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TWI888656B - 活性能量線硬化性組成物、硬化物、透鏡、晶圓級透鏡及相機模組 - Google Patents

活性能量線硬化性組成物、硬化物、透鏡、晶圓級透鏡及相機模組 Download PDF

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TWI888656B
TWI888656B TW110137098A TW110137098A TWI888656B TW I888656 B TWI888656 B TW I888656B TW 110137098 A TW110137098 A TW 110137098A TW 110137098 A TW110137098 A TW 110137098A TW I888656 B TWI888656 B TW I888656B
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日商Dic股份有限公司
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Abstract

本發明是有關於一種活性能量線硬化性組成物,含有具有(甲基)丙烯醯基的化合物,所述活性能量線硬化性組成物的特徵在於含有:化合物(A),於一分子中具有選自由式(1)、式(2)及式(3)所組成的群組中的至少一種結構與兩個以上的(甲基)丙烯醯基;以及聚碳酸酯二醇二(甲基)丙烯酸酯(B),由式(4)表示,相對於除(A)成分以外的具有(甲基)丙烯醯基的化合物的合計質量100質量%,包含1質量%以上且未滿50質量%的所述(A)成分(R1為氫原子、羥基、烷基、烷氧基、(甲基)丙烯醯氧基烷基或(甲基)丙烯醯氧基烷基氧基,X為亞甲基或氧原子,R2為氫原子或甲基,R3為烴基,n為1~10的整數)。
[化1]

Description

活性能量線硬化性組成物、硬化物、透鏡、晶 圓級透鏡及相機模組
本發明是有關於一種活性能量線硬化性組成物、硬化物、透鏡及相機模組。
近年來,面向智慧型電話或行動個人電腦等電子設備的小型相機模組的需求急速擴大,以提高相機模組的生產效率為目標的開發正在全力進行。另外,由於電子設備的薄型化不斷發展,因此對相機模組的薄型化的要求亦變得嚴格。先前,相機模組是利用由使用了以環烯烴聚合物為代表的熱塑性樹脂的注射模等來成型樹脂透鏡,並組裝透鏡單元的方法來生產。然而,先前的方法中於生產性與薄型化方面存在極限。隨著此種市場動向,揭示一種藉由將利用複製法成形的晶圓級透鏡重合來組裝透鏡單元,從而兼顧生產性與薄型化的相機模組的生產方法(專利文獻1)。
一般而言,透鏡單元是重合多個光學常數、主要是折射率(nd)與阿貝數(νd)不同的透鏡來校正色差,從而實現高畫素化。另外,作為所述晶圓級透鏡中使用的材料,就生產性、透明性及耐熱性等觀點而言,可較佳地使用活性能量線硬化性樹脂組 成物。特別是揭示一種使用具有脂肪族骨架的聚碳酸酯二醇(甲基)丙烯酸酯作為具有中折射率且高阿貝數的光學常數的晶圓級透鏡用材料的樹脂組成物(專利文獻2)。
由於晶圓級透鏡被設想直接安裝在基板上,因此要求耐受回焊(170℃~260℃)的耐熱性。於提高耐熱性的方面,揭示一種添加硫醇化合物或抗氧化劑的方法(專利文獻3、專利文獻4)。另外,根據使用樣態,為了確認高溫高濕下的可靠性,要求可耐受濕熱試驗(85℃-85%RH-1000h)的耐濕熱性。然而,並無具有在85℃-85%RH這一嚴酯的溫濕度試驗條件下不會產生基板剝落或透鏡內部的缺陷的優異的耐濕熱性的晶圓級透鏡的報告。特別是存在如下課題:顯示中折射率且高阿貝數的光學常數的脂肪族骨架為疏水性,於濕熱試驗後容易產生異常。
一般而言,出於提高攝像時的對比度的目的而於透鏡表面設置防反射層。於在晶圓級透鏡亦設置相同的防反射層的情況下,存在經過安裝後的回焊步驟而於防反射層產生裂紋的課題。已揭示一種調配二氧化矽微粒子作為回焊步驟中的防反射層的耐裂紋性優異的透鏡用樹脂組成物的方法(專利文獻5、專利文獻6)。但是,藉由使用微粒子,樹脂組成物中的微粒子的沈降或凝聚、樹脂組成物的高黏度化等引起的製造製程中的處理性降低成為新的課題。另外,於防反射層與透鏡的層間密接性低的情況下,藉由濕熱試驗會產生防反射層的剝離或裂紋。
因此,尋求一種能夠形成具有高阿貝數及透過率、具有 優異的耐熱性及耐濕熱性、且抑制熱歷程或高溫高濕下的積層於表面上的防反射層等無機層的裂紋或剝離的透鏡的材料。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2009-251368號公報
[專利文獻2]國際公開第2019/124156號
[專利文獻3]日本專利特開2014-52424號公報
[專利文獻4]國際公開第2018/030351號
[專利文獻5]國際公開第2019/142601號
[專利文獻6]國際公開第2019/167461號
本發明所欲解決的課題在於提供一種能夠形成如下透鏡的活性能量線硬化性組成物,所述透鏡具有高阿貝數及透過率,於回焊後透過率變化亦少,具有優異的耐熱性及耐濕熱性,成膜於表面上的無機層具有即便經過熱歷程亦不產生裂紋的耐裂紋性,且與成膜於表面上的無機層的密接性優異。
本發明者等人為了解決所述課題而進行了努力研究,結果發現,藉由使用活性能量線硬化性組成物,可解決所述課題,從而完成了本發明,所述活性能量線硬化性組成物含有具有(甲基)丙烯醯基的化合物,所述活性能量線硬化性組成物的特徵在於含 有:化合物(A),於一分子中具有選自由下述通式(1)、通式(2)及通式(3)所組成的群組中的至少一種結構與兩個以上的(甲基)丙烯醯基;以及聚碳酸酯二醇二(甲基)丙烯酸酯(B),由下述通式(4)表示,相對於除(A)成分以外的具有(甲基)丙烯醯基的化合物的合計質量100質量%,包含1質量%以上且未滿50質量%的所述(A)成分。
即,本發明是有關於一種活性能量線硬化性組成物、硬化物、透鏡及相機模組,所述活性能量線硬化性組成物含有具有(甲基)丙烯醯基的化合物,所述活性能量線硬化性組成物的特徵在於含有:化合物(A),於一分子中具有選自由下述通式(1)、通式(2)及通式(3)所組成的群組中的至少一種結構與兩個以上的(甲基)丙烯醯基;以及聚碳酸酯二醇二(甲基)丙烯酸酯(B),由下述通式(4)表示,相對於除(A)成分以外的具有(甲基)丙烯醯基的化合物的合計質量100質量%,包含1質量%以上且未滿50質量%的所述(A)成分。
Figure 110137098-A0305-12-0004-1
(式中,R1分別獨立地表示氫原子、羥基、碳原子數1~10的烷基、烷氧基、(甲基)丙烯醯氧基烷基或(甲基)丙烯醯氧基烷基氧基。X表示亞甲基或氧原子)
Figure 110137098-A0305-12-0005-2
(式中,R2分別獨立地表示氫原子或甲基,R3分別獨立地表示碳原子數1~10的烴基。n為1~10的整數)
根據本發明,可提供一種能夠形成如下透鏡的活性能量線硬化性組成物,所述透鏡具有高阿貝數及透過率,於回焊後透過率變化亦少,具有優異的耐熱性及耐濕熱性,成膜於表面上的無機層具有即便經過熱歷程亦不產生裂紋的耐裂紋性,且與成膜於表面上的無機層的密接性優異。
另外,本發明的活性能量線硬化性組成物可藉由活性能量線的照射來簡單地硬化,可較佳地用於利用光壓印進行的透鏡製造中。
除所述以外,由本發明的活性能量線硬化性組成物形成的透鏡具有高阿貝數,可減小色差。另外,所述透鏡於回焊前後 透過率的變化量小且具有耐熱性,可較佳地用於晶圓級透鏡。進而,由於具有即便於高溫高濕下亦不會產生自基材的剝落或缺陷的耐濕熱性,因此可較佳地用作長期穩定性優異的晶圓級透鏡。此外,由於成膜於透鏡表面上的無機層可抑制熱歷程或高溫高濕下引起的裂紋或剝離的產生,因此可較佳地用作包括防反射層等無機層的晶圓級透鏡。
本發明的活性能量線硬化性組成物為含有具有(甲基)丙烯醯基的化合物的活性能量線硬化性組成物,所述活性能量線硬化性組成物的特徵在於含有:化合物(A),於一分子中具有選自由下述通式(1)、通式(2)及通式(3)所組成的群組中的至少一種結構與兩個以上的(甲基)丙烯醯基;以及聚碳酸酯二醇二(甲基)丙烯酸酯(B),由下述通式(4)表示,相對於除(A)成分以外的具有(甲基)丙烯醯基的化合物的合計質量100質量%,包含1質量%以上且未滿50質量%的所述(A)成分。
Figure 110137098-A0305-12-0006-3
(式中,R1分別獨立地表示氫原子、羥基、碳原子數1~10的烷基、烷氧基、(甲基)丙烯醯氧基烷基或(甲基)丙烯醯氧基烷基氧基。X表示亞甲基或氧原子)
Figure 110137098-A0305-12-0007-4
(式中,R2分別獨立地表示氫原子或甲基,R3分別獨立地表示碳原子數1~10的烴基。n為1~10的整數)
再者,本發明中,所謂「(甲基)丙烯酸酯」是指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。另外,所謂「(甲基)丙烯醯基」是指丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基。進而,所謂「(甲基)丙烯酸」是指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。
作為所述於一分子中具有選自由通式(1)、通式(2)及通式(3)所組成的群組中的至少一種結構與兩個以上的(甲基)丙烯醯基的化合物(A)(以下,簡稱為「(A)成分」),為於一分子中必須具有選自由所述通式(1)、通式(2)及通式(3)所組成的群組中的至少一種結構、兩個以上的(甲基)丙烯醯基者。藉由使用所述(A)成分,可獲得能夠形成具有高阿貝數與優異的耐熱性及耐濕熱性、且無機層的耐裂紋性與密接性優異的透鏡的活性 能量線硬化性組成物。
所述(A)成分具有選自由所述通式(1)、通式(2)及通式(3)所組成的群組中的至少一種結構,因此包含有機矽烷骨架、直鏈狀及環狀的矽氧烷骨架、無規型、梯型及籠型的矽倍半氧烷骨架等。
另外,作為R1,可分別獨立地列舉:氫原子、羥基、碳原子數1~10的烷基、烷氧基、(甲基)丙烯醯氧基烷基及(甲基)丙烯醯氧基烷基氧基。
作為所述碳原子數1~10的烷基的具體例,可列舉:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、異丁基、第三丁基、正戊基、第二戊基、異戊基、第三戊基、新戊基、環戊基、正己基、異己基、新己基、環己基、庚基、正辛基、第二辛基、異辛基、第三辛基、正壬基、正癸基等。
作為所述烷氧基的具體例,可列舉:甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、第二丁氧基、異丁氧基、第三丁氧基、戊氧基、己氧基、環己氧基等。
作為所述(甲基)丙烯醯氧基烷基的具體例,可列舉:(甲基)丙烯醯氧基甲基、(甲基)丙烯醯氧基乙基、(甲基)丙烯醯氧基丙基、(甲基)丙烯醯氧基丁基、(甲基)丙烯醯氧基戊基、(甲基)丙烯醯氧基己基等。
作為所述(甲基)丙烯醯氧基烷基氧基的具體例,可列舉:(甲基)丙烯醯氧基甲基氧基、(甲基)丙烯醯氧基乙基氧基、(甲 基)丙烯醯氧基丙基氧基、(甲基)丙烯醯氧基丁基氧基、(甲基)丙烯醯氧基戊基氧基、(甲基)丙烯醯氧基己基氧基等。
所述(A)成分的兩個以上的(甲基)丙烯醯基亦可作為所述R1的部分骨架而包含於所述通式(1)、通式(2)及通式(3)中。另外,於所述(A)成分為鏈狀結構的情況下,只要位於主鏈末端、主鏈骨架內部、分支鏈末端、分支鏈骨架內部的任意位置即可,於環狀分子的情況下,只要為與環結構直接鍵結、經由連結基而鍵結的任一種即可。作為所述鏈狀結構,例如可列舉:聚烷二醇、聚酯、聚(甲基)丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯、聚矽氧烷等,可為直鏈狀結構亦可為分支鏈狀結構的任一種。作為所述連結基,可列舉:烷二醇、己內酯、異氰酸伸烷基酯等。
作為所述(A)成分的具體例,例如可列舉:(甲基)丙烯醯基改質有機矽烷、(甲基)丙烯醯基改質矽氧烷、(甲基)丙烯醯基改質聚矽氧烷、(甲基)丙烯醯基改質矽倍半氧烷、(甲基)丙烯醯基改質矽酮寡聚物、(甲基)丙烯醯基改質矽酮油等。
另外,作為所述(A)成分的市售品,例如可列舉:信越化學工業股份有限公司製造的「X-12-1048」、「X-12-1050」、「X-12-2475」、「X-12-2430C」、「X-22-164」、「X-22-164AS」、「X-22-164A」、「X-22-164B」、「X-22-164C」、「X-22-164E」、「X-22-2445」、「X-40-2475」、「X-40-9296」、「X-40-9308」、「KP-410」、「KP-411」、「KP-412」、「KP-413」、「KP-414」、「KP-415」、「KP-420」、「KP-423」、「KR-511」、「KR-513」、畢克 化學(BYK-Chemie)公司製造的「畢克(BYK)UV-3500」、「畢克(BYK)UV-3530」、「畢克(BYK)UV-3570」、「畢克(BYK)UV-3575」、「畢克(BYK)UV-3576」、JNC股份有限公司製造的「西拉普蘭(silaplane)FM-7711」、「西拉普蘭(silaplane)FM-7721」、「西拉普蘭(silaplane)FM-7725」、東亞合成股份有限公司製造的「AC-SQ TA-100」、「AC-SQ SI-20」、「MAC-SQ TM-100」、「MAC-SQ SI-20」等。
所述(A)成分的重量平均分子量於具有本發明的效果的範圍內並無特別限定,但就容易與(A)成分以外的具有(甲基)丙烯醯基的化合物相容而獲得透過率高的硬化物而言,較佳為100~10,000的範圍,更佳為200~5000的範圍,特佳為300~3000的範圍。
所述(A)成分的含有比例於具有本發明的效果的範圍內並無特別限定,但就可獲得能夠形成具有高阿貝數、具有優異的耐熱性及耐濕熱性、且無機層的耐裂紋性與密接性優異的透鏡的活性能量線硬化性組成物而言,於活性能量線硬化性組成物中,相對於除(A)成分以外的具有(甲基)丙烯醯基的化合物的合計質量100質量%,較佳為1質量%以上且未滿50質量%的範圍,更佳為2.5質量%~40質量%的範圍,特佳為5質量%~30質量%的範圍。
本發明中亦可含有(A)成分以外的具有(甲基)丙烯醯基的化合物。作為該些(A)成分以外的具有(甲基)丙烯醯基的化 合物,於可獲得本發明的效果的範圍內並無特別限制,可使用具有(甲基)丙烯醯基的化合物作為後述的各種(B)成分~(D)成分,亦可添加並使用具有(甲基)丙烯醯基的化合物作為其他添加成分。
作為所述通式(4)所表示的聚碳酸酯二醇二(甲基)丙烯酸酯(B)(以下,簡稱為「(B)成分」),為具有所述通式(4)所表示的結構者。藉由使用所述(B)成分,可獲得能夠形成具有高阿貝數、且具有優異的耐熱性的透鏡的活性能量線硬化性組成物。
作為所述(B)成分,就可獲得能夠形成可獲得進一步更高的阿貝數及折射率、且具有進一步更優異的透明性、柔軟性及耐熱性的透鏡的活性能量線硬化性組成物而言,所述通式(4)中,R2較佳為氫原子,R3較佳為分別獨立地為碳原子數5~6的直鏈狀烴基、碳原子數6~10的環狀烴基,n較佳為4~10的整數。另外,就更容易防止結晶化或透鏡的繼時性的翹曲的方面而言,R2更佳為分別獨立地為具有碳原子數5~6的直鏈狀烴基、環己烷結構、或異山梨酯結構者,n更佳為4~6的整數。
再者,於使用所述通式(4)中R3表示碳原子數5~6的直鏈狀烴基及碳原子數6~10的環狀烴基,n表示4~6的整數者的情況下,所述碳原子數5~6的直鏈狀烴基與所述碳原子數6~10的環狀烴基的質量比例以直鏈狀烴基/環狀烴基之比計,較佳為10/90~90/10的範圍,更佳為20/80~80/20的範圍,特佳為40/60~75/25的範圍。
作為所述(B)成分,例如可列舉聚碳酸酯二醇與(甲基)丙烯酸及/或(甲基)丙烯酸酯的反應產物等。
作為所述聚碳酸酯二醇,例如可列舉具有兩個以上的羥基的化合物與碳酸酯的反應產物等。
作為所述具有兩個以上的羥基的化合物,例如可列舉:具有直鏈狀結構的烷二醇、具有分支鏈狀結構的烷二醇、具有環狀結構的烷二醇、具有雜環狀結構的二醇等。該些化合物可單獨使用,亦可併用兩種以上。
作為所述具有直鏈狀結構的烷二醇,例如可列舉:1,2-乙二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,7-庚二醇、1,8-辛二醇、1,9-壬二醇、1,10-癸二醇等。
作為所述具有分支鏈狀結構的烷二醇,例如可列舉:1,2-丙二醇、1,2-丁二醇、1,3-丁二醇、2,3-丁二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、1,2-戊二醇、1,3-戊二醇、1,4-戊二醇、2,4-戊二醇、2,2-二甲基-1,3-丙二醇、3-甲基-1,3-丁二醇、2-甲基-1,3-丁二醇、1,2-己二醇、1,5-己二醇、2,5-己二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、2,3-二甲基-2,3-丁二醇、2-乙基-2-甲基-1,3-丙二醇、1,2-庚二醇、2-甲基-2-丙基-1,3-丙二醇、2,4-二甲基-2,4-戊二醇、3,6-辛二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、2,5-二甲基-2,5-己二醇、2-乙基-1,3-己二醇、1,2-壬二醇、1,8-壬二醇、2,8-壬二醇、2-丁基-2-乙基-1,3-丙二醇、2,4-二乙基-1,5-戊二醇、1,2-癸二醇、2,2-二異丁基-1,3-丙二醇等。
作為所述具有環狀結構的烷二醇,例如可列舉:1,2-環 戊二醇、1,3-環戊二醇、1,2-環己二醇、1,3-環己二醇、1,4-環己二醇、1,3-環己烷二甲醇、1,4-環己烷二甲醇、1,3-金剛烷二醇、1-羥基-3-金剛烷基甲醇等。
作為所述具有雜環狀結構的二醇,例如可列舉:3,4-四氫呋喃二醇、1,4-二噁烷-2,3-二醇、1,1-雙環己基-4,4-二醇、六氫氟[3,2-b]呋喃-3,6-二醇等。
作為所述碳酸酯,例如可列舉:碳酸二甲酯、碳酸二乙酯、碳酸二苯酯、碳酸伸乙酯、碳酸伸丙酯等。該些化合物可單獨使用,亦可併用兩種以上。
作為所述(甲基)丙烯酸酯,例如可列舉:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯等。該些(甲基)丙烯酸酯可單獨使用,亦可併用兩種以上。
另外,作為所述(B)成分的市售品,例如可列舉宇部興產股份有限公司製造的「UH-100DA」、「UM-90(1/3)DA」、「UM-90(1/1)DA」、「UM-90(3/1)DA」、「UH-100DM」、「UM-90(1/3)DM」、「UM-90(1/1)DM」、「UM-90(3/1)DM」等。
關於所述(B)成分的含有比例,就可獲得能夠形成具有高阿貝數、且具有優異的耐熱性及耐濕熱性的透鏡的活性能量線硬化性組成物而言,於活性能量線硬化性組成物中較佳為5質量%~70質量%的範圍,更佳為10質量%~60質量%的範圍,特 佳為20質量%~50質量%的範圍。
本發明的活性能量線硬化性組成物除可使用所述(A)成分、所述(B)成分以外,出於進一步提高耐裂紋性的目的,亦可使用於一分子中具有一個或兩個(甲基)丙烯醯基與烷二醇結構的化合物(C)(以下,簡稱為「(C)成分」)。本發明中的(C)成分於一分子中必須具有一個或兩個(甲基)丙烯醯基、烷二醇結構。藉由使用所述(C)成分,可獲得能夠形成具有更高的阿貝數與優異的耐熱性及耐濕熱性、無機層的耐裂紋性優異的透鏡的活性能量線硬化性組成物。
作為所述烷二醇結構,例如可列舉:1,2-乙二醇(乙二醇)、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,7-庚二醇、1,8-辛二醇、1,9-壬二醇、1,10-癸二醇、1,2-丙二醇(丙二醇)、1,2-丁二醇、1,3-丁二醇、2,3-丁二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、1,2-戊二醇、1,3-戊二醇、1,4-戊二醇、2,4-戊二醇、2,2-二甲基-1,3-丙二醇(新戊二醇)、3-甲基-1,3-丁二醇、2-甲基-1,3-丁二醇、1,2-己二醇、1,5-己二醇、2,5-己二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、2,3-二甲基-2,3-丁二醇、2-乙基-2-甲基-1,3-丙二醇、1,2-庚二醇、2-甲基-2-丙基-1,3-丙二醇、2,4-二甲基-2,4-戊二醇、3,6-辛二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、2,5-二甲基-2,5-己二醇、2-乙基-1,3-己二醇、1,2-壬二醇、1,8-壬二醇、2,8-壬二醇、2-丁基-2-乙基-1,3-丙二醇、2,4-二乙基-1,5-戊二醇、1,2-癸二醇、2,2-二異丁基-1,3-丙二醇等。該些烷二醇結構可於一分子中僅具有一種,亦可具有兩種以上。另外,該 些中,就可獲得能夠形成具有優異的耐熱性與耐濕熱性的透鏡的活性能量線硬化性組成物而言,較佳為乙二醇、丙二醇、新戊二醇。進而,就可獲得能夠形成具有更優異的耐濕熱性與耐裂紋性的透鏡的活性能量線硬化性組成物而言,烷二醇結構的重複單元數較佳為2~15。
另外,所述(C)成分亦可具有環狀結構,例如可列舉:環戊烷結構、環己烷結構、環辛烷結構、環癸烷結構等單環結構、全氫茚結構、全氫蒽結構、全氫芴結構、全氫菲結構、全氫苊結構、全氫萉結構、降冰片烷結構、異冰片烷結構、異冰片基結構、金剛烷結構、雙環[3.3.0]辛烷結構、三環[5.2.1.02,6]癸烷結構、三環[6.2.1.02,7]十一烷結構、二環戊烷基結構、二環戊烯基結構等多環結構、四氫呋喃結構、1,3-二氧雜環戊烷結構、1,3-二噁烷結構、1,4-二噁烷結構、六氫氟[3,2-b]呋喃結構等雜環結構、苯結構、萘結構、芴結構、苊結構、萉結構、蒽結構、菲結構、稠四苯結構、
Figure 110137098-A0305-12-0015-13
結構、芘結構、聯三伸苯結構、稠五苯結構、苯並芘結構、苝結構等芳香環結構等。該些環狀結構可於一分子中單獨具有,亦可具有兩種以上。另外,該些中,就可獲得能夠形成具有高阿貝數、且具有優異的耐熱性的透鏡的活性能量線硬化性組成物而言,較佳為環己烷結構、三環[5.2.1.02,6]癸烷結構。
於所述(C)成分中,所述環狀結構與所述(甲基)丙烯醯基可直接鍵結,亦可經由連結基而鍵結。
作為所述連結基,例如可列舉:氧原子、碳原子數1~ 10的直鏈狀及/或分支鏈狀烴基、重覆數1~10的環氧烷基、作為己內酯的開環聚合體的重覆數1~10的烷基酯基、醯胺基等。
作為所述具有環狀結構的所述(C)成分的具體例,例如可列舉:環戊基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、1-甲基環戊基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、1-乙基環戊基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、環己基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、1-甲基環己基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、1-乙基環己基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、三甲基環己基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、4-第三丁基環己基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、2-環己基除草寧環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、氫化雙酚A環氧烷改質二(甲基)丙烯酸酯、氫化雙酚F環氧烷改質二(甲基)丙烯酸酯、苄基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、苯基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、壬基酚環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、苯氧基苄基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、苯基苄基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、聯苯環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、雙酚A環氧烷改質二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F環氧烷改質二(甲基)丙烯酸酯、芴環氧烷改質二(甲基)丙烯酸酯、異冰片基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、異冰片基環氧烷改質二(甲基)丙烯酸酯、二環戊烷基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、二環戊烯基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、三環癸二醇環氧烷改質二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇環氧烷改質二(甲基)丙烯酸酯、金剛烷基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、金剛烷基環氧烷改質二(甲基)丙烯酸酯、2-甲基金剛烷基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、2-乙基金剛烷基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、2-異丙基金剛烷 基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、四氫糠基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、(2-氧代-1,3-二氧雜環戊烷-4-基)甲基環氧烷改質(甲基)丙烯酸酯、異山梨酯環氧烷改質二(甲基)丙烯酸酯等。該些化合物可單獨使用,亦可併用兩種以上。另外,該些中,就可獲得能夠形成具有高阿貝數、且具有優異的耐熱性、耐濕熱性及耐裂紋性的透鏡的活性能量線硬化性組成物而言,較佳為氫化雙酚A環氧烷改質二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇環氧烷改質二(甲基)丙烯酸酯。
另外,作為所述(C)成分的市售品,例如可列舉:美源(MIWON)公司製造的「米拉莫(Miramer)M2040」、「米拉莫(Miramer)M231」、「米拉莫(Miramer)M233」、「米拉莫(Miramer)M235」、「米拉莫(Miramer)M281」、「米拉莫(Miramer)M283」、「米拉莫(Miramer)M1142」、「米拉莫(Miramer)M140」、「米拉莫(Miramer)M141」、「米拉莫(Miramer)M142」、「米拉莫(Miramer)M144」、「米拉莫(Miramer)M164」、「米拉莫(Miramer)M166」、「米拉莫(Miramer)M1602」、「米拉莫(Miramer)M170」、「米拉莫(Miramer)M202」、「米拉莫(Miramer)M210」、「米拉莫(Miramer)M2100」、「米拉莫(Miramer)M2101」、「米拉莫(Miramer)M216」、「米拉莫(Miramer)M220」、「米拉莫(Miramer)M2200」、「米拉莫(Miramer)M222」、「米拉莫(Miramer)M2300」、「米拉莫(Miramer)M2301」、「米拉莫(Miramer)M232」、「米拉莫(Miramer)M240」、「米拉莫(Miramer)M241」、「米拉莫 (Miramer)M244」、「米拉莫(Miramer)M245」、「米拉莫(Miramer)M280」、「米拉莫(Miramer)M282」、「米拉莫(Miramer)M284」、「米拉莫(Miramer)M286」、「米拉莫(Miramer)M290」、新中村化學工業股份有限公司製造的「NK酯(NK ESTER)A-30G」、「NK酯(NK ESTER)A-90G」、「NK酯(NK ESTER)A-130G」、「NK酯(NK ESTER)A-200」、「NK酯(NK ESTER)A-400」、「NK酯(NK ESTER)A-600」、「NK酯(NK ESTER)A-PTMG-65」、「NK酯(NK ESTER)M-20G」、「NK酯(NK ESTER)M-30G」、「NK酯(NK ESTER)M-40G」、「NK酯(NK ESTER)M-90G」、「NK酯(NK ESTER)M-130G」、「NK酯(NK ESTER)M-30PG」、「NK酯(NK ESTER)EH-4E」、「NK酯(NK ESTER)B-20G」、「NK酯(NK ESTER)S-12E」、「NK酯(NK ESTER)2G」、「NK酯(NK ESTER)3G」、「NK酯(NK ESTER)4G」、「NK酯(NK ESTER)9G」、「NK酯(NK ESTER)14G」、「NK酯(NK ESTER)3PG」、「NK酯(NK ESTER)9PG」、「NK酯(NK ESTER)APG-100」、「NK酯(NK ESTER)APG-200」、「NK酯(NK ESTER)APG-400」、「NK酯(NK ESTER)APG-700」、「NK酯(NK ESTER)AM-30PG」、「NK酯(NK ESTER)AMP-10G」、「NK酯(NK ESTER)AMP-20GY」、「NK酯(NK ESTER)702A」、「NK酯(NK ESTER)A-LEN-10」、「NK酯(NK ESTER)401P」、「NK酯(NK ESTER)A-BPEF」、「NK酯(NK ESTER)A-BPE-2」、「NK酯(NK ESTER)ABE-300」、「NK酯(NK ESTER)A-BPE-4」、「NK酯(NK ESTER) A-BPE-10」、「NK酯(NK ESTER)A-BPE-20」、「NK酯(NK ESTER)A-BPE-30」、「NK酯(NK ESTER)A-BPP-3」、「NK酯(NK ESTER)A-B1206PE」、「NK酯(NK ESTER)PHE-1G」、「NK酯(NK ESTER)PHE-2G」、「NK酯(NK ESTER)BPE-80N」、「NK酯(NK ESTER)BPE-100」、「NK酯(NK ESTER)BPE-200」、「NK酯(NK ESTER)BPE-300」、「NK酯(NK ESTER)BPE-500」、「NK酯(NK ESTER)BPE-900」、「NK酯(NK ESTER)BPE-1300N」、共榮社化學股份有限公司製造的「萊特酯(Light Ester)BC」、「萊特酯(Light Ester)130MA」、「萊特酯(Light Ester)BC」、「萊特酯(Light Ester)2EG」、「萊特酯(Light Ester)3EG」、「萊特酯(Light Ester)4EG」、「萊特酯(Light Ester)9EG」、「萊特酯(Light Ester)14EG」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)EC-A」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)MTG-A」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)EHDG-AT」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)130A」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)DPM-A」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)P2H-A」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)P-200A」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)3EG-A」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)4EG-A」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)9EG-A」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)14EG-A」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)PTMGA-250」、大阪有機化學工業股份有限公司製造的「比斯克(Viscoat)#190」、「比斯克(Viscoat)#MTG」、「MPE400A」、「MPE550A」、「比斯克(Viscoat)#310HP」、「比斯克(Viscoat)#192」、「比斯克(Viscoat) #700HV」、「比斯克(Viscoat)#540」、共榮社化學股份有限公司製造的「萊特酯(Light Ester)PO」、「萊特酯(Light Ester)BP-2EMK」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)PO-A」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)P2H-A」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)P-200A」、「環氧酯(Epoxy Ester)M-600A」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)BP-4PA」、日本化藥股份有限公司製造的「卡亞拉得(KAYARAD)PEG400DA」、「卡亞拉得(KAYARAD)R-128H」、「卡亞拉得(KAYARAD)R-551」、「卡亞拉得(KAYARAD)R-712」、第一工業製藥股份有限公司製造的「新前沿(New Frontier)ME-3」、「新前沿(New Frontier)ME-4S」、「新前沿(New Frontier)MPE-600」、「新前沿(New Frontier)PE-200」、「新前沿(New Frontier)PE-300」、「新前沿(New Frontier)PE-400」、「新前沿(New Frontier)PE-600」、「新前沿(New Frontier)MPEM-400」、「新前沿(New Frontier)TEGDMA」、「新前沿(New Frontier)PHE」、「新前沿(New Frontier)PHE-2」、「新前沿(New Frontier)PHE-2D」、「新前沿(New Frontier)NP-1」、「新前沿(New Frontier)NP-4」、「新前沿(New Frontier)N-177E」、「新前沿(New Frontier)N-PGA」、「新前沿(New Frontier)OPPE」、「新前沿(New Frontier)BPE-4」、「新前沿(New Frontier)BPE-10」、「新前沿(New Frontier)BPE-20」、「新前沿(New Frontier)BPEM-4」、「新前沿(New Frontier)BPEM-10」、「新前沿(New Frontier)HBPE-4」、「新前沿(New Frontier)HBPEM-10」、日立化成股份有限公司製造的「範 克力(Fancryl)FA-240A」、「範克力(Fancryl)FA-P240A」、「範克力(Fancryl)FA-P270A」、「範克力(Fancryl)FA-PTG9A」、「範克力(Fancryl)FA-400M(100)」、「範克力(Fancryl)FA-240M」、「範克力(Fancryl)FA-PTG9M」、「範克力(Fancryl)FA-310A」、「範克力(Fancryl)FA-314A」、「範克力(Fancryl)FA-318A」、「範克力(Fancryl)FA-321A」、「範克力(Fancryl)FA-324A」、「範克力(Fancryl)FA-310M」、「範克力(Fancryl)FA-320M」、「範克力(Fancryl)FA-321M」、「範克力(Fancryl)FA-3218M」等。
所述(C)成分的含有比例於可獲得本發明的效果的範圍內並無限定,但就可獲得能夠形成具有高阿貝數、且具有優異的耐熱性及耐濕熱性的透鏡的活性能量線硬化性組成物而言,於活性能量線硬化性組成物中,較佳為1質量%~40質量%的範圍,更佳為3質量%~30質量%的範圍,特佳為5質量%~20質量%的範圍。
本發明的活性能量線硬化性組成物除可使用所述(A)成分、所述(B)成分以外,出於進一步提高耐裂紋性的目的,亦可使用於一分子中具有六個以上的(甲基)丙烯醯基及多分支結構的化合物(D)(以下,簡稱為「(D)成分」)。所述(D)成分於一分子中必須具有六個(甲基)丙烯醯基及多分支結構。
就可獲得具有優異的耐裂紋性的活性能量線硬化性樹脂組成物而言,所述(D)成分的一分子中的(甲基)丙烯醯基較佳為6個~96個的範圍,更佳為8個~64個的範圍,特佳為9個~ 48個的範圍。
作為所述多分支結構,例如可列舉:樹突狀結構、樹狀結構(dendritic structure)(樹枝狀結構)、超枝化結構(超分支結構)、星型結構等。該些多分支結構可於一分子中單獨具有,亦可具有兩種以上。另外,該些中,就可獲得能夠形成具有特別優異的耐裂紋性的透鏡的活性能量線硬化性組成物而言,較佳為樹狀結構、超枝化結構。
作為所述(D)成分的製造方法,並無特別限制,可藉由適宜公知的方法來製造。例如可列舉:使分子逐代地與中心核分子鍵結來形成分支的發散(divergent)法、使預先合成的枝部分與核分子鍵結的會聚(convergent)法、使用一分子內包括具有兩個以上的反應點B的分支部分及具有其他反應點A的連結部分的單體ABx以一階段進行合成的方法等。其中,作為簡便的合成方法之一,較佳為所述發散法,例如藉由使多元醇(a)與於一分子中具有一個以上的羧基及兩個以上的羥基的化合物(b)進行酯化反應而獲得具有多分支結構的多元醇化合物(c)。繼而,可藉由利用所述多元醇化合物的末端羥基與(甲基)丙烯酸的脫水縮合進行的酯化反應、所述多元醇化合物的末端羥基與(甲基)丙烯酸酯的酯交換反應及所述多元醇化合物的末端羥基與具有(甲基)丙烯醯基的異氰酸酯化合物的加成反應等來製造。
作為所述多元醇(a),例如可列舉:甘油、三羥甲基乙烷、二-三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丙烷、1,2,4- 丁三醇、季戊四醇、二季戊四醇、三(2-羥基乙基)異氰脲酸酯、山梨糖醇、甘露糖醇及該些醇的環氧烷加成物或己內酯的開環加成物等。該些多元醇可單獨使用亦可併用兩種以上。
作為所述於一分子中具有一個以上的羧基及兩個以上的羥基的化合物(b),例如可列舉:2,3-二羥基丙酸、2,2-二羥甲基丙酸、2,2-二羥甲基丁酸、酒石酸、2,3-二羥基苯甲酸、2,4-二羥基苯甲酸、2,5-二羥基苯甲酸、2,6-二羥基苯甲酸、3,4-二羥基苯甲酸、3,5-二羥基苯甲酸、3,5-雙(2-羥基乙氧基)苯甲酸、2,6-二羥基-4-甲基苯甲酸、3,5-二羥基-4-甲基苯甲酸、檸嗪酸(citrazinic acid)、2,3-二羥基苯基乙酸、2,4-二羥基苯基乙酸、2,5-二羥基苯基乙酸、2,6-二羥基苯基乙酸、3,4-二羥基苯基乙酸、3,5-二羥基苯基乙酸及該些的衍生物等。該些化合物可單獨使用亦可併用兩種以上。
作為所述多元醇化合物(c)的市售品,例如可列舉:柏斯托(Perstorp)公司製造的「博頓(BOLTORN)H20」、「博頓(BOLTORN)H30」、「博頓(BOLTORN)H40」、「博頓(BOLTORN)H311」、「博頓(BOLTORN)H2003」、「博頓(BOLTORN)H2004」、「博頓(BOLTORN)P500」、「博頓(BOLTORN)P501」、「博頓(BOLTORN)P1000」等。
另外,作為所述(D)成分的市售品,例如可列舉:大阪有機化學工業股份有限公司製造的「比斯克(Viscoat)#1000LT」、新中村化學工業製造的「NK酯(NK Ester)A-HBR-5」、 美源(MIWON)公司製造的「米拉莫(Miramer)SP1106」、阿科瑪(Arkema)公司製造的「CN2302」、「CN2303」、「CN2304」、IGM公司製造的「佛陀瑪(Photomer)5500」等。
所述(D)成分的含有比例於可獲得本發明的效果的範圍內並無特別限定,但就可獲得能夠形成具有高阿貝數、優異的耐熱性及耐濕熱性、優異的耐裂紋性的透鏡的活性能量線硬化性組成物而言,於活性能量線硬化性組成物中,較佳為1質量%~50質量%的範圍,更佳為5質量%~40質量%的範圍,特佳為10質量%~35質量%的範圍。
本發明的活性能量線硬化性組成物除可使用所述(A)成分、所述(B)成分以外,視需要出於進一步提高耐濕熱性的目的,亦可使用於一分子中具有一個或兩個(甲基)丙烯醯基且於一分子中具有至少一個以上的羥基的化合物(E)(以下,簡稱為「(E)成分」)。
作為所述(E)成分,例如可列舉:(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-1-甲基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-苯基苯酚丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基-3-甲基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸3-羥基-1-金剛烷基酯、(甲基)丙烯酸3,5-二羥基-1-金剛烷基酯、新 戊二醇碳酸酯改質(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、甘油單(甲基)丙烯酸酯、甘油二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷單(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷單(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇單(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇單(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇單(甲基)丙烯酸酯、山梨糖醇二(甲基)丙烯酸酯、甘露糖醇單(甲基)丙烯酸酯、甘露糖醇二(甲基)丙烯酸酯等。另外,亦可使用將所述化合物所具有的羥基的一部分或全部進行環氧烷改質、己內酯改質後的化合物等。該些化合物可單獨使用亦可併用兩種以上。另外,該些中,就獲得進一步更高的阿貝數、耐熱性、耐濕熱性的觀點而言,較佳為(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇碳酸酯改質(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、山梨糖醇環氧乙烷改質二(甲基)丙烯酸酯。
另外,作為所述(E)成分,亦可使用於一分子中具有一個或兩個縮水甘油基的化合物與(甲基)丙烯酸的反應產物、於一分子中具有(甲基)丙烯醯氧基與縮水甘油基的化合物(d)和羧酸及/或二羧酸酐的反應產物等環氧(甲基)丙烯酸酯等。
作為所述於一分子中具有一個或兩個縮水甘油基的化合物,例如可列舉:十二烷基縮水甘油醚、十四烷基縮水甘油醚、乙二醇二縮水甘油醚、二乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油醚、三丙二醇二縮水甘油醚、聚丙二 醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、甘油二縮水甘油醚、1,2-環氧-4-乙烯基環己烷、甲基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯、1,4-環己烷二甲醇單縮水甘油醚、1,4-環己烷二甲醇二縮水甘油醚、3,4,3,4-二環氧雙環己基、3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧環己烷羧酸酯、ε-己內酯改質3,4-環氧環己基甲基-3,4-環氧環己烷羧酸酯、雙酚A單縮水甘油醚、雙酚A二縮水甘油醚、雙酚A環氧烷改質單縮水甘油醚、雙酚A環氧烷改質二縮水甘油醚、雙酚A己內酯改質單縮水甘油醚、雙酚A己內酯改質二縮水甘油醚、氫化雙酚A單縮水甘油醚、氫化雙酚A二縮水甘油醚、氫化雙酚A環氧烷改質單縮水甘油醚、氫化雙酚A環氧烷改質二縮水甘油醚、氫化雙酚A己內酯改質單縮水甘油醚、氫化雙酚A己內酯改質二縮水甘油醚、雙酚F單縮水甘油醚、雙酚F二縮水甘油醚、雙酚F環氧烷改質單縮水甘油醚、雙酚F環氧烷改質二縮水甘油醚、雙酚F己內酯改質單縮水甘油醚、雙酚F己內酯改質二縮水甘油醚、氫化雙酚F單縮水甘油醚、氫化雙酚F二縮水甘油醚、氫化雙酚F環氧烷改質單縮水甘油醚、氫化雙酚F環氧烷改質二縮水甘油醚、氫化雙酚F己內酯改質單縮水甘油醚、氫化雙酚F己內酯改質二縮水甘油醚等。
作為所述於一分子中具有(甲基)丙烯醯氧基與縮水甘油基的化合物(d),例如可列舉:(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸4-羥基丁酯縮水甘油醚、(甲基)丙烯酸3,4-環氧環己基甲酯等。
作為所述羧酸及/或二羧酸酐,例如可列舉:(甲基)丙烯 酸、1,2-環己烷二羧酸酐、4-甲基環己烷-1,2-二羧酸酐、1,2,3,6-四氫鄰苯二甲酸酐、雙環[2.2.1]庚烷-2,3-二羧酸酐、甲基雙環[2.2.1]庚烷-2,3-二羧酸酐、琥珀酸酐、辛烯基琥珀酸酐、四丙烯基琥珀酸酐、3-十二烯基琥珀酸酐、3,3,4,4-四氫-3,3-雙呋喃-2,2,5,5-四酮、4-(2,5-二氧代四氫呋喃-3-基)-1,2,3,4-四氫萘-1,2-二羧酸酐、偏苯三甲酸酐、雙(1,3-二氫-1,3-二氧代-5-異苯並呋喃羧酸)2-乙醯氧基-1,3-丙二基等。
作為所述(E)成分的市售品,例如可列舉:美源(MIWON)公司製造的「米拉莫(Miramer)M100」、「米拉莫(Miramer)M1051」、新中村化學工業股份有限公司製造的「NK酯(NK ESTER)702A」、「NK酯(NK ESTER)401P」、「NK酯(NK ESTER)701A」、「NK酯(NK ESTER)EA-5521」、大阪有機化學工業股份有限公司製造的「HEA」、「HPA」、「4-HBA」、「比斯克(Viscoat)#540」、共榮社化學股份有限公司製造的「萊特酯(Light Ester)HO-250(N)」、「萊特酯(Light Ester)HOP(N)」、「萊特酯(Light Ester)HOP-A(N)」、「萊特酯(Light Ester)HOA(N)」、「萊特酯(Light Ester)HOB(N)」、「萊特酯(Light Ester)G-101P」、「萊特酯(Light Ester)G-201P」、「萊特丙烯酸酯(Light Acrylate)HOB-A」、「環氧酯(Epoxy Ester)M-600A」、「HOA-MPE(N)」、第一工業製藥股份有限公司製造的「新前沿(New Frontier)PGA」、日本化藥股份有限公司製造的「卡亞拉得(KAYARAD)R-128H」、「卡亞拉得(KAYARAD)R-167」、東亞合成股份有限公 司製造的「亞羅尼斯(Aronix)M-920」、「亞羅尼斯(Aronix)M-926」、三菱化學股份有限公司製造的「4HBA」、「CHDMMA」、大賽璐(Daicel)股份有限公司製造的「普拉賽爾(Placcel)HEMAC1」、「抗蝕劑單體(Resist monomer)HMA」、「抗蝕劑單體(Resist monomer)DHMA」等。
所述(E)成分的含有比例於可獲得本發明的效果的範圍內並無特別限定,但就可獲得能夠形成具有高阿貝數、且具有優異的耐熱性及耐濕熱性的透鏡的活性能量線硬化性組成物而言,於活性能量線硬化性組成物中,較佳為0.5質量%~20質量%的範圍,更佳為1質量%~15質量%的範圍。
本發明的活性能量線硬化性組成物進而視需要除可使用所述(A)成分、所述(B)成分、所述(C)成分、所述(D)成分、所述(E)成分以外,亦可使用其他化合物。
作為所述其他化合物,例如可列舉具有羥基的(甲基)丙烯酸酯等。作為所述具有羥基的(甲基)丙烯酸酯,例如可列舉:季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、以及所述具有羥基的(甲基)丙烯酸酯的環氧烷改質及/或己內酯改質後的化合物、胺基甲酸酯丙烯酸酯、丙烯酸(甲基)丙烯酸酯、聚酯多元醇(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯等。
另外,可藉由本發明的活性能量線硬化性組成物照射活性能量線來獲得硬化物或透鏡。所謂該活性能量線是指紫外線、 電子束、α射線、β射線、γ射線等電離放射線。於照射紫外線作為活性能量線的情況下,較佳為於本發明的活性能量線硬化性組成物中添加光聚合起始劑(F)來提高硬化性。另一方面,於使用電子束、α射線、β射線、γ射線等電離放射線的情況下,即便不使用光聚合起始劑(F)亦迅速硬化,因此不需要特別添加光聚合起始劑(F)。
作為所述光聚合起始劑(F),例如可列舉:二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、寡聚{2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮}、苯偶醯二甲基縮酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)苯基-(2-羥基-2-丙基)酮、1-羥基環己基苯基酮、2-甲基-2-嗎啉基(4-硫代甲基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁酮等苯乙酮系化合物;安息香、安息香甲醚、安息香異丙醚等安息香系化合物;2,4,6-三甲基安息香二苯基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦等醯基氧化膦系化合物;二苯乙二酮(二苯甲醯)、苯甲醯甲酸甲酯、氧基苯基乙酸2-(2-羥基乙氧基)乙酯、氧基苯基乙酸2-(2-氧代-2-苯基乙醯氧基乙氧基)乙酯等二苯乙二酮系化合物;二苯甲酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯-4-苯基二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、羥基二苯甲酮、4-苯甲醯基-4'-甲基-二苯基硫醚、丙烯酸化二苯甲酮、3,3',4,4'-四(第三丁基過氧基羰基)二苯甲酮、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮等二苯甲酮系化合物;2-異丙基硫雜蒽酮、2,4-二甲基硫雜蒽 酮、2,4-二乙基硫雜蒽酮、2,4-二氯硫雜蒽酮等硫雜蒽酮系化合物;米其勒酮、4,4'-二乙基胺基二苯甲酮等胺基二苯甲酮系化合物;10-丁基-2-氯吖啶酮、2-乙基蒽醌、9,10-菲醌、樟腦醌、1-[4-(4-苯甲醯基苯基巰基)苯基]-2-甲基-2-(4-甲基苯基磺醯基)丙烷-1-酮等。該些光聚合起始劑可單獨使用亦可併用兩種以上。
作為所述光聚合起始劑(F)的市售品,例如可列舉:IGM樹脂(IGM Resins)公司製造的「奧尼拉得(Omnirad)1173」、「奧尼拉得(Omnirad)184」、「奧尼拉得(Omnirad)127」、「奧尼拉得(Omnirad)2959」、「奧尼拉得(Omnirad)369」、「奧尼拉得(Omnirad)379」、「奧尼拉得(Omnirad)907」、「奧尼拉得(Omnirad)4265」、「奧尼拉得(Omnirad)1000」、「奧尼拉得(Omnirad)651」、「奧尼拉得(Omnirad)TPO」、「奧尼拉得(Omnirad)TPO-L」、「奧尼拉得(Omnirad)819」、「奧尼拉得(Omnirad)2022」、「奧尼拉得(Omnirad)2100」、「奧尼拉得(Omnirad)754」、「奧尼拉得(Omnirad)BP」、「奧尼拉得(Omnirad)4MBZ」、「奧尼拉得(Omnirad)4PBZ」、「奧尼拉得(Omnirad)410」、「奧尼拉得(Omnirad)OMBB」、「奧尼拉得(Omnirad)BMS」、「奧尼拉得(Omnirad)500」、「奧尼拉得(Omnirad)81」、「奧尼拉得(Omnirad)ITX」、「奧尼拉得(Omnirad)DETX」、「奧尼拉得(Omnirad)MBF」、「奧尼拉得(Omnirad)EMK」、「奧尼拉得(Omnirad)784」、「奧尼拉得(Omnirad)1312」、「奧尼拉得(Omnirad)BCIM」、「奧尼拉得(Omnirad)BL 723」、「奧尼拉得 (Omnirad)BL 724」、「奧尼拉得(Omnirad)BL 750」、「奧尼拉得(Omnirad)BL751」、「奧尼拉得(Omnirad)EDB」、「奧尼拉得(Omnirad)EHA」、「奧尼拉得(Omnirad)IADB」、「艾薩固(Esacure)KIP 150」、「艾薩固(Esacure)KIP 100F」、「艾薩固(Esacure)KIP 75LT」、「艾薩固(Esacure)KIP IT」、「艾薩固(Esacure)TZT」、「艾薩固(Esacure)KT55」、「艾薩固(Esacure)TZM」、「艾薩固(Esacure)ONE」、「艾薩固(Esacure)1001M」、「艾薩固(Esacure)KIP 160」、「艾薩固(Esacure)A 198」、「艾薩固(Esacure)KTO 46」、「艾薩固(Esacure)DP 250」、「奧尼珀魯(Omnipol)910」、「奧尼珀魯(Omnipol)9210」、「奧尼珀魯(Omnipol)BP」、「奧尼珀魯(Omnipol)TX」、「奧尼珀魯(Omnipol)3TX」、「奧尼珀魯(Omnipol)BL728」、「奧尼珀魯(Omnipol)ASA」、日本化藥股份有限公司製造的「卡亞固(KAYACURE)DETX」、「卡亞固(KAYACURE)MBP」、「卡亞固(KAYACURE)DMBI」、「卡亞固(KAYACURE)EPA」、「卡亞固(KAYACURE)OA」、斯托伐化學(Stauffa Chemical)公司製造的「拜固(Vicure)10」、「拜固(Vicure)55」、阿克蘇諾貝爾(Akzo Nobel)公司製造的「提格納(Trigonal)P1」、山德士(SANDOZ)公司製造的「桑多雷(SANDORAY)1000」、厄普約翰化學(Upjohn Chemical)公司製造的「DEAP」、沃德布倫金索普(Ward Blenkinsop)公司製造的「昆塔固(Quantacure)PDO」、「昆塔固(Quantacure)ITX」、「昆塔固(Quantacure)EPD」、華鈦(Runtec)公司製造的「華 鈦固(Runtecure)1104」等。該些光聚合起始劑可單獨使用,亦可併用兩種以上。
作為所述光聚合起始劑(F)的使用量,就獲得充分的硬化性的觀點而言,於活性能量線硬化性組成物中,較佳為0.05質量份~20質量份的範圍,更佳為0.1質量份~10質量份的範圍,特佳為0.5質量份~5質量份的範圍。
本發明的活性能量線硬化性組成物進而視需要除可含有所述(A)成分~(F)成分以外,亦可含有其他添加劑。
作為所述其他添加劑,例如可列舉:聚合抑制劑、光增感劑、表面調整劑、抗靜電劑、消泡劑、黏度調整劑、耐光穩定劑、耐候穩定劑、耐熱穩定劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、調平劑、有機顏料、無機顏料、顏料分散劑、二氧化矽珠粒、有機珠粒等添加劑;氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化鈰、氧化銻等無機填充劑等。該些其他添加劑可單獨使用亦可併用兩種以上。另外,該些中,就可提高耐熱性及耐濕熱性而言,較佳為添加耐熱穩定劑、及抗氧化劑。
作為所述耐熱穩定劑,例如可列舉:乙硫醇、2-甲基丙烷-2-硫醇、正十二烷硫醇、2,3,3,4,4,5-六甲基己烷-2-硫醇、2-巰基乙醇、4-巰基-1-丁醇、巰基乙酸甲酯、3-巰基丙酸甲酯、3-巰基丙酸2-乙基己酯、3-巰基丙酸3-甲氧基丁酯、3-巰基丙酸正辛酯、3-巰基丙酸硬脂酯、3-(三甲氧基矽烷基)丙烷-1-硫醇、3-(三乙氧基矽烷基)丙烷-1-硫醇、苯硫醇、苄基硫醇、3-甲基苯硫醇、4-甲基 苯硫醇、萘-2-硫醇、吡啶-2-硫醇、苯並咪唑-2-硫醇、苯並噻唑-2-硫醇、1,2-乙烷二硫醇、1,2-丙烷二硫醇、1,3-丙烷二硫醇、1,4-丁烷二硫醇、2,3-丁烷二硫醇、1,5-戊烷二硫醇、1,6-己烷二硫醇、1,10-癸烷二硫醇、2,3-二羥基-1,4-丁烷二硫醇、3,6-二氧雜-1,8-辛烷二硫醇、3,7-二硫雜-1,9-壬烷二硫醇、1,4-雙(3-巰基丙醯基氧基)丁烷、1,4-雙(3-巰基丁醯基氧基)丁烷、四乙二醇雙(3-巰基丙酸酯)、1,2-苯二硫醇、1,3-苯二硫醇、1,4-苯二硫醇、2,3-二胺基-1,4-苯二硫醇、4,5-二甲基-O-二甲苯二硫醇、甲苯-3,4-二硫醇、4,4'-聯苯二硫醇、1,5-萘二硫醇、6-(二丁基胺基)-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇、2-胺基-1,3,5-三嗪-4,6-二硫醇、6-苯胺基-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇、6-(4'-苯胺基苯基-異丙基胺基)-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇、6-(3',5'-第三丁基-4'-羥基苯胺基)-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇、喹噁啉-2,3-二硫醇、嘌呤-2,6-二硫醇、1,3,4-噻二唑-2,5-二硫醇、雙(2-巰基乙基)醚、三羥甲基乙烷三(3-巰基丙酸酯)、三羥甲基乙烷三(3-巰基丁酸酯)、三羥甲基丙烷三(3-巰基丙酸酯)、三羥甲基丙烷三(3-巰基丁酸酯)、1,3,5-苯三硫醇、1,3,5-三嗪-2,4,6-三硫醇、三[2-(3-巰基丙醯基氧基)乙基]異氰脲酸酯、三[2-(3-巰基丁醯基氧基)乙基]異氰脲酸酯、季戊四醇四(3-巰基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巰基丁酸酯)、二季戊四醇六(3-巰基丙酸酯)、二季戊四醇六(3-巰基丁酸酯)等具有巰基的化合物等。另外,該些耐熱穩定劑可單獨使用亦可併用兩種以上。
作為所述耐熱穩定劑的市售品,例如可列舉:花王股份 有限公司製造的「巧卡魯考魯(thiokalchol)20」、昭和電工股份有限公司製造的「卡倫茨(Karenz)MT PE1」、「卡倫茨(Karenz)MT BD1」、「卡倫茨(Karenz)MT NR1」、「TPMB」、「TEMB」、SC有機化學股份有限公司製造的「TMMP」、「TEMPIC」、「PEMP」、「EGMP-4」、「DPMP」、「TMMP II-20P」、「PEMP II-20P」等。
作為所述耐熱穩定劑的使用量,就可獲得充分的耐熱性的觀點而言,於活性能量線硬化性組成物中,較佳為0.01質量份~10質量份的範圍,更佳為0.1質量份~5質量份的範圍,特佳為0.5質量份~3質量份的範圍。
作為所述抗氧化劑,例如可列舉:酚系抗氧化劑、亞磷酸酯系抗氧化劑、硫系抗氧化劑等。該些抗氧化劑可單獨使用亦可併用兩種以上。
作為所述酚系抗氧化劑,例如可列舉:苯乙烯化苯酚、2,6-二-第三丁基對甲酚、2,5-二-第三丁基對苯二酚、2,5-二-第三戊基對苯二酚、3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸十八烷基酯、2,4-雙(辛基硫代甲基)-6-甲基苯酚、2,2-亞甲基雙(6-第三丁基-對甲酚)、2,2-亞甲基雙(6-第三丁基-4-乙基苯酚)、4,4-亞丁基雙(6-第三丁基-間甲酚)、4,4-硫代雙(6-第三丁基-間甲酚)、2,2-硫代二乙基雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、1,6-己二醇雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、雙[3-(3-第三丁基-4-羥基-5-甲基苯基)丙酸][亞乙基雙(氧乙烯)]、雙[3-[3-(第三丁基)-4-羥基-5-甲基苯基]丙酸]2,4,8,10-四氧雜螺[5.5]十一烷-3,9-二基雙(2-甲基 丙烷-2,1-二基)、N,N-雙[2-[2-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)乙基羰氧基]乙基]草醯胺、N,N-(己烷-1,6-二基)雙[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙醯胺]、2,4,6-三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)均三甲苯、1,3,5-三(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1H,3H,5H)-三酮、1,1,3-三(2-甲基-4-羥基-5-第三丁基苯基)丁烷、季戊四醇四[3-(3,5-二-第三丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、二乙基(3,5-二-第三丁基-4-羥基苄基)磷酸酯等。
作為所述酚系抗氧化劑的市售品,例如可列舉:巴斯夫(BASF)公司製造的「易璐諾斯(IRGANOX)1010」、「易璐諾斯(IRGANOX)1010FF」、「易璐諾斯(IRGANOX)1035」、「易璐諾斯(IRGANOX)1035FF(W&C)」、「易璐諾斯(IRGANOX)1076」、「易璐諾斯(IRGANOX)1076FD」、「易璐諾斯(IRGANOX)1098」、「易璐諾斯(IRGANOX)1135」、「易璐諾斯(IRGANOX)1330」、「易璐諾斯(IRGANOX)1520L」、「易璐諾斯(IRGANOX)245」、「易璐諾斯(IRGANOX)245FF」、「易璐諾斯(IRGANOX)259」、「易璐諾斯(IRGANOX)3114」、川口化學工業股份有限公司製造的「安塔吉(ANTAGE)BHT」、「安塔吉(ANTAGE)DAH」、「安塔吉(ANTAGE)DBH」、「安塔吉(ANTAGE)W-300」、「安塔吉(ANTAGE)W-400」、「安塔吉(ANTAGE)W-500」、「安塔吉(ANTAGE)庫里斯塔魯(CRYSTAL)」、「安塔吉(ANTAGE)SP」、「安塔吉(ANTAGE)HP-200」、「安塔吉(ANTAGE)HP-300」、艾迪科(ADEKA)股份有限公司製造的「艾迪科斯塔波(Adekastab) AO-20」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-30」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-40」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-50」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-50F」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-50T」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-60」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-60G」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-80」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-330」、住友化學股份有限公司製造的「蘇米萊澤(SUMILIZER)GA-80」、「蘇米萊澤(SUMILIZER)GP」、蘇米萊澤(SUMILIZER)MDP-S」、「蘇米萊澤(SUMILIZER)WX-R」、「蘇米萊澤(SUMILIZER)WX-RC」、三菱化學股份有限公司製造的「優西諾思(Yoshinox)BB」、城北化學工業股份有限公司製造的「JC-356」等。
作為所述亞磷酸酯系抗氧化劑,例如可列舉:亞磷酸三(2-乙基己基)酯、亞磷酸三癸基酯、亞磷酸三異癸基酯、亞磷酸三月桂基酯、亞磷酸三(十三烷基)酯、亞磷酸三(硬脂基)酯、亞磷酸二苯基單(2-乙基己基)酯、亞磷酸二苯基單癸基酯、亞磷酸二苯基異癸基酯、亞磷酸二苯基單(十三烷基)酯、亞磷酸三苯基酯、亞磷酸三甲苯基酯、亞磷酸三(2,4-二-第三丁基苯基)酯、亞磷酸三(壬基苯基)酯、四苯基二丙二醇二亞磷酸酯、4,4-亞丁基雙(3-甲基-6-第三丁基苯基二-十三烷基亞磷酸酯)、四(C12~C15烷基)-4,4-亞異丙基二苯基二亞磷酸酯、3,9-雙(十八烷基氧基)-2,4,8,10-四氧雜-3,9-二磷雜螺[5.5]十一烷、3,9-雙(2,6-二-第三丁基-4-甲基苯氧基)-2,4,8,10-四氧雜-3,9-二磷雜螺[5.5]十一烷、2,4,8,10-四(1,1-二 甲基乙基)-6-[(2-乙基己基)氧基]-12H-二苯並[d,g][1,3,2]二氧雜磷雜環辛二烯(dioxaphosphocin)、雙(癸基)季戊四醇二亞磷酸酯、雙(十三癸基)季戊四醇二亞磷酸酯、二硬脂基季戊四醇二亞磷酸酯、氫化雙酚A-季戊四醇亞磷酸酯聚合物等。
作為所述亞磷酸酯系抗氧化劑的市售品,例如可列舉:巴斯夫(BASF)公司製造的「易璐佛斯(IRGAFOS)168」、「易璐佛斯(IRGAFOS)168FF」、艾迪科(ADEKA)股份有限公司製造的「艾迪科斯塔波(Adekastab)PEP-8」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)PEP-36」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)HP-10」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)2112」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)2112RG」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)1178」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)1500」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)C」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)135A」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)3010」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)TPP」、城北化學工業股份有限公司製造的「JP-360」、「JP-351」、「JP-3CP」、「JP-308E」、「JPE-308E」、「JP-310」、「JP-312L」、「JP-333E」、「JPM-308」、「JPM-311」、「JPM-313」、「JPP-100」、「JA-805」、「JPH-1200」、「JPP-88」、「JPE-10」、「JPE-13R」、「JP-318E」、「JPP-2000PT」、「JP-650」、「JPH-3800」等。
作為所述硫系抗氧化劑,例如可列舉:3,3-硫代二丙酸二-十二烷基酯、3,3-硫代雙丙酸二-十三烷基酯、3,3-硫代二丙酸二-十八烷基酯、四[3-(十二烷基硫基)丙酸]季戊四醇等。
作為所述硫系抗氧化劑的市售品,例如可列舉:巴斯夫(BASF)公司製造的「易璐諾斯(IRGANOX)PS800FL」、「易璐諾斯(IRGANOX)PS802FL」、艾迪科(ADEKA)股份有限公司製造的「艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-412S」、「艾迪科斯塔波(Adekastab)AO-503」、凱米布羅化成(Chemipro Kasei)股份有限公司製造的「凱米諾斯(KEMINOX)PLS」、住友化學股份有限公司製造的「蘇米萊澤(SUMILIZER)TP-D」等。
作為所述抗氧化劑的使用量,就可獲得充分的耐熱性的觀點而言,於活性能量線硬化性組成物中,較佳為0.01質量份~10質量份的範圍,更佳為0.1質量份~5質量份的範圍,特佳為0.5質量份~3質量份的範圍。
作為所述其他添加劑,為了調整折射率或熱膨脹係數,可較佳地使用無機填充劑。作為所述無機填充劑,可列舉:二氧化矽微粒子、氧化鋯微粒子、其他微粒子等,可各自獨立地使用一種或將兩種以上組合而使用。作為所述無機填充劑的粒徑,較佳為1000nm以下,更佳為500nm以下,特佳為100nm以下。
作為所述二氧化矽微粒子的市售品,例如可列舉:日產化學股份有限公司製造的「甲醇二氧化矽溶膠」、「MA-ST-M」、「MA-ST-L」、「IPA-ST」、「IPA-ST-L」、「IPA-ST-ZL」、「IPA-ST-UP」、「EG-ST」、「NPC-ST-30」、「PGM-ST」、「DMAC-ST」、「MEK-ST-40」、「MEK-ST-L」、「MEK-ST-ZL」、「MEK-ST-UP」、「MIBK-ST」、「MIBK-ST-L」、「CHO-ST-M」、「EAT-ST」、 「PMA-ST」、「TOL-ST」、「MEK-AC-2140Z」、「MEK-AC-4130Y」、「MEK-AC-5140Z」、「MIBK-AC-2140Z」、「MIBK-SD-L」、「PGM-AC-2140Y」、「PGM-AC-4140Y」、「MEK-EC-2130Y」、日本觸媒股份有限公司製造的「西珀斯特(Epostar)KE-E10」、「西珀斯特(Epostar)KE-E30」、「西珀斯特(Epostar)KE-E150」、「西珀斯特(Epostar)KE-W10」、「西珀斯特(Epostar)KE-W30」、「西珀斯特(Epostar)KE-W50」、「西珀斯特(Epostar)KE-P10」、「西珀斯特(Epostar)KE-P30」、「西珀斯特(Epostar)KE-P50」、「西珀斯特(Epostar)KE-P100」、「西珀斯特(Epostar)KE-P150」、「西珀斯特(Epostar)KE-P250」、「西珀斯特(Epostar)KE-S10」、「西珀斯特(Epostar)KE-S30」、「西珀斯特(Epostar)KE-S50」、「西珀斯特(Epostar)KE-S100」、「西珀斯特(Epostar)KE-S150」、「西珀斯特(Epostar)KE-S250」、信越化學股份有限公司製造的「QSG-10」、「QSG-30」、「QSG-100」、「QSG-170」、阿德瑪科技(Admatechs)股份有限公司製造的「阿德瑪那諾(admanano)YA010C」、「YA050C」、「YA100C」、大研化學工業股份有限公司製造的「DLSB-001」、「DLSB-002」等。
作為所述氧化鋯微粒子的市售品,例如可列舉:第一工業製藥股份有限公司製造的「ZHR-101」、「ZHR-103」、「ZHR-200」、日本觸媒股份有限公司製造的「吉爾科斯特(Zircostar)ZP-153」、「吉爾科斯特(Zircostar)HR-101」、堺化學工業股份有限公司製造的「SZR-W」、「SZR-M」、「SZR-CW」、 「SZR-CM」、「SZR-KM」、「SZR-K」、大研化學工業股份有限公司製造的「DLZ-001」、「DLZ-007」、「DLZ-003U」、「DLM-001」、「DLM-002」、第一稀元素化學工業股份有限公司製造的「ZSL-10A」、「ZSL-10T」、「ZSL-20N」、「ZSL-00014」、艾泰克(iTEC)公司製造的「吉考奈(Zirconeo)-Cw」、「吉考奈(Zirconeo)-Ck」、大成化工股份有限公司製造的「TZP-103」等。
作為所述其他微粒子的市售品,例如可列舉:作為二氧化鈦微粒子的大成化工股份有限公司製造的「TTP-113」、「TTP-1132」,作為鈦酸鋇微粒子的第一稀元素化學工業股份有限公司製造的「DLB-001」、「DLB-002」、「DLB-003」,作為氧化錫銻微粒子的第一稀元素化學工業股份有限公司製造的「DLAT-001」,作為氧化錫銦微粒子的第一稀元素化學工業股份有限公司製造的「DLIT-001」等。
作為獲得所述活性能量線硬化性組成物的硬化物的方法,例如可列舉於基材上塗敷所述活性能量線硬化性組成物,之後照射活性能量線的方法。
作為所述基材,例如可使用:聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂;聚丙烯、聚乙烯、聚甲基戊烯等聚烯烴系樹脂;乙酸纖維素(二乙醯纖維素、三乙醯纖維素等)、乙酸丙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、乙酸丙酸丁酸纖維素、乙酸鄰苯二甲酸纖維素、硝酸纖維素等纖維素系樹脂;聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹脂;聚氯乙烯、聚偏二 氯乙烯等氯乙烯系樹脂;聚乙烯醇;乙烯-乙酸乙烯酯共聚物;聚苯乙烯;聚醯胺;聚碳酸酯;聚碸;聚醚碸;聚醚醚酮;聚醯亞胺、聚醚醯亞胺等聚醯亞胺系樹脂;降冰片烯系樹脂(例如,日本瑞翁(Zeon)股份有限公司製造的「瑞諾(Zeonor)」)、改質降冰片烯系樹脂(例如,JSR股份有限公司製造的「阿頓(Arton)」)、環狀烯烴共聚物(例如,三井化學股份有限公司製造的「阿佩爾(APEL)」)等樹脂膜;矽、碳化矽、氮化矽、藍寶石、氮化鋁、氮化鎵、磷化鎵、砷化鎵、磷化銦等半導體晶圓;石英玻璃、硼矽酸玻璃、鈉鈣玻璃、矽酸鹽玻璃、光學玻璃(冕玻璃(crown glass)、燧石玻璃(flint glass))等玻璃等。
作為將本發明的活性能量線硬化性組成物塗敷於所述基材的方法,例如可列舉:模具塗佈、微凹版塗佈、凹版塗佈、輥塗佈、缺角輪塗佈、氣刀塗佈、吻合塗佈、噴霧塗佈、浸漬塗佈、旋轉塗佈、刷塗、利用絲網的整面塗佈、線棒塗佈、流動塗佈、分配器、噴墨印刷、網版印刷、膠版印刷等。
作為使所述活性能量線硬化性組成物硬化的活性能量線,如所述般為紫外線、電子束、α射線、β射線、γ射線等電離放射線。此處,於使用紫外線作為活性能量線的情況下,作為照射該紫外線的裝置,例如可列舉:低壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、無電極燈(融合燈)、化學燈、黑光燈、水銀-氙氣燈、短弧燈、氦-鎘雷射、氬雷射、太陽光、發光二極體(light emitting diode,LED)燈等。
作為所述活性能量線的照射量(累計光量),較佳為100mJ/cm2~10,000mJ/cm2,更佳為300mJ/cm2~8,000mJ/cm2。再者,所述活性能量線的照射量以適於所期望的激發波長並利用光量計而測定的值為基準,例如可使用岩崎電氣股份有限公司的EYE紫外線累計照度計UVPF-A2系列、濱松光子製造的紫外線光量計C9536/H9535系列、該C9536/H9958系列、該C10427/H10428系列、牛尾電機製造的紫外線累計光量計UIT-201、該UIT-250、該UIT-θ系列等。特別是於本發明中,將使用岩崎電氣股份有限公司的EYE紫外線累計照度計UVPF-A2(PD-365)而測定的累計光量作為基準。
再者,所述活性能量線的照射可以一個階段進行,亦可分兩個階段以上進行。
作為所述本發明的活性能量線硬化性組成物的硬化物的膜厚,就可使硬化物的硬度充分的方面而言,較佳為1μm~1000μm的範圍,更佳為50μm~500μm的範圍。
作為所述硬化物的折射率(nd),較佳為1.40~1.60的範圍,更佳為1.45~1.55的範圍。再者,所述硬化物的折射率表示依據日本工業標準(Japanese Industrial Standards,JIS)試驗方法K7142:2014的A法而測定的值。
作為所述硬化物的阿貝數(νd),較佳為53以上,更佳為53~60的範圍,進而佳為55~59的範圍,特佳為56~58的範圍。再者,所述硬化物的阿貝數表示基於依據JIS試驗方法 K7142:2014的A法而測定的折射率來算出的值。
作為所述硬化物的光線透過率,就可較佳地用於光學用透鏡的觀點而言,波長410nm下的光線透過率較佳為85%以上,更佳為88%以上,特佳為90%以上。關於光線透過率的測定方法,將於實施例中詳細敘述。
作為所述硬化物的耐熱試驗後的光線透過率,就可較佳地用於具有耐回焊性的光學用透鏡的觀點而言,波長410nm下的光線透過率較佳為初期的光線透過率的±5%以內,更佳為±3%以內,特佳為±1%以內。關於耐熱試驗後的光線透過率的測定方法,將於實施例中詳細敘述。
作為所述硬化物的吸水率,為了於高溫多濕環境下不使硬化物內部產生缺陷,較佳為0.1%~4.0%的範圍,更佳為0.3%~3.5%的範圍,特佳為0.5%~3.0%的範圍。再者,所述硬化物的吸水率表示使用依據JIS試驗方法K7209:2000的C法的測定值,加上於水中的溶解成分而算出的值。
作為所述硬化物的耐濕熱性,為了於高溫多濕環境下不使硬化物內部產生缺陷,於溫度85℃-濕度85%RH-時間1000小時的條件下進行的濕熱試驗的結果是,較佳為無自基材的剝落,更佳為於硬化物與基材界面上無缺陷,特佳為於硬化物內部無缺陷。再者,關於所述硬化物的耐濕熱性的評價方法,將於實施例中詳細敘述。
本發明的透鏡具有所述硬化物。另外,所述透鏡視需要 可於所述硬化物的至少單面具有包含無機化合物的無機層,亦可進而具有基材。
再者,本發明的透鏡亦可藉由壓印成形來用作晶圓級透鏡。
作為製造本發明的透鏡的方法,並無特別限制,可利用任意方法製造,例如可列舉如下方法等:將所述活性能量線硬化性組成物塗佈於晶圓或玻璃等基材上,利用模具賦形為所期望的形狀後,照射活性能量線使所述組成物暫時硬化。將模具脫模後,經過利用溶劑清洗未硬化的活性能量線硬化性組成物的顯影步驟,再次照射活性能量線進行正式硬化。進而視需要,藉由物理蒸鍍等在硬化物表面上形成包含無機化合物的無機層。此外於形成無機層的情況下,視需要進行利用硬化物表面的灰化等的預處理。最後將所述基材單片化。
作為所述溶劑,例如可列舉:甲基乙基酮、丙酮、異丁基酮、環戊酮、環己酮等酮系溶劑;四氫呋喃、二氧雜環戊烷、二噁烷等環狀醚系溶劑;乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶劑;甲苯、二甲苯、溶劑油(solvent naphtha)等芳香族系溶劑;環己烷、甲基環己烷等脂環式烴系溶劑;卡必醇、溶纖劑、甲醇、異丙醇、丁醇、丙二醇單甲醚等醇系溶劑;烷二醇單烷基醚、二烷二醇單烷基醚、二烷二醇單烷基醚乙酸酯等二醇醚系溶劑等。該些溶劑可單獨使用亦可併用兩種以上。
作為所述無機層,是指包含無機化合物的層,一般具有 防反射、耐擦傷性等功能。
作為所述無機化合物,例如可列舉:金屬氧化物、複合氧化物、金屬氮化物、金屬氟化物、複合氟化物、矽氧化物、矽氮化物及該些的混合物等。
作為所述金屬,例如可列舉:鋰、鈉、鎂、鋁、鈦、釔、銦、錫、鋯、鈮、鈰、鉿、鉭等。
於將所述無機層用作防反射膜層的情況下,所述防反射膜層可為單層,但亦可具有低折射率層與高折射率層。另外,低折射率層與高折射率層分別可為一層亦可為多層。再者,低折射率層與高折射率層的積層順序亦無特別限定。
作為所述高折射率層中使用的無機化合物,例如可列舉:鈦酸鑭、氧化鋯、氧化鈦、氧化鉭、氧化鈮、氧化鉿、氧化鈰、氧化釔及該些的混合物等。
作為所述低折射率層中使用的無機化合物,例如可列舉:氧化矽、氮化矽、氟化鎂、氟化鋁及該些的混合物等。
所述無機層是藉由於所述樹脂層的表面進行成膜而獲得。所述無機層的成膜方法並無特別限制,可適宜使用公知的成膜方法,但較佳為藉由物理蒸鍍(物理氣相沈積(physical vapor deposition,PVD))或化學蒸鍍(化學氣相沈積(chemical vapor deposition,CVD))進行成膜。
就成膜步驟的一貫性及簡單化的觀點而言,所述成膜方法更佳為使用所述物理蒸鍍(PVD),例如可列舉真空蒸鍍、離子 鍍、濺鍍等方法。
作為所述真空蒸鍍,例如可使用電阻加熱方式、高頻感應加熱方式、電子束加熱方式等。
所述濺鍍可為直流(direct current,DC)濺鍍或射頻(radio frequency,RF)濺鍍,亦可為磁控濺鍍或離子束濺鍍。另外,可為平行平板靶方式,亦可為對置靶方式。另外,作為導入至真空腔室內的氣體,例如可列舉:氬、氪、氧、氮等,可各自單獨使用亦可將兩種以上混合而使用。
所述無機層的膜厚可根據目標功能來適宜調整,於以防反射功能為目的的情況下,較佳為10nm~5,000nm的範圍,就無機層的膜強度與生產性的觀點而言,更佳為100nm~2,000nm的範圍,特佳為250nm~1,000nm的範圍。
就與無機層的層間密接性的觀點而言,利用所述硬化物表面的灰化等的預處理可使用光激發灰化或電漿灰化等方法,亦可併用該些。
作為所述無機層與硬化物的密接性,就抑制無機層的剝離的觀點而言,於寬1mm的100目棋盤格的玻璃紙膠帶剝離引起的無機層的棋盤格殘面積比率中,較佳為50%以上,更佳為70%以上,特佳為90%以上。再者,關於所述無機層的殘存率的評價方法,將於實施例中詳細敘述。
作為所述無機層的耐裂紋性,就抑制於無機層產生裂紋的觀點而言,較佳為於成膜後的無機層表面無法確認到裂紋,更 佳為於回焊後於無機層表面無法確認到裂紋。再者,關於所述無機層的耐裂紋性的評價方法,將於實施例中詳細敘述。
以上,由本發明的活性能量線硬化性組成物形成的硬化物具有高阿貝數與高光線透過率,耐熱性與耐濕熱性優異,成膜於硬化物表面上的無機層的耐裂紋優異,與無機層的密接性優異,且可藉由活性能量線的照射來簡單地硬化,因此可較佳地用於利用光壓印進行的透鏡製造中。
[實施例]
以下,藉由實施例對本發明進行更具體的說明。
再者,於本實施例中,重量平均分子量(Mw)為使用凝膠滲透層析法(gel permeation chromatography,GPC)並利用下述條件測定的值。
測定裝置:東曹股份有限公司製造的HLC-8220
管柱:東曹股份有限公司製造的保護管柱HXL-H+東曹股份有限公司製造的TSKgel G5000HXL+東曹股份有限公司製造的TSKgel G4000HXL+東曹股份有限公司製造的TSKgel G3000HXL+東曹股份有限公司製造的TSKgel G2000HXL
檢測器:RI(示差折射計)
資料處理:東曹股份有限公司製造的SC-8010
測定條件:管柱溫度40℃
溶媒 四氫呋喃
流速 1.0ml/min
標準:聚苯乙烯
試樣:利用微濾器對以樹脂固體成分換算計為0.4質量%的四氫呋喃溶液進行過濾而得者(100μl)
[合成例1:具有丙烯醯基及多分支結構的化合物(D-1)的製造]
向具備溫度計、攪拌棒、迪安-斯塔克裝置、空氣導入管的反應釜中裝入季戊四醇環氧乙烷(4mol)加成物134質量份(1mol)、對甲苯磺酸17質量份(0.1mol)、甲苯200質量份,一面攪拌反應釜一面升溫至內溫110℃。接下來,於保持內溫110℃的狀態下,每兩小時分四次向反應體系內投入二羥甲基丙酸1,073質量份(8mol),一面將同時生成的水去除至體系外一面反應10小時。接下來,冷卻反應混合物,向反應釜中投入丙烯酸1081質量份(15mol)、甲氧苯酚1.24質量份(10mmol)、對甲苯磺酸34質量份(0.2mol)、甲苯500質量份。接下來,向反應溶液中吹入空氣,一面攪拌反應釜一面升溫至內溫110℃,於保持內溫的同時將生成的水去除至體系外,並使其反應8小時。接下來,利用20質量%的氫氧化鈉水溶液中和,利用食鹽水萃取清洗三次,於減壓下蒸餾去除未反應的丙烯酸及甲苯,從而獲得具有丙烯醯基及多分支結構的化合物(D-1)。該化合物(D-1)的重量平均分子量為2200g/mol,酯價為200mgKOH/g。
[實施例1]
混合作為(A)成分的矽氧烷化合物(信越化學工業股份有限公司製造的「KR-513」);10質量份、作為B成分的聚碳酸酯二醇二丙烯酸酯(宇部興產股份有限公司製造的「UM-90(1/3)DA」:通式(1)中的R2為氫原子、R3分別獨立地為無規地具有碳原子數6的直鏈狀烴基與環己烷結構者、n為4~5者);50質量份、作為(C)成分的聚乙二醇二丙烯酸酯(新中村化學工業股份有限公司製造的「A-400」);20質量份、作為(D)成分的具有丙烯醯基及多分支結構的化合物(D-1);30質量份、作為(F)成分的1-羥基環己基苯基酮(巴斯夫(BASF)公司製造的「I-184」);1質量份,加溫至50℃後,使用均質分散器以轉速1,000rpm攪拌混合10分鐘,從而製備活性能量線硬化性組成物。
[實施例2~實施例14、比較例1~比較例8]
如表1~表3所示般變更(A)、(B)、(C)、(D)及(E)的種類及/或量,除此以外與實施例1同樣地製備活性能量線硬化性組成物。再者,表3記載的比較例6~比較例8中調配的KBM-13(信越化學工業股份有限公司製造。甲基三甲氧基矽烷。不包含(甲基)丙烯醯基)、KBM-5103(信越化學工業股份有限公司製造。3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷。(甲基)丙烯醯基一個)、KBM-5803(信越化學工業股份有限公司製造。甲基丙烯醯基辛基三甲氧基矽烷。(甲基)丙烯醯基一個)不符合本申請案(A)成分,用作比較成分。
[折射率的測定方法]
將實施例及比較例中獲得的活性能量線硬化性組成物流入至三角稜鏡模具(厚度5mm,一邊的長度10mm)中,使用艾古非(EyeGraphics)股份有限公司製造的帶輸送機式紫外線照射裝置(120W金屬鹵化物燈),照射3,000mJ/cm2的紫外線,製作三角稜鏡。使用島津製作所股份有限公司製造的卡爾紐(Kalnew)精密折射計「KPR-3000」對所獲得的三角稜鏡測定25℃下的d線、F線、C線、各自的折射率。再者,適宜選擇使用具有與硬化物的折射率(nd)最接近的折射率(nd)的匹配液。
[阿貝數的算出方法]
使用利用所述[折射率的測定方法]測定的d線、F線、C線、各自的折射率,藉由下述式算出阿貝數(νd)。
Figure 110137098-A0305-12-0050-5
[透過率的測定方法]
於利用十八烷基三氯矽烷實施了脫模處理的玻璃板上滴加實施例及比較例中獲得的活性能量線硬化性組成物,將厚度1mm的墊板作為間隔物而配置於油滴的左右後,同樣地由利用十八烷基三氯矽烷實施了脫模處理的玻璃板夾住油滴。利用岩崎電氣股份有限公司製造的UV-LED照射裝置「LHPUV365/2501」,對由兩張玻璃板夾入的活性能量線硬化性組成物的油滴照射照射強度50mW/cm2、累計光量8000mJ/cm2,從而獲得約1mm厚的硬幣狀硬 化物。利用送風式烘箱於100℃下將所獲得的硬幣狀硬化物加熱20分鐘後,使用日本分光股份有限公司製造的紫外可見近紅外分光光度計「V-770」測定波長410nm下的初始透過率。
[耐熱試驗後透過率的測定方法]
利用送風式烘箱於(1)175℃下將於所述透過率的測定方法中測定的硬幣狀硬化物加熱10分鐘後,使用日本分光股份有限公司製造的紫外可見近紅外分光光度計「V-770」,將波長410nm下的透過率各自作為耐熱試驗後透過率1及耐熱試驗後透過率2進行測定。再者,加熱溫度作為以低溫熔融焊料與通常熔融焊料的回流步驟為基準的溫度設定,使用了175℃。
[吸水率的測定方法]
使用厚度0.5mm的墊板與玻璃棒,於丙烯酸板上塗敷實施例及比較例中獲得的活性能量線硬化性組成物後,利用艾古非(EyeGraphics)股份有限公司製造的帶輸送機式紫外線照射裝置(120W金屬鹵化物燈),藉由累計光量3,000mJ/cm2的紫外線照射,從而獲得膜厚0.2mm的片狀硬化物。使用啞鈴式切割器將所獲得的片狀硬化物裁剪成長5cm×寬5cm,藉此製作了吸水率測定用試驗片。利用送風式烘箱於50℃下將所製作的所述試驗片乾燥24小時後,進行試驗片的重量測定,設為初始重量m1。於測定初始重量後,於23℃的純水300ml中浸漬24小時。利用旭化成股份有限公司製造的不織布「本科特(bemcot)」擦拭自純水中提取的試驗片上殘留的水分後,進行試驗片的重量測定,設為浸漬 後重量m2。於測定浸漬後重量後,利用送風式烘箱於50℃下乾燥24小時,進行試驗片的重量測定,設為乾燥重量m3。使用所述m1~m3,藉由下述式算出吸水率。
Figure 110137098-A0305-12-0052-6
[耐濕熱性的評價方法]
將實施例及比較例中獲得的活性能量線硬化性組成物滴加至利用信越化學工業股份有限公司製造的矽烷偶合劑「KBM-5103」實施了密接處理的蓋玻璃上,藉由透鏡複製品賦形後,利用岩崎電氣股份有限公司製造的UV-LED照射裝置「LHPUV365/2501」,藉由照射強度50mW/cm2、累計光量450mJ/cm2的照射進行暫時硬化。將透鏡複製品脫模後,利用丙二醇單甲醚進行顯影處理,並去除未硬化的樹脂組成物。進而,於以累計光量7,550mJ/cm2進行正式硬化後,使用送風式烘箱於100℃下進行90分鐘的後烘烤,藉此獲得晶圓級透鏡。使用愛斯佩克(Espec)股份有限公司製造的小型環境試驗機「SH-222」,於溫度85℃、相對濕度85%下對所獲得的晶圓級透鏡進行了1000小時的耐濕熱試驗。試驗後使用基恩士(Keyence)股份有限公司製造的顯微鏡「VHX900」及奧林巴斯(Olympus)股份有限公司製造的雷射顯微鏡「OLS5000」對透鏡進行觀察,按照下述基準進行評價。
◎:未發現剝落、界面缺陷、內部缺陷。
○:未發現剝落、界面缺陷但內部缺陷為1個~10個左右。
△:剝落、界面異常、內部缺陷的程度中等。
×:剝落、界面異常、內部缺陷嚴重。
[耐裂紋性的評價方法]
與所述耐濕熱性的評價方法中記載的透鏡製作程序同樣地製作晶圓級透鏡,使用島津製作所股份有限公司製造的三元磁控濺鍍裝置「HSR-522」,於靶SiO2、導入氣體為氬、氣體流量15sccm、室溫25℃、濺鍍時間:40min的條件下進行濺鍍,獲得於所述硬化物的表面上積層有膜厚0.5μm的矽氧化物薄膜的積層體。利用基恩士(Keyence)股份有限公司製造的顯微鏡「VHX900」觀察所述積層體的表面,作為積層體的初始外觀,按照下述基準進行評價。接下來,使用送風式烘箱於175℃下進行5分鐘熱處理後,利用基恩士(Keyence)股份有限公司製造的顯微鏡「VHX900」觀察積層體的表面,作為積層體的耐熱後外觀,按照下述基準進行評價。
◎:於濺鍍膜上未發現裂紋、褶皺。
○:於濺鍍膜上產生極輕微的裂紋、褶皺。
△:於濺鍍膜上產生輕微的裂紋、褶皺。
×:於濺鍍膜上產生裂紋、褶皺。
[密接性的評價方法]
於利用信越化學工業股份有限公司製造的矽烷偶合劑「KBM-5103」實施了密接處理的玻璃上滴加實施例及比較例中獲 得的活性能量線硬化性組成物,將厚度0.5mm的墊板作為間隔物而配置於油滴的左右後,由利用十八烷基三氯矽烷實施了脫模處理的玻璃板夾住油滴。利用岩崎電氣股份有限公司製造的UV-LED照射裝置「LHPUV365/2501」,對由兩張玻璃板夾入的活性能量線硬化性組成物的油滴照射照射強度50mW/cm2、累計光量8000mJ/cm2,將實施了脫模處理的玻璃板剝離,並利用送風式烘箱於100℃下加熱90分鐘,藉此獲得約0.5mm厚的平膜狀硬化物。對於所獲得的平膜狀硬化物,使用芝浦機電(Shibaura Mechatronics)股份有限公司製造的濺鍍裝置「CFS-12P-100型」,於靶SiO2、導入氣體為氬(氣體流量27sccm)及氧(氣體流量3sccm)、室溫25℃、濺鍍時間:26min的條件下進行濺鍍,獲得於所述平膜狀硬化物的表面上積層有膜厚0.1μm的矽氧化物薄膜的積層體。於所述所獲得的積層體表面上使用切刀及刀具導軌,以1mm間隔切出縱、橫11條裂縫,製作100目的棋盤格。繼而,將裁剪成長8cm的3M公司製造的玻璃紙膠帶「Scotch 610」的一端密接於所述棋盤格表面後,瞬間將另一端向垂直方向拉起,藉此使無機膜剝離。使用奧林巴斯(Olympus)股份有限公司製造的雷射顯微鏡「OLS5000」觀察剝離後的積層體表面,根據未剝離而殘留於棋盤格上的無機膜的殘面積比率,按照下述基準進行評價。
5:殘面積比率為90%以上。
4:殘面積比率為70%~89%的範圍。
3:殘面積比率為50%~69%的範圍。
2:殘面積比率為20%~49%的範圍。
1:殘面積比率為1%~19%的範圍。
0:殘面積比率為0%。
Figure 110137098-A0305-12-0055-7
Figure 110137098-A0305-12-0055-8
Figure 110137098-A0305-12-0056-9
Figure 110137098-A0305-12-0056-10
表1~表3中的縮寫示出以下者。
「X-12-1048」; 丙烯醯基改質聚矽氧烷(信越化學工業股份有限公司製造)
「X-40-2761」;丙烯醯基改質聚矽氧烷(信越化學工業股份有限公司製造)
「4-HBA」;丙烯酸4-羥基丁酯(三菱化學股份有限公司製造)
由表1~表3的評價結果明確,由實施例1~實施例14的本發明的活性能量線硬化性組成物形成的硬化物具有高阿貝數、高耐熱性,吸水率被控制為4%以下,且具有高耐濕熱性。另外,實施例1~實施例14的透鏡樣品亦無硬化後的翹曲,亦無裂紋或破裂而外觀亦良好。進而明確,積層體無論於初期還是耐熱試驗後,均可抑制裂紋與褶皺的產生。此外明確實施例1~實施例14中與無機層具有高的層間密接性。
另一方面,比較例1~比較例2為不含有本發明中規定的(A)成分的活性能量線硬化性組成物的例子,但確認到與無機層的層間密接性不充分。
另外,比較例3~比較例4為將本發明中規定的(A)成分的調配量增加至50質量份的活性能量線硬化性組成物的例子,但確認到於耐濕熱試驗中產生界面異常與內部缺陷,耐濕熱性不充分,於耐熱試驗後外觀產生皺褶與裂紋,耐裂紋性明顯不充分。
比較例5為不含有本發明中規定的(B)成分的活性能量線硬化性組成物的例子,但確認到於耐熱試驗中透過率降低, 耐熱性不充分,積層體中於耐熱試驗後產生裂紋,耐裂紋性不充分。
比較例6~比較例8為含有不符合本發明中規定的(A)成分的矽烷化合物的活性能量線硬化性組成物的例子,但確認到於積層體中,於耐熱試驗後外觀產生褶皺與裂紋,耐裂紋性明顯不充分,與無機層的層間密接性不充分。

Claims (14)

  1. 一種活性能量線硬化性組成物,含有具有(甲基)丙烯醯基的化合物,所述活性能量線硬化性組成物的特徵在於含有:化合物(A),於一分子中具有選自由下述通式(1)、通式(2)及通式(3)所組成的群組中的至少一種結構與兩個以上的(甲基)丙烯醯基;以及聚碳酸酯二醇二(甲基)丙烯酸酯(B),由下述通式(4)表示,相對於除(A)成分以外的具有(甲基)丙烯醯基的化合物的合計質量100質量%,包含1質量%以上且未滿50質量%的所述(A)成分,並且於所述活性能量線硬化性組成物中,含有5質量%~70質量%的範圍的所述(B)成分,
    Figure 110137098-A0305-13-0001-11
    (式中,R1分別獨立地表示氫原子、羥基、碳原子數1~10的烷基、烷氧基、(甲基)丙烯醯氧基烷基或(甲基)丙烯醯氧基烷基氧基;X表示亞甲基或氧原子)
    Figure 110137098-A0305-13-0002-12
    (式中,R2分別獨立地表示氫原子或甲基,R3分別獨立地表示碳原子數1~10的烴基,且為具有碳原子數5~6的直鏈狀烴基、環己烷結構、或異山梨酯結構者;n為1~10的整數)。
  2. 如請求項1所述的活性能量線硬化性組成物,其中所述活性能量線硬化性組成物更含有於一分子中具有一個或兩個(甲基)丙烯醯基與烷二醇結構的化合物(C)。
  3. 如請求項2所述的活性能量線硬化性組成物,其中所述烷二醇結構為選自由乙二醇、丙二醇、及新戊二醇所組成的群組中的一種以上。
  4. 如請求項2所述的活性能量線硬化性組成物,其中所述烷二醇結構的重複單元數為2~15的整數。
  5. 如請求項1所述的活性能量線硬化性組成物,其中所述活性能量線硬化性組成物更含有於一分子中具有六個以上的(甲基)丙烯醯基與多分支結構的化合物(D)。
  6. 如請求項5所述的活性能量線硬化性組成物,其中所述多分支結構為選自由樹突狀結構、樹狀結構、超枝化結構、 及星型結構所組成的群組中的一種以上。
  7. 如請求項1所述的活性能量線硬化性組成物,其中所述活性能量線硬化性組成物更含有於一分子中具有一個或兩個(甲基)丙烯醯基且於一分子中具有一個以上的羥基的化合物(E)。
  8. 如請求項7所述的活性能量線硬化性組成物,其中所述化合物(E)為選自由(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇碳酸酯改質(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、及環氧乙烷改質山梨糖醇二(甲基)丙烯酸酯所組成的群組中的一種以上。
  9. 一種硬化物,為如請求項1至請求項8中任一項所述的活性能量線硬化性組成物的硬化物。
  10. 一種透鏡,其特徵在於,具有如請求項9所述的硬化物。
  11. 一種晶圓級透鏡,其特徵在於,具有如請求項9所述的硬化物。
  12. 一種透鏡,其特徵在於,具有於其至少單面設置有無機化合物層的如請求項9所述的硬化物。
  13. 如請求項12所述的透鏡,其中所述無機化合物層為防反射層。
  14. 一種相機模組,其特徵在於,具有如請求項12或請求項13所述的透鏡。
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