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JP2012064715A - Semiconductor wafer, semiconductor circuit, and method of manufacturing semiconductor circuit - Google Patents

Semiconductor wafer, semiconductor circuit, and method of manufacturing semiconductor circuit Download PDF

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JP2012064715A JP2010206923A JP2010206923A JP2012064715A JP 2012064715 A JP2012064715 A JP 2012064715A JP 2010206923 A JP2010206923 A JP 2010206923A JP 2010206923 A JP2010206923 A JP 2010206923A JP 2012064715 A JP2012064715 A JP 2012064715A
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semiconductor circuit
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Minoru Sugiyama
実 杉山
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

【課題】WLBGAの製造に当たり、ダイシング断面にシリコン以外の部材が露出しないようにすることで、実装後の応力によるチッピングが発生しない半導体回路を提供する。
【解決手段】本発明の半導体回路製造方法は、シリコン基板に複数の半導体チップを搭載してなる半導体ウエファから複数の半導体回路を製造する半導体回路製造方法であって、 個々の半導体チップの周りを囲み半導体チップを保護するシール部と、スクライブラインとの間に、シリコンのみから成るスペース部を設け、スクライブラインの幅と同等の若しくは僅かに大きい幅を備えるダイシングカッターにより、スクライブラインに沿ってダイシングを行なう半導体回路製造方法である。
【選択図】図3
In manufacturing a WLBGA, a semiconductor circuit in which chipping due to stress after mounting does not occur is provided by preventing members other than silicon from being exposed in a dicing section.
A semiconductor circuit manufacturing method according to the present invention is a semiconductor circuit manufacturing method for manufacturing a plurality of semiconductor circuits from a semiconductor wafer in which a plurality of semiconductor chips are mounted on a silicon substrate, and around each semiconductor chip. Dicing along the scribe line by a dicing cutter with a space equivalent to or slightly larger than the width of the scribe line provided with a space made of silicon only between the seal part that protects the enclosed semiconductor chip and the scribe line This is a method for manufacturing a semiconductor circuit.
[Selection] Figure 3

Description

本発明は、複数の半導体回路が形成された半導体ウエファから、半導体チップを搭載してなる半導体回路を製造する技術に関する。   The present invention relates to a technique for manufacturing a semiconductor circuit on which a semiconductor chip is mounted from a semiconductor wafer on which a plurality of semiconductor circuits are formed.

ダイシング工程を含む半導体回路の製造において、ダイシング後の工程におけるチッピング改善対策は既に知られている。例えば、スクライブラインのダイシング後のチップ端になる箇所に対して、レーザでシリコン面を露出させた後に更にダイシングする等である。   In manufacturing a semiconductor circuit including a dicing process, measures for improving chipping in a process after dicing are already known. For example, the silicon surface is exposed by a laser to the portion that becomes the chip end after dicing of the scribe line, and then dicing is performed.

しかし、上述の改善対策は次のような問題点を解決するものではない。WLBGA(Wafer Level Ball Grid Array、又は、Wafer Level Chip Size Packageと称される)のように、一方の面に外部接続端子を有し、搭載される半導体チップの外形寸法とほぼ同じ外形寸法を有する半導体装置(半導体パッケージ)において、スクライブライン上をダイシングすることでダインシング断面にメタルなどのシリコン以外が露出してしまう、という問題点である。   However, the above improvement measures do not solve the following problems. Like WLBGA (referred to as Wafer Level Ball Grid Array or Wafer Level Chip Size Package), it has external connection terminals on one side and has the same external dimensions as the semiconductor chip to be mounted. In a semiconductor device (semiconductor package), dicing on the scribe line exposes other than silicon such as metal to the dicing section.

つまり、WLBGAのスクライブライン上には、通常、製造工程の結果をモニターするための抵抗素子やトランジスタ等の半導体素子が搭載されており、それらの素子は、シリコン基板上にて、ポリシリコンやメタルなどで構成されている。これらメタルなどのシリコン以外の部材がダイシング断面に露出していると、実装後の応力により、シリコン以外の部材が露出している箇所からチッピングが発生する、という問題点である。なお、この実装後の応力は、例えば、実装強度を強くするために基板全体に補強樹脂(アンダーフィル)を塗布することにより発生する。   That is, on the WLBGA scribe line, usually, semiconductor elements such as resistance elements and transistors for monitoring the results of the manufacturing process are mounted. These elements are formed on the silicon substrate by using polysilicon or metal. Etc. If a member other than silicon, such as metal, is exposed in the dicing section, chipping occurs from a portion where the member other than silicon is exposed due to stress after mounting. The post-mounting stress is generated, for example, by applying a reinforcing resin (underfill) to the entire substrate in order to increase the mounting strength.

下記の特許文献1には、ダイシングによるチッピングを防止する目的で、例えば、ダイシング領域とチップ内部の間にスペースを設けて半導体チップを保護する技術が開示されている。しかしながら、この技術においても、上述したような、ダイシング断面にシリコン以外の部材が露出することで、実装後の応力によりチッピングが発生してしまうという問題は解消できない。特許文献1に開示の従来技術では、ダイシング面にシリコンと酸化膜とメタルが露出すると考えられる。   For example, Patent Document 1 below discloses a technique for protecting a semiconductor chip by providing a space between a dicing region and the inside of a chip for the purpose of preventing chipping due to dicing. However, even in this technique, the above-described problem that chipping occurs due to stress after mounting due to exposure of members other than silicon on the dicing cross section cannot be solved. In the prior art disclosed in Patent Document 1, it is considered that silicon, oxide film, and metal are exposed on the dicing surface.

本発明は、WLBGAの製造に当たり、ダイシング断面にシリコン以外の部材が露出することを防止し、実装後の応力によるチッピングの発生を抑制する半導体回路を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a semiconductor circuit that prevents a member other than silicon from being exposed in a dicing cross section during manufacture of a WLBGA and suppresses occurrence of chipping due to stress after mounting.

本発明は、上記の目的を達成するためになされたものである。本発明に係る請求項1に記載の半導体回路製造方法は、
シリコン基板に複数の半導体チップを搭載してなる半導体ウエファから複数の半導体回路を製造する半導体回路製造方法であって、
個々の半導体チップの周りを囲み半導体チップを保護するシール部と、スクライブラインとの間に、シリコンのみから成るスペース部を設け、
スクライブラインの幅と同等の若しくは僅かに大きい幅を備えるダイシングカッターにより、スクライブラインに沿ってダイシングを行なう、
半導体回路製造方法である。
The present invention has been made to achieve the above object. According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor circuit manufacturing method comprising:
A semiconductor circuit manufacturing method for manufacturing a plurality of semiconductor circuits from a semiconductor wafer comprising a plurality of semiconductor chips mounted on a silicon substrate,
A space portion made only of silicon is provided between the seal portion that surrounds each semiconductor chip and protects the semiconductor chip, and the scribe line,
Dicing along the scribe line with a dicing cutter having a width equal to or slightly larger than the width of the scribe line,
A semiconductor circuit manufacturing method.

本発明に係る請求項2に記載の半導体ウエファは、
複数の半導体チップが搭載されたシリコン基板に基づいて複数の半導体回路が形成される半導体ウエファであって、
個々の半導体チップの周りを囲み半導体チップを保護するシール部と、スクライブラインとの間に、シリコンのみから成るスペース部が設けられている
半導体ウエファである。
A semiconductor wafer according to claim 2 of the present invention is
A semiconductor wafer in which a plurality of semiconductor circuits are formed based on a silicon substrate on which a plurality of semiconductor chips are mounted,
This is a semiconductor wafer in which a space portion made of only silicon is provided between a scribe line and a seal portion that surrounds each semiconductor chip and protects the semiconductor chip.

本発明に係る請求項3に記載の半導体ウエファは、
スクライブラインの幅が、40ミクロン以下であることを特徴とする請求項2に記載の半導体ウエファである。
The semiconductor wafer according to claim 3 of the present invention is
3. The semiconductor wafer according to claim 2, wherein the width of the scribe line is 40 microns or less.

本発明に係る請求項4に記載の半導体回路は、
請求項2又は3に記載の半導体ウエファに対して、スクライブラインの幅と同等の若しくは大きい幅を備えるダイシングカッターによってダイシングが行なわれることで製造される半導体回路であって、
ダイシング後の切断面にはシリコンのみが露出する半導体回路である。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a semiconductor circuit comprising:
A semiconductor circuit manufactured by dicing a semiconductor wafer according to claim 2 or 3 with a dicing cutter having a width equal to or larger than a width of a scribe line,
This is a semiconductor circuit in which only silicon is exposed on the cut surface after dicing.

本発明に係る請求項5に記載の半導体回路製造方法は、
シリコン基板に複数の半導体チップを搭載してなる半導体ウエファから複数の半導体回路を製造する半導体回路製造方法であって、
個々の半導体回路に含まれる半導体チップと、スクライブラインとの間に、シリコンのみから成るスペース部を設け、
スクライブラインの幅と同等の若しくは僅かに大きい幅を備えるダイシングカッターにより、スクライブラインに沿ってダイシングを行なう、
半導体回路製造方法である。
A semiconductor circuit manufacturing method according to claim 5 of the present invention is
A semiconductor circuit manufacturing method for manufacturing a plurality of semiconductor circuits from a semiconductor wafer comprising a plurality of semiconductor chips mounted on a silicon substrate,
Between the semiconductor chip included in each semiconductor circuit and the scribe line, a space portion made only of silicon is provided,
Dicing along the scribe line with a dicing cutter having a width equal to or slightly larger than the width of the scribe line,
A semiconductor circuit manufacturing method.

本発明に係る請求項6に記載の半導体ウエファは、
複数の半導体チップが搭載されたシリコン基板に基づいて複数の半導体回路が形成される半導体ウエファであって、
個々の半導体回路に含まれる半導体チップと、スクライブラインとの間に、シリコンのみから成るスペース部が設けられている
半導体ウエファである。
A semiconductor wafer according to claim 6 of the present invention is
A semiconductor wafer in which a plurality of semiconductor circuits are formed based on a silicon substrate on which a plurality of semiconductor chips are mounted,
This is a semiconductor wafer in which a space portion made of only silicon is provided between a semiconductor chip included in each semiconductor circuit and a scribe line.

本発明に係る請求項7に記載の半導体ウエファは、
スクライブラインの幅が、40ミクロン以下であることを特徴とする請求項6に記載の半導体ウエファである。
A semiconductor wafer according to claim 7 of the present invention is
7. The semiconductor wafer according to claim 6, wherein the width of the scribe line is 40 microns or less.

本発明に係る請求項8に記載の半導体回路は、
請求項6又は7に記載の半導体ウエファに対して、スクライブラインの幅と同等の若しくは大きい幅を備えるダイシングカッターによってダイシングが行なわれることで製造される半導体回路であって、
ダイシング後の切断面にはシリコンのみが露出する半導体回路である。
The semiconductor circuit according to claim 8 according to the present invention includes:
A semiconductor circuit manufactured by dicing a semiconductor wafer according to claim 6 or 7 by a dicing cutter having a width equal to or larger than a width of a scribe line,
This is a semiconductor circuit in which only silicon is exposed on the cut surface after dicing.

本発明を利用することにより、WLBGAの製造に当たり、ダイシング断面にシリコン以外の部材が露出することを防止することができるので、実装時の応力によるチッピングの発生を抑制する半導体回路を提供することができる。また、本発明を利用することにより、半導体ウエファにおけるスクライブラインに沿ってダイシングすることのみで、即ち、簡易な作業だけで、ダイシング断面にシリコン以外の部材が露出することを回避できる。   By utilizing the present invention, when manufacturing WLBGA, it is possible to prevent exposure of members other than silicon to the dicing cross section, and thus it is possible to provide a semiconductor circuit that suppresses chipping due to stress during mounting. it can. Further, by utilizing the present invention, it is possible to avoid exposing members other than silicon to the dicing section only by dicing along the scribe line in the semiconductor wafer, that is, by simple work.

好適な実施形態に係る半導体ウエファの平面図、及び平面図の一部拡大図である。1 is a plan view of a semiconductor wafer according to a preferred embodiment and a partially enlarged view of the plan view. 好適な実施形態に係る半導体回路とスクライブラインとの配置関係を示す平面図であり、図1に示す半導体ウエファの一部の拡大図である。It is a top view which shows the arrangement | positioning relationship between the semiconductor circuit which concerns on suitable embodiment, and a scribe line, and is a one part enlarged view of the semiconductor wafer shown in FIG. 図2の線分AA’を通る垂直平面による、図2の側断面図であり、好適な実施形態に係る半導体回路とスクライブラインの配置関係を示す側断面図である。FIG. 3 is a side sectional view of FIG. 2 taken along a vertical plane passing through the line segment AA ′ of FIG. 好適な実施形態に係る半導体回路とスクライブラインとの配置関係を示す側断面図であり、ダイシングカッターが切断のため最下位置にまで下りている状態を示している。It is a sectional side view which shows the arrangement | positioning relationship between the semiconductor circuit which concerns on suitable embodiment, and a scribe line, and has shown the state which has fallen to the lowest position for the dicing cutter.

以下、図面を参照して、本発明に係る好適な実施形態を説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

本実施形態の半導体回路のレイアウト作成とその半導体回路のチップのダイシングについて、以下に説明する。   The layout creation of the semiconductor circuit and the dicing of the chip of the semiconductor circuit of this embodiment will be described below.

本実施形態の半導体回路は、半導体チップの周りを囲み半導体チップを保護するシール部と、スクライブラインとの間に、スペース部が設けられる。このスペース部はシリコンのみで形成され、半導体素子が何も配置されない。更に、スクライブラインの幅と同等か若干太い切断幅を持つダイシングカッターによってスクライブラインに沿ってカットされる。このダインシングにより、上記のスペース部がダインシング断面となるので、ダイシング断面にシリコン以外の部材が露出することはない。つまり、スクライブラインの幅とダインシングの幅を合わせる、若しくはダイシングの幅を(僅かに)大きくすることにより、スクライブラインが全て取り除かれ、ダイシング断面にシリコン以外が露出しないことになる。   In the semiconductor circuit of the present embodiment, a space portion is provided between the seal portion that surrounds the semiconductor chip and protects the semiconductor chip, and the scribe line. This space portion is formed only of silicon, and no semiconductor element is disposed. Furthermore, it is cut along the scribe line by a dicing cutter having a cutting width equal to or slightly larger than the width of the scribe line. By this dicing, the space portion becomes a dicing cross section, so that members other than silicon are not exposed in the dicing cross section. In other words, by adjusting the width of the scribe line and the width of the dicing, or by increasing the width of the dicing (slightly), all the scribe lines are removed, and other than silicon is not exposed in the dicing section.

図面を用いて本実施形態を詳細に説明する。図1は、本実施形態に係る半導体ウエファ20の平面図、及び平面図の一部拡大図である。半導体ウエファ20は、シリコンから成る基板の上に、半導体回路が形成される半導体素子領域1、及び、スクライブライン領域2を有する。半導体ウエファ20に複数の半導体回路3が形成され、それがスクライブライン領域2に沿って切断されることにより、それぞれ半導体チップを含む半導体回路3が多数作成される。   The present embodiment will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of a semiconductor wafer 20 according to the present embodiment and a partially enlarged view of the plan view. The semiconductor wafer 20 has a semiconductor element region 1 in which a semiconductor circuit is formed and a scribe line region 2 on a substrate made of silicon. A plurality of semiconductor circuits 3 are formed on the semiconductor wafer 20, and are cut along the scribe line region 2, thereby creating a large number of semiconductor circuits 3 each including a semiconductor chip.

図2は、本実施形態に係る半導体回路3とスクライブライン2との配置関係を示す平面図であり、図1に示す半導体ウエファ20の一部の拡大図である。更に、図3は、図2の線分AA’を通る垂直平面による、図2の側断面図であり、本実施形態に係る半導体回路3とスクライブライン2との配置関係を示す側断面図である。個々の半導体回路は、半導体チップ6と、半導体チップ6の周りを囲み半導体チップ6を保護するためのリング状のシール部8と、シリコン基板10により構成される。   FIG. 2 is a plan view showing the positional relationship between the semiconductor circuit 3 and the scribe line 2 according to this embodiment, and is an enlarged view of a part of the semiconductor wafer 20 shown in FIG. 3 is a side cross-sectional view of FIG. 2 taken along a vertical plane passing through the line segment AA ′ of FIG. 2, and is a side cross-sectional view showing the positional relationship between the semiconductor circuit 3 and the scribe line 2 according to the present embodiment. is there. Each semiconductor circuit includes a semiconductor chip 6, a ring-shaped seal portion 8 that surrounds the semiconductor chip 6 and protects the semiconductor chip 6, and a silicon substrate 10.

図2及び図3に示すように、個々の半導体回路3の間には、スクライブライン2が設けられている。個々の半導体回路3において、半導体チップ6とスクライブライン2との間には、メタルで構成され(半導体チップ6を囲む)リング状のレイアウトであるシール部8が配置される。そのシール部8と、スクライブライン2との間に、スペース部4が配置される。このスペース部4は、半導体装置を製造する中で半導体素子を何も配置しない領域である。即ち、スペース部4はシリコンのみで形成されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, a scribe line 2 is provided between the individual semiconductor circuits 3. In each semiconductor circuit 3, between the semiconductor chip 6 and the scribe line 2, a seal portion 8 that is made of metal (encloses the semiconductor chip 6) and has a ring-shaped layout is disposed. A space portion 4 is disposed between the seal portion 8 and the scribe line 2. This space portion 4 is a region in which no semiconductor element is arranged during manufacturing of a semiconductor device. That is, the space portion 4 is formed only of silicon.

半導体ウエファ20をダイシングする場合、図3に示すように、ダイシングライン2及びダイシングライン2直下のシリコン基板10は、ダイシングカッター12により切断される。ダイシングカッター12は、ダイヤモンド等の粒子をボンド材で刃先に保持させた環状のダイシングソーを高速回転することにより、破砕加工を行なう手段である。   When dicing the semiconductor wafer 20, the dicing line 2 and the silicon substrate 10 immediately below the dicing line 2 are cut by a dicing cutter 12, as shown in FIG. The dicing cutter 12 is a means for performing crushing processing by rotating at high speed an annular dicing saw in which particles such as diamond are held on the blade edge by a bond material.

図4は、図3と同じく本実施形態に係る半導体回路3とスクライブライン2との配置関係を示す側断面図であるが、ダイシングカッター12が切断のため最下位置にまで下りている状態を示している。   FIG. 4 is a side sectional view showing the positional relationship between the semiconductor circuit 3 and the scribe line 2 according to the present embodiment as in FIG. 3, but the dicing cutter 12 is lowered to the lowest position for cutting. Show.

図3及び図4に示されるように、半導体回路3はシリコン基板10上に構成されているが、半導体回路3のシール部8とスクライブライン2との間には、半導体素子が何も配置されておらずシリコンのみが存在することになる。   As shown in FIGS. 3 and 4, the semiconductor circuit 3 is formed on the silicon substrate 10, but no semiconductor element is disposed between the seal portion 8 of the semiconductor circuit 3 and the scribe line 2. Only silicon is present.

更に、ダイシングカッター12の幅は、スクライブライン2と同等若しくは僅かに広い幅を有する。このようなダイシングカッター12でダイシングを行うことにより、スクライブラインに含まれている半導体素子、更にはそれら半導体素子を構成するポリシリコンやメタル等の部材は、完全に除去される。つまり、特に図4に示すように、スクライブライン2の幅は全て切り取られることになる。   Further, the dicing cutter 12 has a width equal to or slightly wider than the scribe line 2. By dicing with such a dicing cutter 12, the semiconductor elements included in the scribe line, and further, members such as polysilicon and metal constituting the semiconductor elements are completely removed. That is, as shown in particular in FIG. 4, the entire width of the scribe line 2 is cut off.

従って、ダイシングカッター12によるダイシング後の半導体回路の切断面には、シリコンのみが露出することになる。これにより、実装後の応力によって、シリコン以外の部材が露出している箇所からチッピングが発生するという問題を、解決できる。   Therefore, only silicon is exposed on the cut surface of the semiconductor circuit after dicing by the dicing cutter 12. As a result, it is possible to solve the problem that chipping occurs from a portion where a member other than silicon is exposed due to stress after mounting.

ダイシングカッター12の幅、及び、スクライブライン2の幅として、40ミクロン程度のものが、通常、採用されている。従って、本発明の好適な実施形態に係るダイシングカッターとしては、少なくとも40ミクロンの幅(例えば、50ミクロンの幅)を有しているのが好ましい。また、本発明の好適な実施形態に係るスクライブラインとしては、40ミクロン以下の幅(例えば、35ミクロンの幅)を有しているのが好ましい。   As the width of the dicing cutter 12 and the width of the scribe line 2, those of about 40 microns are usually employed. Accordingly, the dicing cutter according to a preferred embodiment of the present invention preferably has a width of at least 40 microns (for example, a width of 50 microns). The scribe line according to a preferred embodiment of the present invention preferably has a width of 40 microns or less (for example, a width of 35 microns).

なお、図2乃至図4に示す実施形態では、半導体回路3上に半導体チップ6を保護するシール部8が設けられているが、本発明は、シール部8がない半導体ウエファ20にも適用可能である。このとき、半導体チップとスクライブライン2との間に、十分なスペース部4が設けられていればよい。   In the embodiment shown in FIGS. 2 to 4, the seal portion 8 that protects the semiconductor chip 6 is provided on the semiconductor circuit 3, but the present invention can also be applied to a semiconductor wafer 20 without the seal portion 8. It is. At this time, it is sufficient that a sufficient space portion 4 is provided between the semiconductor chip and the scribe line 2.

本発明に係る実施形態を用いることにより、半導体ウエファ20におけるスクライブライン2に沿ってダイシングする作業を行なうのみで、ダイシング断面にシリコン以外の部材が露出することを回避できる。   By using the embodiment according to the present invention, it is possible to avoid exposing a member other than silicon to the dicing section only by performing a dicing operation along the scribe line 2 in the semiconductor wafer 20.

1・・・半導体素子領域、2・・・スクライブライン、3・・・半導体回路、4・・・スペース部、6・・・半導体チップ、8・・・シール部、10・・・シリコン基板、12・・・ダイシングカッター、20・・・半導体ウエファ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor element area | region, 2 ... Scribe line, 3 ... Semiconductor circuit, 4 ... Space part, 6 ... Semiconductor chip, 8 ... Seal part, 10 ... Silicon substrate, 12 ... dicing cutter, 20 ... semiconductor wafer.

特開2007−067372号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2007-067372

Claims (8)

シリコン基板に複数の半導体チップを搭載してなる半導体ウエファから複数の半導体回路を製造する半導体回路製造方法であって、
個々の半導体チップの周りを囲み半導体チップを保護するシール部と、スクライブラインとの間に、シリコンのみから成るスペース部を設け、
スクライブラインの幅と同等の若しくは僅かに大きい幅を備えるダイシングカッターにより、スクライブラインに沿ってダイシングを行なう、
半導体回路製造方法。
A semiconductor circuit manufacturing method for manufacturing a plurality of semiconductor circuits from a semiconductor wafer comprising a plurality of semiconductor chips mounted on a silicon substrate,
A space portion made only of silicon is provided between the seal portion that surrounds each semiconductor chip and protects the semiconductor chip, and the scribe line,
Dicing along the scribe line with a dicing cutter having a width equal to or slightly larger than the width of the scribe line,
Semiconductor circuit manufacturing method.
複数の半導体チップが搭載されたシリコン基板に基づいて複数の半導体回路が形成される半導体ウエファであって、
個々の半導体チップの周りを囲み半導体チップを保護するシール部と、スクライブラインとの間に、シリコンのみから成るスペース部が設けられている
半導体ウエファ。
A semiconductor wafer in which a plurality of semiconductor circuits are formed based on a silicon substrate on which a plurality of semiconductor chips are mounted,
A semiconductor wafer in which a space portion made of only silicon is provided between a scribe line and a seal portion that surrounds each semiconductor chip and protects the semiconductor chip.
スクライブラインの幅は、40ミクロン以下であることを特徴とする請求項2に記載の半導体ウエファ。   The semiconductor wafer according to claim 2, wherein the width of the scribe line is 40 microns or less. 請求項2又は3に記載の半導体ウエファに対して、スクライブラインの幅と同等の若しくは大きい幅を備えるダイシングカッターによってダイシングが行なわれることで製造される半導体回路であって、
ダイシング後の切断面にはシリコンのみが露出する半導体回路。
A semiconductor circuit manufactured by dicing a semiconductor wafer according to claim 2 or 3 with a dicing cutter having a width equal to or larger than a width of a scribe line,
A semiconductor circuit in which only silicon is exposed on the cut surface after dicing.
シリコン基板に複数の半導体チップを搭載してなる半導体ウエファから複数の半導体回路を製造する半導体回路製造方法であって、
個々の半導体回路に含まれる半導体チップと、スクライブラインとの間に、シリコンのみから成るスペース部を設け、
スクライブラインの幅と同等の若しくは僅かに大きい幅を備えるダイシングカッターにより、スクライブラインに沿ってダイシングを行なう、
半導体回路製造方法。
A semiconductor circuit manufacturing method for manufacturing a plurality of semiconductor circuits from a semiconductor wafer comprising a plurality of semiconductor chips mounted on a silicon substrate,
Between the semiconductor chip included in each semiconductor circuit and the scribe line, a space portion made only of silicon is provided,
Dicing along the scribe line with a dicing cutter having a width equal to or slightly larger than the width of the scribe line,
Semiconductor circuit manufacturing method.
複数の半導体チップが搭載されたシリコン基板に基づいて複数の半導体回路が形成される半導体ウエファであって、
個々の半導体回路に含まれる半導体チップと、スクライブラインとの間に、シリコンのみから成るスペース部が設けられている
半導体ウエファ。
A semiconductor wafer in which a plurality of semiconductor circuits are formed based on a silicon substrate on which a plurality of semiconductor chips are mounted,
A semiconductor wafer in which a space portion made of only silicon is provided between a semiconductor chip included in each semiconductor circuit and a scribe line.
スクライブラインの幅は、40ミクロン以下であることを特徴とする請求項6に記載の半導体ウエファ。   7. The semiconductor wafer according to claim 6, wherein the width of the scribe line is 40 microns or less. 請求項6又は7に記載の半導体ウエファに対して、スクライブラインの幅と同等の若しくは大きい幅を備えるダイシングカッターによってダイシングが行なわれることで製造される半導体回路であって、
ダイシング後の切断面にはシリコンのみが露出する半導体回路。
A semiconductor circuit manufactured by dicing a semiconductor wafer according to claim 6 or 7 by a dicing cutter having a width equal to or larger than a width of a scribe line,
A semiconductor circuit in which only silicon is exposed on the cut surface after dicing.
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US9082781B2 (en) 2013-10-03 2015-07-14 International Business Machines Corporation Semiconductor article having a zig-zag guard ring and method of forming the same

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US9082781B2 (en) 2013-10-03 2015-07-14 International Business Machines Corporation Semiconductor article having a zig-zag guard ring and method of forming the same

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