JP2014216329A - Method of manufacturing chip led - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は発光ダイオード(LED)に関するものであり、特に、樹脂シートを用いたチップLEDの構造と製法に関するものである。 The present invention relates to a light emitting diode (LED), and more particularly, to a structure and manufacturing method of a chip LED using a resin sheet.
青色発光素子と黄色の蛍光体を利用して白色LEDを作ることは、ごく一般的に行われている白色LEDの製造方法である。 Making a white LED using a blue light-emitting element and a yellow phosphor is a very common white LED manufacturing method.
しかし、最も量産効率がよく、安価に生産できるプリント基板上に組み立てるLED(以後、チップLEDと呼ぶ)には、この製造方法はほとんど用いられていない。 However, this manufacturing method is hardly used for an LED (hereinafter referred to as a chip LED) assembled on a printed circuit board that has the highest mass production efficiency and can be produced at low cost.
チップLEDは、一般的にエポキシ樹脂のトランスファーモールドという方法で樹脂封止されている。しかし、エポキシ樹脂は青色発光の短波長の光と熱や湿気が加わることにより変色し、LEDの光出力が劣化する問題がある。そこで、白色チップLEDにエポキシ樹脂はあまり使用されていない。樹脂が少し変色すると短波長の吸収が大きくなり、加速度的に変色が進行し、光出力が大幅に低下する。樹脂変色の度合いは青色発光強度と温度に依存し、発光強度が強く、温度が高いチップ表面から変色する。 The chip LED is generally resin-sealed by a method called epoxy resin transfer molding. However, the epoxy resin has a problem that the light output of the LED deteriorates due to discoloration due to the addition of blue light emitting short wavelength light and heat or moisture. Therefore, an epoxy resin is not used so much for the white chip LED. When the resin is slightly discolored, the absorption of short wavelengths increases, the discoloration proceeds at an accelerated rate, and the light output is greatly reduced. The degree of resin discoloration depends on the blue light emission intensity and temperature. The light emission intensity is strong and the color changes from the chip surface at a high temperature.
一方、シリコーン樹脂は短波長に強く、変色を起こし難い樹脂として、白色LEDに最も使用されている。しかし、シリコーン樹脂は柔らかく、ガス透過率が高いという欠点がある。これを補うため、フェニルシリコーン樹脂や変性シリコーン樹脂も白色LEDによく使用されている。 On the other hand, silicone resins are most used in white LEDs as resins that are resistant to short wavelengths and are unlikely to cause discoloration. However, silicone resins are disadvantageous in that they are soft and have high gas permeability. In order to compensate for this, phenyl silicone resins and modified silicone resins are often used in white LEDs.
シリコーン樹脂組成物からなるトランスファーモールド樹脂に関する提案もあるが(特許文献1)、価格が高い等で、チップLEDにはほとんど使われていない。 There is also a proposal for a transfer mold resin made of a silicone resin composition (Patent Document 1), but it is rarely used for chip LEDs due to its high price.
この発明は、量産効率の良いチップLEDとその製造方法を提案することを目的にしている。 An object of the present invention is to propose a chip LED with high mass production efficiency and a method for manufacturing the same.
本願発明は、
複数のスルーホールが所定の配列状態で形成されているガラスエポキシ基板上にLEDチップをボンディングし、樹脂封止後、前記スルーホールの部分をダイシングして個々のLEDに分割して製造される直方体形状のチップLEDであって、
前記ガラスエポキシ基板の前記LEDチップが搭載される側の表面における前記スルーホールの開口部が閉鎖部材によって塞がれている状態で前記樹脂封止が行われることにより前記スルーホールの基板半田付け電極となる面が外部に露出していると共に、
前記樹脂封止は、シリコーン樹脂シートを用い、当該シリコーン樹脂シートを加熱、硬化させて行われ、当該シリコーン樹脂シートが加熱、硬化されてなる樹脂部の少なくとも前記LEDチップに接触する部分がリコーン系樹脂であって、
前記ガラスエポキシ基板上に形成されている封止構造が前記樹脂部を含んだ2層以上の構造からなり、
前記封止構造の上部側の面が、前記チップLEDの前記直方体形状の一面である上部側の面を形成している
チップLED
である。
The present invention is
A rectangular parallelepiped manufactured by bonding an LED chip on a glass epoxy substrate in which a plurality of through holes are formed in a predetermined arrangement state, sealing the resin, and dicing the through hole portion into individual LEDs. Shaped chip LED,
The resin sealing is performed in a state where the opening of the through hole on the surface of the glass epoxy substrate on the side where the LED chip is mounted is closed by a closing member, whereby the substrate soldering electrode of the through hole The surface to be exposed to the outside,
The resin sealing is performed by using a silicone resin sheet and heating and curing the silicone resin sheet, and at least a portion of the resin part formed by heating and curing the silicone resin sheet is in contact with the LED chip. A resin,
The sealing structure formed on the glass epoxy substrate consists of a structure of two or more layers including the resin part,
An upper surface of the sealing structure forms an upper surface that is one surface of the rectangular parallelepiped shape of the chip LED. Chip LED
It is.
この発明によれば、量産効率の良いチップLEDとその製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a chip LED with good mass production efficiency and a manufacturing method thereof.
以下、添付図面を参照して本願発明の実施形態について説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
本願発明が提案するチップLEDは、複数のスルーホールが所定の配列状態で形成されているガラスエポキシ基板上にLEDチップをボンディングし、樹脂封止後、前記スルーホールの部分をダイシングして個々のLEDに分割して製造される直方体形状のチップLEDである。 In the chip LED proposed by the present invention, an LED chip is bonded on a glass epoxy substrate in which a plurality of through holes are formed in a predetermined arrangement state, and after sealing with resin, the through hole portions are diced to form individual chips. It is a rectangular parallelepiped chip LED manufactured by being divided into LEDs.
このようなチップLEDの製造方法はスタンレー電気株式会社によって提唱された方法(特許文献2)であり、大量生産に適しており、安価で小型化が容易な構造を呈している。今日、チップLEDは、生産量が最も多いLEDの種類になっている。 A manufacturing method of such a chip LED is a method (Patent Document 2) proposed by Stanley Electric Co., Ltd., which is suitable for mass production and has a structure that is inexpensive and easy to downsize. Today, chip LEDs are the type of LED with the highest production.
本発明のチップLEDは、前記ガラスエポキシ基板の前記LEDチップが搭載される側の表面における前記スルーホールの開口部が閉鎖部材によって塞がれている状態で前記樹脂封止が行われるものである。これにより、前記スルーホールの基板半田付け電極となる面が外部に露出している構造になっている。 In the chip LED of the present invention, the resin sealing is performed in a state where the opening of the through hole on the surface of the glass epoxy substrate on the side where the LED chip is mounted is closed by a closing member. . As a result, the surface of the through hole that becomes the substrate soldering electrode is exposed to the outside.
また、本発明のチップLEDにおいて、前記樹脂封止は、シリコーン樹脂シートを用い、当該シリコーン樹脂シートを加熱、硬化させて行われる。そして、前記ガラスエポキシ基板上に形成されている封止構造は、前記シリコーン樹脂シートが加熱、硬化されてなる樹脂部を含んだ2層以上の構造になっている。 In the chip LED of the present invention, the resin sealing is performed by using a silicone resin sheet and heating and curing the silicone resin sheet. The sealing structure formed on the glass epoxy substrate has a structure of two or more layers including a resin portion formed by heating and curing the silicone resin sheet.
樹脂封止に使用するシリコーン樹脂シートは、従来から公知である(例えば、特許文献3、4、5、非特許文献1)。 Silicone resin sheets used for resin sealing are conventionally known (for example, Patent Documents 3, 4, and 5, Non-Patent Document 1).
本発明では、前記のようにシリコーン樹脂シートを用いて樹脂封止を行うことにより、ガラスエポキシ基板8上にダイボンド、ワイヤボンドによりLEDチップ4がボンディングされているときに、シリコーン樹脂シートによってワイヤ5を押しつぶすことなく、LEDチップ4全体を覆い、封止できる(図6、図7)。 In the present invention, by performing resin sealing using a silicone resin sheet as described above, when the LED chip 4 is bonded to the glass epoxy substrate 8 by die bonding or wire bonding, the wire 5 is formed by the silicone resin sheet. The entire LED chip 4 can be covered and sealed without crushing (FIGS. 6 and 7).
本発明のチップLEDでは、シリコーン樹脂シートを用いて樹脂封止が行われていることから、ガラスエポキシ基板上に形成される封止構造が均一な厚みで形成される。そして、均一な厚みで形成される封止構造の上部側の面が、本発明のチップLEDの直方体形状の一面である上部側の面を形成する構造になっている。 In the chip LED of the present invention, since the resin sealing is performed using the silicone resin sheet, the sealing structure formed on the glass epoxy substrate is formed with a uniform thickness. And the surface of the upper side of the sealing structure formed with uniform thickness is a structure which forms the surface of the upper side which is one surface of the rectangular parallelepiped shape of chip LED of this invention.
従来の、例えば、液状樹脂による樹脂封止の場合、樹脂の表面張力などによって、中央部の樹脂が薄くなり、端の樹脂が厚くなるため、LEDの厚みにバラツキが生じる欠点があった。このため、ガラスエポキシ基板上に形成される封止構造を均一な厚みに形成することは難しかった。すなわち、ガラスエポキシ基板上に均一な厚みで封止構造を形成し、当該封止構造によって、均一な厚みで形成される直方体形状のチップLEDの一面(上部側の面)が形成されているチップLEDを低コストで量産することは難しかった。 In the case of conventional resin sealing with, for example, a liquid resin, the resin at the center portion becomes thin and the resin at the end becomes thick due to the surface tension of the resin, resulting in variations in the thickness of the LED. For this reason, it was difficult to form the sealing structure formed on the glass epoxy substrate with a uniform thickness. That is, a chip in which a sealing structure is formed with a uniform thickness on a glass epoxy substrate, and one surface (upper surface) of a rectangular parallelepiped chip LED formed with a uniform thickness is formed by the sealing structure. It was difficult to mass-produce LEDs at low cost.
これに対して、本発明のチップLEDでは、ガラスエポキシ基板上に形成される封止構造が均一な厚みで形成される。そして、均一な厚みで形成される封止構造の上部側の面が、均一な厚みで形成される本発明のチップLEDの直方体形状の一面である上部側の面を形成する構造になる。すなわち、ガラスエポキシ基板上に形成される封止構造の上部側の面が、直方体形状のチップLEDの上部側の面を兼ねている構造になっている。 On the other hand, in the chip LED of the present invention, the sealing structure formed on the glass epoxy substrate is formed with a uniform thickness. And the upper surface of the sealing structure formed with a uniform thickness is a structure that forms the upper surface, which is one surface of the rectangular parallelepiped shape of the chip LED of the present invention formed with a uniform thickness. That is, the surface on the upper side of the sealing structure formed on the glass epoxy substrate has a structure also serving as the surface on the upper side of the rectangular parallelepiped chip LED.
図1は、本発明に使用する樹脂シートの一例の概略図である。図1図示のように、プラスチックフィルム1の上に、シリコーン樹脂2を、半硬化状(Bステージ)のゲル状で、シート状にしたものを使用できる。シリコーン樹脂2を、半硬化状(Bステージ)のゲル状で、プラスチックフィルム1の上にシート状に形成するには、キャスティングやロールコーティングなどの方法を用いる。こうして、シリコーン樹脂2をプラスチックフィルム1の上に所定の膜厚に塗布し、加熱、乾燥して形成する。 FIG. 1 is a schematic view of an example of a resin sheet used in the present invention. As shown in FIG. 1, a plastic film 1 on which a silicone resin 2 is formed into a semi-cured (B stage) gel and sheet can be used. In order to form the silicone resin 2 in a semi-cured (B stage) gel form on the plastic film 1, a method such as casting or roll coating is used. Thus, the silicone resin 2 is applied on the plastic film 1 to a predetermined film thickness, and is heated and dried.
図1図示の樹脂シートは、図1中の上下両面がプラスチックフィルム1と3で挟まれた構造になっている。プラスチックフィルムの一方である上側のプラスチックフィルム3は離形フィルムとして、剥がして使用し、LEDチップを封止後、もう一方のプラスチックフィルム1を剥がすか、あるいはシリコーン樹脂2の硬化後も残してもよい。 The resin sheet shown in FIG. 1 has a structure in which the upper and lower surfaces in FIG. 1 are sandwiched between plastic films 1 and 3. The upper plastic film 3 which is one of the plastic films is peeled off as a release film, and after sealing the LED chip, the other plastic film 1 is peeled off or left after the silicone resin 2 is cured. Good.
このように、本発明のチップLEDでは、樹脂封止にシリコーン樹脂シートを利用することに特徴がある。シリコーン樹脂シートは、ロール状、短冊状、ラベル状で使用することができる。 Thus, the chip LED of the present invention is characterized in that a silicone resin sheet is used for resin sealing. The silicone resin sheet can be used in a roll shape, a strip shape, or a label shape.
本発明のチップLEDでは、シリコーン樹脂シートが加熱、硬化されてなる樹脂部の少なくとも前記LEDチップに接触する部分がシリコーン系樹脂からなる構造になっている。これにより、エポキシ樹脂で樹脂封止を行った場合に生じる、樹脂の変色、出力劣化という問題が生じるおそれは無くなる。 In the chip LED of the present invention, at least a portion of the resin portion obtained by heating and curing the silicone resin sheet that is in contact with the LED chip has a structure made of a silicone resin. This eliminates the possibility of problems such as resin discoloration and output deterioration that occur when resin sealing is performed with an epoxy resin.
すなわち、この発明によれば、短波長の発光LEDの樹脂変色による光度劣化を減少させ、LEDの信頼性を大幅に向上させることができる。 That is, according to the present invention, it is possible to reduce light intensity deterioration due to resin discoloration of a short wavelength light emitting LED, and to greatly improve the reliability of the LED.
ここで、シリコーン系樹脂としては、例えば、シリコーン樹脂、フェニルシリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂を例示することができ、本願発明では、これらを総称して、シリコーン系樹脂としている。 Here, examples of the silicone resin include silicone resins, phenyl silicone resins, and modified silicone resins. In the present invention, these are collectively referred to as silicone resins.
上述したように、本発明において、封止樹脂は、シリコーン樹脂で半硬化のBステージのゲル状樹脂を用いている。 As described above, in the present invention, the sealing resin is a B-stage gel resin that is semi-cured with a silicone resin.
必要に応じて、シリコーン樹脂中にあらかじめ蛍光体、あるは光拡散材などを混ぜたものをBステージ(半硬化)のゲル状にしたものを用いることもできる。 If necessary, a B-stage (semi-cured) gel obtained by mixing a phosphor or a light diffusing material in advance in a silicone resin can also be used.
シリコーン樹脂は短波長の光に強いという特徴がある一方、樹脂硬化後、エポキシ樹脂に比べガス透過率が高く、柔らかいという弱点を有する。 Silicone resin is characterized by being resistant to short-wavelength light, but has a weak point that after resin curing, the gas permeability is higher than that of epoxy resin and it is soft.
ガス透過率が高いとLEDに銀ペーストや銀メッキ等の銀材料を使用すると硫黄を含むガスと銀が反応し硫化銀が形成され黒化する。 When the gas permeability is high, when a silver material such as silver paste or silver plating is used for the LED, the gas containing sulfur reacts with silver to form silver sulfide and blacken.
黒化するとLED光度が低下し問題となる。また樹脂が柔らかいとLEDを回路基板に搭載するときの機械的ストレスでワイヤが変形し、不良に至る問題が発生する。 If it is blackened, the LED luminous intensity is lowered, which causes a problem. Further, if the resin is soft, the wire is deformed by mechanical stress when the LED is mounted on the circuit board, resulting in a problem that leads to a failure.
これらの問題点を改善したものとして、シリコーン樹脂の代わりに、フェニルシリコーン樹脂や変性シリコーン樹脂を使用することも可能である。フェニルシリコーン樹脂や変性シリコーン樹脂はガス透過率を下げ、硬度を増加させたもので、樹脂メーカから提供されている市販のものを採用できる。 As a solution to these problems, it is also possible to use phenyl silicone resin or modified silicone resin instead of silicone resin. The phenyl silicone resin and the modified silicone resin have a reduced gas permeability and an increased hardness, and commercially available products provided by resin manufacturers can be used.
本発明のチップLEDの製造は次のように行われる。 The manufacture of the chip LED of the present invention is performed as follows.
複数のスルーホールが所定の配列状態で形成されているガラスエポキシ基板8上にLEDチップ4をダイボンド、ワイヤボンドによりボンディングする(図2)。 The LED chip 4 is bonded by die bonding and wire bonding on the glass epoxy substrate 8 on which a plurality of through holes are formed in a predetermined arrangement (FIG. 2).
その後、図1に例示したシリコーン樹脂シートの上側のプラスチックフィルム3を剥がし、シリコーン樹脂シートを乗せる。ここで、適度のプレスと真空と温度をかけることにより樹脂封止し、恒温槽に入れてシリコーン樹脂を硬化させる(図3)。 Thereafter, the upper plastic film 3 of the silicone resin sheet illustrated in FIG. 1 is peeled off, and the silicone resin sheet is placed thereon. Here, the resin is sealed by applying an appropriate press, vacuum, and temperature, and the silicone resin is cured by placing in a thermostatic bath (FIG. 3).
その後、図4に示す如く、スルーホールの部分をダイシングして個々のLEDに分割して、図6、図7に示す本発明のチップLEDが完成する。 Thereafter, as shown in FIG. 4, the through-hole portion is diced and divided into individual LEDs, and the chip LED of the present invention shown in FIGS. 6 and 7 is completed.
このようにして製造される本発明のチップLEDでは、樹脂封止されたガラスエポキシ基板8がダイシングされるとき、シリコーン樹脂シートが加熱、硬化されてなる樹脂部を含んだ封止構造9(図3、図4)が、ガラスエポキシ基板8と共にダイシングされる。 In the chip LED of the present invention thus manufactured, when the resin-encapsulated glass epoxy substrate 8 is diced, the sealing structure 9 includes a resin portion in which the silicone resin sheet is heated and cured (see FIG. 3 and FIG. 4) are diced together with the glass epoxy substrate 8.
そこで、本発明のチップLEDでは、図6、図7において符号9で示されている、ガラスエポキシ基板8上に形成される封止構造の上部側の面が、チップLEDの直方体形状の一面である上部側の面を形成する構造になる(図6、図7)。すなわち、ガラスエポキシ基板8上に形成される封止構造9の上部側の面が、直方体形状のチップLEDの上部側の面を兼ねている構造になっている(図6、図7)。 Therefore, in the chip LED of the present invention, the surface on the upper side of the sealing structure formed on the glass epoxy substrate 8 indicated by reference numeral 9 in FIGS. 6 and 7 is one surface of the rectangular parallelepiped shape of the chip LED. A certain upper side surface is formed (FIGS. 6 and 7). That is, the upper surface of the sealing structure 9 formed on the glass epoxy substrate 8 has a structure also serving as the upper surface of the rectangular parallelepiped chip LED (FIGS. 6 and 7).
本発明では、前述したようにシリコーン樹脂シートを用いて樹脂封止を行うが、シリコーン樹脂は、硬化後の応力が小さい。このため、従来の、トランスファーモールドによりLEDを製造する場合に比較して、基板の反りが小さくなる。すなわち、本発明のチップLEDを製造する方法によれば、シリコーン樹脂シートを用いて樹脂封止を行うことにより、基板の反りを、エポキシ樹脂のトランスファーモールドによりLEDを製造する場合に比較して1/10以下に小さくすることができる。これによって、本発明のチップLEDを製造する方法によれば、大面積の樹脂封止を容易に行うことが可能になり、量産効率を上げることができる。エポキシ樹脂のトランスファーモールドの場合は基板の反りが大きく、ダイシング時は基板を強制的に平坦にする必要があった。このため、複数のスルーホールが所定の配列状態で形成されているガラスエポキシ基板のサイズや、樹脂モールド部の面積を大きくできない制限があり、量産効率を悪くしていた。 In the present invention, as described above, the resin sealing is performed using the silicone resin sheet. However, the silicone resin has a small stress after curing. For this reason, the curvature of a board | substrate becomes small compared with the case where LED is manufactured by the conventional transfer mold. That is, according to the method of manufacturing the chip LED of the present invention, the resin is sealed using a silicone resin sheet, so that the warpage of the substrate is 1 as compared with the case of manufacturing the LED by an epoxy resin transfer mold. / 10 or less. Thus, according to the method of manufacturing the chip LED of the present invention, it becomes possible to easily perform resin sealing of a large area and increase the mass production efficiency. In the case of an epoxy resin transfer mold, the warpage of the substrate is large, and it is necessary to forcibly flatten the substrate during dicing. For this reason, there is a limitation that the size of the glass epoxy substrate in which the plurality of through holes are formed in a predetermined arrangement state and the area of the resin mold portion cannot be increased, and the mass production efficiency is deteriorated.
これに対して、本発明は、シリコーン樹脂シートを使用し、基板の反りが少なくなったため基板サイズを大きくでき、量産効果が大幅に向上した。 On the other hand, the present invention uses a silicone resin sheet and the warpage of the substrate is reduced, so that the substrate size can be increased and the mass production effect is greatly improved.
本発明のチップLEDを製造する方法によれば、上述したように、ガラスエポキシ基板8のLEDチップ4が搭載される側の表面におけるスルーホールの開口部が閉鎖部材7によって塞がれている状態で、シリコーン樹脂シートを用いた樹脂封止が行われる。これによって、本発明のチップLEDは、スルーホールの基板半田付け電極となる面(スルーホール面6(図6))が外部に露出している構造になっている。 According to the method of manufacturing the chip LED of the present invention, as described above, the opening of the through hole on the surface of the glass epoxy substrate 8 on the side where the LED chip 4 is mounted is closed by the closing member 7. Thus, resin sealing using a silicone resin sheet is performed. Thus, the chip LED of the present invention has a structure in which the surface (through-hole surface 6 (FIG. 6)) serving as a substrate soldering electrode of the through-hole is exposed to the outside.
スルーホール部はチップLEDの外部電極として使用され、半田付け部として重要な役割を果たしている。樹脂封止の際に、スルーホール部に樹脂が入り込んでしまうと、場合によっては樹脂が基板の裏面へ広がり、チップLED完成品の半田付けが困難になる問題が発生する。 The through-hole part is used as an external electrode of the chip LED and plays an important role as a soldering part. If the resin enters the through-hole part during resin sealing, the resin spreads to the back surface of the substrate in some cases, which causes a problem that it is difficult to solder the finished chip LED product.
これを防ぐため、ガラスエポキシ基板のLEDチップが搭載される側の表面におけるスルーホールの開口部をソルダーレジスト、等の閉鎖部材によって塞いでいる状態で樹脂封止を行うことが従来から提案されている(特許文献6、7、8)。 In order to prevent this, it has been conventionally proposed to perform resin sealing in a state where the opening portion of the through hole on the surface on the side where the LED chip of the glass epoxy substrate is mounted is closed with a closing member such as a solder resist. (Patent Documents 6, 7, and 8).
本発明のチップLEDを製造する本発明の方法でも、樹脂シート用いて、LEDチップ4を封止しょうとする場合に、ワイヤボンドのワイヤ5を潰さずに封止しようとすれば、スルーホール部に樹脂が入り込んでしまうおそれがある。場合によっては樹脂が基板の裏面へ広がり、チップLED完成品の半田付けが困難になる問題が発生する。 Even in the method of the present invention for manufacturing the chip LED of the present invention, when trying to seal the LED chip 4 using a resin sheet, if the wire bond wire 5 is to be sealed without being crushed, the through hole portion There is a risk that the resin will get into. In some cases, the resin spreads to the back surface of the substrate, which causes a problem that it is difficult to solder the finished chip LED product.
本発明の製造方法による本発明のチップLEDでは、上述したように、ガラスエポキシ基板8のLEDチップ4が搭載される側の表面におけるスルーホールの開口部が閉鎖部材7によって塞がれている状態で、シリコーン樹脂シートを用いた樹脂封止が行われる。すなわち、図6に示すように、スルーホール部を予めソルダーレジスト等の閉鎖部材7で蓋をして、樹脂のスルーホールへの侵入を防いでいる。そこで、スルーホール面6(図6)は樹脂の流れ込みがなく、外部に露出する構造になる。これによって、良好な半田付け電極として使用できる。 In the chip LED of the present invention by the manufacturing method of the present invention, as described above, the opening of the through hole on the surface of the glass epoxy substrate 8 on the side where the LED chip 4 is mounted is closed by the closing member 7. Thus, resin sealing using a silicone resin sheet is performed. That is, as shown in FIG. 6, the through-hole portion is previously covered with a closing member 7 such as a solder resist to prevent the resin from entering the through-hole. Therefore, the through-hole surface 6 (FIG. 6) has a structure in which resin does not flow and is exposed to the outside. Thereby, it can be used as a good soldering electrode.
前記のソルダーレジストとして、感光性ソルダーレジストフィルムを利用するのが便利である。その他、スルーホールの開口部を閉鎖部材7によって塞ぐ方法として、カバーレイフィルムや銅箔パターンを残す方法も採用可能である。 It is convenient to use a photosensitive solder resist film as the solder resist. In addition, as a method of closing the opening of the through hole with the closing member 7, a method of leaving a coverlay film or a copper foil pattern can also be employed.
以上説明した本発明の製造方法による本発明のチップLEDでは、トランスファーモールドに必要な金型が不要になる。金型は高価で作成に時間がかかるが、本発明によれば金型は不要である。また、本発明の製造方法による本発明のチップLEDでは、所望のサイズにカットしたシリコーン樹脂シートを使用すればよいので、LEDの寸法の変更が容易で、安価で、時間を掛けずに製造することが可能になる。 In the chip LED of the present invention according to the manufacturing method of the present invention described above, a mold necessary for transfer molding becomes unnecessary. The mold is expensive and takes a long time to make, but according to the present invention, the mold is unnecessary. Moreover, in the chip LED of the present invention by the manufacturing method of the present invention, it is sufficient to use a silicone resin sheet cut to a desired size, so that the LED dimensions can be easily changed, inexpensively, and manufactured without taking time. It becomes possible.
上述したように、図1図示の樹脂シートでは、上側のプラスチックフィルム3は離形フィルムとして、剥がして使用し、LEDチップを封止後、もう一方のプラスチックフィルム1を剥がすか、あるいはシリコーン樹脂2の硬化後も残す構造になっている。 As described above, in the resin sheet shown in FIG. 1, the upper plastic film 3 is used as a release film and is peeled off. After sealing the LED chip, the other plastic film 1 is peeled off, or the silicone resin 2 is used. The structure remains after curing.
シリコーン樹脂2の硬化後も残すプラスチックフィルムは、図8〜図11において符号11で示すフィルム層となる。 The plastic film left after the silicone resin 2 is cured becomes a film layer indicated by reference numeral 11 in FIGS.
チップLEDの表面に、図8、等において符号11で示すフィルム層が存在していれば、シリコーン樹脂の弱点である硬度やガス透過率が高い問題を改善できる。 If the film layer denoted by reference numeral 11 in FIG. 8 or the like is present on the surface of the chip LED, the problem of high hardness and gas permeability that are weak points of the silicone resin can be improved.
シリコーン樹脂2の硬化後も残るプラスチックフィルムとして選択できるプラスチック材は多種多様であり、果たしたい役割に応じて選択すればよい。 There are a wide variety of plastic materials that can be selected as the plastic film that remains after the silicone resin 2 is cured, and it may be selected according to the role that it wants to play.
例えば、フィルム層を形成するプラスチックフィルム材として好ましい特徴は、(1)透明で光透過率がよいこと、(2)硬度があること、(3)耐候性がよい、すなわち紫外線に強いこと、(4)ガス透過率が小さいこと、(5)耐熱性が良いこと、などがある。 For example, preferable characteristics as a plastic film material for forming a film layer include (1) transparency and good light transmittance, (2) hardness, (3) good weather resistance, that is, high resistance to ultraviolet rays, ( 4) Low gas permeability, (5) Good heat resistance, etc.
また、フィルム層に持たせたい性能としては、(1)硬度を持たせる、(2)ガス透過率を低くする、(3)光透過率をカットする、(4)光拡散をする、(5)偏光特性を持たす、(6)紫外線カットをする、等、が例示される。 Further, the performance desired to be given to the film layer includes (1) imparting hardness, (2) lowering gas permeability, (3) cutting light transmittance, (4) light diffusion, (5) Examples thereof include :) having polarization characteristics, (6) cutting ultraviolet rays, and the like.
そこで、例えば、ポリエステル(PET)、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエチレン(PE)、ポリスチレン(PS)、ポリプロピレン(PP)、ポリ塩化ビニル(PVC)、硝酸セルロース(CA)、ポリカーボネート(PC)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等に限らず、様々なプラスチックフィルム材が使用可能である。 Therefore, for example, polyester (PET), triacetyl cellulose (TAC), polyvinyl alcohol (PVA), polyethylene (PE), polystyrene (PS), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), cellulose nitrate (CA), Not only polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), etc., various plastic film materials can be used.
なお、上述した観点からアクリル系フィルム材(PMMA)およびPETフィルム材等が好ましい。 In addition, an acrylic film material (PMMA), a PET film material, etc. are preferable from the viewpoint mentioned above.
また、材質が異なる複合フィルムを使うことにより、個々の材料の欠点を補うことも可能である。 In addition, it is possible to compensate for the disadvantages of individual materials by using composite films of different materials.
いずれかの単層あるは多層、またはこれらの層の組み合わせを採用することができる。 Any single layer or multiple layers or combinations of these layers can be employed.
どのような材料を使用するかは、持たせたい性能によって決めればよい。 What kind of material is used may be determined according to the performance to be provided.
上述した種々の素材からなる単層、または多層、あるいは異なる材質をラミネートした複合フィルムでもよい。 It may be a single layer or multiple layers made of the various materials described above, or a composite film laminated with different materials.
フィルム厚は10μm〜500μmと特に制限はないが、多層する場合も考慮して、一層あたり10μm〜50μmのものを使うのが良い。 The film thickness is not particularly limited to 10 μm to 500 μm, but it is preferable to use a film having a thickness of 10 μm to 50 μm per layer in consideration of the case of multiple layers.
本発明のチップLEDにおいて、図7〜図11において符号10で示す、シリコーン樹脂シートが加熱、硬化されてなる樹脂部の構造としては、以下に例示する種々の構造を採用することができる。 In the chip LED of the present invention, various structures exemplified below can be adopted as the structure of the resin part indicated by reference numeral 10 in FIGS. 7 to 11 and formed by heating and curing the silicone resin sheet.
樹脂部が2層以上の層からなる樹脂層部であって、前記LEDチップに近い層が蛍光体を含む層で、その上に蛍光体を含まない層が存在している、あるいは、前記LEDチップに近い層が蛍光体を含まない層で、その上に蛍光体を含む層が存在している構造。 The resin part is a resin layer part composed of two or more layers, and the layer close to the LED chip is a layer containing a phosphor, and a layer not containing the phosphor is present on the layer, or the LED A structure in which the layer near the chip is a layer that does not contain a phosphor, and a layer that contains a phosphor exists on the layer.
樹脂部が2層以上の層からなる樹脂層部であって、前記LEDチップに近い層が黄色または緑色の蛍光体を含む層で、その上に、赤色の蛍光体を含む層が存在している構造。 The resin part is a resin layer part composed of two or more layers, and the layer close to the LED chip is a layer containing a yellow or green phosphor, on which a layer containing a red phosphor exists. Structure.
樹脂部が2層以上の層からなる樹脂層部であって、前記LEDチップに近い層がジメチルシリコーン樹脂からなる層で、その上に、フェニル系シリコーン樹脂からなる層、または変性シリコーン樹脂からなる層が存在している構造。 The resin part is a resin layer part composed of two or more layers, and the layer close to the LED chip is a layer made of dimethyl silicone resin, and further, a layer made of phenyl silicone resin or a modified silicone resin A structure in which a layer exists.
図7〜図11において符号10で示す、シリコーン樹脂シートが加熱、硬化されてなる樹脂部の構造として、シリコーン系の単層構造のものや多層構造のものを採用することができる。また、蛍光体を含むもの、蛍光体を含まないもの、光拡散材を含むもの、光拡散材を含まないもの、等、を採用することができる。 As the structure of the resin portion indicated by reference numeral 10 in FIGS. 7 to 11 and having a silicone resin sheet heated and cured, a silicone-based single layer structure or a multilayer structure can be employed. Moreover, the thing containing a fluorescent substance, the thing which does not contain a fluorescent substance, the thing containing a light-diffusion material, the thing which does not contain a light-diffusion material, etc. are employable.
前記において、蛍光体としては、黄色、緑色、赤色、等を採用することができる。 In the above, yellow, green, red, etc. can be adopted as the phosphor.
これらは、単層で、または多層構造で使用することができる。 These can be used in a single layer or in a multilayer structure.
また、シリコーン系樹脂から蛍光体を含む層までの様々な層の組み合わせた多層ものを含めて採用することができ、必要に応じて選択する。 Moreover, it can employ | adopt including the multilayer thing which combined various layers from the silicone type resin to the layer containing fluorescent substance, and selects as needed.
本発明のチップLEDにおいて、ガラスエポキシ基板8上に形成される封止構造9は、前記シリコーン樹脂シートが加熱、硬化されてなる樹脂部と、当該樹脂部の上に形成されている、前記シリコーン系樹脂とは組成が異なるフィルムからなるフィルム層とを含む構造にすることができる。このフィルム層は、例えば、上述したように、図1図示の樹脂シートにおけるシリコーン樹脂2の硬化後も残るプラスチックフィルム1によって形成されるフィルム層である。 In the chip LED of the present invention, the sealing structure 9 formed on the glass epoxy substrate 8 includes the resin part formed by heating and curing the silicone resin sheet, and the silicone formed on the resin part. It can be set as the structure containing the film layer which consists of a film from which a composition differs from type | system | group resin. For example, as described above, this film layer is a film layer formed by the plastic film 1 remaining after the silicone resin 2 is cured in the resin sheet shown in FIG.
この場合、図8、等において符号11で示されている上側の層(2層目)となるフィルム層は、上述したように、ポリエステル(PET)、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、硝酸セルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクレートの中のいずれかからなる単層、または前記の中のいずれかからなる層が複数積層されてなる構造にすることができる。 In this case, as described above, the film layer serving as the upper layer (second layer) indicated by reference numeral 11 in FIG. 8 and the like is polyester (PET), triacetyl cellulose (TAC), polyvinyl alcohol (PVA). ), Single layer made of polyethylene, polystyrene, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, cellulose nitrate, polycarbonate, or polymethylmethacrylate, or a plurality of layers made of any of the above are laminated. Can be structured.
前述した種々の材質のそれぞれからなる単層、または多層、あるいはそれらの組み合わせた層にするものである。 A single layer, a multilayer, or a combination of the above-described various materials is used.
また、前述したように、フィルム層を備えている構造の場合、複数層存在する前記フィルム層の中に、遮光物質が含有されているフィルム層が存在する構造にすることができる。 In addition, as described above, in the case of a structure including a film layer, a structure in which a film layer containing a light-shielding substance is present in the plurality of film layers.
すなわち、符号11で示される上側の層(2層目)となるフィルム層(図9、図10、図11)中に、図9に示すごとく予めカーボンブラック等の光の一部をカットする物質(遮光物質)を含有させる構造にすることができる。この遮光物質が含有されているフィルム層の数を増やすことにより、光のカット量を容易に調整できるようにすることができる。 That is, in the film layer (FIGS. 9, 10, and 11) that is the upper layer (second layer) indicated by reference numeral 11, a material that cuts a part of light such as carbon black in advance as shown in FIG. It can be made into the structure which contains (light-shielding substance). By increasing the number of film layers containing this light-shielding substance, the amount of light cut can be easily adjusted.
更に、前述したように、フィルム層を備えている構造の場合、複数層存在する前記フィルム層の中に、
偏光板層、
輝度上昇フィルム層と偏光板層とを組み合わせた層、
光拡散層と輝度上昇フィルム層と偏光板層とを組み合わせた層
のいずれかが存在する
構造にすることができる。
Furthermore, as described above, in the case of a structure having a film layer, in the film layer present in a plurality of layers,
Polarizing plate layer,
A layer combining a brightness enhancement film layer and a polarizing plate layer,
A structure in which any of a combination of a light diffusion layer, a brightness enhancement film layer, and a polarizing plate layer exists can be provided.
あるいは、複数層存在する前記フィルム層の中で、前記LEDチップに近い層は、430nm以下の近紫外および紫外線を吸収する紫外線吸収剤が添加されている層になっている構造にすることができる。 Or the layer close | similar to the said LED chip in the said film layer which exists in multiple layers can be made into the structure which is the layer to which the ultraviolet absorber which absorbs near-ultraviolet rays and ultraviolet rays of 430 nm or less is added. .
また、複数層存在する前記フィルム層の中に、光拡散層が含まれている構造にすることもできる。 Moreover, it can also be set as the structure where the light-diffusion layer is contained in the said film layer which exists in multiple layers.
図9は、符号11で示す上側の層(2層目)となるフィルム層に、所望の光量をカットできるフィルム12が含まれている例を説明するものである。所望の光量をカットできるフィルム12は、例えば、カーボンブラック、等の光量をカットする物質を入れたフィルムである。光量をカットする物質(遮光物質)の含有量を調製することにより、例えば、光量を5%カットするフィルム、光量を10%カットするフィルムなどを何層か組み合わせてラミネートすることにより、光量を5%カットする多層(積層)フィルム、光量を10%カットする多層(積層)フィルム、光量を14.5%カットする多層(積層)フィルムとすることができる。 FIG. 9 illustrates an example in which a film 12 that can cut a desired light amount is included in an upper layer (second layer) indicated by reference numeral 11. The film 12 capable of cutting a desired light quantity is a film containing a substance that cuts the light quantity, such as carbon black. By adjusting the content of a substance that cuts off the amount of light (light-shielding substance), for example, by laminating several layers of a film that cuts the amount of light by 5%, a film that cuts the amount of light by 10%, etc. % (Multi-layer) film that cuts 10%, multi-layer (laminated) film that cuts 10% of light, and multi-layer (laminated) film that cuts 14.5% of light.
明るさを抑えて使用する車載用等のLEDに最適である。またカットする光量が事前に分かっているので、異なる光度のLEDチップでもカット量により光度を調整し、所望の光度のLEDを作ることができ、生産効率が良くなる。 It is optimal for in-vehicle LEDs that are used with reduced brightness. In addition, since the amount of light to be cut is known in advance, even with LED chips having different luminosities, the luminosity can be adjusted according to the cut amount, and an LED having a desired luminosity can be produced, resulting in improved production efficiency.
また、カーボンブラックを使用した場合はフィルムの表面電気抵抗が下がり、LEDの静電気によるダメージや工程での静電気による付着等のトラブルを改善できる。 Further, when carbon black is used, the surface electrical resistance of the film is lowered, and troubles such as damage caused by static electricity of the LED and adhesion due to static electricity in the process can be improved.
図10は、符号11で示す上側の層(2層目)となるフィルム層に、偏光板層16が含まれている例を説明するものである。このようにすることによって、本発明のチップLEDを、偏光光を発光する偏光LEDにすることができる。 FIG. 10 illustrates an example in which a polarizing plate layer 16 is included in a film layer serving as an upper layer (second layer) indicated by reference numeral 11. By doing in this way, the chip LED of the present invention can be a polarized LED that emits polarized light.
偏光LEDを液晶バックライトの光源として使用したとき、液晶側は偏光板2枚の組み合わせか、場合によっては液晶側の偏光板を1枚減らすことも可能になる。 When a polarized LED is used as a light source for a liquid crystal backlight, it is possible to reduce the number of polarizing plates on the liquid crystal side by combining two polarizing plates on the liquid crystal side, or in some cases.
図10では、偏光板層16と、光拡散層14と、輝度上昇フィルム層15とがラミネートされているフィルム層になっている。 In FIG. 10, the polarizing plate layer 16, the light diffusion layer 14, and the brightness enhancement film layer 15 are laminated film layers.
拡散層14はLEDチップ4からの発光のLED表面光度分布をできるだけ均一にするためのものである。 The diffusion layer 14 is for making the LED surface light intensity distribution of light emitted from the LED chip 4 as uniform as possible.
輝度上昇フィルム層15は、下記参考文献に示す如く必要なP波を透過しS波を反射させるものである。反射したS波は拡散層14で乱反射し、一部がP波となり透過し、S波が反射し、また拡散層14で乱反射し、P波が生成されるリサイクルがLED内で繰り返され、非常に効率の良い偏光LEDとすることができる。なお、輝度上昇フィルム層15によりP波を透過、S波を反射して前述したようにリサイクルが行われるメカニズムは公知である(参考文献:非特許文献2)。 The brightness enhancement film layer 15 transmits necessary P waves and reflects S waves as shown in the following reference. The reflected S wave is irregularly reflected by the diffusion layer 14, part of it is transmitted as a P wave, the S wave is reflected, and the diffused layer 14 is irregularly reflected, and the P wave is repeatedly generated in the LED. It can be set as highly efficient polarized LED. In addition, the mechanism by which the P wave is transmitted by the brightness enhancement film layer 15 and the S wave is reflected and the recycling is performed as described above is known (reference document: Non-patent document 2).
輝度上昇フィルム層15の基本はBrewster角を利用したものである。 The basics of the brightness enhancement film layer 15 utilize the Brewster angle.
図10図示のような構造のチップLEDの場合、完成したLEDの偏光方向は偏光板の偏光方向で、張り合わせ方により、所望の方向にできる。 In the case of the chip LED having the structure as shown in FIG. 10, the polarization direction of the completed LED is the polarization direction of the polarizing plate, and can be set to a desired direction by the way of bonding.
偏光LEDは液晶バックライトの光源のみでなく、様々な色の偏光LEDは産業分野や医療分野の分析装置や検査装置に応用できる。 Polarized LEDs can be applied not only to light sources of liquid crystal backlights, but also to various types of polarized LEDs in industrial and medical fields.
図11は、符号11で示す上側の層(2層目)となるフィルム層に、紫外線を吸収する紫外線吸収剤が添加されているフィルム層17が含まれている例を説明するものである。 FIG. 11 illustrates an example in which a film layer 17 to which an ultraviolet absorber that absorbs ultraviolet rays is added is included in the upper layer (second layer) indicated by reference numeral 11.
以上説明した種々の構造のフィルム層は、図1図示のシリコーン樹脂シートを準備する際、図1において上側にシリコーン樹脂2が層着されるプラスチックフィルム1の構造を、以上で説明した種々の構造のフィルム層にしておくことによって実現できる。 The film layers having the various structures described above are different from the structures of the plastic film 1 in which the silicone resin 2 is deposited on the upper side in FIG. 1 when preparing the silicone resin sheet shown in FIG. This can be realized by using a film layer.
なお、シリコーン樹脂、フェニルシリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂などのシリコーン系樹脂が、樹脂封止工程において加熱、硬化して形成された樹脂部10と、符号11で示す上側の層(2層目)となるフィルム層との接着強度が十分でない場合は、図9、図10図示のように、接触する面をプライマー処理するか、接着剤層18等を介在させることにより接着強度を強化することができる。 A resin part 10 formed by heating and curing a silicone resin such as silicone resin, phenyl silicone resin, and modified silicone resin in the resin sealing step, and an upper layer (second layer) indicated by reference numeral 11 When the adhesive strength with the film layer is not sufficient, as shown in FIGS. 9 and 10, the contact surface can be primed or the adhesive strength can be enhanced by interposing the adhesive layer 18 or the like. .
接着剤層18等を介在させる場合も、図1図示のシリコーン樹脂シートを準備する際、シリコーン樹脂2とプラスチックフィルム1との間にこのような構造を準備すればよい。 Even when the adhesive layer 18 or the like is interposed, such a structure may be prepared between the silicone resin 2 and the plastic film 1 when preparing the silicone resin sheet shown in FIG.
以上説明したように、本発明によれば、多様な樹脂シートの特徴を生かした構造を有するチップLEDとその製造方法を提供することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to provide a chip LED having a structure utilizing the characteristics of various resin sheets and a method for manufacturing the same.
上述した本発明のチップLEDに採用される樹脂部の構造によれば、蛍光体を含む樹脂層の厚みを2層、3層と層を増やすことにより、青色発光と蛍光体の蛍光との混色の微調整ができるようになる。 According to the structure of the resin part employed in the above-described chip LED of the present invention, the resin layer containing the phosphor is increased in thickness by two layers, three layers, and the mixed color of the blue light emission and the fluorescence of the phosphor. Can be fine-tuned.
また、蛍光体を含む樹脂層を、異なる蛍光色の層を2層、3層と組み合わせることにより、様々な発光色のLEDを実現できるようになる。 Further, by combining a resin layer containing a phosphor with two or three layers of different fluorescent colors, LEDs of various emission colors can be realized.
更に、樹脂部とフィルム層とが積層されている構造を採用し、当該プラスチックフィルム層にカーボングラファイト等の遮光材を含ませることにより、発光出力を一定量カットし、所望の明るさのLED得ることが可能になる。 Furthermore, by adopting a structure in which a resin part and a film layer are laminated, and by including a light shielding material such as carbon graphite in the plastic film layer, a light emission output is cut by a certain amount, and an LED having a desired brightness is obtained. It becomes possible.
また、フィルム層に偏光フィルム層が含まれている構造を採用することにより、偏光発光を可能にしたLEDを実現できる。 Moreover, LED which enabled polarized light emission is realizable by employ | adopting the structure where the polarizing film layer is contained in the film layer.
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施例を説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
本願発明のチップLEDは、従来公知のように、複数のスルーホールが所定の配列状態で形成されているガラスエポキシ基板8上に、LEDチップ4をボンディングし、樹脂封止後、スルーホールの部分をダイシングして個々のLEDに分割して製造される直方体形状のチップLEDである。 In the chip LED of the present invention, as is conventionally known, the LED chip 4 is bonded on the glass epoxy substrate 8 in which a plurality of through holes are formed in a predetermined arrangement state, and after sealing with resin, Is a rectangular parallelepiped chip LED manufactured by dicing the LED into individual LEDs.
ここで、本願発明のチップLEDでは、ガラスエポキシ基板8のLEDチップ4が搭載される側の表面におけるスルーホールの開口部を閉鎖部材によって塞いでいる状態で樹脂封止することにより、スルーホールの基板半田付け電極となる面6が外部に露出している構造になっている。 Here, in the chip LED of the present invention, the through hole is formed by resin sealing in a state where the opening of the through hole on the surface of the glass epoxy substrate 8 on the side where the LED chip 4 is mounted is closed by the closing member. The surface 6 which becomes a board soldering electrode is exposed to the outside.
また、本願発明のチップLEDでは、樹脂封止が、図1に例示するシリコーン樹脂シートを用い、当該シリコーン樹脂シートを加熱、硬化させて行われている。 Further, in the chip LED of the present invention, resin sealing is performed by using the silicone resin sheet illustrated in FIG. 1 and heating and curing the silicone resin sheet.
そして、前記シリコーン樹脂シートが加熱、硬化されてなる樹脂部の少なくともLEDチップ4に接触する部分がシリコーン系樹脂からなり、ガラスエポキシ基板8上に形成されている封止構造9(図6、図7)が前記樹脂部を含んだ2層以上の構造になっている。 And the sealing structure 9 (FIG. 6, FIG. 6, figure) which the part which contacts the LED chip 4 of the resin part by which the said silicone resin sheet is heated and hardened consists of silicone resin, and is formed on the glass epoxy board | substrate 8 is shown. 7) has a structure of two or more layers including the resin portion.
更に、本発明のチップLEDでは、図6、図7において符号9で示されている、ガラスエポキシ基板8上に形成される封止構造が均一な厚みで形成される。そして、均一な厚みで形成される封止構造9の上部側の面が、チップLEDの直方体形状の一面である上部側の面を形成する構造になっている。すなわち、均一な厚みで形成される封止構造9の上部側の面が、均一な厚みで形成される本発明のチップLEDの直方体形状の一面である上部側の面を形成する構造になっている。こうして、ガラスエポキシ基板8上に形成される封止構造9の上部側の面が、直方体形状のチップLEDの上部側の面を兼ねている構造のチップLEDになっている(図6、図7)。 Furthermore, in the chip LED of the present invention, the sealing structure formed on the glass epoxy substrate 8 indicated by reference numeral 9 in FIGS. 6 and 7 is formed with a uniform thickness. And the upper surface of the sealing structure 9 formed with a uniform thickness has a structure in which an upper surface, which is one surface of the rectangular parallelepiped shape of the chip LED, is formed. That is, the surface on the upper side of the sealing structure 9 formed with a uniform thickness forms a surface on the upper side which is one surface of the rectangular parallelepiped shape of the chip LED of the present invention formed with a uniform thickness. Yes. In this way, a chip LED having a structure in which the upper surface of the sealing structure 9 formed on the glass epoxy substrate 8 also serves as the upper surface of the rectangular parallelepiped chip LED (FIGS. 6 and 7). ).
この実施例では、本発明のチップLEDの製造方法および、本発明のチップLEDにおける上述した本発明の特徴的な部分を中心にして説明する。 In this embodiment, the manufacturing method of the chip LED of the present invention and the characteristic part of the present invention described above in the chip LED of the present invention will be mainly described.
チップLEDの標準的なサイズとして1608タイプと2012タイプがある。この実施例では2012タイプのものを採用した。 There are 1608 type and 2012 type as standard sizes of chip LED. In this embodiment, the 2012 type was adopted.
2012タイプとはサイズが、縦横1.25mm×2.0mmのものである。 The 2012 type has a size of 1.25 mm x 2.0 mm.
図6は、この実施例で製造した本発明のチップLEDの斜視模式図である。 FIG. 6 is a schematic perspective view of the chip LED of the present invention manufactured in this example.
図6図示の実施形態は、LEDチップを1個搭載した例なので、電極となるスルーホールは一対であるが、搭載するLEDチップの数が増えれば当然スルーホールの数も増える。 Since the embodiment shown in FIG. 6 is an example in which one LED chip is mounted, there are a pair of through-holes serving as electrodes, but the number of through-holes naturally increases as the number of LED chips mounted increases.
図5は、図6図示の本発明のLEDチップを製造する本発明の工程において、LEDチップをボンディング済みの量産基板に樹脂シートを載せて樹脂封止した状態の平面視での全体概略図である。図5では、4800個(60個×80個)取りの基板20になっている。 FIG. 5 is an overall schematic view in plan view of a state in which a resin sheet is placed on a mass-produced substrate on which the LED chip is bonded and resin-sealed in the process of the present invention for manufacturing the LED chip of the present invention illustrated in FIG. is there. In FIG. 5, 4800 (60 × 80) substrates 20 are obtained.
この実施例では、ダイシング時のブレードの幅が約50μmで、LED搭載部分21のサイズは縦1.30×60=78mm、横2.05×80=164mm、樹脂シート22のサイズは82mm×168mm、基板サイズは86mm×172mmになっている。 In this embodiment, the width of the blade when dicing is about 50 μm, the size of the LED mounting portion 21 is 1.30 × 60 = 78 mm in length, 2.05 × 80 = 164 mm in width, and the size of the resin sheet 22 is 82 mm × 168 mm. The substrate size is 86 mm × 172 mm.
図6に符号23で示されているサイズが、製造される本発明のチップLEDのサイズになる。 The size indicated by reference numeral 23 in FIG. 6 is the size of the chip LED of the present invention to be manufactured.
なお、基板20のサイズは、製造するチップLEDのサイズ、取り数等により、当然変更される。 The size of the substrate 20 is naturally changed depending on the size and the number of chip LEDs to be manufactured.
図2は、ガラスエポキシ基板8にLEDチップ4をダイボンド、ワイヤボンドによりボンディングした状態の概略図である。LEDチップ4としては青色発光チップを用い、ワイヤボンドは金線により行った。 FIG. 2 is a schematic view showing a state in which the LED chip 4 is bonded to the glass epoxy substrate 8 by die bonding or wire bonding. A blue light emitting chip was used as the LED chip 4 and wire bonding was performed using a gold wire.
なお、ガラスエポキシ基板8のLEDチップ4が搭載される側の表面におけるスルーホールの開口部は、後述する樹脂封止の前に、閉鎖部材によって塞いでおいた。ここでは、ソルダーレジスト7によって、ガラスエポキシ基板8のLEDチップ4が搭載される側の表面におけるスルーホールの開口部に蓋をしておいた。 In addition, the opening part of the through hole in the surface at the side where the LED chip 4 of the glass epoxy board | substrate 8 is mounted was closed with the closing member before resin sealing mentioned later. Here, the solder resist 7 covered the opening of the through hole on the surface of the glass epoxy substrate 8 on the side where the LED chip 4 is mounted.
ソルダーレジスト7としては、感光性ソルダーレジストフィルムを使用した。 As the solder resist 7, a photosensitive solder resist film was used.
このソルダーレジスト7は、後の樹脂封止の工程で樹脂がスルーホール部に侵入するのを防ぎ、またチップLEDを半田付けするときに半田が樹脂に入り込むのを防ぐ役目を果たす。 The solder resist 7 serves to prevent the resin from entering the through-hole portion in the subsequent resin sealing step and to prevent the solder from entering the resin when the chip LED is soldered.
この実施例で使用した樹脂シートは、 図1に図示されているように、プラスチックフィルム1の上に、ジメチルシリコーン樹脂2を、半硬化状(Bステージ)のゲル状で、シート状にしたものである。図1中の上下両面がプラスチックフィルム1と3で挟まれた構造になっている。プラスチックフィルムの一方である上側のプラスチックフィルム3は離形フィルムとして、剥がして使用する。 As shown in FIG. 1, the resin sheet used in this example is a sheet of dimethyl silicone resin 2 formed on a plastic film 1 in a semi-cured (B-stage) gel form. It is. The upper and lower surfaces in FIG. 1 are sandwiched between plastic films 1 and 3. The upper plastic film 3 which is one of the plastic films is peeled off and used as a release film.
後述するように、樹脂封止工程で、ジメチルシリコーン樹脂2を加熱、硬化させて形成する樹脂部は、図6、図7図示のように、LEDチップ4とワイヤ5を覆う必要がある。そこで、図1図示の樹脂シートを調製する際、ジメチルシリコーン樹脂2の層の厚さは、LEDチップ4の厚み+ワイヤ5の高さより大きくすることを考慮して設定した。この実施例では、青色発光チップ(LEDチップ4)の高さが約100μm、金線の高さが約50μmであったので、ジメチルシリコーン樹脂2の層の厚さは200μmに設定した。 As will be described later, the resin portion formed by heating and curing the dimethyl silicone resin 2 in the resin sealing step needs to cover the LED chip 4 and the wire 5 as shown in FIGS. Therefore, when preparing the resin sheet shown in FIG. 1, the thickness of the dimethyl silicone resin 2 layer was set in consideration of making it larger than the thickness of the LED chip 4 + the height of the wire 5. In this example, since the height of the blue light emitting chip (LED chip 4) was about 100 μm and the height of the gold wire was about 50 μm, the thickness of the dimethyl silicone resin 2 layer was set to 200 μm.
図1図示の樹脂シートを、上述したLED搭載部のサイズより大きめに、そしてガラスエポキシ基板8のサイズより小さめに切断、調製した。 The resin sheet shown in FIG. 1 was cut and prepared to be larger than the size of the LED mounting portion described above and smaller than the size of the glass epoxy substrate 8.
このように調製した樹脂シートのプラスチックフィルム3を剥がして、治具(不図示)を使って、プラスチックフィルム3が剥がされたジメチルシリコーン樹脂2の面をLEDチップ4がボンディングされているガラスエポキシ基板8に合わせた。その後、減圧下で、160℃で5分加熱し、0.2MPaで圧着させた。 The glass epoxy substrate on which the LED chip 4 is bonded to the surface of the dimethyl silicone resin 2 from which the plastic film 3 has been peeled off using a jig (not shown) by peeling off the plastic film 3 of the resin sheet thus prepared. Adjusted to 8. Then, under reduced pressure, it heated at 160 degreeC for 5 minute (s), and was crimped | bonded by 0.2 MPa.
この後、150℃の恒温槽に5時間入れ、ジメチルシリコーン樹脂2を完全硬化させて、樹脂部を形成した。 Then, it put into a 150 degreeC thermostat for 5 hours, the dimethyl silicone resin 2 was hardened completely, and the resin part was formed.
硬化後、ブルーシートに張り、縦と横にダイシングして、図6図示の本発明のチップLEDを得た。 After curing, it was stretched on a blue sheet and diced vertically and horizontally to obtain the chip LED of the present invention shown in FIG.
上述した実施例では、樹脂部をジメチルシリコーン樹脂2から形成した。ジメチルシリコーンは硬化後もタック(粘着)性があり、このため、樹脂部をジメチルシリコーン樹脂2の一層のみで形成する場合には、分割したLED同士が引っ付き、電気テストの工程やテーピング工程で問題が生じるおそれがある。また、硬化後も柔らかいので、回路基板に実装する時、マウンタのピックアンドプレイスのときワイヤが変形し断線に至る事故が生じ易い。 In the embodiment described above, the resin portion was formed from the dimethyl silicone resin 2. Dimethyl silicone remains tacky even after curing. For this reason, when the resin part is formed with only one layer of dimethyl silicone resin 2, the divided LEDs are stuck to each other, causing problems in the electrical test process and taping process. May occur. In addition, since it is soft even after curing, there is a tendency that when it is mounted on a circuit board, the wire deforms and breaks when the mounter picks and places.
この実施例のチップLEDでは、プラスチックフィルム1(図1)を剥離不能なプラスチックフィルムとしておき、ガラスエポキシ基板8上に形成されている封止構造9を、ジメチルシリコーン樹脂2から形成されている樹脂部と、プラスチックフィルム1(図1)からなるフィルム層との2層で形成している(図3、図4)。そこで、樹脂部をジメチルシリコーン樹脂2の一層のみで形成する場合に生じるおそれがある前述した不具合は発生しない。 In the chip LED of this embodiment, the plastic film 1 (FIG. 1) is a non-peelable plastic film, and the sealing structure 9 formed on the glass epoxy substrate 8 is a resin formed from the dimethyl silicone resin 2. Part and a film layer made of plastic film 1 (FIG. 1) (FIGS. 3 and 4). Therefore, the above-described problem that may occur when the resin portion is formed of only one layer of dimethyl silicone resin 2 does not occur.
図7図示の本発明のチップLEDも、ガラスエポキシ基板8上に形成されている封止構造を、シリコーン樹脂シートにおけるシリコーン系樹脂が封止工程で加熱、硬化されてなる樹脂部を含んだ2層以上の構造にして、樹脂部をジメチルシリコーン樹脂一層で形成する際に生じる可能性がある上述した不具合の発生を防止できるものである。 The chip LED of the present invention shown in FIG. 7 also includes a resin structure in which the sealing structure formed on the glass epoxy substrate 8 includes a resin portion in which a silicone resin in a silicone resin sheet is heated and cured in a sealing process. It is possible to prevent the above-described problems that may occur when the resin part is formed of a single layer of dimethylsilicone resin with a structure having a layer or more.
図7図示の本発明のチップLEDでは、上述した実施例における本発明のチップLEDの製造工程において、図1図示の樹脂シートで、ジメチルシリコーン樹脂2の層を、フェニルシリコーン樹脂または変性シリコーン樹脂の層と、その上に積層されるジメチルシリコーン樹脂の層という2層で形成する(不図示)。また、図7図示の例では、プラスチックフィルム1も離形フィルムとしている。この場合、上述した実施例で、樹脂封止工程において、減圧下での加熱、圧着を行う前に、プラスチックフィルム1を剥離することになる。 In the chip LED of the present invention shown in FIG. 7, in the manufacturing process of the chip LED of the present invention in the embodiment described above, the layer of dimethyl silicone resin 2 is made of phenyl silicone resin or modified silicone resin with the resin sheet shown in FIG. A layer and a dimethyl silicone resin layer laminated thereon are formed in two layers (not shown). In the example shown in FIG. 7, the plastic film 1 is also a release film. In this case, in the embodiment described above, the plastic film 1 is peeled before heating and pressure bonding under reduced pressure in the resin sealing step.
これらの点以外は、上述した実施例と同様にして、図7図示のように、符号10で示すジメチルシリコーン樹脂が樹脂封止工程で加熱、硬化されたことによって形成された樹脂部の層と、その上に積層される、符号11で示す、フェニルシリコーン樹脂あるいは、変性シリコーン樹脂が樹脂封止工程で加熱、硬化されたことによって形成された樹脂部の層とからなる2層の封止構造9を、ガラスエポキシ基板8上に形成した。 Except for these points, the resin portion layer formed by heating and curing the dimethyl silicone resin indicated by reference numeral 10 in the resin sealing step as shown in FIG. A two-layer sealing structure consisting of a resin part layer formed by heating and curing a phenyl silicone resin or a modified silicone resin in a resin sealing step, which is laminated thereon 9 was formed on the glass epoxy substrate 8.
このような構造にすれば、フェニルシリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂は、タック性のない、硬いものであるので、樹脂部をジメチルシリコーン樹脂一層で形成する際に生じる可能性がある上述した不具合の発生を防止できる。 With such a structure, since the phenyl silicone resin and the modified silicone resin are hard and non-tacky, the above-described problems that may occur when the resin portion is formed with a single layer of dimethyl silicone resin are generated. Can be prevented.
なお、図7では、図3、図4に例示されていたプラスチックフィルム1(図1)からなるフィルム層も含めて封止構造9を形成する構成にしていないが、プラスチックフィルム1(図1)を剥離不能なプラスチックフィルムとしておき、符号11で示す上側の層の更に上側に、プラスチックフィルム1(図1)からなるフィルム層が積層されている封止構造にすることができる。 In FIG. 7, the sealing structure 9 is not formed including the film layer made of the plastic film 1 (FIG. 1) illustrated in FIGS. 3 and 4, but the plastic film 1 (FIG. 1). Can be formed as a non-peelable plastic film, and a sealing structure in which a film layer made of the plastic film 1 (FIG. 1) is laminated on the upper layer indicated by reference numeral 11 can be obtained.
このように、図1図示の樹脂シートで、プラスチックフィルム1を剥離不能なプラスチックフィルムとしておき、図4に符号1で示し、図7に符号11で示した上側の2層目を、プラスチックフィルムで形成するようにしても、樹脂封止工程で加熱、硬化されたことによって形成される樹脂部をジメチルシリコーン樹脂一層で形成する際に生じる可能性がある上述した不具合の発生を防止できる。 In this way, the plastic sheet 1 is placed as a non-peelable plastic film in the resin sheet shown in FIG. 1, and the upper second layer indicated by reference numeral 1 in FIG. 4 and indicated by reference numeral 11 in FIG. Even if it forms, it can prevent generation | occurrence | production of the malfunction mentioned above which may arise when forming the resin part formed by being heated and hardened in the resin sealing process by one layer of dimethyl silicone resin.
図4に符号1で示し、図7に符号11で示した上側の2層目をプラスチックフィルムで形成する場合、プラスチックフィルムに要求される特性は、透明で、短波長に強く、硬度があるということになる。このような特性を備えているものとして、アクリル系フィルムやPETフィルム、等が適している。 When the upper second layer indicated by reference numeral 1 in FIG. 4 and indicated by reference numeral 11 in FIG. 7 is formed of a plastic film, the properties required of the plastic film are transparent, strong against short wavelengths, and have hardness. It will be. An acrylic film, a PET film, etc. are suitable as what has such a characteristic.
また、上述した特性を十分には満足できないフィルムであっても、組み合わせや処理によって上述した特性を発揮させ、使用することができる。 Moreover, even if it is a film which cannot fully satisfy the characteristic mentioned above, the characteristic mentioned above can be exhibited and used by a combination and a process.
たとえば、図11に示すように紫外線吸収剤を含む層17を、プラスチックフィルムからなる層の内側(LEDチップに近い側)に設けることができる。これによって、短波長によるフィルム材の劣化の問題を解決可能になる。 For example, as shown in FIG. 11, a layer 17 containing an ultraviolet absorber can be provided inside a layer made of a plastic film (side closer to the LED chip). This makes it possible to solve the problem of film material deterioration due to short wavelengths.
この場合、青色発光素子はInGaNが発光層であるが、たとえ、もっと短波長のGaNの発光があったとしても、400nm〜430nmなので、400nm〜430nm以下の短波長を吸収する紫外線吸収剤使用すればよい。 In this case, the blue light-emitting element has InGaN as the light-emitting layer, but even if there is light emission of GaN with a shorter wavelength, it is 400 nm to 430 nm, so an ultraviolet absorber that absorbs a short wavelength of 400 nm to 430 nm or less should be used. That's fine.
図9図示の本発明のチップLEDは、シリコーン樹脂が樹脂封止工程で加熱、硬化されたことによって形成された符号10で示す樹脂部の層と、その上に形成される符号11で示される2層目をプラスチックフィルムからなるフィルム層とし、両者の間の接着力を向上させるために接着層18を両者の間に形成した例を表すものである。 The chip LED of the present invention shown in FIG. 9 is indicated by a resin portion layer indicated by reference numeral 10 formed by heating and curing a silicone resin in a resin sealing step, and indicated by reference numeral 11 formed thereon. In this example, the second layer is a film layer made of a plastic film, and an adhesive layer 18 is formed between the two in order to improve the adhesive force between them.
なお、接着力を向上させる目的で、プライマー処理を行うこともできる。 In addition, a primer process can also be performed in order to improve adhesive force.
図1図示の樹脂シートで、ジメチルシリコーン樹脂2の層をシリコーン系樹脂OE-6520(東レダウコーニング社製)に蛍光体NYAG-02(インテマテックス社製)を混ぜた層に変更した以外は、実施例1と同様にして本発明のチップLEDを製造した。 In the resin sheet shown in FIG. 1, except that the layer of dimethyl silicone resin 2 is changed to a layer in which phosphor NYAG-02 (manufactured by Intematex) is mixed with silicone resin OE-6520 (manufactured by Toray Dow Corning). The chip LED of the present invention was manufactured in the same manner as in Example 1.
この実施例で製造したチップLEDの側面図を図8に表す。 A side view of the chip LED produced in this example is shown in FIG.
図8に符号11で示す上側の2層目は、プラスチックフィルムで形成している。 The upper second layer indicated by reference numeral 11 in FIG. 8 is formed of a plastic film.
図8図示のチップLEDでは、シリコーン系樹脂(OE-6520)が樹脂封止工程で加熱、硬化されたことによって形成された樹脂部10は、5つの層10a、10b、10c、10d、10eが積層されて形成されている。 In the chip LED shown in FIG. 8, the resin portion 10 formed by heating and curing the silicone-based resin (OE-6520) in the resin sealing process has five layers 10a, 10b, 10c, 10d, and 10e. It is formed by stacking.
この5つの層は、それぞれ、所定の量の蛍光体(NYAG-02)を含んでいる、あるいは、含んでいない層である。 Each of the five layers includes or does not include a predetermined amount of phosphor (NYAG-02).
これによって、LEDチップ4の発光波長のばらつきを蛍光体の量が異なる樹脂シートで抑え込むことができる。 Thereby, the dispersion | variation in the light emission wavelength of LED chip 4 can be suppressed with the resin sheet from which the quantity of fluorescent substance differs.
本発明では、LEDとしての発光色は、LEDチップ4の発光波長と蛍光体の量により調整している。シリコーン系樹脂に蛍光体を混ぜて一定量の蛍光体を含む樹脂シートを作る場合、かなりの量を作らないと量産効果が出ない。図8図示のように、所定の量の蛍光体(NYAG-02)を含んでいる、あるいは、含んでいない層を複数積層させているのは、この問題に対応するためである。 In the present invention, the emission color of the LED is adjusted by the emission wavelength of the LED chip 4 and the amount of phosphor. When making a resin sheet containing a certain amount of phosphor by mixing phosphor with silicone resin, mass production effect is not achieved unless a considerable amount is made. As shown in FIG. 8, the reason why a plurality of layers including or not including a predetermined amount of phosphor (NYAG-02) is laminated is to cope with this problem.
なお、蛍光体なし層を含む場合、LEDチップ4に近い側にどちらを持ってくるかに関しては、基本はどちらでもよい。ただし、蛍光体なし層をLEDチップ4に近い側に持ってきた場合、青色発光がLED側面から漏れる。これを気にする場合は、蛍光体のある層10aがLEDチップ4に近い側に来るようにすればよい。 In addition, when a layer without a phosphor is included, the basis for which one is brought closer to the LED chip 4 may be either. However, when the phosphorless layer is brought closer to the LED chip 4, blue light emission leaks from the LED side surface. If this is a concern, the phosphor-containing layer 10a may be positioned closer to the LED chip 4.
青色発光チップの封止樹脂中に青色発光で励起する蛍光体を利用した白色系LEDは従来から多数知られている。代表的な蛍光体として黄色に蛍光するYAG(日亜化学)、緑色はサイアロン系アロンブライト(電気化学工業)、赤色CASN(三菱化学)等があり、一般の白色や高演色の白色に使用されている。 Many white LEDs using a phosphor that is excited by blue light emission in a sealing resin of a blue light-emitting chip are conventionally known. Typical phosphors are yellow YAG (Nichia Chemical), green is sialon-based aronbright (Electrochemical Industry), red CASN (Mitsubishi Chemical), etc. ing.
今日、市場には沢山の蛍光体があり、青色発光チップと組み合わせたLEDとして、ほとんどの色を実現できるようになっている(特許文献9、10、11、12、13)。 There are many phosphors on the market today, and most colors can be realized as LEDs combined with blue light emitting chips (Patent Documents 9, 10, 11, 12, 13).
上述した所定の量の蛍光体を含んでいる、あるいは、含んでいない5つの層10a、10b、10c、10d、10eに採用される蛍光体が、例えば、YAGの黄色の蛍光体で、演色性の良い白色LEDを作るためには、更に1層シリコーン系樹脂にCASNの赤の蛍光体を入れた層10dを追加する構造にすることもができる。この場合、樹脂層10を、合計4層にすることができる。勿論、YAGの黄色の蛍光体の代わりに、サイアロンの緑の蛍光体を用いて、同様にCASNの赤の蛍光体と組み合わせても、高演色性の白色LEDを実現できる。 The phosphor employed in the five layers 10a, 10b, 10c, 10d, and 10e containing or not containing the predetermined amount of phosphor is, for example, a yellow phosphor of YAG, and color rendering properties. In order to make a good white LED, a structure in which a layer 10d in which a CASN red phosphor is added to a one-layer silicone resin is further added can be used. In this case, the resin layer 10 can be made into a total of four layers. Of course, a white LED with high color rendering can be realized by using a green phosphor of sialon instead of a yellow phosphor of YAG and combining it with a red phosphor of CASN.
また、シリカ等の拡散材を入れたい場合は、更に、蛍光体なしの層にシリカを入れた層10eを増やせばよい。この場合、樹脂層10は、合計5層になり、当然その分、LEDも厚くなる。 Further, when it is desired to add a diffusing material such as silica, the layer 10e in which silica is added to the layer without phosphor may be further increased. In this case, the resin layer 10 has a total of five layers, and naturally the LED becomes thicker accordingly.
蛍光体の量が異なる樹脂シートを作るのは、所定の量の蛍光体を含む層を何層か積み重ねて作るのが合理的である。ゲル状の樹脂中では、蛍光体は沈殿しないので、何層か重ねても特に問題とならない。 It is reasonable to make resin sheets with different amounts of phosphors by stacking several layers containing a predetermined amount of phosphors. In the gel-like resin, the phosphor does not precipitate, so there is no particular problem even if several layers are stacked.
実施例1で説明したように、青色発光チップ(LEDチップ4)の高さが約100μm、金線の高さが約50μmであったので、ジメチルシリコーン樹脂2の層の厚さは200μmに設定した。図1図示の樹脂シートにおいて符号2で表されているシリコーン系樹脂(OE-6520)の層の厚さは200μmあれば十分である。 As described in Example 1, since the height of the blue light emitting chip (LED chip 4) was about 100 μm and the height of the gold wire was about 50 μm, the thickness of the dimethyl silicone resin 2 layer was set to 200 μm. did. In the resin sheet shown in FIG. 1, it is sufficient that the thickness of the layer of the silicone resin (OE-6520) represented by reference numeral 2 is 200 μm.
含有蛍光体の量が異なる2種類の樹脂層、例えば、含有蛍光体の量5%と含有蛍光体の量30%の層を準備すれば、合計3層として、30%、35%、40%の3種類の蛍光体の量が異なる3層600μmの樹脂シートができる。 If two types of resin layers having different amounts of phosphors are prepared, for example, a layer having a phosphor content of 5% and a phosphor content of 30% is prepared, a total of three layers of 30%, 35%, and 40% A three-layer 600 μm resin sheet with different amounts of the three types of phosphors can be obtained.
30%のものは蛍光体層が1層で、残り2層分は蛍光体なしの層となる。35%のものは、蛍光体が30%と5%の2層で残り1層が蛍光体なしの層という具合に合計3層で厚みが同じになるようにすればよい。 In the case of 30%, there is one phosphor layer, and the remaining two layers are layers without phosphor. For 35%, the thickness may be the same for a total of three layers, such as two layers of phosphors of 30% and 5%, and the remaining one layer without phosphors.
すなわち、含有蛍光体の量30%で3層600μmの樹脂シートは、含有蛍光体の量30%の層(200μm)一層と、含有蛍光体の量0%の層(200μm)が二層とで形成される。 That is, a resin sheet having three layers of 600 μm with a content of phosphor of 30% is composed of one layer with a content of phosphor of 30% (200 μm) and two layers with a content of phosphor of 0% (200 μm). It is formed.
含有蛍光体の量35%で3層600μmの樹脂シートは、含有蛍光体の量30%の層(200μm)一層、含有蛍光体の量5%の層(200μm)一層、含有蛍光体の量0%の層(200μm)一層で形成される。 The resin sheet of 3 layers and 600 μm with the amount of contained phosphor is 35%, the layer with the amount of contained phosphor is 30% (200 μm), the layer with the amount of contained phosphor is 5% (200 μm), the amount of contained phosphor is 0 % Layer (200 μm).
含有蛍光体の量40%で、3層600μmの樹脂シートは、含有蛍光体の量30%の層(200μm)一層、含有蛍光体の量5%の層(200μm)二層で形成される。 A resin sheet having three layers of 600 μm with a phosphor content of 40% is formed of two layers with a phosphor content of 30% (200 μm) and two layers with a phosphor content of 5% (200 μm).
以上、添付図面を参照して本発明の実施形態、実施例を説明したが、本発明はかかる実施形態、実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲の記載から把握される技術的範囲において種々に変更可能である。 The embodiments and examples of the present invention have been described with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments and examples, and is understood from the description of the claims. Various changes can be made in the range.
1 プラスチックフィルム
2 シリコーン樹脂
3 プラスチックフィルム(離形フィルム)
4 LEDチップ
5 ワイヤ
6 スルーホール面
7 閉鎖部材
8 ガラスエポキシ基板
9 封止構造
10 樹脂部の層
11 上側の層(二層目の層)
12 所望の光量をカットできるフィルム
14 光拡散層
15 輝度上昇フィルム層
16 偏光板層
17 紫外線を吸収する紫外線吸収剤が添加されているフィルム層
18 接着剤層
1 Plastic film 2 Silicone resin 3 Plastic film (release film)
4 LED chip 5 Wire 6 Through-hole surface 7 Closing member 8 Glass epoxy substrate 9 Sealing structure 10 Resin layer 11 Upper layer (second layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 12 Film 14 which can cut off desired light quantity Light-diffusion layer 15 Brightness increase film layer 16 Polarizing plate layer 17 Film layer 18 which the ultraviolet absorber which absorbs ultraviolet rays is added Adhesive layer
本願発明は、
複数のスルーホールが所定の配列状態で形成されているガラスエポキシ基板上にLEDチップをボンディングし、樹脂封止後、前記スルーホールの部分をダイシングして個々のLEDに分割して製造される直方体形状のチップLEDを製造する方法であって以下の工程を備えていることを特徴とするチップLEDの製造方法である。
(1)前記樹脂封止を行う前に前記ガラスエポキシ基板の前記LEDチップが搭載される側の表面における前記スルーホールの開口部を閉鎖部材によって塞ぐ工程。
(2)シリコーン系樹脂からなる層の上に少なくとも一層以上が積層されている積層構造の樹脂シートを用い、前記LEDチップがボンディングされている前記ガラスエポキシ基板上に前記樹脂シートを前記シリコーン系樹脂からなる層を当接させて搭載した後、前記樹脂シートを加熱、硬化することにより、前記樹脂シートの積層構造に対応した2層以上の封止構造であって、前記LEDチップに接触する部分が前記シリコーン系樹脂からなる層によって形成されている封止構造を前記ガラスエポキシ基板上に形成する樹脂封止工程。
このような本願発明によって製造されるチップLEDは、
複数のスルーホールが所定の配列状態で形成されているガラスエポキシ基板上にLEDチップをボンディングし、樹脂封止後、前記スルーホールの部分をダイシングして個々のLEDに分割して製造される直方体形状のチップLEDであって、
前記ガラスエポキシ基板の前記LEDチップが搭載される側の表面における前記スルーホールの開口部が閉鎖部材によって塞がれている状態で前記樹脂封止が行われることにより前記スルーホールの基板半田付け電極となる面が外部に露出していると共に、
前記樹脂封止は、シリコーン樹脂シートを用い、当該シリコーン樹脂シートを加熱、硬化させて行われ、当該シリコーン樹脂シートが加熱、硬化されてなる樹脂部の少なくとも前記LEDチップに接触する部分がリコーン系樹脂であって、
前記ガラスエポキシ基板上に形成されている封止構造が前記樹脂部を含んだ2層以上の構造からなり、
前記封止構造の上部側の面が、前記チップLEDの前記直方体形状の一面である上部側の面を形成している
チップLED
である。
The present invention is
A rectangular parallelepiped manufactured by bonding an LED chip on a glass epoxy substrate in which a plurality of through holes are formed in a predetermined arrangement state, sealing the resin, and dicing the through hole portion into individual LEDs. A method of manufacturing a chip LED having a shape, comprising the following steps.
(1) A step of closing an opening of the through hole on the surface of the glass epoxy substrate on the side where the LED chip is mounted before the resin sealing.
(2) A resin sheet having a laminated structure in which at least one layer is laminated on a layer made of a silicone resin, and the resin sheet is placed on the glass epoxy substrate to which the LED chip is bonded. A portion having a sealing structure of two or more layers corresponding to the laminated structure of the resin sheets by heating and curing the resin sheet after mounting the layers in contact with each other and contacting the LED chip A resin sealing step of forming a sealing structure formed by a layer made of the silicone resin on the glass epoxy substrate.
Such a chip LED manufactured according to the present invention is:
A rectangular parallelepiped manufactured by bonding an LED chip on a glass epoxy substrate in which a plurality of through holes are formed in a predetermined arrangement state, sealing the resin, and dicing the through hole portion into individual LEDs. Shaped chip LED,
The resin sealing is performed in a state where the opening of the through hole on the surface of the glass epoxy substrate on the side where the LED chip is mounted is closed by a closing member, whereby the substrate soldering electrode of the through hole The surface to be exposed to the outside,
The resin sealing is performed by using a silicone resin sheet and heating and curing the silicone resin sheet, and at least a portion of the resin part formed by heating and curing the silicone resin sheet is in contact with the LED chip. A resin,
The sealing structure formed on the glass epoxy substrate consists of a structure of two or more layers including the resin part,
An upper surface of the sealing structure forms an upper surface that is one surface of the rectangular parallelepiped shape of the chip LED. Chip LED
It is.
本願発明は、
複数のスルーホールが所定の配列状態で形成されているガラスエポキシ基板上にLEDチップをボンディングし、樹脂封止後、前記スルーホールの部分をダイシングして個々のLEDに分割して製造される直方体形状のチップLEDを製造する方法であって以下の工程を備えていることを特徴とするチップLEDの製造方法。
(1)前記樹脂封止を行う前に前記ガラスエポキシ基板の前記LEDチップが搭載される側の表面における前記スルーホールの開口部を閉鎖部材によって塞ぐ工程。
(2)シリコーン系樹脂からなる層の上にポリエステル(PET)、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリビニルアルコール(PVA)、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、硝酸セルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクレートの中のいずれかからなる単層、または前記の中のいずれかからなる層が複数積層されてなる、前記シリコーン系樹脂とは組成が異なるフィルムのフィルム層を含む少なくとも一層以上が積層されている積層構造の樹脂シートを用い、前記LEDチップがボンディングされている前記ガラスエポキシ基板上に前記樹脂シートを前記シリコーン系樹脂からなる層を当接させて搭載した後、前記樹脂シートを加熱、硬化することにより、前記樹脂シートの積層構造に対応した2層以上の封止構造であって、前記LEDチップに接触する部分が前記シリコーン系樹脂からなる層によって形成されていて、前記シリコーン系樹脂からなる層の上に前記フィルム層を含んでいる封止構造を前記ガラスエポキシ基板上に形成する樹脂封止工程。
The present invention is
A rectangular parallelepiped manufactured by bonding an LED chip on a glass epoxy substrate in which a plurality of through holes are formed in a predetermined arrangement state, sealing the resin, and dicing the through hole portion into individual LEDs. A method for manufacturing a chip LED, which is a method for manufacturing a chip LED having a shape, comprising the following steps.
(1) A step of closing an opening of the through hole on the surface of the glass epoxy substrate on the side where the LED chip is mounted before the resin sealing.
(2) Polyester (PET), triacetyl cellulose (TAC), polyvinyl alcohol (PVA), polyethylene, polystyrene, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, cellulose nitrate, polycarbonate, polymethylmeta on the layer made of silicone resin single layer made of any of a Akureto, or the layer made of any of a, which are stacked, or at least one layer is laminated, including a full Irumu layer of different composition film and the silicone resin The resin sheet is mounted on the glass epoxy substrate to which the LED chip is bonded by contacting the layer made of the silicone resin, and then the resin sheet is heated. The resin sheet is laminated by curing The sealing structure has two or more layers corresponding to the structure, and a portion in contact with the LED chip is formed by the layer made of the silicone resin, and the film layer is formed on the layer made of the silicone resin. A resin sealing step of forming a sealing structure including the glass epoxy substrate on the glass epoxy substrate.
Claims (10)
前記ガラスエポキシ基板の前記LEDチップが搭載される側の表面における前記スルーホールの開口部が閉鎖部材によって塞がれている状態で前記樹脂封止が行われることにより前記スルーホールの基板半田付け電極となる面が外部に露出していると共に、
前記樹脂封止は、シリコーン樹脂シートを用い、当該シリコーン樹脂シートを加熱、硬化させて行われ、当該シリコーン樹脂シートが加熱、硬化されてなる樹脂部の少なくとも前記LEDチップに接触する部分がリコーン系樹脂であって、
前記ガラスエポキシ基板上に形成されている封止構造が前記樹脂部を含んだ2層以上の構造からなり、
前記封止構造の上部側の面が、前記チップLEDの前記直方体形状の一面である上部側の面を形成している
チップLED。 A rectangular parallelepiped manufactured by bonding an LED chip on a glass epoxy substrate in which a plurality of through holes are formed in a predetermined arrangement state, sealing the resin, and dicing the through hole portion into individual LEDs. Shaped chip LED,
The resin sealing is performed in a state where the opening of the through hole on the surface of the glass epoxy substrate on the side where the LED chip is mounted is closed by a closing member, whereby the substrate soldering electrode of the through hole The surface to be exposed to the outside,
The resin sealing is performed by using a silicone resin sheet and heating and curing the silicone resin sheet, and at least a portion of the resin part formed by heating and curing the silicone resin sheet is in contact with the LED chip. A resin,
The sealing structure formed on the glass epoxy substrate consists of a structure of two or more layers including the resin part,
A chip LED in which an upper surface of the sealing structure forms an upper surface which is one surface of the rectangular parallelepiped shape of the chip LED.
ことを特徴とする請求項1記載のチップLED。 The resin part is a resin layer part composed of two or more layers, and the layer close to the LED chip is a layer containing a phosphor, and there is a layer not containing the phosphor, or 2. The chip LED according to claim 1, wherein the layer close to the LED chip is a layer that does not contain a phosphor, and a layer containing the phosphor is present thereon.
ことを特徴とする請求項1記載のチップLED。 The resin part is a resin layer part composed of two or more layers, and a layer close to the LED chip is a layer containing a yellow or green phosphor, and a layer containing a red phosphor is present thereon. The chip LED according to claim 1, wherein:
ことを特徴とする請求項1記載のチップLED。 The resin part is a resin layer part composed of two or more layers, and the layer close to the LED chip is a layer made of dimethyl silicone resin, on which a layer made of phenyl silicone resin, or a modified silicone resin The chip LED according to claim 1, wherein a layer is formed.
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項記載のチップLED。 The sealing structure includes the resin part and a film layer formed on the resin part and made of a film having a composition different from that of the silicone-based resin. Chip LED as described in any one.
ことを特徴とする請求項5記載のチップLED。 The film layer is any one of polyester (PET), triacetyl cellulose (TAC), polyvinyl alcohol (PVA), polyethylene, polystyrene, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, cellulose nitrate, polycarbonate, and polymethyl metaacrylate. 6. The chip LED according to claim 5, wherein a single layer made of or a plurality of layers made of any of the above is laminated.
ことを特徴とする請求項6記載のチップLED。 The chip LED according to claim 6, wherein a film layer containing a light-shielding substance is present in the plurality of film layers.
偏光板層、
輝度上昇フィルム層と偏光板層とを組み合わせた層、
光拡散層と輝度上昇フィルム層と偏光板層とを組み合わせた層
のいずれかが存在する
ことを特徴とする請求項6記載のチップLED。 In the film layer present in multiple layers,
Polarizing plate layer,
A layer combining a brightness enhancement film layer and a polarizing plate layer,
The chip LED according to claim 6, wherein any one of a combination of a light diffusion layer, a brightness enhancement film layer, and a polarizing plate layer is present.
であることを特徴とする請求項6記載のチップLED。 The layer close to the LED chip among the film layers present in a plurality of layers is a layer to which an ultraviolet absorber that absorbs near-ultraviolet rays and ultraviolet rays of 430 nm or less is added. Chip LED.
ことを特徴とする請求項6乃至請求項9のいずれか一項記載のチップLED。 The chip LED according to any one of claims 6 to 9, wherein a light diffusion layer is included in the plurality of film layers.
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