローレベルとなる。この耐圧緩和制御動作により、NMOSトランジスタ36のソース・ドレイン間には、内部高電圧電源HVNEGが所定の値を越えた電圧とノードLSVDDの電圧VDDとの和の電圧が掛かることはなく、耐圧破壊などの障害を回避できる。同様にPMOSトランジスタ31、32についても耐圧破壊などの障害を回避できる。
Thus, when the internal high voltage power supply HVNEG exceeds a predetermined value, the drain voltage of the
次に状態1の第2のスイッチ制御回路30−2において、パッド25に掛かる電圧が所定の値を越えると、レベル検出回路20はこれを検知し、第2の検出信号PADDETがハイレベルである状態3に遷移する。このとき、インバータ38の出力端のノードLSVDD、ノードA及びノードBのレベルはローレベルとなる。また、PMOSトランジスタ31とPMOSトランジスタ35はオフ状態になるが、PMOSトランジスタ32とPMOSトランジスタ34とNMOSトランジスタ33とNMOSトランジスタ36で構成されるラッチにより状態1における論理状態が保持されるため、出力端OUTはパッド25に掛かる電圧が所定の値を越えたレベルを出力し、第2のスイッチトランジスタ15のオフ状態を維持する。
Next, in the second switch control circuit 30-2 in the
このとき、NMOSトランジスタ33のドレイン電圧は、ノードLSVDDの電圧と同じく、ハイレベルからローレベルに遷移する。この耐圧緩和制御動作により、NMOSトランジスタ33のソース・ドレイン間には、パッド25の電圧が所定の値を越えた電圧とノードLSVDDの電圧VDDとの和の電圧が掛かることはなく、耐圧破壊などの障害を回避できる。同様にPMOSトランジスタ34、35についても耐圧破壊などの障害を回避できる。図4bは、VDD=1.8V、GND=0V、VNEG=−5V、及び所定のレベルを超えた電圧=−10Vのときの、状態1〜4の各ノードの電圧レベルを示している。
At this time, the drain voltage of the
図5は、状態2から4に遷移したときの各電圧の変化を示す電圧遷移図である。図5において、チップ選択のため、第1のスイッチ制御回路30−1にテストイネーブル信号TESTENのハイレベルが印加される。半導体集積回路の内部高電圧電源HVNEGの電圧が一定の電圧範囲内であれば、半導体集積回路内で発生される第1の検出信号NEGDETはローレベルである。このとき、インバータ38の出力端のノードLSVDDの電圧はハイレベルとなり、出力端OUTからハイレベルの出力信号OUT1が出力される。第2のスイッチ制御回路30−2においても同様の動作が行われ、出力端OUTからハイレベルの出力信号OUT2が出力される。これにより、第1及び第2スイッチトランジスタ10、15はオンし、内部高電圧電源HVNEGの電圧はパッド25にパッド電圧NEGPADとして伝達され、テストが開始される。
FIG. 5 is a voltage transition diagram showing changes in each voltage when transitioning from
テスト中、内部高電圧電源HVNEGが所定の値を超えると、第1の検出信号NEGDETはハイレベルとなり、レベル検出回路20もパッド25の電圧を検知して、第2の検出信号PADDETはハイレベルとなる。これに応答して、インバータ38の出力端のノードLSVDDの電圧はハイレベルからローレベルとなり、耐圧緩和制御動作により、NMOSトランジスタ36及びPMOSトランジスタ31、32を保護する。また出力端OUTからは、ローレベルの出力信号OUT1、2がそれぞれ出力され、第1及び第2スイッチトランジスタ10、15をオンする。
During the test, when the internal high voltage power supply HVNEG exceeds a predetermined value, the first detection signal NEGDET becomes high level, the
図6は、状態1から3に遷移したときの各電圧の変化を示す電圧遷移図である。図6において、チップ非選択のため、第1のスイッチ制御回路30−1にテストイネーブル信号TESTENのローレベルが印加される。半導体集積回路の内部高電圧電源HVNEGの電圧が一定の電圧範囲内であれば、半導体集積回路内で発生される第1の検出信号NEGDETはローレベルである。このとき、インバータ38の出力端のノードLSVDDの電圧はハイレベルとなり、出力端OUTからローレベルの出力信号OUT1が出力される。第2のスイッチ制御回路30−2において、パッド25に掛かる電圧が所定の値を超えると、レベル検出器20はこれを検知し、第2の検出信号PADDETがハイレベルとなる。このとき、インバータ38の出力端のノードLSVDDの電圧はローレベルとなり、出力端OUTからNEGPADと同じレベルの信号OUT2が出力される。これにより、第1及び第2スイッチトランジスタ10、15はオフし、パッド25に掛かる電圧は内部に伝達されない。
FIG. 6 is a voltage transition diagram showing changes in each voltage when transitioning from the
このとき選択された他のチップの内部高電圧電源HVNEGが所定の値を越えると、レベル検出回路20はパッド25の電圧を検知して、第2の検出信号PADDETはハイレベルとなる。これに応答して、インバータ38の出力端のノードLSVDDの電圧はハイレベルからローレベルとなり、耐圧緩和制御動作により、NMOSトランジスタ33及びPMOSトランジスタ34、35を保護する。また出力端OUTからは、NEGPADと同じレベルの出力信号OUT2が出力され、第2スイッチトランジスタ15のオフを維持する。
When the internal high voltage power supply HVNEG of another chip selected at this time exceeds a predetermined value, the
図7は、本発明のテストパッド制御回路のレベル検出回路が活性化信号を受信する独立のパッドを有した回路構成を示すブロック図である。半導体集積回路チップの電源を投入後、レベル検出回路20を常時動作させておくと、スタンバイ電流のスペックを守れなくなる場合がある。このため、レベル検出回路20を非選択時に活性化させるための独立のパッド27を設け、テスターから個別に制御を可能とする。図8は、本発明のレベル検出回路が活性化信号を受信する独立のパッドを有した半導体集積回路チップのテストの接続構成を示す接続図である。これにより、非選択チップについては独立のパッド27で検出回路20を活性化する制御が可能となり、トランジスタ回路の耐圧緩和とスタンバイ電流のスペック実現を両立することが可能となる。
FIG. 7 is a block diagram showing a circuit configuration in which the level detection circuit of the test pad control circuit of the present invention has an independent pad for receiving an activation signal. If the
以上説明したように、本発明によると、選択時及び非選択時の高電圧状態をチェックし、高電圧による障害が発生しないよう耐圧緩和制御を行うテストパッド制御回路を有する半導体集積回路が可能となるため、複数の半導体集積回路チップのテストパッドを共通に接続して、内部電源テストを連続して行う場合、安全にテストを実施できる半導体集積回路を提供することが可能となる。さらに独立のパッドを設けることで、トランジスタ回路の耐圧緩和とスタンバイ電流のスペック実現を両立することが可能となる。 As described above, according to the present invention, a semiconductor integrated circuit having a test pad control circuit that checks a high voltage state at the time of selection and non-selection and performs a withstand voltage relaxation control so as not to cause a failure due to a high voltage is possible. Therefore, when the test pads of a plurality of semiconductor integrated circuit chips are connected in common and the internal power supply test is continuously performed, it is possible to provide a semiconductor integrated circuit that can safely perform the test. Furthermore, by providing an independent pad, it is possible to achieve both relaxation of the breakdown voltage of the transistor circuit and realization of the specifications of the standby current.
10 第1のスイッチトランジスタ
12 第1のPウエル
15 第2のスイッチトランジスタ
17 第2のPウエル
20 レベル検出回路
25 パッド
27 独立のパッド
30−1 第1のスイッチ制御回路
30−2 第2のスイッチ制御回路
31、32、34、35 PMOSトランジスタ
33、36 NMOSトランジスタ
37、39 NOR回路
38、40 インバータ
100 テストパッド制御回路
IN 制御信号入力端
OUT 出力端
HVDET 検出信号入力端
VNEG 負電圧入力端
DETOUT 検出信号出力端
HVNEG 内部高電圧電源
NEGDET 第1の検出信号
TESTEN テストイネーブル信号
PADDET 第2の検出信号
OUT1、2 出力信号
LSVDD インバータ38の出力端のノード
10 First switch transistor
12 First P-well
15 Second switch transistor
17 Second P-well
20 level detection circuit
25 pads
27 Independent pads
30-1 First switch control circuit
30-2 Second switch control circuit
31, 32, 34, 35 PMOS transistors
33, 36 NMOS transistor
37, 39 NOR circuit
38, 40
Claims (2)
内部高電圧電源に接続された第1のスイッチトランジスタと、パッドに接続された第2のスイッチトランジスタと、
制御信号により、前記第1のスイッチトランジスタをオンし、前記内部高電圧電源が所定の電圧を越えたことを示す第1の検出信号により、保有しているトランジスタ回路に印加される電圧を緩和する第1のスイッチ制御回路と、
前記制御信号により、前記第2のスイッチトランジスタをオンし、前記パッドに印加された電圧が所定の電圧を越えたことを示す第2の検出信号により、保有しているトランジスタ回路に印加される電圧を緩和する第2のスイッチ制御回路と、
前記パッドに印加された電圧が前記所定の電圧を越えると前記第2の検出信号を発生するレベル検出回路とを有し、
前記制御信号による選択時において、前記半導体集積回路の第1及び第2のスイッチ制御回路は、前記第1および第2のスイッチトランジスタをオンし、
且つ、前記第1のスイッチ制御回路は、前記内部高電圧電源が前記所定の電圧を越えると、前記第1の検出信号により、保有しているトランジスタ回路に印加される電圧を緩和し、前記第2のスイッチ制御回路は、前記第2の検出信号により、保有しているトランジスタ回路に印加される電圧を緩和し、
非選択時において、前記半導体集積回路の第1及び第2のスイッチ制御回路は、前記第1および第2のスイッチトランジスタをオフし、
且つ、前記第2のスイッチ制御回路は、前記パッドに印加された電圧が前記所定の電圧を越えると、前記第2の検出信号により、保有しているトランジスタ回路に印加される電圧を緩和することを特徴とする半導体集積回路。 A semiconductor integrated circuit having a test pad control circuit,
A first switch transistor connected to the internal high voltage power supply; a second switch transistor connected to the pad;
The first switch transistor is turned on by the control signal, and the voltage applied to the held transistor circuit is relaxed by the first detection signal indicating that the internal high-voltage power source has exceeded a predetermined voltage. A first switch control circuit;
The voltage applied to the transistor circuit held by the second detection signal indicating that the second switch transistor is turned on by the control signal and the voltage applied to the pad exceeds a predetermined voltage. A second switch control circuit for relaxing
A level detection circuit that generates the second detection signal when a voltage applied to the pad exceeds the predetermined voltage;
At the time of selection by the control signal, the first and second switch control circuits of the semiconductor integrated circuit turn on the first and second switch transistors,
In addition, when the internal high voltage power supply exceeds the predetermined voltage, the first switch control circuit relaxes the voltage applied to the held transistor circuit by the first detection signal, and The switch control circuit 2 relaxes the voltage applied to the transistor circuit that it holds by the second detection signal,
When not selected, the first and second switch control circuits of the semiconductor integrated circuit turn off the first and second switch transistors,
In addition, when the voltage applied to the pad exceeds the predetermined voltage, the second switch control circuit relaxes the voltage applied to the held transistor circuit by the second detection signal. A semiconductor integrated circuit.
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| JP2007145907A Pending JP2008298630A (en) | 2007-05-31 | 2007-05-31 | Semiconductor integrated circuit |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2008298630A (en) |
| KR (1) | KR20080106004A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9646895B2 (en) | 2014-09-30 | 2017-05-09 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor package and manufacturing method thereof |
| CN118782586A (en) * | 2023-03-30 | 2024-10-15 | 长鑫存储技术有限公司 | Internal power supply structure, semiconductor device and internal power supply monitoring method |
-
2007
- 2007-05-31 JP JP2007145907A patent/JP2008298630A/en active Pending
-
2008
- 2008-05-14 KR KR1020080044595A patent/KR20080106004A/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9646895B2 (en) | 2014-09-30 | 2017-05-09 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor package and manufacturing method thereof |
| CN118782586A (en) * | 2023-03-30 | 2024-10-15 | 长鑫存储技术有限公司 | Internal power supply structure, semiconductor device and internal power supply monitoring method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20080106004A (en) | 2008-12-04 |
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