WO1991011821A1 - Tape for tab - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a protective layer, an adhesive layer, and an organic layer used in a TAB (Tape Automated Bonding) method, which is attracting attention in increasing the number of pins, miniaturizing, and high-density mounting in a semiconductor device assembling process. It relates to a tape with a three-layer structure of insulating film (hereinafter referred to as TAB tape).
- TAB tape a tape with a three-layer structure of insulating film
- TAB tapes are processed as follows to form film carrier tapes.
- the adhesive is cured by heating.
- the leads are cut, outer lead bonded to a printed circuit board or the like, and sealed with resin.
- sealing with resin, cutting including peripheral circuits, and outer lead bonding are performed.
- the adhesive and the organic insulating film often remain in peripheral circuits and sealing resin.
- ionic impurities that affect the insulation reliability between copper foil patterns and the corrosion of the A1 wiring of the chip become a problem. Insulation reliability and ionic impurities are mainly due to the properties of the adhesive.
- the ionic impurities are as follows: the adhesive is alkali (for example, contains a potassium ion at the time of gold plating or at the time of resist peeling), acid (for example, chloride ion at the time of tin plating) It may be caused by exposure to an etchant (containing chloride ions), an etching solution (containing chlorine ions), or may be contained in the adhesive itself.
- the insulation reliability is governed by the wet heat resistance of the adhesive, the electric resistance, the ionic impurities, and the like.
- an object of the present invention is to solve the above-described problems in the conventional TAB tape and to provide a TAB tape having insulation reliability, chemical resistance, heat resistance, and high adhesive force. is there.
- the adhesive layer is of epoxy type, a) it is easy to contain ionic impurities (especially CI ions) during processing, b) it is easily hydrolyzed by wet heat, c) it has low electric resistance, etc. Due to their properties, insulation degradation is an issue, including metal transfer between patterns.
- the adhesive used for TAB tapes constitutes the interlayer between the metal Cu foil and the organic insulating film, it is required to have high adhesive strength to both the metal and the organic insulating film. You.
- the adhesive layer of a TAB tape has a single-layer structure, and such a single-layer structure includes the following: a)
- the adhesive layer in the above process is alkali (for example, when a gold-plated resist is used).
- acid for example, tin plating
- etching solution etc.
- organic insulation at high temperature during inner lead and outer lead pumping
- the first TAB tape of the present invention is provided with an adhesive layer and a protective layer containing at least a polyamide resin and a resole type phenol resin on an organic insulating film, and the resole type phenol resin is contained in the adhesive. It is characterized by containing up to 35%.
- FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a TAB tape of the present invention, in which a semi-cured adhesive layer 2 and a protective film 3 serving as a protective layer are sequentially laminated on one surface of an organic insulating film 1. Having a configuration.
- a heat-resistant film such as polyimide, polyetherimide, polyphenylene sulfide, polyether-teretone, etc. having a thickness of 25 to 18 ⁇ , preferably 50 to 125 / zm.
- an organic insulating film composed of a composite heat-resistant film such as epoxy resin-glass cloth, epoxy resin-polyimide-glass glass, or the like can be used.
- the adhesive layer needs to be a thermosetting type and semi-cured, and contains at least a polyamide resin and a resol type phenol resin, and has a film thickness of 10 to 40 ⁇ , preferably 1 ⁇ m. Consists of a layer of 5 to 30 ⁇ .
- the polyamide resin is added mainly for obtaining good adhesion and flexibility to the organic insulating film.
- the molecular weight of the polyamide resin is related to its flexibility, the thermocompression bonding between the tape and the copper foil, and the melting properties of the adhesive when it cures (the adhesive protrudes from the device hole). If the melting point is too low, the melting temperature will be low, causing the problem of protrusion. In addition, when the molecular weight is too high, there arises a problem that the thermocompression bonding temperature with the copper foil becomes too high. Therefore, in the present invention, it is preferable to use a polyamide resin having a softening temperature of 100 to 180 ° C. within a molecular weight range of 30,000 to 150,000.
- the molecular weight distribution is a factor that influences the melting properties related to the protrusion of the adhesive from the device hole, etc. If the molecular weight distribution is narrow, the viscosity will suddenly decrease due to heat, and tape It is not preferable because the heat and pressure conditions, which do not protrude from the device hole when the heat is applied to the copper foil, become narrow. Therefore, the polyamide resin used in the present invention preferably has a broad molecular weight distribution.
- the resin-type phenolic resin blended in the adhesive layer of the present invention is a bisphenol A-type or an alkylphenol-type wherein the phenolic component is composed of one or two kinds selected from bisphenol A-type and alkylphenol. Or co-condensed phenol resins thereof.
- Alkyl phenol-type resin phenolic resins include those having a methyl grave, an ethyl group, a propyl group, a t-butyl group, a nonyl group, etc. at the o- or p-position of the phenolic hydroxyl group.
- Can be Resole-type phenol reacts by heating to become an insoluble and infusible solid with adhesive strength, which improves the adhesive strength of adhesive, insulation reliability, chemical resistance and heat resistance.
- a phenolic resin other than the above-mentioned resin-type phenolic resin that is, all non-thermal reaction-type phenolic resins represented by a novolak-type phenolic resin. It is preferable to use a bisphenol A type, an alkyl phenol type, or a co-condensed nopolak phenol resin composed of one or two selected from biphenol A type and alkyl phenol.
- the adhesive must be of a thermosetting type, and when using a non-thermal reaction type phenolic resin, an epoxy resin and an imidazole compound are blended.
- Epoxy resin reacts at the end of the molecular chain of the polyamide resin, and easily undergoes a curing reaction with the phenol resin by the action of the imidazole compound. This cured product improves the chemical resistance and heat resistance of the adhesive.
- epoxy resins that can be used include bisphenol A diglycidyl ether, epoxidized phenol novolak, and epoxidized cresol nopolak.
- imidazole compound examples include those dissolved in general-purpose solvents, such as 2-methylimidazole, methylethylketone such as 2-ethyl-4-methylimidazole, and 2-phenyl-4-pentyl-5-. Examples thereof include those that are hardly soluble in general-purpose solvents such as hydroxymethylimidazole.
- the content of the above-mentioned resol-type phenol resin in the adhesive layer must be 2 to 35%. That is, when the content of the resin-type phenolic resin constituting the adhesive layer of the present invention is 2% or less, there is no effect of the adhesive force on the copper foil, and when the content is 35% or more, etching treatment or the like is performed. Required in the processing of tape Cannot satisfy the required chemical resistance.
- a polyester film such as polyethylene terephthalate can be used as a protective film to be a protective layer of the adhesive layer.
- FIG. 2 shows a manufacturing process, in which an adhesive having a predetermined composition is applied on the protective film 3 so that the film thickness after drying is in the above range. In this case, it is necessary to dry at a temperature of 150 to 180 ° C for 2 minutes to obtain a semi-cured state.
- thermocompression bonding at 1112 or more.
- the obtained TAB tape is wound to obtain, for example, a tape having a width of 30 to 20 Omm and a length of 30 to 300 m.
- the second tape for TAB of the present invention is provided with an adhesive layer and a protective layer on the organic insulating film, and the adhesive layer is composed of at least two layers, and on the side in contact with the organic insulating film.
- the adhesive layer is mainly composed of a polyamide resin
- the adhesive layer in contact with the protective layer is mainly composed of a polyamide resin and a resol-type phenol resin.
- FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the TAB tape of the present invention, in which a semi-cured adhesive consisting of a first adhesive layer 21 and a second adhesive layer 22 is provided on one surface of the organic insulating film 1. It has a layer configuration in which an adhesive layer 2 and a protective film 3 serving as a protective layer are sequentially laminated.
- the adhesive layer 2 has a two-layer structure, but in the present invention, the adhesive layer 2 may have two or more layer structures.
- a heat-resistant film of 25 to 188./im, preferably 50 to 125 ⁇ in thickness such as polyimide, polyether imide, polyphenylene sulfide, polyether-terketone, or the like
- Organic insulating films consisting of composite heat-resistant films such as epoxy resin-glass cloth and epoxy resin-polyimide glass cloth can be used.
- the adhesive layer needs to be thermosetting and semi-cured, and is composed of at least two layers.
- the total thickness of the adhesive layer is in the range from 10 to 50; m, preferably from 15 to 30 / m.
- the adhesive layer on the side in contact with the organic insulating film and the protection each preferably have a thickness of at least 1 ⁇ m.
- the adhesive layer in contact with the organic insulating film is in direct contact with the organic insulating film, so it has high tackiness even at high temperatures and exhibits high adhesion to the organic insulating film.
- a suitable adhesive is used.
- an adhesive containing a polyamide resin as a main component is used as such an adhesive.
- This adhesive layer can be used in combination with an epoxy resin and a nopolak phenol resin in order to impart chemical resistance.
- a thermoplastic resin such as polyester resin, NBR, SBR, etc. can be blended. In any case, it is preferable that the polyamide resin is contained in an amount of 50% by weight or more in the adhesive layer directly in contact with the organic insulating film.
- the adhesive layer on the side that comes into contact with the protective film comes into contact with the copper foil when processing into the film carrier tape, so it has high adhesiveness to the copper foil and is excellent against chemicals that are exposed during processing into the film carrier. Adhesive with high chemical resistance is used.
- an adhesive containing a polyamide resin and a resin-type phenol resin as main components is used as such an adhesive.
- the ratio of the polyamide resin to the resol-type phenol resin is preferably in the range of 4 to 100 parts by weight of the resin-type phenol resin to 100 parts by weight of the polyamide resin.
- the polyamide resin is preferably less than 50% by weight of the total adhesive.
- thermosetting resin such as an epoxy resin and a novolac phenol resin and a curing accelerator such as imidazole can be used in combination in the adhesive layer.
- a thermosetting resin such as an epoxy resin and a novolac phenol resin
- a curing accelerator such as imidazole
- polyamide resin used in each of the above-mentioned adhesive layers in the present invention various known resins can be used.
- the molecular weight of the polyamide resin used is related to flexibility, thermocompression bonding between the tape and the copper foil, and the melting properties of the adhesive during curing (adhesion protruding from the device hole). If the molecular weight is too low, the melting temperature will be low, causing the problem of protrusion. If the molecular weight is too high, the temperature of thermocompression bonding with the copper foil becomes too high, causing a problem. Therefore, in the present invention, the molecular weight is 30 Softening temperature of 100 to 180 in the range of ⁇ 150, 000. It is preferable to use a polyamide resin of C.
- the polyamide resin used in the present invention preferably has a broad molecular weight distribution.
- the hygroscopicity of the adhesive layer is reduced, and the electric power due to the moisture absorption is reduced.
- This is particularly preferable because the reduction in resistance can be suppressed to about one digit, and the moisture resistance such as hydrolysis can be improved, and as a result, insulation deterioration can be prevented.
- polyamide resin those having a wide range of molecular weight of the hydrocarbon between amide groups in a single molecular chain from 100 to 800, and those having different molecular weights between the amide groups are not suitable. You may use what entered along with the rule. These polyamide resins are preferably used because they have an adhesive property and a large flexibility despite the large amide group equivalent.
- Examples of the resin-type phenolic resin used in combination with the above polyamide resin include bisphenol A-type, alkylphenol-type, or a mixture thereof, in which the phenol component is composed of one or two selected from bisphenol A and alkylphenol. Condensed ones can be used.
- Examples of the alkylphenol-type resole-type phenolic resin include those having a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a t-butyl group, a nonyl group, etc. at the 0- or p-position of the phenolic hydroxyl group. .
- Resin-type phenolic resin reacts by heating to form an insoluble and infusible solid with adhesive strength, which acts to improve adhesive strength, insulation reliability, chemical resistance, and heat resistance.
- a film such as polyethylene, polyethylene terephthalate, or polypropylene can be used as a protective film serving as a protective layer of the adhesive layer.
- FIG. 4 shows a manufacturing process, in which two types of 'connections' having a predetermined composition are provided on the protective film 3. An adhesive is applied so that the film thickness after drying is within the above range, respectively, to form the first adhesive layer 21 and the second adhesive layer 22, or a single layer is formed in advance.
- the films made of the two types of adhesives are laminated on the protective film 3 by thermocompression bonding. In this case, it is necessary to dry at 150 to 180 ° C in order to obtain a semi-cured state.
- the organic insulating film 1 is overlaid on the surface of the formed adhesive layer 2 and thermocompression-bonded at 100 to 130 ° C. under a condition of 1 kgZcm 2 or more.
- the obtained TAB tape is wound to obtain, for example, a tape having a width of 30 to 20 Omm and a length of 30 to 300 m.
- FIG. 1 is a schematic sectional view of a first TAB tape of the present invention
- FIG. 2 is a manufacturing process diagram of the first TAB tape of the present invention.
- FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a second TAB tape of the present invention
- FIG. 4 is a manufacturing process diagram of the second TAB tape of the present invention.
- An adhesive layer paint having the following composition was applied to a protective film made of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 ⁇ , and dried at 160 ° C. for 2 minutes to form an adhesive layer having a thickness of 20 ⁇ .
- Epoxy resin (Epicoat 828 Yuka Shell Co., Ltd.) 8 parts
- an organic insulating film made of a polyimide film having a thickness of 50 ⁇ was overlaid and heated and pressed under a condition of 130 ° C. ClKgZcm 2 to prepare a TAB tape of the present invention.
- the protective film of this TAB tape was peeled off, 1 oz.
- electrolytic copper foil thickness 35-40 ⁇
- heat and pressure treatment was performed at 130 ° C and 1 Kgcm2. .
- the adhesive layer was further heated for 6 hours at 60 ° C, 6 hours at 80 ° C, 3 hours at 120 ° C, and 5 hours at 150 to cure the adhesive layer.
- a photoresist film was formed on the copper foil by a conventional method, and the copper foil was etched by processing, and a comb-shaped circuit was formed to prepare a film carrier tape.
- a TAB tape and a film carrier tape were produced in the same manner as in Example 1, except that the following composition was used as the coating for the adhesive layer.
- Epoxy resin (epikoto 828 Yuka Shell Co.) 14 parts
- a TAB tape and a film carrier tape were produced in the same manner as in Example 1, except that the following composition was used as the coating for the adhesive layer.
- Resole-type phenolic resin (PR-111078 manufactured by Sumitomo Durez) 6 parts 2-ethylimidazole 1% methylethylketone solution 10 parts
- Comparative TAB tapes and film carrier tapes were prepared in the same manner as in Example 1 except that the following composition was used as the adhesive layer coating.
- Epoxy resin (Epico 828 — made by Yuka Shell) 10 parts
- Comparative TAB tapes and film carrier tapes were prepared in the same manner as in Example 1 except that the following composition was used as the adhesive layer coating.
- Epoxy resin (Epico 828 Yuka Shell Co., Ltd.) 16 parts
- Comparative TAB tapes and film carrier tapes were prepared in the same manner as in Example 1 except that the following composition was used as the adhesive layer coating.
- Epoxy resin (Epico 828 Yuka Shell Co., Ltd.) 8 parts 8 parts of a 50% methylethyl ketone solution of novolak type phenol resin (Tamanol 752 Arakawa Chemical)
- the TAB tape of the base 1 of the present invention has high adhesive strength in addition to insulation reliability, the number of pins has been increased and the pattern having a narrower line width and the organic insulating film have been surely connected. Adhesion and high insulation reliability do not cause problems in insulation between leads. Therefore, when used to connect the chip to external circuits, Even if the number increases, the tape can be left on the lead portion. Therefore, when a multi-pin chip is mounted, bonding errors are unlikely to occur, and in the transporting process, the bonding process, etc., deformation of the lead is small, and the yield greatly increases.
- Epoxy resin (Epicol 8 28, manufactured by Yuka Shell) 1 4 parts
- an adhesive layer paint having the following composition was applied on the adhesive layer and dried at 160 ° C. for 2 minutes to form an adhesive layer having a thickness of 5 ⁇ .
- an organic insulating film made of a polyimide film having a thickness of 50 ⁇ was overlaid and heated and pressed at 130 ° C. and 1 Kg / cm 2 to prepare a TAB tape.
- peel off the protective film of this TAB tape and bond 1 oz of electrolytic copper foil (thickness of 35 ⁇ 40 / zm) at 130 ° C, 1 Kg / cm2.
- Heat and pressure treatment was performed. Then 6 hours at 60, 6 hours at 80, 3 hours at 120 ° C, Then, heating was sequentially performed with an isrcc for 5 hours to cure each adhesive layer.
- a photoresist film was formed on the copper foil by a conventional method, and the film was processed. The copper foil was etched, and a comb-shaped circuit was formed to produce a film carrier tape.
- a TAB tape and a film carrier tape were produced in the same manner as in Example 1, except that the following composition was used as the adhesive layer paint.
- Polyamide resin (macromelt 6212 manufactured by Henkel Hakusui Co.) 25% isop ⁇ -Pyr alcohol / water mixture 60 parts
- Epoxy resin (Epico 828, manufactured by Yuka Shell) 14 parts
- Epoxy resin (Epicoat 828, made by Yuka Shell) 8 parts
- a TAB tape and a film carrier tape were produced in the same manner as in Example 1, except that the following composition was used as the adhesive layer paint.
- Polyamide resin (Platabonda M-1 276 manufactured by Nippon Rilsan Co., Ltd.) 60% 25% isopropyl alcohol in water
- Epoxy resin (Epicol 8 28, manufactured by Yuka Shell) 1 4 parts
- a film carrier tape was produced in the same manner as in Example 1 except that a tape for TAB was produced using the adhesive composition having the following composition as the paint for the adhesive layer and a single-layer structure of the adhesive layer.
- Epoxy resin (epikoto 8 2 8, Yuka Shell Co., Ltd.) 1 4 parts
- a film carrier tape was produced in the same manner as in Example 1 except that a tape for TAB was produced using the adhesive composition having the following composition as the paint for the adhesive layer and a single-layer structure of the adhesive layer.
- Nopolak phenolic resin (Tamanol 752, Arakawa Chemical Co., Ltd.) 8 parts
- a film carrier with a 1 cm wide Cu foil is fixed on a hot plate at 350 ° C so that the back of the organic insulating film is in contact with the film. At a peeling speed of 5 cmZmin, and the peeling force at that time was measured. Result- It is shown in Table 2.
- Comparative Example 2 280 As is clear from the results in Tables 1 and 2, the TAB tape of the present invention was confirmed to exhibit excellent chemical resistance and heat-resistant adhesion by the above test. .
- the adhesive layer has a laminated structure of two or more layers, and the adhesive layer on the side in contact with the organic insulating film and the adhesive on the side in contact with the protective layer. Since the adhesive layer has the above-described adhesive composition, even if the adhesive is exposed to an alkali, an acid, an etchant, or the like during a processing step such as etching, plating, or resist stripping, the adhesive layer may be used for Cu foil. Does not cause a decrease in adhesion. Also, at high temperatures during inner lead and outer lead bonding, the adhesive strength to the organic insulating film does not decrease.
- the TAB tape of the present invention can be applied to a circuit with high density. Further, the TAB tape of the present invention has high insulation reliability and does not cause a problem in insulation between leads. Therefore, when used for connection between a chip and an external circuit, the number of leads increases. Also, a deep portion can be left on the lead portion. Therefore, when mounting a multi-pin chip, bonding errors are unlikely to occur, and in the transfer process, the bonding process, etc., the leads are less deformed and the yield greatly increases.
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Description
一一 明 細 書
T A B用テープ
[技術分野]
本発明は、 半導体デバイスの組み立て工程において、 デバイスの多ピン化、 小 型化、 高密度実装に際し、 注目されている T A B (Tape Automate d Bonding) 方 式に用いられる保護層、 接着剤層及び有機絶縁フィルムの 3層構造からなるテー プ (以下、 T A B用テープという) に関する。
[背景技術]
従来、 T A B用テープは、 次のよう Ίこ加工されてフィルムキャリアテープを形 成する。
1 ) スプロケット ·デバイスホールをスタンビングにより穿孔する。
2 ) 穿孔されたテープに銅箔を熱圧着した後、 加熱により接着剤を硬化させる。
3 ) フォ ト レジストを塗布し、 マスクを通して紫外線等を照射した後、 現像する。
4 ) デバイスホールの裏打ち、 銅のエッチング、 レジスト除去、 裏打ちの除去を 行い、 回路を作製し、 ソルダ一レジストをかける。
5 ) 錫、 金メッキを行う。
以上の工程を経て作成されたテープに、 チップがインナーリ一ドボンディング された後、 リードを切断し、 プリント基板等にアウターリードボンディングし、 樹脂で封止する。 或いは、 インナ一リードボンディングした後、 樹脂で封止し、 周辺回路も含め切断し、 アウターリードボンディングする。
接着剤及び有機絶縁フィルムは、 周辺回路、 封止樹脂中に残ることが多い。 こ の様な場合、 益々高密度化が進む中、 銅箔のパターン間の絶縁信頼性やチップの A 1配線の腐食に影響するイオン性不純物が問題になる。 絶縁信頼性やイオン性 不純物は主に接着剤の特性に起因するところが多い。 即ち、 イオン性不純物は、 上記工程 3ないし 5において、 接着剤がアルカリ (例えば、 金メッキ時や、 レジ ス ト剥離時はカリウムイオンの含有) 、 酸 (例えば、 錫メツキ時は塩素イオン、
硫酸イオンの含有) 、 エッチング液 (塩素イオンの含有) などにさらされる為に 生じたり、 また接着剤そのものに含まれていたりする場合がある。 また、 絶縁信 頼性は、 接着剤の耐湿熱性、 電気抵抗、 上記イオン性不純物などにより支配され る。
従来用いられてきた T A B用テープの接着剤はェポシキ系の樹脂を主成分とし たものであるが、 これは、 a ) 接着剤中の熱硬化成分比を増加させることにより 絶縁信頼性、 耐薬品性、 耐熱性が向上するが、 接着力が低下する。 また逆に、 b) 熱硬化成分比を減少させることにより、 接着力は上昇するが絶縁信頼性、 耐薬品 性、 耐熱性が低下する。 したがって、 本発明の目的は、 従来の T A B用テープに 於ける上記のような問題を解決し、 絶縁信頼性、 耐薬品性、 耐熱性、 及び高い接 着力を有する T A B用テープを提供することにある。
また、 接着剤層がエポキシ系のものであるため、 a ) 加工中にイオン性不純物 (特に C Iイオン) が含有されやすい、 b ) 湿熱により加水分解されやすい、 c ) 電気抵抗が低い、 等の性質によりパターン間の金属移行等を含め、 絶縁劣化が問 題になっている。
さらに、 T A B用テープに用いられる接着剤は、 金属である C u箔と有機絶縁 フィルムとの層間を構成するものであるため、 金属及び有機絶縁フィルムの双方 に高い接着力を持つことが要求される。
従来用いられてきた T A B用テープの接着剤層は、 いずれも単層構成のもので あって、 これ等単層構成のものは、 a ) 上記工程において接着剤層がアルカリ ( 例えば金メッキ時、 レジスト剥離時) 、 酸 (例えば錫メツキ時) 、 エッチング液 等にさらされることによる C u箔に対する接着力の低下、 及び b ) インナ一リ一 ド及びアウターリ一ドポンティング時、 高温下での有機絶縁フィルムに対する接 着力の低下、 等の欠点があり、 益々デバイスの高密度化、 多ピン化が進む中で、 多ピンチップのボンディングミスやリードの変形、 剥がれ等が問題になっている。 本発明は、 従来の T A B用テープにおける上記のような問題を解決することを 目的とするものである。
[発明の開示]
本発明の第 1の T A B用テープは、 有機絶縁フィルム上に、 少なくともポリア ミ ド樹脂及びレゾール型フエノール樹脂を含有する接着剤層及び保護層を設け、 該レゾール型フエノール樹脂が接着剤中に 2〜 3 5 %含有されていることを特徴 とする。
第 1図は本発明の T A B用テープの模式的断面図であって、 有機絶縁フィルム 1の片面に、 半硬化状の接着剤層 2と、 保護層となる保護フィルム 3が順次積層 された層構成を有する。
有機絶縁フィルムとしては、 厚さ 2 5〜 1 8 8 μ πι、 好ましくは 5 0〜 1 2 5 /z mのポリイミ ド、 ポリエーテルイミド、 ポリフエ二レンサルファイド、 ポリエ —テルエ一テルケトン等の耐熱性フィルムや、 ェポシキ樹脂一ガラスクロス、 ェ ポシキ樹脂—ポリイミ ド一ガラスク πス等の複合耐熱フィルムからなる有機絶縁 フィルムが使用できる。
接着剤層は、 熱硬化型のもので半硬化状であることが必要であり、 少なく とも ポリアミド樹脂及びレゾ一ル型フエノール樹脂を含有する、 膜厚 1 0〜4 0 μ πι、 好ましくは 1 5〜3 0 μ πιの層よりなる。
この接着剤層において、 ポリアミ ド樹脂は、 主に有機絶緣フィルムとの接着性、 フレキシビリティ一を得るために加えられるものである。
ポリアミ ド樹脂の分子量は、 フレキシビリティー、 テープと銅箔との熱圧着時 や、 接着剤の硬化時の溶融特性 (デバイスホールからの接着剤のはみ出し) に関 連するものであって、 分子量が低すぎると溶融温度が低くなり、 はみ出しの問題 が生じる。 また、 分子量が高すぎると銅箔との熱圧着温度が高くなり過ぎるとい う問題が生じる。 したがって、 本発明においては、 分子量 3 0, 0 0 0 - 1 5 0 , 0 0 0の範囲で、 軟化温度 1 0 0〜 1 8 0 °Cのポリァミ ド樹脂を用いるのが好ま しい。
更にまた、 デバイスホールからの接着剤のはみ出し等に関連する溶融特性に影 響を与える因子として、 分子量分布があり、 分子量分布が狭い場合には、 熱によ る急激な粘度低下を起こし、 テープと銅箔との熱圧時デバイスホールからのはみ 出しのない熱圧条件が狭くなり好ましくない。 したがって、 本発明において使用 するポリアミド樹脂は、'分子量分布の広いものが望ましい。
本発明の接着層に配合するレゾ一ル型フエノ一ル樹脂は、 フエノ一ル成分がビ スフエノール A型及びアルキルフエノールから選択された 1種または 2種よりな るビスフエノール A型、 アルキルフエノール型、 またはそれらの共縮合型のフエ ノ—ル樹脂が使用できる。 ァルキルフエノール型のレゾ一ルフエノール樹脂はフ ェノ一ル性水酸基の o—また p—位にメチル墓、 ェチル基、 プ口ピル基、 t -ブ チル基、 ノニル基等を有するものがあげられる。 レゾ一ル型フエノールは加熱に より反応し接着力を有する不溶不融の固体となり接着剤の接着力、 絶縁信頼性、 耐薬品性、 耐熱性を向上させる。
又、 本発明の接着層には上記レゾ一ル型フエノ一ル樹脂以外のフヱノ一ル樹脂、 すなわちノボラック型フエノール樹脂に代表される全ての非熱反応型フニノール 樹脂を使用することが出来、 特にビ フエノール A型及びアルキルフエノールか ら選択された 1種または 2種よりなるビスフエノール A型、 アルキルフエノール 型、 またはそれらの共縮合型のノポラックフエノール樹脂を用いることが好まし レヽ。
接着剤は、 熱硬化型である必要があり、 非熱反応型フユノール樹脂を用いる場 合には、 エポキシ樹脂及びイミダゾール化合物を配合する。 ェポシキ樹脂はポリ アミド樹脂の分子鎖末端で反応し、 またィミダゾ一ル化合物の作用によりフエノ ール樹脂と容易に硬化反応を起こす。 この硬化物は接着剤の耐薬品性、 耐熱性を 向上させる。 使用できるェポシキ樹脂としては、 ビスフエノール Aジグリシジル ェ一タル、 エポキシ化フエノールノボラック、 エポキシ化クレゾ一ルノポラック 等があげられる。
イミダゾ一ル化合物としては、 2—メチルイミダゾ一ル、 2—ェチル—4—メ チルイミダゾ一ル等のメチルェチルケトン等、 汎用溶剤に溶解するものや、 2 - フエニル— 4一ペンジル— 5—ヒドロキシメチルイミダゾ一ル等、 汎用溶剤に難 溶のもの等があげられる。
本発明においては前記レゾ一ル型フエノール樹脂は、 接着剤層中において、 2 〜3 5 %の配合量であることが必要である。 すなわち本発明の接着剤層を構成す るレゾ一ル型フエノ一ル樹脂が 2 %以下であると銅箔に対する接着力の効果がな く、 又、 3 5 %以上であるとエッチング処理等 T A B用テープの加工行程で要求
される耐薬品性を満足することができない。
接着剤層の保護層となる保護フィルムとしては、 ポリエチレンテレフタレート 等のポリエステルフィルムが使用できる。
次に、 本発明の第 1の TAB用テープの製造法について説明する。 第 2図は、 製造工程を示すもので、 保護フィルム 3の上に所定の配合の接着剤を、 乾燥後の 膜厚が上記の範囲になるように塗布する。 この際、 半硬化状の状態にするために、 その加熱条件は 150〜1 80°Cで 2分間乾燥させることが必要である。
次に、 形成された接着剤層 2の表面に、 有機絶縁フィルム 1を重ね合わせ、 1 00〜130でで11^ 8// :1112以上の条件で熱圧着する。
得られた TAB用テープは卷回されて、 例えば幅 30〜20 Ommで 30〜3 00 mの長さのものが得られる。 ―
また、 本発明の第 2の TAB用テープは、 有機絶縁フィルム上に、 接着剤層及 び保護層を設け、 この接着剤層が少なくとも 2層より構成され、 かつ、 有機絶縁 フィルムと接する側の接着剤層は、 ポリアミド樹脂を主成分とし、 保護層と接す る側の接着剤層は、 ポリアミ ド樹脂とレゾ一ル型フエノール樹脂を主成分とする ことを特徴とする。
第 3図は本発明の TAB用テープの模式的断面図であって、 有機絶縁フィルム 1の片面に、 第 1の接着剤層 2 1及び第 2の接着剤層 22よりなる半硬化状の接 着剤層 2と、 保護層となる保護フィルム 3が順次積層された層構成を有する。 図 において、 接着剤層 2は 2層構成になっているが、 本発明においては、 2層以上 の層構成を有するものであってもよい。
有機絶縁フィルムとしては、 厚さ 25〜 188. /im、 好ましくは 50〜 1 25 μ πιのポリイミ ド、 ポリエーテルイ ミ ド、 ポリ フエ二レンサルファイ ド、 ポリエ —テルエ一テルケトン等の耐熱性フィルムや、 エポキシ樹脂—ガラスクロス、 ェ ポキシ樹脂ーポリイミ ドーガラスクロス等の複合耐熱フィルムからなる有機絶縁 フィルムが使用できる。
接着剤層は、 熱硬化型のもので半硬化状であることが必要であり、 少なく とも 2層より構成される。 接着剤層の総膜厚は、 1 0〜50 ; m、 好ましくは 1 5〜 30 / mの範囲にある。 また、 有機絶縁フィルムと接する側の接着剤層及び保護
層と接する側の接着剤層は、 それぞれ、 少なくとも 1 μ ΠΙの膜厚を有するのが望 ましい。
各接着剤層のうち、 有機絶縁フィルムと接する側の接着剤層は、 有機絶縁ブイ ルムに直接接するので、 高温時においても高い粘着性を有し、 有機絶縁フィルム との高い接着力を示すような接着剤が使用される。 そのような接着剤として、 本 発明においては、 ポリアミド樹脂を主成分とするものが使用される。 この接着剤 層には、 耐薬品性を付与する為に、 エポキシ樹脂ゃノポラック型フエノール樹脂 を併用することが可能である。 更にまた、 ポリエステル樹脂、 N B R、 S B R等 の熱可塑性樹脂を配合することも可能である。 いずれの場合においても、 有機絶 緣フィルムに直接接する接着剤層においては、 ポリアミド樹脂は、 5 0重量%以 上含有されるようにするのが好まし 。
他方、 保護フィルムと接する側の接着層は、 フィルムキャリアテープへの加工 時に、 銅箔と接するようになるので、 銅箔との高い接着性とフィルムキャリアへ の加工時にさらされるような薬液に対する優れた耐薬品性を持つような接着剤が 使用される。 本発明においては、 その様な接着剤として、 ポリアミド樹脂及びレ ゾ一ル型フエノール樹脂を主成分とするものが使用される。
この接着剤層においては、 ポリアミド樹脂とレゾール型フエノール樹脂との比 率は、 ポリアミド樹脂 1 0 0重量部に対し、 レゾ一ル型フエノール樹脂 4〜 1 0 0重量部の範囲にあることが好ましく、 また、 ポリアミド樹脂は、 全接着剤中の 5 0重量%未満であることが好ましい。
また、 この接着剤層には、 さらにエポキシ樹脂、 ノボラック型フエノ一ル樹脂 等の熱硬化性樹脂及びィミダゾ一ル等の硬化促進剤を併用することができる。 本発明における上記各接着剤層において使用するポリアミド樹脂としては、 公 知の種々のものが使用できる。
使用するポリアミド樹脂の分子量は、 フレキシビリティー、 テープと銅箔との 熱圧着時や、 接着剤の硬化時の溶融特性 (デバイスホールからの接着剤のはみ出 し) に関連するものであって、 分子量が低すぎると溶融温度が低くなり、 はみ出 しの問題が生じる。 また、 分子量が高すぎると銅箔との熱圧着温度が高くなり過 ぎるという問題が生じる。 したがって、 本発明においては、 分子量 3 0 , 0 0 0
〜 1 5 0, 0 0 0の範囲で、 軟化温度 1 0 0〜 1 8 0。Cのポリアミ ド樹脂を用い るのが好ましい。
さらにまた、 デバイスホールからの接着剤のはみ出し等に関連する溶融特性に 影響を与える因子として、 分子量分布があり、 分子量分布が狭い場合には、 熱に よる急激な粘度低下を起こし、 テープと銅箔との熱圧時デパイスホールからのは み出しのない熱圧条件が狭くなり好ましくない。 したがって、 本発明において使 用するポリアミド樹脂は、 分子量分布の広いものが好ましい。
また、 ポリアミド樹脂として、 例えば、 アミド基当量 (分子量ノアミ ド基 1個) が 2 0 0ないし 4 0 0のポリアミド樹脂を用いると、 接着剤層の吸湿性が低くな り、 また、 吸湿による電気抵抗の低下を 1桁程度に抑えることができ、 そして、 加水分解などの耐湿性が向上し、 結果的に絶縁劣化を防止することができるので、 特に好ましい。
また、 ポリアミド樹脂としては、 その 1分子鎖の中でアミド基間の炭化水素の 分子量が 1 0 0から 8 0 0の広範囲にわたるもの、 そして、 異なる分子量をもつ アミ ド基間炭化水素分子が不規則に並んで入ったものを用いてもよい。 これ等の ポリアミド樹脂は、 アミド基当量が大きいにもかかわらず、 接着性を有し、 フレ キシビリティも大きいので好ましく使用される。
上記ポリアミド樹脂と併用させるレゾ一ル型フエノール樹脂としては、 フエノ —ル成分がビスフエノ一ル A及びアルキルフェノールから選択された 1種又は 2 種よりなるビスフエノール A型、 アルキルフエノール型、 又はそれらの共縮合型 のものが使用できる。 アルキルフエノール型のレゾ一ル型フエノール樹脂は、 フ エノ一ル性水酸基の 0—又は p—位に、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 t - ブチル基、 ノニル基等を有するものがあげられる。 レゾ一ル型フエノール樹脂は、 加熱により反応して、 接着力を有する不溶不融の固体になり、 接着剤の接着力、 絶縁信頼性、 耐薬品制、 耐熱性を向上させる作用をする。
接着剤層の保護層となる保護フィルムとしては、 ポリエチレン、 ポリエチレン テレフタレ一ト、 ポリプロピレン等のフィルムが使用できる。
次に、 本発明の第 2の T A B用テープの製造法について説明する。 第 4図は、 製造工程を示すもので、 保護フィルム 3の上に、 所定の配合を有する 2種類の'接
着剤を、 それぞれ乾燥後の膜厚が上記の範囲になるように塗布して第 1の接着剤 層 21及び第 2の接着剤層 22を形成するか、 又は、 予め、 単層に製膜した二種 類の接着剤よりなるフィルムを、 保護フィルム 3上に熱圧着により積層する。 こ の際、 半硬化状の状態にするために、 その加熱条件は 150〜 180°Cで乾燥さ せることが必要である。
次に、 形成された接着剤層 2の表面に、 有機絶縁フィルム 1を重ね合わせ、 1 00〜130°Cで 1 k gZcm2以上の条件で熱圧着する。
得られた TAB用テープは巻回されて、 例えば幅 30〜20 Ommで 30〜3 00mの長さのものが得られる。
[図面の簡単な説明] 一
第 1図は本発明の第 1の TAB用テープの模式的断面図、 第 2図は本発明の第 1の TAB用テープの製造工程図である。
第 3図は本発明の第 2の TAB用テープの模式的断面図、 第 4図は本癸明の第 2の TAB用テープの製造工程図である。
[発明を実施するための最良の形態]
以下、 本発明の台 1の TAB用テープの実施例について説明する。
なお、 配合部数は全て重量部を示すものとする。
「実施例 1 J
厚さ 38 μπιのポリエチレンテレフタレ一トフイルムからなる保護フィルムに 下記組成の接着剤層用塗料を塗布し、 160°C2分間乾燥して膜厚 20 μπιの接 着剤層を形成した。
ポリアミド樹脂 (トーマイド TXC— 232— Β 富士化成工業社製) の 25
%イソプロピルァルコール/水 混合溶液 1 00部
エポキシ樹脂 (ェピコート 828 油化シェル社製) 8部
ノボラック型フエノール樹脂 (タマノル 752 荒川化学社製) の 50%メチ ルェチルケトン溶液 8部 -.
レゾール型フヱノール樹脂 (CKM— 1 282 昭和高分子社製) の 50%メ チルェチルケトン溶液 6部
2—ェチルイミダゾールの 1 %メチルェチルケトン溶液 1 0部
次に厚さ 50 μπιのポリイミ ドフィルムからなる有機絶縁フィルムを重ね合わ せ、 130°ClKgZcm2の条件で加熱圧着して本発明の TAB用テープを作製 した。
次に、 この TAB用テープの保護フィルムを剥して 1オンスの電解銅箔 (厚さ 35〜40 μπι) を貼り合わせ、 1 30°C、 1 K g c m2の条件で加熱加圧処理 を行った。
その後更に 60 °C 6時間、 80 °C 6時間、 1 20 °C 3時間及び 1 50 で 5時 間、 順次加熱を行い接着剤層の硬化を行なった。 更に、 常法により銅箔上にフォ トレジスト膜を形成して処理し銅箔をエッチングし、 櫛形回路を形成しフィルム キヤリァテープを作成した。
「実施例 2」
接着剤層用塗料として、 下記組成のものを用いた以外は実施例 1 と同様にして TAB用テープ及びフィルムキヤリァテープを作製した。
ポリアミ ド樹脂 (卜一マイド TXC— 232 -B 富士化成工業社製) の 25 %イソプロピルアルコール Z水 混合溶液 60部
エポキシ樹脂 (ェピコ一ト 828 油化シェル社製) 14部
ノボラック型フエノール樹脂 (タマノル 752 荒川化学社製) の 50%メチ ルェチルケトン溶液 14部
レゾ一ル型フエノール樹脂 (CKM— 1 282 昭和高分子社製) の 50%メ チルェチルケトン溶液 6部
2—ェチルイ ミダゾ一ルの 1 %メチルェチルケトン溶液 1 0部
「実施例 3」
接着剤層用塗料として、 下記組成のものを用いた以外は実施例 1 と同様にして TAB用テープ及びフィルムキヤリァテープを作製した。
ポリアミ ド樹脂 (トーマイド TXC— 232— B 富士化成工業社製) の 25 %イソプロピルアルコールノ水 混合溶液 60部
エポキシ樹脂 (ェピコ一ト 828 油化シェル社製) 14部 ノポラック型フエノール樹脂 (タマノル 752 荒川化学社製) の 50%メチ ルェチルケトン溶液 14部
レゾール型フエノール樹脂 (PR— 1 1 078 住友デュレズ社製) 6部 2ーェチルイミダゾールの 1 %メチルェチルケトン溶液 1 0部
「比較例 1J
接着剤層用塗料として、 下記組成のものを用いた以外は実施例 1と同様にして 比較用の TAB用テープ及びフィルムキヤリァテープを作製した。
ポリアミ ド樹脂 (ト一マイド TXC— 232 -B 富士化成工業社製) の 25 %イソプ πピルアルコール/水 混合溶液 1 00部
エポキシ樹脂 (ェピコ一ト 828 —油化シェル社製) 10部
ノポラック型フエノール樹脂 (タマノル 752 荒川化学社製) の 50%メチ ルェチルケトン溶液 10部
2ーェチルイミダゾ一ルの 1 °/0メチルェチルケトン溶液 10部
「比較例 2 J
接着剤層用塗料として、 下記組成のものを用いた以外は実施例 1と同様にして 比較用の TAB用テープ及びフィルムキヤリァテープを作製した。
ポリアミ ド樹脂 (ト一マイド TXC— 232— B 富士化成工業社製) の 25 %イソプロピルアルコ一ル/水 混合溶液 60部
エポキシ樹脂 (ェピコ一ト 828 油化シェル社製) 16部
ノボラック型フエノール樹脂 (タマノル 752 荒川化学社製) の 50%メチ ルェチルケトン溶液 16部
2—ェチルイミダゾ一ルの 1 %メチルェチルケトン溶液 1 0部
「比較例 3 J
接着剤層用塗料として、 下記組成のものを用いた以外は実施例 1と同様にして 比較用の TAB用テープ及びフィルムキヤリァテープを作製した。
ポリアミド樹脂 (トーマイド TXC— 232— B 富士化成工業社製) の 25 %イソプロ'ピルアルコール/水 混合溶液 1 00部
エポキシ樹脂 (ェピコ一ト 828 油化シェル社製) 8部
ノボラック型フエノール樹脂 (タマノル 752 荒川化学社製) の 50%メチ ルェチルケトン溶液 8部
レゾール型フエノール樹脂 (C KM— 1 282 昭和高分子社製) の 50%メ チルェチルケトン溶液 60部
2—ェチルイミダゾールの 1 %メチルェチルケトン溶液 1 0部
実施例 1〜3、 及び比較例 1〜3のフィルムキャリアテープに対し、 下記の特 性試験を行いその結果を第 1表に示す。
1. 線間 1 00 μ mパターンを用い、 12 1 °C、 2 a t m、 1 00 v o 1 t印加 下での線間短絡が生じるまでの時間。
2. 耐薬品性…ァセトン及びメタノール浸漬による溶解量…接着剤層の配合物を 加熱硬化させた後、 アセトンもしく ¾ ^タノールにて 30°Cで 1時間 (超音波下) 浸漬した後の重量減少率 (%) 。
3. 銅箔との接着力 (1 cm巾 180° 剥離) 。 第 1 実施例 1 実施例 2 実施例 3 比較例 1 比較例 2 比較例 3
1 短絡時間 (HRS) 21 7 250 24 1 04 1 25 250 耐 アセトン(%) 2. 0 1. 7 6 4. 0 3. 2 3. 8
2 薬品
性 メタノール(%) 2. 3 1. 6 1. 6 5. 2 3. 2 4. 0
3 接着力 (Kg/cm) 2. 5 2. 4 2. 4 2. 5 1. 4 2. 5 第 1表から明らかなとおり、 本発明による TAB用テ一プは高い絶縁信頼性と 耐薬品性および強い接着力を全て備えたものであることが確認された。
以上のように、 本発明の台 1の TAB用テープは、 絶縁信頼性に加え高い接着 力を有するので、 多ピン化が進み益々線巾が狭くなつているパターンと有機絶縁 フィルムとを確実に接着し且つ高い絶縁信頼性によりリード間の絶縁性に問題が 生じない。 したがって、 チップと外部回路との接続に使用される際に、 リード-の
数が増えてもリード部分にテープを残留させることができる。 よって、 多ピンチ ップを実装する場合、 ボンディグミスが生じ難く、 搬送工程、 ボンディグ工程等 に於いて、 リ一ドの変形が少なく歩留が大巾に上昇する。
次に、 本発明の第 2の TAB用テープの実施例について説明する。
「実施例 1 J
厚さ 3 8 μπιのポリエチレンテレフタレ一トフイルムからなる保護フィルムに 下記組成の接着剤層用塗料を塗布し、 1 6 0°Cで 2分間加熱乾燥して膜厚 1 5 μ mの接着剤層を形成した。
ポリアミド樹脂 (トーマイド TXC— 2 3 2— B 富士化成工業社製) の 2 5 %イソプロピルアルコ一ルノ水混合溶液 6 0部
レゾールフエノール樹脂 (CKM_ 1 2 8 2、 昭和高分子社製) の 5 0 %メチ ルェチルケトン溶液 6部
エポキシ樹脂 (ェピコ一卜 8 2 8、 油化シェル社製) 1 4部
ノポラックフエノール樹脂 (タマノル 7 5 2、 荒川化学社製) の 5 0 %メチル ェチルケトン溶液 1 4部
2—ェチルイミダゾールの 1 %メチルェチルケ卜ン溶液 1 0部
次に、 上記接着剤層の上に下記組成の接着剤層用塗料を塗布し、 1 6 0°Cで 2 分間乾燥して、 膜厚 5 μπιの接着剤層を形成した。
ポリアミド樹脂 (トーマイド TXC— 2 3 2—B 富士化成工業社製) の 2 5
%イソプロピルアルコール/水混合溶液 1 0 0部
エポキシ樹脂 (ェピコ一ト 8 2 8、 油化シェル社製) 8部
ノポラックフエノール樹脂 (タマノル 7 5 2、 荒川化学社製) の 5 0 %メチル ェチルケトン溶液 8部
2ーェチルイミダゾ一ルの 1 %メチルェチルケトン溶液 1 0部
次に厚さ 50 μπιのポリィミ ドフィルムからなる有機絶緣フィルムを重ね合わ せ、 1 3 0°C、 1 K g/ c m2の条件で加熱加圧して、 T A B用テープを作製した。 次に、 この TAB用テープの保護フィルムを剥離し、 1オンスの電解銅箔 (厚 さ 3 5〜4 0 /zm) を貼り合わせ、 1 3 0°C、 1 K g / c m2の条件で加熱加圧処 理を行った。 その後更に 6 0でで 6時間、 8 0でで 6時間、 1 2 0 °Cで 3時間、
及び i scrcで 5時間、 順次加熱を行い、 各接着剤層の硬化を行った。 更に、 常 法により銅箔上にフォトレジスト膜を形成して処理し、 銅箔をエッチングし、 櫛 型回路を形成してフィルムキヤリァテープを作製した。
「実施例 2 J
接着剤層用塗料として、 下記組成のものを用いた以外は、 実施例 1と同様にし て TAB用テープ及びフィルムキヤリァテープを作製した。
〈保護フィルム側の接着剤〉
ポリアミド樹脂 (マクロメルト 6212 ヘンケル白水社製) の 25%イソプ πピルアルコール /水混合溶液 60部
レゾ一ルフエノール樹脂 (C KM— 1282、 昭和高分子社製) の 50%メチ ルェチルケトン溶液 6部 ―
エポキシ樹脂 (ェピコ一ト 828、 油化シェル社製) 14部
ノボラックフエノール樹脂 (タマノル 752、 荒川化学社製) の 50%メチル ェチルケトン溶液 14部
2—ェチルイミダゾ一ルの 1 %メチルェチルケトン溶液 1 0部
〈有機絶緣フィルム側の接着剤〉
ポリアミ ド樹脂 (マクロメルト 6212 ヘンケル白水社製) の 25 %イソプ πピルアルコ一ル Z水混合溶液 1 00部
エポキシ樹脂 (ェピコート 828、 油化シェル社製) 8部
ノポラックフエノール樹脂 (タマノル 752、 荒川化学社製) の 50%メチル ェチルケトン溶液 8部
2—ェチルイミダゾ一ルの 1 %メチルェチルケトン溶液 1 0部
「実施例 3 J
接着剤層用塗料として、 下記組成のものを用いた以外は、 実施例 1と同様にし て TAB用テープ及びフィルムキヤリァテープを作製した。
〈保護フィルム側の接着剤〉
ポリアミ ド榭脂 (プラタボンダ M— 1 276 日本リルサン社製) の 25%ィ ソプロピルアルコール 水混合溶液 60部
レゾ一ルフヱノール樹脂 (PR— 1 1 078、 住友デュレズ社製) の 50%メ
チルェチルケトン溶液 6部
エポキシ樹脂 (ェピコ一卜 8 2 8、 油化シェル社製) 1 4部
ノポラックフエノール樹脂 (タマノル 7 5 2、 荒川化学社製) の 5 0 %メチル ェチルケトン溶液 1 4部
2—ェチルイミダゾールの 1 %メチルェチルケトン溶液 1 0部
〈有機絶緣フィルム側の接着剤〉
ポリアミド樹脂 (プラタボンダ M— 1 2 7 6 日本リルサン社製) の 2 5 %ィ ソプロピルアルコール/水混合溶液 1 0 0部
エポキシ樹脂 (ェピコ一ト 8 2 8、 油化シェル社製) 8部
ノポラックフエノール樹脂 (タマノル 7 5 2、 荒川化学社製) の 5 0 %メチル ェチルケトン溶液 8部 ―
2—ェチルイミダゾ一ルの 1 %メチルェチルケトン溶液 1 0部
「比較例: U
接着剤層用塗料として、 下記組成のものを用い、 接着剤層を単層構造として T A B用テープを作製した以外は、 実施例 1と同様にしてフィルムキヤリァテープ を作製した。
ポリアミド樹脂 (トーマイド T X C— 2 3 2— B 富士化成工業社製) の 2 5 %イソプロピルアルコ一ル Z水混合溶液 6 0部
レゾールフエノール樹脂 (C KM— 1 2 8 2、 昭和高分子社製) の 5 0 %メチ ルェチルケトン溶液 6部
エポキシ樹脂 (ェピコ一ト 8 2 8、 油化シェル社製) 1 4部
ノポラックフエノール樹脂 (タマノル 7 5 2、 荒川化学社製) の 5 0 %メチル ェチルケトン溶液 1 4部
2—ェチルイミダゾールの 1。/0メチルェチルケトン溶液 1 0部
「比較例 2 J
接着剤層用塗料として、 下記組成のものを用い、 接着剤層を単層構造として T A B用テープを作製した以外は、 実施例 1と同様にしてフィルムキヤリァテープ を作製した。
ポリアミ ド樹脂 (プラタボンダ M— 1 2 7 6、 日本リルサン社製) のイソプロ
ピルアルコールノ水混合溶液 1 0 0部
エポキシ樹脂 (ェピコ一ト 8 2 8、 油化シェル社製) 8部
ノポラックフエノール樹脂 (タマノル 7 5 2、 荒川化学社製) 8部
2ーェチルイミダゾ一ルの 1 %メチルェチルケトン溶液 1 0部
「特性評価試験」
上記実施例 1ないし 3及び比較例 1及び 2のフィルムキヤリァテープに対し、 下記の特性評価試験を行った。
1. 耐薬品性試験
エツチング液及び無電界メッキ液に浸された際の銅箔と接着剤層との間の接着 力を調べるために、 エッチングによって 2 0 0 μΐη、 1 0 0 111及び5 0 111の パターン巾に形成した銅箔パターンの 着力を測定し、 さらに無電界メツキを行 つた後の接着力を測定した。 結果を第 1表に示す。 なお、 第 1表の数値は、 1 8 0 ° 剥離力をテンシロン引張り強度測定機によつて測定した値である。 ノ タ一ン幅 2 0 0 μ τη 1 0 0 μ m 5 0 μ m 実施例 1 エッチング後 3 0. 6 (g ) 1 4. 8 (g ) 7. 8 (g ) メツキ後 3 0. 6 1 4. 4 7. 4 実施例 2 エッチング後 3 7. 4 1 7. 8 9. 4
メツキ後 3 8. 4 1 7. 8 7. 5 実施例 3 エッチング後 3 7. 8 1 8. 2 8. 5
メツキ後 3 7. 8 1 7. 2 7. 9 比較例 1 エッチング後 2 9. 0 1 2. 5 6. 9
メツキ後 2 7. 5 1 3. 0 6. 2 比較例 2 エッチング後 3 0. 6 1 4. 0 7. 2
メツキ後 2 0. 6 7. 5 3. 0
2. 耐熱接着性
1 c m幅の C u箔が形成されたフィルムキヤリァテ一プを、 3 5 0°Cの熱板上 に、 その有機絶縁フィルムの背面が接するように固定し、 C u箔を 1 8 0° の方 向に 5 cmZm i nの剥離速度で剥離して、 その際の剥離力を測定した。 結果-を
第 2表に示す。
第 2表 .
剥離力 (g Z c m)
実施例 1 3 0 0
実施例 2 3 4 0
実施例 3 2 9 0
比較例 1 5 0
比較例 2 2 8 0 第 1表及び第 2表の結果から明らかなように、 本発明の T A B用テープは、 上 記試験によって、 優れた耐薬品性及び耐熱接着性を示すことが確認された。
以上のように、 本発明の第 2の T A B用テープは、 接着剤層が 2層以上の積層 構造を有し、 かつ、 有機絶緣フィルムに接する側の接着剤層と保護層に接する側 の接着剤層とが、 前記した接着剤組成を有するから、 接着剤が、 エッチング、 メ ツキ、 レジス卜剥離等の加工工程中にアルカリ、 酸或いはエッチング液などにさ らされても、 C u箔に対する接着力の低下を引き起こすことがない。 また、 イン ナ一リ一ド及びァウタ一リ一ドボンディング時の高温下で、 有機絶縁性フィルム に対する接着力の低下が生じることもない。
したがって、 本発明の T A B用テープは、 高密度化した回路に適用することが 可能になる。 また、 本発明の T A B用テープは、 絶縁信頼性が高く、 リード間の 絶縁性に問題が生じないので、 チップと外部回路との接続に使用される際に、 リ —ドの数が増えても、 リード部分にデ一プを残留させることができる。 したがつ て、 多ピンチップを実装する場合、 ボンディングミスが生じ難く、 搬送工程、 ボ ンディング工程等において、 リ一ドの変形が少なく歩留まりが大幅に上昇する。
Claims
1. 有機絶縁フィルム上に、 少なくともポリアミド樹脂及びレゾール型フエノ一 ル樹脂を含有する接着剤層及び保護層を設けてなり、 該レゾール型フエノール樹 脂が接着剤層中に 2〜 35%含有されていることを特徴とする TAB用テープ。
2. 接着剤層がェポシキ樹脂を含有することを特徴とする請求項 1記載の TAB 用テープ。
3. 接着剤層がィミダゾ一ル化合物を含有することを特徴とする請求項 1記載の TAB用テープ。
4. 有機絶縁フィルム上に、 接着剤層及び保護層を設けてなり、 該接着剤層が少 なくとも 2層より構成され、 かつ、 有機絶縁フィルムと接する側の接着剤層は、 ポリアミド樹脂を主成分とし、 保護層と接する側の接着剤層は、 ポリアミ ド樹脂 とレゾ一ル型フエノール樹脂を主成分とすることを特徴とする TAB用テープ。
5. 有機絶縁フィルムと接する側の接着剤層におけるポリアミ ド樹脂の含有量が 50重量。 /0以上であることを特徴とする請求項 4記載の T A B用テープ。
6. 保護層と接する側の接着剤層におけるポリアミ ド樹脂の含有量が 50重量% 未満であることを特徴とする請求項 4または 5記載の TAB用テープ。
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