KR101642845B1

KR101642845B1 - Facility for gas treatment

Info

Publication number: KR101642845B1
Application number: KR1020160030921A
Authority: KR
Inventors: 지현우; 정용원; 안의섭; 임경인; 장근수; 황덕윤; 이철재; 정제호; 김학성
Original assignee: 지에스건설 주식회사
Priority date: 2016-03-15
Filing date: 2016-03-15
Publication date: 2016-07-26
Anticipated expiration: 2036-03-15

Abstract

본 발명은 가스 처리 설비에 관한 것이다. 구체적으로 본 발명의 일 실시예에 따르면, 가스 처리 설비는, 대상가스를 처리하기 위한 처리액이 유입되는 처리액 유입부; 상기 대상가스가 유입되는 가스 유입부; 상기 대상가스가 내부로 유입되어 상기 처리액과 만나도록 제공되는 제1 충진층; 상기 대상가스가 내부로 유입되어 상기 제1 충진층을 거친 처리액과 만나도록 제공되는 제2 충진층; 상기 처리액 유입부로부터 유입되는 처리액을 분배하는 제1 분배기; 및 상기 제1 충진층으로부터 유입되는 처리액을 분배하는 제2 분배기를 포함할 수 있다. 또한, 상기 제2 분배기는, 상기 제2 충진층으로부터 상기 대상가스가 유입되는 복수 개의 대상가스 유입구; 상기 처리액이 상기 제2 충진층으로 유출되는 처리액 유출구; 상기 제1 충진층으로부터 흘러나온 처리액이 상기 대상가스 유입구로 유출되는 것을 차단하는 커버부재; 및 복수 개의 상기 대상가스 유입구들 사이의 공간에 구비되는 격벽을 포함할 수 있다. The present invention relates to a gas treatment facility. Specifically, according to one embodiment of the present invention, a gas treatment facility includes: a treatment liquid inflow portion into which a treatment liquid for treating a target gas flows; A gas inflow portion into which the target gas flows; A first filling layer introduced into the interior of the target gas so as to meet with the processing solution; A second filling layer which is provided so that the target gas flows into the inside and meets the treating solution passing through the first filling layer; A first distributor for distributing the treatment liquid introduced from the treatment liquid inflow portion; And a second distributor for distributing the treatment liquid introduced from the first filling layer. The second distributor may further include: a plurality of target gas inlets into which the target gas flows from the second filling layer; A treatment liquid outlet port through which the treatment liquid flows out into the second filling layer; A cover member for blocking a process liquid flowing from the first filling layer from flowing out to the target gas inlet; And barrier ribs provided in a space between the plurality of target gas inlets.

Description

{FACILITY FOR GAS TREATMENT}

본 발명은 가스 처리 설비에 대한 발명이다. The present invention relates to a gas treatment facility.

해양 구조물에는 정유, 석유화학 및 정밀화학 공정에서 발생하는 유해가스 또는 유기물의 제거를 위해, 증류, 흡수, 냉각 원리를 적용한 증류탑, 흡수탑 등의 충진층이 설치될 수 있고, 이러한 충진층에는 트레이 및 충진층과 같은 기체-액체 접촉 장치가 마련될 수 있다. 기체-액체 접촉 장치는 정유 및 석유화학 산업에서 다양한 방식의 가스 처리를 위하여 사용된다. 다만, 트레이는 충진층의 유동이 발생할 경우 액체의 범람 때문에 부적합하므로, 해양 구조물에서는 대개 충진층이 사용되며 일반적으로 불규칙 충진층(random packing) 보다는 구조화 충진층(structured packing)이 사용된다. 구조화 충진층을 충진층 내에서 사용하는 것은, 저압 강하가 중요한 경우에 많은 장점을 가진다는 점이 널리 알려져 있다. In the offshore structure, a packing layer such as a distillation tower and an absorption tower to which distillation, absorption, and cooling principles are applied can be installed to remove harmful gases or organic substances generated in oil refining, petrochemical and fine chemical processes. And a gas-liquid contacting device such as a filling layer may be provided. Gas-liquid contact devices are used in the refinery and petrochemical industries for various types of gas treatment. However, the tray is unsuitable due to the flooding of the fluid when the flow of the filling layer occurs, and thus, the packing layer is usually used in an offshore structure, and a structured packing is generally used instead of a random packing. It is widely known that the use of structured packing layers in a packed bed has many advantages when low pressure drop is important.

충진층의 성능은 충진층(기체-액체 접촉 장치) 내에서 국부적으로 발생하는 액체 하강류 및 기체 상승류의 분포를 얼마나 균일하게 형성하고 유지시키는지에 따라 좌우된다. 이러한 충진층 내에서의 액체와 기체의 분포는, 충진층에 대한 액체의 초기 공급량 및 충진층의 개별적인 특성에 영향을 받는다. The performance of the packed bed depends on how uniformly the formation and maintenance of the distribution of liquid downflow and gas upflow that occur locally in the packed bed (gas-liquid contact apparatus). The distribution of the liquid and gas in such a filler layer is influenced by the initial amount of liquid supplied to the filler layer and the individual characteristics of the filler layer.

한편, 충진층은 충진층과 함께, 액체 분배기를 포함하는데, 충진층에 대한 액체의 초기 공급량은 이러한 액체 분배기에 따라 달라진다. 액체 분배기의 개관 내에서의 액체 수위가 균일해야 한다는 것은 주수구로부터의 유동이 균일하게 되기 위한 최소 조건이다.On the other hand, the filling layer, together with the filling layer, includes a liquid distributor, wherein the initial amount of liquid supplied to the filling layer depends on this liquid distributor. The uniformity of the liquid level in the opening of the liquid distributor is the minimum condition for the flow from the main water inlet to be uniform.

그런데, 실제로는 액체 분배기의 액체 수위가 균일하게 형성되고, 액체 분배기가 충진층에 대하여 초기 액체 분포를 균일하게 제공하는 것에 어려움이 있다. 여기에는 다양한 요인들이 영향을 미칠 수 있는데, 예를 들어, 액체 분배기 내의 유체 역학적 저항, 분배기 설치 중의 조정 불량, 그리고 충진층의 기울어짐 등이 있다. However, in reality, the liquid level of the liquid distributor is uniformly formed, and it is difficult for the liquid distributor to uniformly provide the initial liquid distribution to the filling layer. There are a variety of factors that can affect such as, for example, hydrodynamic resistance in a liquid distributor, misalignment during dispenser installation, and tilting of the fill layer.

특히, 해상 구조물의 충진층에 설치되는 액체 분배기의 설계에서는 몇 가지의 요소가 더 고려된다. 예컨대, 바람, 파도 및 조류 등은 선박 갑판의 충진층에 상당한 운동을 야기시키는데, 해상 구조물의 요동 운동으로 충진층이 수직 위치로부터 기울어져 액체 분배기 내 액체가 요동되는 경우가 관심의 대상이 된다. 종래 액체 분배기 내의 액체 수위의 균일성은 선박의 운동으로 상당히 나빠질 수 있는데, 액체 수위의 균일성이 나빠지면, 주수구로부터의 유동이 균일하지 않게 되고, 결국, 충진층으로 분배되는 액체의 균일성이 좋지 않게 된다.In particular, several factors are considered in the design of the liquid distributor installed in the filling layer of the offshore structure. For example, wind, waves and algae cause considerable motion in the packed bed of the ship deck. It is of interest that the packed bed is tilted from the vertical position due to the oscillating motion of the marine structure and the liquid in the liquid distributor is rocked. Conventionally, the uniformity of the liquid level in the liquid distributor can be considerably deteriorated due to the movement of the vessel. If the uniformity of the liquid level becomes worse, the flow from the water inlet becomes uneven and eventually the uniformity of the liquid distributed to the filling layer is poor .

이에, 해상 구조물의 요동 운동으로 인해, 충진층이 요동되거나 기울어지더라도, 액체 분배기 내의 액체가 충진층 내로 균일하게 분배될 수 있는 방안이 요구되고 있다.Accordingly, there is a demand for a method in which the liquid in the liquid distributor can be uniformly distributed into the filling layer even if the filling layer is rocked or tilted due to the swinging motion of the sea structure.

본 발명의 실시예들은 요동 상태에서도 충진층 내로 액체의 균일한 분배가 이루어지게 할 수 있는 충진층용 액체 분배기를 제공하고자 한다.Embodiments of the present invention are intended to provide a liquid distributor for a filling layer capable of even distribution of liquid into the filling layer even in the rocking state.

본 발명의 일 측면에 따르면, 대상가스를 처리하기 위한 처리액이 유입되는 처리액 유입부; 상기 대상가스가 유입되는 가스 유입부; 상기 대상가스가 내부로 유입되어 상기 처리액과 만나도록 제공되는 제1 충진층; 상기 대상가스가 내부로 유입되어 상기 제1 충진층을 거친 처리액과 만나도록 제공되는 제2 충진층; 상기 처리액 유입부로부터 유입되는 처리액을 분배하는 제1 분배기; 및 상기 제1 충진층으로부터 유입되는 처리액을 분배하는 제2 분배기를 포함하고, 상기 제2 분배기는, 상기 제2 충진층으로부터 상기 대상가스가 유입되는 복수 개의 대상가스 유입구; 상기 처리액이 상기 제2 충진층으로 유출되는 처리액 유출구; 상기 제1 충진층으로부터 흘러나온 처리액이 상기 대상가스 유입구로 유출되는 것을 차단하는 커버부재; 및 복수 개의 상기 대상가스 유입구들 사이의 공간에 구비되는 격벽을 포함하는 가스 처리 설비가 제공될 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a plasma processing apparatus including: a processing solution inlet through which a processing solution for processing a target gas flows; A gas inflow portion into which the target gas flows; A first filling layer introduced into the interior of the target gas so as to meet with the processing solution; A second filling layer which is provided so that the target gas flows into the inside and meets the treating solution passing through the first filling layer; A first distributor for distributing the treatment liquid introduced from the treatment liquid inflow portion; And a second distributor for distributing the treatment liquid introduced from the first filling layer, wherein the second distributor comprises: a plurality of target gas inlets into which the target gas flows from the second filling layer; A treatment liquid outlet port through which the treatment liquid flows out into the second filling layer; A cover member for blocking a process liquid flowing from the first filling layer from flowing out to the target gas inlet; And a partition provided in a space between the plurality of target gas inlets.

또한, 상기 대상가스 유입구는 상기 제2 분배기 바닥부 측으로부터 상방을 향하여 형성되며, 일 방향으로 연장되는 장형의 구멍을 포함하고, 상기 격벽은 상기 바닥부와 엇갈리고, 또한 상기 대상가스 유입구가 연장되는 방향과 엇갈리는 방향으로 구비되는 가스 처리 설비가 제공될 수 있다.The object gas inlet is formed upward from the bottom of the second distributor and includes elongated holes extending in one direction, the partition wall staggered with the bottom, and the object gas inlet is extended A gas treatment facility provided in a direction different from the gas treatment facility can be provided.

또한, 상기 격벽은 상기 제2 분배기의 바닥부와 이격되도록 제공되는 가스 처리 설비가 제공될 수 있다.Also, the partition may be provided with a gas treatment facility provided to be spaced apart from the bottom of the second distributor.

또한, 상기 제2 분배기는 컬럼 외판을 포함하고, 상기 대상가스 유입구와 상기 컬럼 외판의 사이에 연결벽이 구비되는 가스 처리 설비가 제공될 수 있다.Also, the second distributor may include a column outer plate, and a gas treatment facility may be provided in which a connecting wall is provided between the target gas inlet and the column outer plate.

또한, 상기 처리액 유출구는 바닥부로부터 상방으로 연장되는 장형부재로 제공되고, 상기 장형부재의 측면에는 통공이 형성되는 가스 처리 설비가 제공될 수 있다.Further, the treatment liquid outlet may be provided with an elongated member extending upward from the bottom portion, and a gas treatment facility in which a through hole is formed in the side surface of the elongate member.

또한, 상기 격벽의 높이는 상기 대상가스 유입구의 높이보다 낮고, 상기 통공의 높이보다 높게 형성되는 가스 처리 설비가 제공될 수 있다.Also, the height of the partition wall may be lower than the height of the target gas inlet, and may be higher than the height of the through hole.

또한, 상기 처리액 유출구와 상기 격벽은 복수 개로 제공되고, 상기 처리액 유출구의 적어도 일부와 상기 격벽의 적어도 일부는 소정의 패턴을 가지고 배열되는 가스 처리 설비가 제공될 수 있다. In addition, the processing solution outlet and the partition wall may be provided in plural, and at least a part of the processing solution outlet and at least a part of the partition wall may be arranged with a predetermined pattern.

또한, 상기 커버부재의 가장자리에는 상방으로 연장되는 보조판이 구비되는 가스 처리 설비가 제공될 수 있다.Further, a gas treatment facility having an auxiliary plate extending upward may be provided at an edge of the cover member.

본 발명의 실시예들에 따르면, 충진층이 기울어지더라도, 충진층의 요동으로 인한 액체의 불균일 분배를 억제할 수 있다는 효과가 있다. According to the embodiments of the present invention, even if the filling layer is inclined, there is an effect that the non-uniform distribution of the liquid due to the fluctuation of the filling layer can be suppressed.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 처리 장치를 개략적으로 나타낸 것이다.
도 2는 도 1의 액체 분배기의 사시도이다.
도 3은 도 2의 액체 분배기의 분해 사시도이다.
도 4는 도 3의 액체 분배기의 상면도이다.
도 5는 도 4의 A부분을 확대한 것이다.
도 6은 도 2의 액체 분배기의 측면도이다.
도 7은 도 4의 B부분을 확대한 것이다.
도 8의 (a)는 도 2의 격벽이 구비된 액체 분배기에서의 처리액 유동을 나타낸 것이고, (b)는 격벽이 구비되지 않은 액체 분배기에서의 처리액 유동을 나타낸 것이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 격벽의 상면을 확대한 것이다.
도 10은 도 9의 격벽의 측면을 확대한 것이다.1 schematically shows a gas processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a perspective view of the liquid distributor of Fig.
3 is an exploded perspective view of the liquid distributor of FIG.
4 is a top view of the liquid distributor of Fig.
5 is an enlarged view of a portion A in Fig.
Figure 6 is a side view of the liquid distributor of Figure 2;
Fig. 7 is an enlarged view of a portion B in Fig.
Fig. 8 (a) shows the flow of the process liquid in the liquid distributor provided with the partitions of Fig. 2, and Fig. 8 (b) shows the flow of the process liquid in the liquid distributor without the partitions.
9 is an enlarged view of a top surface of a partition according to another embodiment of the present invention.
10 is an enlarged side view of the partition wall of Fig.

이하에서는 본 발명의 사상을 구현하기 위한 구체적인 실시예에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

아울러 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는, 그 상세한 설명을 생략한다. In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear.

그리고 제1, 제2 등과 같이 서수를 포함하는 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 해당 구성요소들은 이와 같은 용어들에 의해 한정되지는 않는다. 이 용어들은 하나의 구성요소들을 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 또한, 어떤 구성요소가 다른 구성요소에 '연결되어' 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. 또한, 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 또한, 본 명세서에서 상부, 하부, 측부, 전방, 후방 등의 표현은 도면에 도시를 기준으로 설명한 것이며, 해당 대상의 방향이 변경되면 다르게 표현될 수 있음을 미리 밝혀둔다.And terms including ordinals such as first, second, etc. may be used to describe various elements, but the constituent elements are not limited by such terms. These terms are used only to distinguish one component from another. It is also to be understood that when an element is referred to as being "connected" to another element, it may be directly connected to the other element, although other elements may be present in between. Also, the terms used in the present application are used only to describe certain embodiments and are not intended to limit the present invention. The singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. It should be noted that the expressions of the upper, lower, side, front, rear, and the like in the present specification are described based on the drawings in the drawings and can be expressed differently when the directions of the objects are changed.

이하, 도 1 내지 도 8을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 처리 설비(10)를 설명한다. 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 처리 장치를 개략적으로 나타낸 것이고, 도 2는 도 1의 액체 분배기의 사시도이고, 도 3은 도 2의 액체 분배기의 분해 사시도이며, 도 4는 도 3의 액체 분배기의 상면도이고, 도 5는 도 4의 A부분을 확대한 것이며, 도 6은 도 2의 액체 분배기의 측면도이고, 도 7은 도 4의 B부분을 확대한 것이다. 또한, 도 8의 (a)는 도 2의 격벽이 구비된 액체 분배기에서의 처리액 유동을 나타낸 것이고, (b)는 격벽이 구비되지 않은 액체 분배기에서의 처리액 유동을 나타낸 것이다. Hereinafter, a gas treatment facility 10 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 8. FIG. 1 is a perspective view of the liquid distributor of FIG. 1, FIG. 3 is an exploded perspective view of the liquid distributor of FIG. 2, and FIG. 4 is a cross- FIG. 5 is an enlarged view of a portion A of FIG. 4, FIG. 6 is a side view of the liquid distributor of FIG. 2, and FIG. 7 is an enlarged view of portion B of FIG. Fig. 8 (a) shows the flow of the process liquid in the liquid distributor provided with the partitions of Fig. 2, and Fig. 8 (b) shows the flow of the process liquid in the liquid distributor without the partitions.

도 1 내지 도 8을 참조하면, 해양 구조물에는 가스 처리 설비(10)가 구비될 수 있다. 해양 구조물은 예를 들어, 해양 플랜트, 해상용 플랫폼, 해상에서 이동 가능한 부유식 구조물, 또는 선박일 수 있으나, 본 발명의 사상이 해양 구조물의 형태에 한정되는 것은 아니다. Referring to FIGS. 1 to 8, the offshore structure may include a gas treatment facility 10. The offshore structure may be, for example, an offshore plant, a offshore platform, a floating structure that can be moved at sea, or a vessel, but the idea of the present invention is not limited to the form of an offshore structure.

본 발명의 일 실시예에 따른 가스 처리 설비(10)는 위 서술한 해양 구조물에 설치된다. 이러한 가스 처리 설비(10)에서는 유해물 제거 등의 처리를 요하는 가스(이하, '대상가스')가 약품 등의 액체(이하, '처리액')와 반응할 수 있다. 일 예로 가스 처리 설비(10)는 흡수탑일 수 있다. 이러한 가스 처리 설비(10)는 처리액 유입부(100), 가스 유입부(200), 제1 분배기(300), 제1 충진층(400), 제2 분배기(500), 제2 충진층(600), 처리액 배출부(700) 및 가스 배출부(800)를 포함한다. The gas treatment facility 10 according to one embodiment of the present invention is installed in the above-described offshore structure. In this gas treatment facility 10, a gas (hereinafter referred to as a "target gas") that requires treatment such as removal of harmful substances may react with a liquid such as a medicine (hereinafter referred to as a "treatment liquid"). As an example, the gas treatment facility 10 may be an absorption tower. The gas treatment facility 10 includes a process liquid inlet 100, a gas inlet 200, a first distributor 300, a first filler layer 400, a second distributor 500, a second filler layer 600, a treatment liquid discharge portion 700, and a gas discharge portion 800.

처리액 유입부(100)을 통하여, 처리액이 가스 처리 설비(10) 내로 유입된다. 이러한 처리액 유입부(100)는 유입관, 드레인부 및 분배부를 포함할 수 있다. 또한, 처리액 유입부(100)는 가스 처리 설비(10)의 상부에 구비될 수 있다. 처리액 유입부(100)는 제1 분배기(300)로 처리액을 공급할 수 있고, 처리액의 균일한 공급을 위해 가압장치와 노즐을 구비하는 분사장치를 포함할 수 있다. The processing liquid flows into the gas processing facility 10 through the processing liquid inlet portion 100. The treatment liquid inflow section 100 may include an inflow pipe, a drain section, and a dispensing section. Further, the treatment liquid inflow section 100 may be provided on the upper part of the gas treatment facility 10. [ The treatment liquid inflow section 100 may include a jetting device capable of supplying the treatment liquid to the first distributor 300 and having a pressurizing device and a nozzle for uniform supply of the treatment liquid.

가스 유입부(200)를 통하여, 대상가스가 가스 처리 설비(10) 내로 유입된다. 이러한 가스 유입부(200)는 대상가스의 전달을 위한 송풍장치, 유입관 및 분배부를 포함할 수 있고, 가스 처리 설비(10)의 하부에 구비될 수 있다. 다만, 이는 예시에 불과하고, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. The target gas is introduced into the gas treatment facility 10 through the gas inlet portion 200. The gas inlet 200 may include a blower for transferring the target gas, an inlet pipe and a distributor, and may be provided at a lower portion of the gas processing facility 10. However, this is merely an example, and the present invention is not limited thereto.

제1 충진층(400)에서 처리액과의 반응을 거친 대상가스는 가스 배출부(800)를 통하여 가스 처리 설비(10)의 외부로 배출된다. 이러한 가스 배출부(800)는 가스 수집부 및 배출관을 포함할 수 있으며, 가스 처리 설비(10)의 상부에 구비될 수 있다. 다만, 이는 예시에 불과하고, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. The target gas that has undergone the reaction with the treatment liquid in the first filling layer 400 is discharged to the outside of the gas treatment facility 10 through the gas discharge portion 800. The gas discharge unit 800 may include a gas collecting unit and a discharge pipe, and may be provided on the upper part of the gas treatment facility 10. [ However, this is merely an example, and the present invention is not limited thereto.

제1 분배기(300)는 처리액 유입부(100)로부터 유입된 처리액을 균일하게 분배한다. 이러한 제1 분배기(300)는 처리액 유입부(100)와 제1 충진층(400)의 사이에 구비될 수 있다. 제1 분배기(300)는 대상가스 유입구, 대상가스 유출부, 처리액 유입부 및 처리액 유출부를 포함한다. 제1 분배기(300)는 처리액 유입부(100)의 가압장치 및 노즐에 의해 처리액 유입부(100)로부터 처리액을 균일하게 공급받을 수 있다. 따라서, 제1 분배기(300)에서는 처리액의 균일한 분배가 상대적으로 용이하게 이루어질 수 있다. 제1 분배기(300)에서 균일하게 분배된 처리액은 처리액 유출부를 통하여 제1 충진층(400)으로 흘러나간다. The first distributor 300 uniformly distributes the treatment liquid introduced from the treatment liquid inflow section 100. The first distributor 300 may be disposed between the processing liquid inlet 100 and the first filling layer 400. The first distributor 300 includes a target gas inlet, a target gas outlet, a processing solution inlet, and a processing solution outlet. The first distributor 300 can uniformly receive the treatment liquid from the treatment liquid inflow section 100 by the pressurizing device and the nozzle of the treatment liquid inflow section 100. Therefore, in the first distributor 300, a uniform distribution of the processing liquid can be relatively easily performed. The treatment liquid uniformly distributed in the first distributor 300 flows to the first filling layer 400 through the treatment liquid outflow portion.

제1 충진층(400) 내에서 대상가스와 처리액이 서로 만나게 된다. 제1 충진층(400)에서 대상가스를 거친 처리액은 제1 충진층(400)의 유출부를 통하여 제2 분배기(500)로 흘러나간다. 제1 충진층(400)은 가스 유출구 및 처리액 유입구와 함께, 제1 충진층 통로(410)를 포함할 수 있다. 이러한 제1 충진층(400)은 기액 접촉을 통해 원하는 물질을 분리하는 통상의 증류 충진층과 대응되는 구성이므로, 더 이상의 자세한 설명은 생략한다. 다만, 제1 충진층(400)에는 처리액 배출을 위한 별도의 가압 장치나 분사 장치는 구비되지 않을 수 있다. 다시 말해, 제1 충진층(400)에서 유출되는 처리액은 중력의 힘에 의해 자유 낙하함으로써 처리액이 제2 분배기(600)로 유출될 수 있다. The target gas and the treatment liquid meet each other in the first filling layer 400. The process liquid passing through the target gas in the first filling layer 400 flows to the second distributor 500 through the outflow portion of the first filling layer 400. The first fill layer 400 may include a first fill layer passageway 410 with a gas outlet and a process fluid inlet. Since the first filling layer 400 corresponds to a conventional distillation filling layer for separating a desired substance through gas-liquid contact, detailed description thereof will be omitted. However, the first filling layer 400 may not be provided with a separate pressurizing device or a spraying device for discharging the process liquid. In other words, the processing liquid flowing out of the first filling layer 400 is freely dropped by the force of gravity, so that the processing liquid can flow out to the second distributor 600.

제2 분배기(500)는 제1 충진층(400)의 제1 충진층 통로(410)로부터 토출되는 처리액을 공급받는다. 또한, 제2 분배기(500)는 제1 충진층(400)으로부터 유입되는 처리액을 수용할 수 있고, 제2 충진층으로 균일하게 유입되도록 처리액을 분배할 수 있다. 제2 분배기(500)에서는 제1 분배기(300)에서 분배된 처리액을 다시 분배하게 된다. 다시 말해, 제2 분배기(500)에서는 처리액의 재분배가 이루어진다. 이러한 제2 분배기(500)는, 예를 들어, 제1 충진층(400)으로부터 자유 낙하한 처리액이 제2 분배기(500)로 유입될 수 있도록 제1 충진층(400)의 하부에 구비될 수 있다. 또한, 제2 분배기(500)는 제1 충진층(400)과 제2 충진층(600)의 사이에 구비될 수 있다. 이러한 제2 분배기(500)는 바닥부(510), 컬럼 외판(520)을 포함한다. 이러한 컬럼 외판(520)은 제2 분배기(500)의 측벽으로 기능할 수 있다.The second distributor 500 receives the treatment liquid discharged from the first filling layer passage 410 of the first filling layer 400. In addition, the second distributor 500 can receive the processing liquid that is introduced from the first filling layer 400, and can distribute the processing liquid to be uniformly introduced into the second filling layer. And the second distributor 500 distributes the treatment liquid dispensed from the first distributor 300 again. In other words, in the second distributor 500, redistribution of the treatment liquid is performed. The second distributor 500 may be provided at a lower portion of the first filling layer 400 so that the processing liquid dropped from the first filling layer 400 may be introduced into the second distributor 500 . In addition, the second distributor 500 may be provided between the first filling layer 400 and the second filling layer 600. The second distributor 500 includes a bottom portion 510 and a columnar plate 520. The column outer plate 520 may function as a side wall of the second distributor 500.

또한, 제2 분배기(500)는, 대상가스 유입구(530), 커버부재(540), 처리액 유출구(550), 격벽(560) 및 연결벽(570)을 포함할 수 있다. 이러한 제2 분배기(500)의 구성요소들은 제2 분배기(500)의 컬럼 외판(520)의 안쪽에 구비된다. The second distributor 500 may also include a target gas inlet 530, a cover member 540, a process liquid outlet 550, a partition 560 and a connecting wall 570. The components of the second distributor 500 are provided inside the column shell 520 of the second distributor 500.

대상가스 유입부(530)를 통하여, 제2 충진층(600)으로부터 제2 분배기(500)로 대상가스가 유입된다. 이러한 대상가스 유입구(530)는 복수개로 제공될 수 있다. 또한, 대상가스 유입구(530)는 바닥부(510)로부터 상방을 향하여 배치되는 장형부재를 포함할 수 있으며, 이러한 대상가스 유입구(530)의 일부 또는 전부는 장형부재가 일 방향을 향하도록 배치될 수 있다. 또한, 적어도 2 이상의 대상가스 유입구(530)는 평행하게 배치될 수 있다. 또한, 대상가스 유입구(530)는 일방향으로 길게 형성된 유입구를 포함하는 덕트, 채널 또는 파이프일 수 있으며, 대상가스 유입구(530)의 횡단면은 일방향으로 길게 연장되는 사각형의 형상을 가질 수 있다. 다만, 이러한 형상은 예시에 불과하고, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 한편, 제2 분배기(500)로 유입된 대상가스는 제1 충진층(400)의 제1 충진층 통로(410)를 통하여 제2 분배기(500)로부터 빠져나간다. The target gas is introduced from the second filling layer 600 to the second distributor 500 through the target gas inlet 530. Such a target gas inlet 530 may be provided in a plurality. The object gas inlet 530 may also include an elongate member disposed upwardly from the bottom portion 510 and some or all of the object gas inlet 530 may be disposed such that the elongate member is oriented in one direction . Also, at least two or more target gas inlets 530 may be arranged in parallel. Also, the target gas inlet 530 may be a duct, a channel, or a pipe including an inlet formed in one direction, and the cross-section of the target gas inlet 530 may have a rectangular shape elongated in one direction. However, such a shape is merely an example, and the shape is not limited thereto. Meanwhile, the target gas introduced into the second distributor 500 is discharged from the second distributor 500 through the first filling layer passage 410 of the first filling layer 400.

커버부재(540)는 처리액이 제1 충진층(400)으로부터 흘러나올 때 처리액이 대상가스 유입구(530)로 유출되는 것을 방지한다. 이러한 커버부재(540)는 대상가스 유입구(530)의 상부에 구비될 수 있고, 대상가스 유입구(530)를 커버할 수 있다. 또한, 커버부재(540)의 가장자리에는 커버부재(540)로부터 상방으로 연장되는 보조판(541)이 구비될 수 있다. 이러한 보조판(541)은, 커버부재(540) 상에 떨어진 처리액이 커버부재(540)의 가장자리를 우회하여 커버부재(540)의 하면으로 흘러들어가는 것을 막음으로써, 커버부재(540)의 하면에 흘러간 처리액이 물방울로 맺혀서 대상가스 유입구(530)로 낙하하는 것을 방지할 수 있다. The cover member 540 prevents the processing liquid from flowing out to the target gas inlet 530 when the processing liquid flows out of the first filling layer 400. The cover member 540 may be provided on the upper portion of the target gas inlet 530 and may cover the target gas inlet 530. An auxiliary plate 541 extending upward from the cover member 540 may be provided at an edge of the cover member 540. The auxiliary plate 541 prevents the process liquid that has fallen on the cover member 540 from bypassing the edge of the cover member 540 and flowing into the lower surface of the cover member 540, It is possible to prevent the flow of the process liquid from dropping into the target gas inlet 530 due to water droplets.

또한, 커버부재(540)로 인하여 대상가스 유입구(530)의 입구가 차단되는 것을 방지하기 위하여, 커버부재(540)는 대상가스 유입구(530)로부터 이격되어 배치된다. 이러한 배치를 위해, 커버부재(540)는 대상가스 유입구(530)와 이격된 상태에서, 대상가스 유입구(530)에 연결된 지지부(542)에 의해 지지될 수 있다. 다시 말해, 커버부재(540)의 지지를 위해, 지지부(542)가 대상가스 유입구(530)와 커버부재(540) 사이에 구비될 수 있다. 다만, 이는 예시에 불과하고, 본 발명의 사상이 이에 한정되는 것은 아니다. 다른 예로, 커버부재(540)는, 상방에서 보았을 때 일방향으로 길게 형성됨으로써 제2 분배기(500)의 컬럼 외판(520)에 연결되고, 커버부재(540)는 이러한 컬럼 외판(520)과의 연결에 의해 지지될 수 있다. The cover member 540 is disposed apart from the object gas inlet 530 in order to prevent the entrance of the object gas inlet 530 from being blocked due to the cover member 540. [ For this arrangement, the cover member 540 may be supported by a support 542 connected to the target gas inlet 530, spaced apart from the target gas inlet 530. In other words, for the support of the cover member 540, a support portion 542 may be provided between the target gas inlet 530 and the cover member 540. However, this is merely an example, and the spirit of the present invention is not limited thereto. The cover member 540 is connected to the column outer plate 520 and the column outer plate 520. The cover member 540 is connected to the column outer plate 520 of the second distributor 500 by being formed long in one direction when viewed from above, Lt; / RTI >

처리액 유출구(550)를 통하여 처리액이 제2 분배기(500)의 외부로 빠져나간다. 이러한 처리액 유출구(550)는 복수 개로 제공될 수 있다. 처리액 유출구(550)는 제2 분배기(500)의 바닥부(510)로부터 상방을 향하여 연장되도록 형성될 수 있고, 처리액 유출구(550)는 바닥부로부터 상방으로 연장되는 장형부재를 포함할 수 있다. 예를 들어, 처리액 유출구(550)는 덕트, 파이프 또는 오리피스(orifice) 중 하나 이상일 수 있다. 또한, 처리액 유출구(550)에는 통공(551)이 형성될 수 있고, 이러한 통공(551)을 통하여 처리액 유출구(550)의 처리액이 외부로 빠져나간다. 이러한 통공(551)은 예를 들어, 처리액 유출구(550)의 측면에 형성될 수 있다. 제2 분배기(500)로부터 빠져나간 처리액은 제2 충진층(600)으로 유입된다. The processing liquid flows out of the second distributor 500 through the processing liquid outlet 550. The plurality of processing solution outlets 550 may be provided. The treatment liquid outlet 550 may be formed to extend upward from the bottom portion 510 of the second distributor 500 and the treatment liquid outlet 550 may include an elongate member extending upward from the bottom portion have. For example, the process fluid outlet 550 may be one or more of a duct, a pipe, or an orifice. A through hole 551 may be formed in the treatment liquid outlet 550. The treatment liquid in the treatment liquid outlet 550 may escape through the through hole 551 to the outside. This through hole 551 may be formed, for example, on the side of the process liquid outlet 550. The processing liquid that has escaped from the second distributor 500 flows into the second filling layer 600.

또한, 처리액 유출구(550)의 통공(551)은 바닥부(510)로부터 소정의 높이(h2)에 형성될 수 있다. 바닥부(510)에 떨어진 처리액(550)은 통공(551)의 높이(h2) 이상으로 축적되고, 대략 통공(551)의 높이 (h2)까지 축적되기 전까지는 통공(551)을 통해 배출되지 않는다. 또한, 통공의 높이(h2)는 처리액 유출구(550)의 높이(h1)보다 낮을 수 있다. 한편, 통공(551)은 하나의 처리액 유출구(550)에 복수 개로 제공될 수 있다. 복수 개의 통공(551) 중, 가장 높은 위치의 통공(551)이 높이(h2')에 형성되고, 가장 낮은 위치의 통공(551)이 높이를 h2''에 형성될 때, 통공의 높이(h2')는 처리액 유출구(550)의 높이(h1)보다 낮을 수 있다. 또한, 간극의 높이(h4)는 가장 낮은 위치의 통공의 높이(h2'')보다 낮게 형성될 수 있다. 또한, 처리액은 가장 낮은 위치의 통공의 높이(h2'')이상으로 축적되면 처리액 유출구를 통해 제2 분배기(500)의 외부로 배출된다.The through hole 551 of the treatment liquid outlet 550 may be formed at a predetermined height h2 from the bottom portion 510. [ The processing liquid 550 separated from the bottom portion 510 is accumulated at a height h2 or more of the through hole 551 and discharged through the through hole 551 until it is accumulated up to the height h2 of the through hole 551 Do not. Further, the height h2 of the through hole may be lower than the height h1 of the treatment liquid outlet 550. On the other hand, the plurality of through holes 551 may be provided in one processing solution outlet 550. When the through hole 551 having the highest position is formed at the height h2 'and the hole 551 having the lowest position is formed at the height h2' ', the height h2' 'May be lower than the height h1 of the treatment liquid outlet 550. Further, the height h4 of the gap may be formed to be lower than the height h2 " of the through hole at the lowest position. Further, when the treatment liquid accumulates at the height h2 '' of the lowest position, it is discharged to the outside of the second distributor 500 through the treatment liquid outlet.

격벽(560)은 바닥부(510)와 엇갈리는 방향으로 배치될 수 있다. 동시에, 이러한 격벽(560)이 배치되는 방향은 대상가스 유입구(530)가 연장되는 방향과 엇갈리는 방향일 수 있다. 일 예로, 격벽(560)은 바닥부(510)와 대략 90°의 각을 형성하며, 바닥부(510) 측으로부터 상방을 향하여 형성될 수 있다. 동시에, 대상가스 유입구(530)와 대략 90°의 각을 형성할 수 있다. 또한, 대상가스 유입구(530)가 복수 개로 구비되는 경우, 격벽(560)은 복수 개의 대상가스 유입구(530)의 사이의 공간에 구비될 수 있다. 격벽(560)은 대상가스 유입구(530)와 어긋나는 방향으로 배치되므로, 격벽(560)은 대상가스 유입구(530)와 함께 하나 이상의 셀(561)을 형성할 수 있다. 다시 말해, 도 5에서와 같이, 일 방향으로 배치되는 2개의 이격된 대상가스 유입구(530)와, 타 방향으로 배치되는 2개의 이격된 격벽(560)이 셀(561)을 형성할 수 있다. The partition 560 may be disposed in a direction staggered with the bottom portion 510. At the same time, the direction in which the barrier ribs 560 are disposed may be in a direction staggered with the direction in which the target gas inlet port 530 extends. For example, the partition 560 may form an angle of about 90 ° with the bottom portion 510 and may be formed upward from the bottom portion 510. At the same time, it can form an angle of about 90 with the target gas inlet 530. In addition, when a plurality of target gas inflow ports 530 are provided, the barrier ribs 560 may be provided in a space between the plurality of target gas inflow ports 530. The partition 560 is disposed in a direction opposite to the target gas inlet 530 so that the partition 560 can form one or more cells 561 together with the target gas inlet 530. In other words, as shown in FIG. 5, two spaced apart object gas inlets 530 arranged in one direction and two spaced apart partition walls 560 arranged in the other direction can form a cell 561.

또한, 격벽(560)은 바닥부(510)로부터 이격되어 배치될 수 있다. 이러한 격벽(560)의 일측 또는 양측은 대상가스 유입구(530)와 연결될 수 있으나, 반드시 이에 한정되지 않는다. 격벽(560)과 바닥부(510) 간에 형성되는 간극(562)을 통하여, 복수 개의 셀(561)은 서로 연통할 수 있다. 다시 말해, 어느 하나의 셀(561) 내에 담겨진 처리액은 격벽(560)과 바닥부(510) 간의 간극(562)을 통하여 다른 하나의 셀(561)로 이동할 수 있다. 또한, 격벽(560)은 바닥부(510)로부터 소정의 높이(h3)까지 형성될 수 있다. 격벽(560)의 높이(h3)는 대상가스 유입구(530)의 높이보다 낮고, 처리액 유출구(550)의 통공의 높이(h2)보다 높을 수 있다. 또한, 간극의 높이(h4)는 통공의 높이(h2)보다 낮게 형성될 수 있다.Further, the partition 560 may be disposed apart from the bottom portion 510. One or both sides of the partition 560 may be connected to the target gas inlet 530, but the present invention is not limited thereto. The plurality of cells 561 can communicate with each other through the gap 562 formed between the partition wall 560 and the bottom portion 510. In other words, the processing liquid contained in any one of the cells 561 can move to the other cell 561 through the gap 562 between the partition 560 and the bottom portion 510. Further, the partition 560 may be formed from the bottom portion 510 to a predetermined height h3. The height h3 of the partition wall 560 may be lower than the height of the target gas inlet 530 and higher than the height h2 of the through hole of the treatment liquid outlet 550. [ Further, the height h4 of the gap may be formed to be lower than the height h2 of the through hole.

또한, 격벽(560)과 대상가스 유입구(530)는 제2 분배기(500) 상에서 셀(561)을 형성할 수 있고, 셀(561)의 전부 또는 일부는 일정한 패턴으로 형성될 수 있다. 또한, 셀(561) 내에서 적어도 일부 처리액 유출구(550)의 배치도 일정한 패턴을 가질 수 있다. 다시 말해, 셀(561)이 제1 대상가스 유입구(531), 제1 대상가스 유입구(531)와 대향하는 제2 대상가스 유입구(532), 제1 격벽(563) 및 제1 격벽(563)과 대향하는 제2 격벽(564)에 의해 형성되는 경우, 처리액 유출구(550)의 일부 또는 전부는 제1,2 대상가스 유입구(531, 532) 및 제1, 2 격벽(563, 564)와 미리 결정된 거리만큼 이격되어 배치될 수 있다. 예를 들어, 2 이상의 셀(561) 내에 4개의 처리액 유출구(550)가 각각 배치되는 경우, 제1 처리액 유출구(552)는 제2 대상가스 유입구(532)보다 제1 대상가스 유입구(531)에 더 가까이 배치되면서, 제1 격벽(563)과 제1 거리(d1)만큼 이격되어 배치될 수 있다. 또한, 제2 처리액 유출구(553)는 제2 대상가스 유입구(532)보다 제1 대상가스 유입구(531)에 더 가까이 배치되면서, 제2 격벽(564)과 제2 거리(d2)만큼 이격되어 배치될 수 있다. 또한, 제3 처리액 유출구(554)는 제1 대상가스 유입구(531)보다 제2 대상가스 유입구(532)에 더 가까이 배치되면서, 제1 격벽(563)과 제2 거리(d2)만큼 이격되어 배치될 수 있다. 또한, 제4 처리액 유출구(555)는 제1 대상가스 유입구(531)보다 제2 대상가스 유입구(532)에 더 가까이 배치되면서, 제2 격벽(564)과 제1 거리(d1)만큼 이격되어 배치될 수 있다. 여기서, 제1 거리(d1)는 제2 거리(d2)보다 길 수 있다. 또한, 제1 거리(d1)는 제1 격벽(563)과 제2 격벽(564) 간의 거리(d3)의 1/2 보다 짧을 수 있다. 또한, 제1 처리액 유출구(552) 및 제2 처리액 유출구(553)은 제1 대상가스 유입구(531)에 인접하게 배치될 수 있으며, 제3 처리액 유출구(554) 및 제4 처리액 유출구(555)는 제2 대상가스 유입구(532)에 인접하게 배치될 수 있다. The partition wall 560 and the target gas inlet 530 may form a cell 561 on the second distributor 500 and all or a part of the cell 561 may be formed in a certain pattern. Also, the arrangement of at least some of the process liquid outflow ports 550 in the cell 561 may have a certain pattern. In other words, the cell 561 has a first object gas inlet 531, a second object gas inlet 532 opposed to the first object gas inlet 531, a first partition 563 and a first partition 563, A part or the whole of the process liquid outlet port 550 is connected to the first and second gas inlet ports 531 and 532 and the first and second barrier ribs 563 and 564, And can be disposed apart from each other by a predetermined distance. For example, when four process liquid outlets 550 are disposed in two or more cells 561, the first process liquid outflow port 552 is connected to the first target gas inlet port 531 And may be spaced apart from the first bank 563 by a first distance d1. The second processing liquid outlet 553 is disposed closer to the first object gas inlet 531 than the second object gas inlet 532 and is spaced apart from the second partition 564 by a second distance d2 . The third treatment liquid outlet 554 is disposed closer to the second object gas inlet 532 than the first object gas inlet 531 and is spaced apart from the first partition 563 by a second distance d2 . The fourth treatment liquid outlet 555 is disposed closer to the second object gas inlet 532 than the first object gas inlet 531 and is spaced apart from the second partition wall 564 by the first distance d1 . Here, the first distance d1 may be longer than the second distance d2. The first distance d1 may be shorter than half of the distance d3 between the first barrier rib 563 and the second barrier rib 564. [ The first processing liquid outlet 552 and the second processing liquid outlet 553 may be disposed adjacent to the first target gas inlet 531 and the third processing liquid outlet 554 and the fourth processing liquid outlet 553 may be disposed adjacent to each other. (555) may be disposed adjacent to the second target gas inlet (532).

연결벽(570)은 대상가스 유입구(530)와 제2 분배기(500)의 컬럼 외판(520)의 사이의 공간에 구비될 수 있다. 대상가스 유입구(530)의 횡단면이 일방향으로 길게 연장되는 형상을 가지는 경우, 연결벽(570)을 위에서 보았을 때, 연결벽(570)은 대상가스 유입구(530)가 연장되는 방향과 동일한 방향으로 연장될 수 있다. 또한, 이러한 연결벽(570)은 바닥부(510)와 엇갈리는 방향으로 형성될 수 있다. 예를 들어, 연결벽(570)은 대상가스 유입구(530)와 평행하게 배치되고, 이와 함께, 연결벽(570)은 바닥부(510)와 대략 90°의 각을 형성하도록 배치될 수 있다. 또한, 연결벽(570)는 바닥부(510)로부터 이격될 수 있다. 다시 말해, 연결벽(570)과 바닥부(510) 간에는 간극(562)이 형성될 수 있다. The connection wall 570 may be provided in a space between the target gas inlet 530 and the column outer plate 520 of the second distributor 500. When the cross-section of the target gas inlet 530 has a shape elongated in one direction, when viewed from above, the connecting wall 570 extends in the same direction as the direction in which the target gas inlet 530 extends . In addition, the connection wall 570 may be formed in a direction staggered with the bottom portion 510. For example, the connecting wall 570 may be disposed parallel to the target gas inlet 530, while the connecting wall 570 may be disposed to form an angle of approximately 90 with the bottom portion 510. In addition, the connecting wall 570 may be spaced from the bottom portion 510. In other words, a gap 562 may be formed between the connection wall 570 and the bottom portion 510.

제2 충진층(600) 내에서 대상가스와 처리액이 서로 만나게 된다. 제2 충진층(600)에서 대상가스를 거친 처리액은 처리액 배출부(700)로 흘러나간다. 제2 충진층(600)은 기액 접촉을 통해 원하는 물질을 분리하는 통상의 증류 충진층과 대응되는 구성이므로, 이에 대한 자세한 설명은 생략한다. 본 실시예에 따른 가스 처리 설비는, 요동 상태 또는 경사진 상태에서도 균일한 액체 분배가 요구되는 해상용 플랫폼이나 선박 등에 설치될 수 있다. 이러한 제2 충진층(600)은 앞서 서술한 제1 충진층(400)과 실질적으로 동일하게 구성될 수 있고, 제1 충진층(400)이 가스 처리 장치(10)의 상부에 구비되고, 제2 충진층(600)이 가스 처리 장치(10)의 하부에 구비될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 제2 충진층(600)에서 대상가스를 거친 처리액은 제2 충진층(600)의 유출부를 통하여 처리액 배출부(700)로 흘러나간다. The target gas and the processing liquid are brought into mutual contact with each other in the second filling layer 600. The treatment liquid that has passed through the target gas in the second filling layer 600 flows to the treatment liquid discharge portion 700. The second filling layer 600 corresponds to a conventional distillation filling layer for separating a desired substance through gas-liquid contact, so that detailed description thereof will be omitted. The gas treatment facility according to the present embodiment can be installed in a marine platform or a ship which requires a uniform liquid distribution even in a rocking state or a tilted state. The second filling layer 600 may be substantially the same as the first filling layer 400 described above and the first filling layer 400 may be provided on the upper portion of the gas processing apparatus 10, 2 filling layer 600 may be provided under the gas processing apparatus 10, but the present invention is not limited thereto. The processing liquid having passed through the target gas in the second filling layer 600 flows out to the processing liquid discharging portion 700 through the outflow portion of the second filling layer 600.

처리액 배출부(700)을 통하여 가스 처리 설비(10)에서 대상 가스를 거친 처리액이 배출된다. 다시 말해, 대상 가스는 처리액 배출부(700)를 통하여 가스 처리 설비(10)의 외부로 배출될 수 있다. 처리액 배출부(700)를 통하여 배출되는 처리액은 제 1, 2 충진층(400,600)에서 대상 가스와의 반응을 거친 것이다. 이러한 처리액 배출부(700)는 제2 충진층(600)의 하류에 구비될 수 있다. 처리액 배출부(700)는 필터 및 덕트를 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. The process liquid discharged from the gas treatment facility 10 through the target gas is discharged through the treatment liquid discharge unit 700. In other words, the target gas can be discharged to the outside of the gas treatment facility 10 through the treatment liquid discharge portion 700. The treatment liquid discharged through the treatment liquid discharge unit 700 is subjected to a reaction with the target gas in the first and second filling layers 400 and 600. The treatment liquid discharging portion 700 may be provided downstream of the second filling layer 600. The treatment liquid discharging portion 700 may include, but is not limited to, a filter and a duct.

가스 배출부(800)를 통하여 가스 처리 설비(10)에서 처리액에 의해 처리된 대상 가스가 배출된다. 다시 말해, 처리액은 가스 배출부(800)를 통하여 가스 처리 설비(10)의 외부로 배출될 수 있다. 가스 배출부(800)를 통하여 배출되는 대상 가스는, 제 1, 2 충진층(400,600)에서 처리액과의 반응을 거친 것이다. 이러한 가스 배출부(800)는 가스 처리 설비(10)의 상부에 구비될 수 있다. 또한, 가스 배출부(800)는 필터 및 덕트를 포함할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.The target gas treated by the treatment liquid is discharged from the gas treatment facility 10 through the gas discharge portion 800. In other words, the treatment liquid can be discharged to the outside of the gas treatment facility 10 through the gas discharge portion 800. The target gas discharged through the gas discharging portion 800 is subjected to the reaction with the treatment liquid in the first and second filling layers 400 and 600. The gas exhaust part 800 may be provided on the upper part of the gas treatment facility 10. [ In addition, the gas outlet 800 may include, but is not necessarily limited to, a filter and a duct.

이하에서는, 가스 처리 설비(10)의 작용 및 효과에 대하여 설명한다. 가스 처리 장치(10)는 처리액 유입부(100)를 구비하고, 이러한 처리액 유입부(100)를 통해 처리액이 가스 처리 장치(10) 내로 유입된다. 유입된 처리액은 제1 분배기(300)에서 균일하게 분배된 후, 제1 충진층(400)으로 유입된다. 이때, 처리액은 노즐을 통해 제1 분배기(300)로 균일하게 가압 분사될 수 있으며, 제1 충진층(400)의 상부에 유입될 수 있다. 한편, 제2 충진층(600)과 제2 분배기(500)를 거친 대상가스도, 제1 충진층 통로(410)를 통하여 제1 충진층(400)으로 유입될 수 있다. 이때, 제1 충진층(400)으로 유입되는 대상가스는 제2 분배기(500)로부터 제1 충진층 통로(410)로 상승한 것이다. 이러한 제1 충진층 통로(410)는 대상가스의 상승유입이 용이하도록, 제1 충진층(400)의 하부에 구비될 수 있다. Hereinafter, the operation and effects of the gas treatment facility 10 will be described. The gas processing apparatus 10 includes a processing liquid inlet portion 100 through which the processing liquid flows into the gas processing apparatus 10. The introduced treatment liquid is uniformly distributed in the first distributor 300 and then flows into the first filling layer 400. At this time, the treatment liquid may be uniformly injected into the first distributor 300 through the nozzle and may be introduced into the upper part of the first filling layer 400. The target gas passing through the second filling layer 600 and the second distributor 500 may also flow into the first filling layer 400 through the first filling layer passage 410. At this time, the target gas flowing into the first filling layer 400 is elevated from the second distributor 500 to the first filling layer passage 410. The first filling layer passageway 410 may be provided below the first filling layer 400 so that the upward flow of the target gas is facilitated.

제1 충진층(400) 내에서 처리액과 대상가스는 서로 섞이거나 접촉된 후, 다시 각각 분리되어 제1 충진층(400)을 빠져나간다. 제1 충진층(400)에서 대상가스와 처리액 간의 접촉, 분리는 통상의 물질 분리과정과 대응되므로, 더 이상의 자세한 설명은 생략한다. 이후, 처리액과 대상가스는 제1 충진층(400)의 외부로 빠져나온다. 제1 충진층 통로(410)를 통하여 제1 충진층(400)으로부터 빠져나온 처리액은 제2 분배기(500)로 유입되고, 제1 충진층(400)에서 빠져나온 대상가스는 가스 배출부(800)를 통하여 가스 처리 장치(10)의 외부로 배출된다. In the first filling layer 400, the process liquid and the target gas are mixed or contacted with each other, and then separated from each other to exit the first filling layer 400. The contact and separation between the target gas and the processing solution in the first filling layer 400 corresponds to the conventional material separation process, and thus a detailed description thereof will be omitted. Thereafter, the treatment liquid and the target gas escape to the outside of the first filling layer 400. The processing liquid that has escaped from the first filling layer 400 through the first filling layer passage 410 flows into the second distributor 500 and the target gas that has escaped from the first filling layer 400 flows into the gas discharging portion 800 to the outside of the gas processing apparatus 10.

제1 충진층 통로(410)로부터 토출된 처리액은 제2 분배기(500)로 유입될 수 있고, 이때, 제2 분배기(500)로 유입되는 처리액(L)은 자유낙하할 수 있다. 제2 분배기(500)로 자유낙하하는 처리액(L)은 일부는 제2 분배기(500)의 바닥부(510)로 낙하하고, 나머지는 제2 분배기의 커버부재(540)로 낙하할 수 있다. 커버부재(540)는 처리액(L)이 대상가스 유입구(530)로 떨어지는 것을 방지한다. 커버부재(540)로 떨어진 처리액(L)은 커버부재(540)의 가장자리로 흘러가서 분배기(500)의 바닥부(510)에 떨어지게 된다. 바닥부(510)의 처리액은 축적된다. 축적됨으로써 처리액의 수위가 상승하고, 그 수위가 처리액 유출구(550)의 통공(551)의 높이에 도달하면, 처리액(L)은 통공(551)을 통해 제2 분배기(500)로부터 흘러나간다. 한편, 대상가스 유입구(530)을 통하여 제2 분배기(500)로 유입되는 대상가스(G)는, 커버부재(540)를 우회하여 위쪽으로 상승한다. 대상가스(G)는 제1 충진층(400)의 제1 충진층 통로(410)를 통해 제2 분배기(500)로부터 빠져나간다. The processing liquid discharged from the first filling layer passage 410 may flow into the second distributor 500 and the processing liquid L flowing into the second distributor 500 may drop freely. A part of the processing liquid L falling freely to the second distributor 500 may drop to the bottom part 510 of the second distributor 500 and the rest may fall to the cover member 540 of the second distributor 500 . The cover member 540 prevents the process liquid L from falling to the target gas inlet 530. The processing liquid L that has fallen to the cover member 540 flows to the edge of the cover member 540 and falls to the bottom portion 510 of the distributor 500. [ The processing liquid in the bottom portion 510 is accumulated. The processing liquid L flows from the second distributor 500 through the through hole 551 when the level of the processing solution reaches the height of the through hole 551 of the processing solution outlet 550, I'm going. On the other hand, the target gas G flowing into the second distributor 500 through the target gas inlet 530 rises upward by bypassing the cover member 540. The target gas G escapes from the second distributor 500 through the first filling layer passage 410 of the first filling layer 400.

제2 분배기(500)로 유입된 처리액(L)은 바닥부(510)에서 소정의 수위로 축적된다. 이러한 바닥부(510)에는 격벽(560)이 구비되어 있다. 따라서, 가스 처리 장치(10)가 요동하더라도, 제2 분배기(500) 내에서의 처리액의 요동이 최소화될 수 있다. 다시 말해, 도 8에서 볼 수 있는바와 같이, 격벽(560)이 구비된 제2 분배기(500)에서의 처리액의 수위(LL)는, 격벽이 구비되지 않은 분배기에서의 처리액의 수위(LL') 보다 균일하게 형성될 수 있다. 따라서, 제2 충진층(600)에 대한 처리액의 초기공급이 균일하게 이루어질 수 있다. The treatment liquid L that has flowed into the second distributor 500 is accumulated at a predetermined level in the bottom portion 510. The bottom portion 510 is provided with a partition wall 560. Therefore, even if the gas processing apparatus 10 is oscillated, fluctuation of the processing liquid in the second distributor 500 can be minimized. 8, the liquid level LL of the processing liquid in the second distributor 500 equipped with the partition 560 is the same as the liquid level LL of the processing liquid in the distributor not provided with the partition wall ') Can be formed more uniformly. Therefore, the initial supply of the treatment liquid to the second filling layer 600 can be made uniform.

제2 분배기(500)를 거친 처리액은 제2 충진층(600)으로 유입된다. 한편, 가스 유입부(200)로부터 유입되는 대상가스도 제2 충진층(600)으로 유입될 수 있다. 예를 들어, 제2 분배기(500)를 거친 처리액이 제2 충진층(600)의 상부로 유입되고, 가스 유입부(200)로부터 유입되는 대상가스가 제2 충진층(600)의 하부로 유입될 수 있다. 제2 충진층(600)에서 대상가스와 처리액의 접촉은 통상의 물질 분리과정과 대응되므로, 더 이상의 자세한 설명은 생략한다. 이후, 제2 분배기(500)를 거친 처리액은 처리액 배출부(700)를 통해 가스 처리 장치(10)의 외부로 배출된다. The treatment liquid passing through the second distributor 500 flows into the second filling layer 600. Meanwhile, the target gas introduced from the gas inlet portion 200 may also flow into the second filling layer 600. For example, the processing liquid passing through the second distributor 500 flows into the upper portion of the second filling layer 600, and the target gas introduced from the gas inlet portion 200 flows into the lower portion of the second filling layer 600 Can be introduced. Since the contact between the target gas and the treatment liquid in the second filling layer 600 corresponds to a conventional material separation process, a detailed description thereof will be omitted. Then, the processing liquid that has passed through the second distributor 500 is discharged to the outside of the gas processing apparatus 10 through the processing liquid discharging portion 700.

한편, 본 실시예에서는 격벽(560)이 아래에서 위로 연장되는 하나의 벽을 포함하는 것으로 서술하였으나, 본 발명의 사상이 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 격벽은 보조부재를 추가로 포함하는 것이 가능하다. In the meantime, although the partition wall 560 has been described as including one wall extending from below to below in the present embodiment, the idea of the present invention is not limited thereto. For example, according to another embodiment of the present invention, it is possible for the partition wall to further include an auxiliary member.

이하, 도 9 및 도 10을 참조하여 본 발명의 다른 실시예를 설명한다. 도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 격벽의 상면을 확대한 것이고, 도 10은 도 9의 격벽의 측면을 확대한 것이다. 본 발명의 다른 실시예를 설명함에 있어서, 상술한 일 실시예와 비교하였을 때, 격벽(560)이 보조부재(565)를 포함한다는 점에 차이가 있으므로, 이하에서는 차이점을 위주로 설명하며 동일한 설명 및 도면부호는 원용한다. Hereinafter, another embodiment of the present invention will be described with reference to Figs. 9 and 10. Fig. FIG. 9 is an enlarged view of an upper surface of a partition according to another embodiment of the present invention, and FIG. 10 is an enlarged side view of the partition of FIG. In describing another embodiment of the present invention, there is a difference in that the partition wall 560 includes the auxiliary member 565 as compared with the above embodiment. Therefore, Reference numerals are abbreviated.

도 9 및 도 10을 참조하면, 격벽(560)은, 격벽(560)과 연결되는 보조부재(565)를 포함할 수 있다. 이러한 보조부재(565)는 격벽(560)과 어긋나는 방향으로 연결될 수 있다. 또한, 보조부재(565)는 셀(561) 내에서 제1 대상가스 유입구(531)측의 처리액 유출구 및 제2 대상가스 유입구(532) 측의 처리액 유출구의 사이에 구비될 수 있다. 예를 들어, 보조부재(565)는 제1 대상가스 유입구(531) 측의 제1 처리액 유출구(552)와 제2 대상가스 유입구(532) 측의 제2 처리액 유출구(554)의 사이에 구비될 수 있다. 9 and 10, the partition 560 may include an auxiliary member 565 connected to the partition 560. The auxiliary member 565 may be connected in a direction deviating from the partition wall 560. The auxiliary member 565 may be provided in the cell 561 between the process liquid outlet on the first gas inlet 531 side and the process gas outlet on the second gas inlet 532 side. The auxiliary member 565 is disposed between the first processing solution outlet 552 on the first gas inlet 531 side and the second processing solution outlet 554 on the second gas inlet 532 side .

또한, 보조부재(565)는, 격벽(560)이 연장되는 방향과 어긋나는 방향으로 연장될 수 있다. 또한, 보조부재(565)는 격벽(560)으로부터 제1 거리(d1)까지, 또는 제1 거리(d1) 이상으로 연장될 수 있다. Further, the auxiliary member 565 can extend in a direction deviating from the direction in which the partition 560 extends. In addition, the auxiliary member 565 may extend from the partition 560 to the first distance d1 or beyond the first distance d1.

또한, 보조부재(565)는, 통공의 높이(h2) 이하의 높이(h5)에 구비될 수 있다. 한편, 처리액 유출구(550)가 복수 개의 통공(551)을 구비하는 경우, 보조부재(565)의 높이(h5)는 가장 낮은 위치의 통공의 높이(h2'')보다 낮을 수 있다. 따라서, 바닥부로부터 수용된 처리액이, 보조부재(565)가 구비되는 높이 (h5) 이상의 높이로 수용되면, 보조부재(565)가 처리액의 요동을 저지할 수 있다.The auxiliary member 565 may be provided at a height h5 that is equal to or smaller than the height h2 of the through hole. On the other hand, when the treatment liquid outlet 550 has a plurality of through holes 551, the height h5 of the auxiliary member 565 may be lower than the height h2 '' of the lowest hole. Therefore, when the processing liquid received from the bottom portion is received at a height equal to or higher than the height h5 at which the auxiliary member 565 is provided, the auxiliary member 565 can prevent the fluctuation of the processing liquid.

이처럼, 본 실시예에 따른 제2 분배기에서는, 격벽(560)과 보조부재(565)가 함께 제2 분배기(500) 내에서의 처리액의 요동을 최소화하므로, 처리액의 요동이 보다 용이하게 억제될 수 있다. As described above, in the second distributor according to the present embodiment, the partition wall 560 and the auxiliary member 565 together minimize the fluctuation of the processing liquid in the second distributor 500, thereby suppressing the fluctuation of the processing liquid more easily .

이상 본 발명의 실시예에 따른 파지장치의 구체적인 실시 형태로서 설명하였으나, 이는 예시에 불과한 것으로서, 본 발명은 이에 한정되지 않는 것이며, 본 명세서에 개시된 기초 사상에 따르는 최광의 범위를 갖는 것으로 해석되어야 한다. 당업자는 개시된 실시형태들을 조합/치환하여 적시되지 않은 형상의 패턴을 실시할 수 있으나, 이 역시 본 발명의 범위를 벗어나지 않는 것이다. 이외에도 당업자는 본 명세서에 기초하여 개시된 실시형태를 용이하게 변경 또는 변형할 수 있으며, 이러한 변경 또는 변형도 본 발명의 권리범위에 속함은 명백하다.While the present invention has been described with reference to specific embodiments thereof, it should be understood that the present invention is not limited thereto and should be construed as being within the broadest scope of the basic idea disclosed in the present specification . Skilled artisans may implement a pattern of features that are not described in a combinatorial and / or permutational manner with the disclosed embodiments, but this is not to depart from the scope of the present invention. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications may be readily made without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

10: 가스 처리 장치 100: 처리액 유입부
200: 가스 유입부 300: 제1 분배기
400: 제1 충진층 410: 제1 충진층 통로
500: 제2 분배기 510: 바닥부
520: 컬럼 외판 530: 대상가스 유입구
531: 제1 대상가스 유입구 532: 제2 대상가스 유입구
540: 커버부재 541: 보조판
542: 지지부 550: 처리액 유출구
551: 통공 552: 제1 처리액 유출구
553: 제2 처리액 유출구 554: 제3 처리액 유출구
555: 제4 처리액 유출구 561: 셀
562: 간극 563: 제1 격벽
564: 제2 격벽 570: 연결벽
600: 제2 충진층 700: 처리액 배출부
800: 가스 배출부 h1: 처리액 유출구의 높이
h2: 통공의 높이 h3: 격벽의 높이
h4: 간극의 높이 h5: 보조부재의 높이
G: 대상가스 L: 처리액10: Gas processing apparatus 100: Process liquid inlet
200: gas inlet 300: first distributor
400: first filling layer 410: first filling layer passage
500: second distributor 510: bottom part
520: column outer plate 530: target gas inlet
531: first object gas inlet port 532: second object gas inlet port
540: cover member 541:
542: Support part 550: Process liquid outlet
551: through hole 552: first processing solution outlet
553: second treatment liquid outlet 554: third treatment liquid outlet
555: fourth processing solution outlet 561: cell
562: Clearance 563: First partition
564: second bulkhead 570: connecting wall
600: second filling layer 700:
800: gas discharge part h1: height of processing solution outlet
h2: height of the through hole h3: height of the partition wall
h4: height of the gap h5: height of the auxiliary member
G: target gas L: treatment liquid

Claims

A treatment liquid inflow portion into which a treatment liquid for treating a target gas flows;
A gas inflow portion into which the target gas flows;
A first filling layer introduced into the interior of the target gas so as to meet with the processing solution;
A second filling layer which is provided so that the target gas flows into the inside and meets the treating solution passing through the first filling layer;
A first distributor for distributing the treatment liquid introduced from the treatment liquid inflow portion; And
And a second distributor for distributing the treatment liquid introduced from the first filling layer,
Wherein the second distributor comprises:
A plurality of target gas inlets into which the target gas flows from the second filling layer;
A treatment liquid outlet port through which the treatment liquid flows out into the second filling layer;
A cover member for blocking a process liquid flowing from the first filling layer from flowing out to the target gas inlet; And
And a partition provided in a space between the plurality of target gas inlets,
The object gas inlet is formed upward from the bottom of the second distributor and includes elongated holes extending in one direction,
Wherein the partition wall is staggered with the bottom portion and is provided in a direction staggered with a direction in which the target gas inlet extends.

delete

The method according to claim 1,
Wherein the partition is spaced apart from the bottom of the second distributor.

The method according to claim 1,
And an auxiliary plate extending upward is provided at an edge of the cover member.

The method according to claim 1,
Wherein the second distributor comprises a column shell,
And a connecting wall is provided between the target gas inlet and the column outer plate.

The method according to claim 1,
The treatment liquid outlet is provided as an elongated member extending upward from the bottom portion,
And a through hole is formed in a side surface of the elongate member.

The method according to claim 6,
Wherein a height of the partition wall is lower than a height of the target gas inlet and is higher than a height of the through hole.

The method according to claim 1,
Wherein the processing solution outlet and the partition are provided in plural,
Wherein at least a part of the treatment liquid outlet and at least a part of the partition are arranged with a predetermined pattern.