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WO2018030351A1 - インプリント材料 - Google Patents

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Publication number
WO2018030351A1
WO2018030351A1 PCT/JP2017/028619 JP2017028619W WO2018030351A1 WO 2018030351 A1 WO2018030351 A1 WO 2018030351A1 JP 2017028619 W JP2017028619 W JP 2017028619W WO 2018030351 A1 WO2018030351 A1 WO 2018030351A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
component
imprint material
dog
phr
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2017/028619
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
淳平 小林
ダニエルアントニオ 櫻葉汀
偉大 長澤
圭介 首藤
加藤　拓
正睦 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Priority to JP2018533460A priority Critical patent/JP6802532B2/ja
Priority to SG11201901065TA priority patent/SG11201901065TA/en
Priority to KR1020197001499A priority patent/KR102401727B1/ko
Priority to CN201780048171.3A priority patent/CN109563194B/zh
Publication of WO2018030351A1 publication Critical patent/WO2018030351A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
    • C08F220/30—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
    • C08F220/303—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety and one or more carboxylic moieties in the chain
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
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    • C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • G03F9/7042—Alignment for lithographic apparatus using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping or imprinting
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
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    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/20—Esters of polyhydric alcohols or phenols, e.g. 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycerol mono-(meth)acrylate

Definitions

  • the present invention relates to an imprint material (film-forming composition for imprint) and a film produced from the material and having a pattern transferred thereto. More specifically, the present invention relates to a film that is made of the material and has a pattern with a high refractive index and a high Abbe number, which retains high transparency even in a thick film state.
  • thick film represents a film having a thickness of 0.01 mm to 1.5 mm.
  • Nanoimprint lithography is a method in which a mold having an arbitrary pattern is brought into contact with a substrate on which a resin film is formed, the resin film is pressurized, and heat or light is used as an external stimulus to cure the target pattern.
  • This nanoimprint lithography has an advantage that nanoscale processing can be performed easily and inexpensively as compared with optical lithography or the like in conventional semiconductor device manufacturing. Therefore, nanoimprint lithography is a technology that is expected to be applied to the manufacture of semiconductor devices, opto-devices, displays, storage media, biochips, etc., instead of optical lithography technology.
  • Various reports have been made on curable compositions (Patent Documents 2 and 3).
  • a roll-to-roll method has been proposed as a method for mass-producing a film having a pattern transferred thereon with high efficiency.
  • the roll-to-roll method proposed in optical nanoimprint lithography uses a flexible film as a base material and a pattern as a material used in nanoimprint lithography (hereinafter abbreviated as “imprint material” in this specification).
  • imprint material used in nanoimprint lithography
  • the mainstream method is to use a solvent-free type material that does not add a solvent so that the dimensions are difficult to change.
  • solvent-free type materials are used for the conventionally proposed imprint materials, but after light imprinting with a thick film, it has high transparency in the visible light region and has a high refractive index. In addition, no specific study or report has been made on materials having a high Abbe number.
  • the present invention has been made on the basis of the above circumstances, and the problem to be solved is to have high transparency in the visible light region, high refractive index and high Abbe after light imprinting with a thick film.
  • the object is to provide an imprint material having a number.
  • the present inventors have found that a compound having a 1,3-dioxane ring and having a polymerizable group at both ends, a straight chain having 6 to 10 carbon atoms.
  • a material containing an alkylene group and / or a cyclopentane structure, a cyclohexane structure, a norbornane structure, an isobornyl structure, an alicyclic structure selected from the group consisting of an adamantane structure, a compound having at least one polymerizable group, and a photopolymerization initiator By using as an imprint material, the following knowledge was obtained and the present invention was completed. That is, the imprint material of the present invention has high transparency in the visible light region, high refractive index, and high Abbe number after light imprinting with a thick film.
  • An imprint material containing the following component (A), component (B) and component (C).
  • A Compound represented by the following formula (1) (In the formula, two Rs each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.)
  • B a linear alkylene group having 6 to 10 carbon atoms and / or an alicyclic structure selected from the group consisting of a cyclopentane structure, a cyclohexane structure, a norbornane structure, an isobornyl structure and an adamantane structure, and a polymerizable group.
  • the imprint material according to the first aspect in which the polymerizable group is an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyl group, or an allyl group.
  • the imprint material according to the first aspect or the second aspect wherein the number of the polymerizable groups is one or two.
  • the ratio of the component (A) is 10% by mass to 90% by mass with respect to the total mass of 100% by mass of the component (A) and the component (B). The imprint material as described in one.
  • the imprint material according to any one of the first to fourth aspects further containing a compound having at least one thiol group as the component (D).
  • the imprint material according to any one of the first to seventh aspects which further contains a solvent as the component (G).
  • a film to which the pattern according to the ninth aspect is transferred wherein the pattern has a lens shape.
  • a film to which the pattern according to the ninth aspect or the tenth aspect is transferred wherein the film to which the pattern is transferred is a lens for a camera module.
  • a film to which the pattern according to any one of the ninth aspect to the eleventh aspect is transferred, wherein the maximum film thickness of the film to which the pattern is transferred is 1.5 mm.
  • a fourteenth aspect after the step of photocuring, a step of taking out and releasing the obtained photocured product, and a step of heating the photocured product before, during or after the step of releasing A method for producing a film to which the pattern according to the thirteenth aspect is transferred.
  • the imprint material of the present invention includes a compound represented by the formula (1), a linear alkylene group having 6 to 10 carbon atoms and / or a cyclopentane structure, a cyclohexane structure, a norbornane structure, an isobornyl structure, and an adamantane structure.
  • the cured film produced from the imprint material has a high transparency in the visible light region even if it is a thick film by containing an alicyclic structure selected from the group consisting of and a compound having at least one polymerizable group. And a high refractive index and a high Abbe number.
  • the imprint material of the present invention can be photocured and does not peel off at a part of the pattern when peeled from the mold, a film in which a desired pattern is accurately formed can be obtained. Therefore, it is possible to form a good optical imprint pattern.
  • the imprint material of this invention can be formed into a film on arbitrary base materials,
  • membrane has high transparency in visible region, even if it is thick film, has a high refractive index and a high Abbe number.
  • the film to which the pattern formed after imprinting is transferred is used to manufacture optical members that require high transparency, high refractive index, and high Abbe number, such as solid-state imaging devices, camera module lenses, and sensor lenses. It can be used suitably.
  • examples of the lens include a concave lens, a convex lens, an aspheric lens, a spherical lens, a Fresnel lens, a linear Fresnel lens, and a lens having a fine uneven shape (antireflection structure) on a curved surface.
  • the shape of the curved surface of the lens in the concave lens, the convex lens, the aspherical lens, the spherical lens, the Fresnel lens, the linear Fresnel lens, and the lens having a fine uneven shape (antireflection structure) on the curved surface is referred to as a lens shape. .
  • the imprint material of this invention can control a cure rate, dynamic viscosity, and a film thickness by changing the kind and content rate of the compound of the said (B) component. Therefore, the imprint material of the present invention can be designed suitably for the type of device to be manufactured, the type of exposure process and the type of baking process, and the process margin can be expanded. it can.
  • the compound of component (A) is a compound represented by the following formula (1). (In the formula, two Rs each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.)
  • Specific examples of the compound represented by the formula (1) include dioxane glycol diacrylate and dioxane glycol dimethacrylate.
  • the compound represented by the above formula (1) can be obtained as a commercial product, and specific examples thereof include NK ester A-DOG (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).
  • the compound of the said (A) component can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
  • the content ratio of the component (A) in the imprint material of the present invention is 10% by mass or more and 90% by mass or less based on the total mass of 100% by mass of the component (A) and the component (B) described later. Is more preferable, and 40 mass% or more and 60 mass% or less are more preferable. If the proportion of the component (A) is less than 10% by mass or exceeds 90% by mass, the transparency of the film obtained by heating after photoimprinting may be lowered.
  • the component (B) compound is a straight chain alkylene group having 6 to 10 carbon atoms and / or an alicyclic structure selected from the group consisting of a cyclopentane structure, a cyclohexane structure, a norbornane structure, an isobornyl structure and an adamantane structure, and polymerization. It refers to a compound having at least one sex group.
  • the straight-chain alkylene group having 6 to 10 carbon atoms means (—CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —), (—CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 —).
  • the alicyclic structure represents a cyclic and non-aromatic hydrocarbon.
  • the polymerizable group include an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyl group, and an allyl group.
  • the acryloyloxy group may be expressed as an acryloxy group
  • the methacryloyloxy group may be expressed as a methacryloxy group.
  • the compound of the component (B) may or may not have a group and structure other than the linear alkylene group having 6 to 10 carbon atoms, the alicyclic structure and the polymerizable group. It preferably has no group or structure other than the linear alkylene group, the alicyclic structure and the polymerizable group.
  • Specific examples of compounds having at least one straight chain alkylene group having 6 to 10 carbon atoms and a polymerizable group among the compounds of component (B) include n-hexyl (meth) acrylate and n- Ptyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9 nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decane Examples include diol di (meth) acrylate.
  • a (meth) acrylate compound means both an acrylate compound and a methacrylate compound, for example, (meth) acrylic acid means both acrylic acid and methacrylic acid.
  • a compound having at least one linear alkylene group having 6 to 10 carbon atoms and a polymerizable group can be obtained as a commercial product.
  • Specific examples thereof include Acrylic. acid n-hexylester, Methacrylic acid-n-hexyl ester (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), n-Heptylacrylate, n-Heptylylmethacrylate, n-Octylylacrylate, n-Octylylate, n-Octylylate.
  • NK Esters A-HD-N, HD-N, A-NOD-N, NOD-N, A-DOD, DOD-N (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), NOAA, Biscote ( (Registered trademark) # 230, # 260 (above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) and FANCLIL (registered trademark) FA-129AS (above, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.).
  • compounds having at least one alicyclic structure selected from the group consisting of a cyclopentane structure, a cyclohexane structure, a norbornane structure, an isobornyl structure and an adamantane structure and a polymerizable group are commercially available products. Specific examples include cyclopentyl acrylate, cyclopentyl methacrylate (above, manufactured by ABCR GmbH & Co. KG), cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate.
  • a linear alkylene group having 6 to 10 carbon atoms, and an alicyclic structure selected from the group consisting of a cyclopentane structure, a cyclohexane structure, a norbornane structure, an isobornyl structure, and an adamantane structure and
  • the compound having at least one polymerizable group may be any compound having a linear alkylene group having 6 to 10 carbon atoms, the alicyclic structure, and a polymerizable group in one compound.
  • a linear alkylene group having 6 to 10 carbon atoms, and an alicyclic structure selected from the group consisting of a cyclopentane structure, a cyclohexane structure, a norbornane structure, an isobornyl structure, and an adamantane structure and A compound having at least one polymerizable group can be obtained as a commercial product, and specific examples thereof include UM-90 (1/3) DA (manufactured by Ube Industries, Ltd.).
  • the photopolymerization initiator as the component (C) is not particularly limited as long as it has absorption in the light source used during photocuring.
  • the photopolymerization initiator as the component (C) is not particularly limited as long as it has absorption in the light source used during photocuring.
  • tert-butylperoxy-iso-butyrate 2,5-dimethyl-2,5-bis (benzoyldioxy) hexane
  • the photopolymerization initiator can be obtained as a commercial product. Specific examples thereof include IRGACURE (registered trademark) 651, 184, 500, 2959, 127, 754, 907, 369, 379, 379EG, 819, 819DW, 1800, 1870, 784, OXE01, OXE02, 250, 1173, MBF, 4265, TPO (above, manufactured by BASF Japan Ltd.) , KAYACURE (registered trademark) DETX, MBP, DMBI, EPA, OA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), VISURE-10, 55 (manufactured by STAUFFER Co.
  • IRGACURE registered trademark
  • 184 500, 2959, 127, 754, 907, 369, 379, 379EG, 819, 819DW, 1800, 1870, 784, OXE01, OXE02, 250, 1173, MBF, 4265, TPO (above, manufactured by BA
  • the said photoinitiator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
  • the content ratio of the component (C) in the imprint material of the present invention is, for example, 0.01 phr to 30 phr, preferably 0.05 phr to 20 phr, based on the total mass of the component (A) and the component (B). More preferably 0.1 phr to 8 phr. This is because when the content ratio of the component (C) is less than 0.01 phr, sufficient curability cannot be obtained and patterning characteristics are deteriorated.
  • “phr” represents the mass of the photopolymerization initiator that is, for example, the component (C) with respect to 100 g of the total mass of the components (A) and (B).
  • [(D) component] Specific examples of the compound having at least one thiol group as component (D) include methyl mercaptoacetate, methyl 3-mercaptopropionate, 2-ethylhexyl 3-mercaptopropionate, 3-methoxybutyl 3-mercaptopropionate, N-octyl 3-mercaptopropionate, stearyl 3-mercaptopropionate, 1,4-bis (3-mercaptopropionyloxy) butane, 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, trimethylolethane tris ( 3-mercaptopropionate), trimethylolethane tris (3-mercaptobutyrate), trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), trimethylolpropane tris (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tet Kiss (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (3-mercapto
  • the compound having at least one thiol group can be obtained as a commercial product.
  • Specific examples thereof include Thiocalcol (registered trademark) 20 (manufactured by Kao Corporation), Karenz MT (registered trademark) PE1, BD1, NR1, TPMB, TEMB (manufactured by Showa Denko KK) can be mentioned.
  • (D) component in the imprint material of this invention may be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Moreover, the content rate is 0.01 phr thru
  • antioxidants examples include phenolic antioxidants, phosphoric acid antioxidants, sulfide antioxidants, and the like, among which phenolic antioxidants are preferable.
  • phenolic antioxidants include IRGANOX (registered trademark) 245, 1010, 1035, 1076, 1135 [above, manufactured by BASF Japan Ltd.], Sumilizer (registered trademark) GA-80, GP, MDP-S, BBM-S, WX-R [above, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.], ADK STAB (registered trademark) AO-20, AO-30, AO-40, AO-50, AO-60, AO-80, AO-330 [above, manufactured by ADEKA Corporation].
  • (E) component in the imprint material of this invention may be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.
  • the content ratio is, for example, 0.01 phr to 20 phr, more preferably 0.05 phr to 10 phr, based on the total mass of the component (A) and the component (B).
  • surfactant (F) component examples include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, and polyoxyethylene octyl.
  • Polyoxyethylene alkylaryl ethers such as phenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyoxyethylene / polyoxypropylene block copolymers, sorbitan monolaurate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monostearate, sorbitan monooleate, Sorbitan fatty acid esters such as sorbitan trioleate and sorbitan tristearate, polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polio Shi sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan trioleate, nonionic surfactants of polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters such as polyoxyethylene sorbitan tristearate and the like.
  • the surfactant is available as a commercial product. Specific examples thereof include EFTOP (registered trademark) EF301, EF303, EF352 (above, manufactured by Mitsubishi Materials Electronic Chemical Co., Ltd.), MegaFuck (registered) Trademark) F-171, F-173, F-477, F-486, F-554, F-556, R-08, R-30, R-30N, R-40, R-40-LM, RS-56, RS-75, RS-72-K, RS-76-E, RS-76-NS, RS-78, RS-90 (above, DIC) Co., Ltd.), FLORARD FC430, FC431 (above, manufactured by 3M Japan Co., Ltd.), Asahi Guard (registered trademark) AG710, Surflon (registered trademark) S-382, SC101, SC102, SC103, Fluorosurfactants such as SC104, SC105, SC106 (Asahi Glass Co., Ltd.); and organosilox
  • (F) component in the imprint material of this invention may be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.
  • the content ratio is preferably 0.01 phr to 40 phr, more preferably 0.01 phr to 10 phr, based on the total mass of the component (A) and the component (B).
  • the imprint material of the present invention may contain a solvent as the component (G).
  • the solvent serves to adjust the viscosity of the component (A) and the component (B).
  • solvent examples include toluene, p-xylene, o-xylene, styrene, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoisopropyl ether, Ethylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl Ether, dipropylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glyco
  • the said solvent can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
  • all components of the imprint material of the present invention that is, components (G) are removed from components (A) to (F) described above and other components described later.
  • the solid content defined as is preferably 50% to 99% by weight, preferably 70% to 99% by weight.
  • a polymer compound As long as the imprint material of the present invention does not impair the effects of the present invention, a polymer compound, an epoxy compound, a photoacid generator, a photosensitizer, an ultraviolet absorber, a chain transfer agent, an adhesion assistant, and An additive selected from the group consisting of releasability improvers can be contained.
  • the polymer compound can be added to adjust the refractive index and the Abbe number without impairing the transparency, and the polymer compound preferably has a repeating structural unit represented by the following formula (2). .
  • the content is preferably 0.1% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 5% by mass or more and 70% by mass based on the total mass of the component (A), the component (B) and the polymer compound. It is below mass%.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • X represents an organic compound having an alicyclic structure selected from the group consisting of a cyclopentane structure, a cyclohexane structure, a norbornane structure, an isobornyl structure, an adamantane structure, and a tricyclodecane structure. Represents a group.
  • epoxy compound examples include Epolide (registered trademark) GT-401, PB3600, Celoxide (registered trademark) 2021P, 2000, 3000, EHPE3150, EHPE3150CE (manufactured by Daicel Corporation), EPICLON (registered trademark). 840, 840-S, N-660, N-673-80M (manufactured by DIC Corporation).
  • photoacid generator examples include IRGACURE (registered trademark) PAG103, PAG108, PAG121, PAG203, CGI725 (above, manufactured by BASF Japan Ltd.), WPAG-145, WPAG-170, WPAG-199, WPAG-281, WPAG-336, WPAG-367 (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), TFE triazine, TME-triazine, MP-triazine, dimethoxytriazine, TS-91, TS-01 (Sanwa Chemical Co., Ltd.) CPI-100P, CPI-101A, CPI-200K, CPI-110P, 210S, CPI-110P, CPI-110B (manufactured by San Apro Co., Ltd.).
  • IRGACURE registered trademark
  • PAG103, PAG108, PAG121, PAG203, CGI725 above, manufactured by BASF Japan Ltd.
  • Examples of the photosensitizer include thioxanthene, thioxanthone, xanthene, ketone, thiopyrylium salt, base styryl, merocyanine, 3-substituted coumarin, 3,4-substituted coumarin, and cyanine. , Acridine, thiazine, phenothiazine, anthracene, coronene, benzanthracene, perylene, ketocoumarin, coumarin, and borate.
  • the photosensitizer is available as a commercial product.
  • UVS-581 examples thereof include Anthracure (registered trademark) UVS-581, UVS-1331 (above, manufactured by Kawasaki Kasei Kogyo Co., Ltd.), KAYACURE (registered). (Trademark) DETX-S (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • This photosensitizer can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. The absorption wavelength in the UV region can be adjusted by using the photosensitizer.
  • Examples of the ultraviolet absorber include TINUVIN (registered trademark) PS, 99-2, 109, 328, 384-2, 400, 405, 460, 477, 479, 900, 928, 1130, 111FDL, 123, 144, 152, 292, 5100, 400-DW, 477-DW, 99-DW, 123-DW, 5050, 5060, 5151 (above, manufactured by BASF Japan Ltd.).
  • This ultraviolet absorber can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. By using the ultraviolet absorber, the curing speed of the outermost surface of the film can be controlled during the photocuring of the imprint material of the present invention, and the releasability may be improved.
  • chain transfer agent examples include diethyl disulfide, dipropyl disulfide, diisopropyl disulfide, dibutyl disulfide, di-tert-butyl disulfide, dipentyl disulfide, diisopentyl disulfide, dihexyl disulfide, dicyclohexyl disulfide, didecyl disulfide, bis (2 , 3,3,4,4,5-hexamethylhexane-2-yl) disulfide (di-tert-dodecyl disulfide), bis (2,2-diethoxyethyl) disulfide, bis (2-hydroxyethyl) disulfide, Alkyl disulfides such as dibenzyl disulfide; diphenyl disulfide, di-p-tolyl disulfide, di (pyridin-2-yl) pyridyl disulfide, di (benzimidazole-2)
  • adhesion aid examples include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane.
  • the content of the adhesion aid is preferably 5 phr to 50 phr, more preferably 10 phr to 50 phr, based on the total mass of the component (A) and the component (B).
  • Examples of the mold release improver include fluorine-containing compounds.
  • Examples of the fluorine-containing compound include R-5410, R-1420, M-5410, M-1420, E-5444, E-7432, A-1430, and A-1630 (manufactured by Daikin Industries, Ltd.). It is done.
  • (D) component which is (A) component, (B) component, (C) component, and arbitrary components
  • (E) component, (F) component (G) component and other additives may be mixed if desired, and the imprint material may be in a uniform state.
  • the order of mixing the components (A) to (G) and other additives as desired is not particularly limited as long as a uniform imprint material can be obtained.
  • the component (A) and the component (B) are mixed at a predetermined ratio, and the component (C), and optionally the component (D), the component (E),
  • the method of mixing (F) component and (G) component suitably and making it a uniform imprint material is also mentioned. Furthermore, in an appropriate stage of this preparation method, there may be mentioned a method in which other additives are further added and mixed as necessary.
  • the imprint material of the present invention can be coated on a substrate and photocured to obtain a desired film.
  • a coating method a known or well-known method such as a spin coating method, a dip method, a flow coating method, an ink jet method, a spray method, a bar coating method, a gravure coating method, a slit coating method, a roll coating method, a transfer printing method, Examples thereof include brush coating, blade coating, and air knife coating.
  • a base material for applying the imprint material of the present invention for example, glass on which silicon, indium tin oxide (ITO) is formed (ITO substrate), glass on which silicon nitride (SiN) is formed (SiN substrate), glass formed with indium zinc oxide (IZO), polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), acrylic, plastic, glass, quartz, ceramics, etc. it can.
  • ITO substrate glass on which silicon, indium tin oxide (ITO) is formed
  • SiN substrate glass on which silicon nitride (SiN substrate)
  • IZO indium zinc oxide
  • PET polyethylene terephthalate
  • TAC triacetyl cellulose
  • flexible flexible substrates such as triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, polymethyl methacrylate, cycloolefin (co) polymer, polyvinyl alcohol, polycarbonate, polystyrene, polyimide, polyamide, polyolefin, polypropylene, polyethylene, polyethylene naphthalate. It is also possible to use a substrate made of phthalate, polyethersulfone, and a copolymer obtained by combining these polymers.
  • the light source for photocuring the imprint material of the present invention is not particularly limited.
  • a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, an electrodeless lamp, a metal halide lamp, a KrF excimer laser, an ArF excimer laser, an F 2 excimer laser, an electron Line (EB), extreme ultraviolet (EUV), ultraviolet LED (UV-LED) can be mentioned.
  • the wavelength generally, a 436 nm G line, a 405 nm H line, a 365 nm I line, or a GHI mixed line can be used.
  • the exposure amount is preferably, 30 mJ / cm 2 to 2000 mJ / cm 2, more preferably from 30 mJ / cm 2 to 1000 mJ / cm 2.
  • the baking equipment is not particularly limited, and can be fired in an appropriate atmosphere, that is, in an inert gas such as air or nitrogen, or in a vacuum using, for example, a hot plate, an oven, or a furnace. If it is.
  • the firing temperature is not particularly limited for the purpose of evaporating the solvent, but can be performed at 40 ° C. to 200 ° C., for example.
  • a film to which a pattern is transferred, which is produced using the imprint material of the present invention has a high transparency in the visible light region even with a thick film of 1 mm, for example, and exhibits a higher refractive index and Abbe number. It can be suitably used as an optical article such as a module lens or a resin mold for imprinting.
  • the optical imprinting apparatus is not particularly limited as long as a target pattern can be obtained.
  • ST50 manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.
  • Sindre registered trademark
  • NM-0801HB manufactured by Meisho Kiko Co., Ltd.
  • a method can be used in which the substrate and the mold are pressure-bonded to the roller, and the cured product is released from the mold after photocuring.
  • examples of the mold material used for the optical imprint used in the present invention include quartz, silicon, nickel, alumina, carbonylsilane, and glassy carbon.
  • the target pattern it is particularly limited.
  • the mold may be subjected to a mold release treatment for forming a thin film of a fluorine compound or the like on the surface thereof in order to improve the mold release property.
  • examples of the mold release agent used for the mold release treatment include OPTOOL (registered trademark) HD and DSX manufactured by Daikin Industries, Ltd., but are not particularly limited as long as the target pattern can be obtained.
  • the pattern size of the optical imprint in the present invention is not particularly limited.
  • a good pattern can be obtained in any order of nanometer order, micrometer order, or millimeter order.
  • the weight average molecular weights of the polymers shown in Synthesis Examples 1 and 2 described later are measurement results by gel permeation chromatography (hereinafter abbreviated as “GPC” in this specification).
  • GPC gel permeation chromatography
  • a GPC system manufactured by Shimadzu Corporation was used.
  • the configuration and measurement conditions of the GPC system are as follows.
  • GPC system configuration System controller: CBM-20A, column oven: CTO-20, autosampler: SIL-10AF, detector: SPD-20A and RID-10A, exhaust unit: DGU-20A3
  • G2 obtained corresponds to a polymer compound among the above-mentioned other additives, and its weight average molecular weight measured by GPC was 11322.
  • Example 1 1 g of NK ester A-DOG (hereinafter abbreviated as “A-DOG” in this specification) (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and 9 g of UM-90 (1/3) DA (manufactured by Ube Industries, Ltd.) And 0.2 g (A-DOG, UM-90 (1) in this specification) of IRGACURE (registered trademark) 184 (manufactured by BASF Japan Ltd.) (hereinafter abbreviated as “IRGACURE 184”). / 3) 2 phr) of the total mass of DA was added to prepare an imprint material PNI-a1.
  • A-DOG NK ester A-DOG
  • Example 2 2 g of A-DOG and 8 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and the mixture was mixed with 0.2 g of IRGACURE 184 (2 phr based on the total mass of A-DOG and UM-90 (1/3) DA). In addition, an imprint material PNI-a2 was prepared.
  • Example 3 3 g of A-DOG and 7 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 0.2 gram of IRGACURE 184 was added to the mixture (2 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA). In addition, an imprint material PNI-a3 was prepared.
  • Example 4 4 g of A-DOG and 6 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and the mixture was mixed with 2 g of IRGACURE 184 (0.2 phr based on the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA). In addition, an imprint material PNI-a4 was prepared.
  • Example 5 5 g of A-DOG and 5 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 2 phr of IRGACURE 184 was added to the mixture with a total mass of 0.2 g of IRGACURE 184 (A-DOG, UM-90 (1/3) DA). In addition, an imprint material PNI-a5 was prepared.
  • Example 6 6 g of A-DOG and 4 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 2 phr of IRGACURE 184 was added to the mixture with respect to the total mass of IRGACURE 184 (A-DOG, UM-90 (1/3) DA). In addition, an imprint material PNI-a6 was prepared.
  • Example 7 7 g of A-DOG and 3 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and the mixture was mixed with 2 g of IRGACURE 184 (0.2 phr based on the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA). In addition, an imprint material PNI-a7 was prepared.
  • Example 8 8 g of A-DOG and 2 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 0.2 gram of IRGACURE 184 was added to the mixture (2 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA). In addition, an imprint material PNI-a8 was prepared.
  • Example 9 9 g of A-DOG and 1 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 0.2 gram of IRGACURE 184 was added to the mixture (2 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA). In addition, an imprint material PNI-a9 was prepared.
  • Example 10 1 g of A-DOG and 9 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 0.2 gram of IRGACURE 184 was added to the mixture (2 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA). ), Thiocalcol (registered trademark) 20 (manufactured by Kao Corporation) (hereinafter abbreviated as “thiocalcol 20” in this specification) 0.05 g (A-DOG, UM-90 (1/3) DA (0.5 phr with respect to mass) was added to prepare (imprint material PNI-a10).
  • Thiocalcol 20 registered trademark
  • Example 11 2 g of A-DOG and 8 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and the mixture was mixed with 0.2 g of IRGACURE 184 (2 phr based on the total mass of A-DOG and UM-90 (1/3) DA). ), 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA) was added to prepare imprint material PNI-a11.
  • Example 12 3 g of A-DOG and 7 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 0.2 gram of IRGACURE 184 was added to the mixture (2 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA). ), 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA) was added to prepare imprint material PNI-a12.
  • Example 13 4 g of A-DOG and 6 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and the mixture was mixed with 2 g of IRGACURE 184 (0.2 phr based on the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA). ), 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA) was added to prepare imprint material PNI-a13.
  • Example 14 5 g of A-DOG and 5 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 2 phr of IRGACURE 184 was added to the mixture with a total mass of 0.2 g of IRGACURE 184 (A-DOG, UM-90 (1/3) DA). ), 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA) was added to prepare imprint material PNI-a14.
  • Example 15 5 g of A-DOG and 5 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 2 phr of IRGACURE 184 was added to the mixture with a total mass of 0.2 g of IRGACURE 184 (A-DOG, UM-90 (1/3) DA).
  • IRGACURE 184 A-DOG, UM-90 (1/3) DA.
  • Karenz MT (registered trademark) PE1 manufactured by Showa Denko KK) (hereinafter abbreviated as “Karens MT PE1” in this specification)
  • the imprint material PNI-a15 was prepared by adding 0.5 phr) to the total mass of DA.
  • Example 16 6 g of A-DOG and 4 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 2 phr of IRGACURE 184 was added to the mixture with respect to the total mass of IRGACURE 184 (A-DOG, UM-90 (1/3) DA). ), 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA) was added to prepare imprint material PNI-a16.
  • Example 17 7 g of A-DOG and 3 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and the mixture was mixed with 2 g of IRGACURE 184 (0.2 phr based on the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA). ), 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA) was added to prepare imprint material PNI-a17.
  • Example 18 8 g of A-DOG and 2 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 0.2 gram of IRGACURE 184 was added to the mixture (2 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA). ), 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA) was added to prepare imprint material PNI-a18.
  • Example 19 9 g of A-DOG and 1 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 0.2 gram of IRGACURE 184 was added to the mixture (2 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA). ), 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA) was added to prepare imprint material PNI-a19.
  • Example 20 5 g of A-DOG and 5 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 2 phr of IRGACURE 184 was added to the mixture with a total mass of 0.2 g of IRGACURE 184 (A-DOG, UM-90 (1/3) DA). ), 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA), and Adekastab (registered trademark) AO-60 (manufactured by ADEKA Corporation) in an amount of 0.0. 01 g (A-DOG, 0.1 phr with respect to the total mass of UM-90 (1/3) DA) was added to prepare an imprint material PNI-a20.
  • Adekastab registered trademark
  • Example 21 5 g of A-DOG and 5 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 2 phr of IRGACURE 184 was added to the mixture with a total mass of 0.2 g of IRGACURE 184 (A-DOG, UM-90 (1/3) DA). ), 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA), and Adekastab (registered trademark) AO-80 (manufactured by ADEKA Corporation) in an amount of 0.0 g. 01 g (A-DOG, 0.1 phr with respect to the total mass of UM-90 (1/3) DA) was added to prepare an imprint material PNI-a21.
  • Adekastab registered trademark
  • Example 22 5 g of A-DOG and 5 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 2 phr of IRGACURE 184 was added to the mixture with a total mass of 0.2 g of IRGACURE 184 (A-DOG, UM-90 (1/3) DA). ), 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA), 0.01 g of BYK-UV 3570 (manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.) Imprint material PNI-a22 was prepared by adding 0.1 phr) to the total mass of A-DOG and UM-90 (1/3) DA.
  • Example 23 5 g of A-DOG and 5 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 2 phr of IRGACURE 184 was added to the mixture with a total mass of 0.2 g of IRGACURE 184 (A-DOG, UM-90 (1/3) DA). ), 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, UM-90 (1/3) DA) and 1.139 g of PGMEA were added to prepare imprint material PNI-a23.
  • A-DCP NK ester A-DCP
  • Example 25 5 g of A-DOG and 5 g of ADMA were mixed, and 0.2 g of IRGACURE 184 (2 phr with respect to the total mass of ADMA) and 0.05 g of thiocalcol 20 (total of A-DOG and ADMA) were added to the mixture.
  • the imprint material PNI-a25 was prepared by adding 0.5 phr) to the mass.
  • Example 26 5 g of A-DOG and 5 g of IBXA (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) are mixed, 0.2 g of IRGACURE 184 is added to the mixture (2 phr with respect to the total mass of A-DOG and IBXA), and thiocalcol 20 is 0.00.
  • Imprint material PNI-a26 was prepared by adding 05 g (A-DOG, 0.5 phr based on the total mass of IBXA).
  • Example 27 5 g of A-DOG and 5 g of New Frontier (registered trademark) HBPE-4 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as “HBPE-4”) are mixed, and IRGACURE is added to the mixture.
  • HBPE-4 New Frontier (registered trademark) HBPE-4 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)
  • IRGACURE is added to the mixture.
  • Add 0.2 g of 184 (2 phr to the total mass of A-DOG and HBPE-4) and 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr to the total mass of A-DOG and HBPE-4) and imprint Material PNI-a27 was prepared.
  • Example 28 5 g of A-DOG and 5 g of Viscote # 230 (manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as “V # 230”) are mixed, and 0.2 g of IRGACURE 184 is added to the mixture ( A-DOG, 2 phr with respect to the total mass of V # 230) and 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, V # 230) were added to prepare imprint material PNI-a28. did.
  • Example 29 5 g of A-DOG and 5 g of Biscote # 260 (produced by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) (hereinafter abbreviated as “V # 260”) are mixed, and 0.2 g of IRGACURE 184 is added to the mixture ( A-DOG, 2 phr with respect to the total mass of V # 260) and 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, V # 260) were added to prepare imprint material PNI-a29. did.
  • Example 30 5 g of A-DOG, 2.5 g of ADMA, and 2.5 g of UM-90 (1/3) DA were mixed, and 0.2 g of IRGACURE 184 was added to the mixture (A-DOG, ADMA, UM-90 (1 / 3) 2 phr with respect to the total mass of DA), 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr with respect to the total mass of A-DOG, ADMA, UM-90 (1/3) DA), and imprint material PNI-a30 was prepared.
  • Example 31 5 g of A-DOG, 2.5 g of ADMA, and 2.5 g of HBPE-4 are mixed, and 0.2 g of IRGACURE 184 is added to the mixture (2 phr based on the total mass of A-DOG, ADMA, and HBPE-4). Then, 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr based on the total mass of A-DOG, ADMA, and HBPE-4) was added to prepare an imprint material PNI-a31.
  • Example 32 5 g of A-DOG, 2.5 g of ADMA, and 2.5 g of G1 obtained in Synthesis Example 1 were mixed, and 0.2 g of IRGACURE 184 was added to the mixture (based on the total mass of A-DOG, ADMA, and G1). 2 phr) and 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr based on the total mass of A-DOG, ADMA, and G1) were added to prepare an imprint material PNI-a32.
  • Example 33 5 g of A-DOG, 2.5 g of ADMA, and 2.5 g of G2 obtained in Synthesis Example 2 were mixed, and 0.2 g of IRGACURE 184 was added to the mixture (based on the total mass of A-DOG, ADMA, and G2). 2 phr) and 0.05 g of thiocalcol 20 (0.5 phr based on the total mass of A-DOG, ADMA, and G2) were added to prepare an imprint material PNI-a33.
  • Example 34 7 g of A-DOG and 3 g of HBPE-4 were mixed, and 0.01 g of IRGACURE 184 (0.1 phr with respect to the total mass of A-DOG and HBPE-4) was added to the mixture, and imprint material PNI-a34 was added. Prepared.
  • Example 35 6 g of A-DOG and 4 g of HBPE-4 were mixed, and 0.01 g of IRGACURE 184 (0.1 phr with respect to the total mass of A-DOG and HBPE-4) was added to the mixture, and imprint material PNI-a35 was added. Prepared.
  • Example 36 5 g of A-DOG and 5 g of HBPE-4 were mixed, and 0.01 g of IRGACURE 184 (0.1 phr with respect to the total mass of A-DOG and HBPE-4) was added to the mixture, and imprint material PNI-a36 was added. Prepared.
  • Example 37 4 g of A-DOG and 6 g of HBPE-4 were mixed, and 0.01 g of IRGACURE 184 (0.1 phr with respect to the total mass of A-DOG and HBPE-4) was added to the mixture, and imprint material PNI-a37 was added. Prepared.
  • Example 38 3 g of A-DOG and 7 g of HBPE-4 were mixed, and 0.01 g of IRGACURE 184 (0.1 phr with respect to the total mass of A-DOG and HBPE-4) was added to the mixture, and imprint material PNI-a38 was added. Prepared.
  • Example 39 5 g of A-DOG and 5 g of HBPE-4 were mixed, and 0.01 g of IRGACURE 184 (0.1 phr with respect to the total mass of A-DOG and HBPE-4) and 0.05 g of thiocalcol 20 (A -DOG, 0.5 phr) based on the total mass of HBPE-4), and imprint material PNI-a39 was prepared.
  • Example 40 5 g of A-DOG and 5 g of HBPE-4 were mixed, and 0.01 g of IRGACURE 184 (0.1 phr with respect to the total mass of A-DOG and HBPE-4) and 0.05 g of Karenz MT PE1 ( A-DOG, 0.5 phr with respect to the total mass of HBPE-4) was added to prepare an imprint material PNI-a40.
  • Example 41 5 g of A-DOG and 5 g of HBPE-4 were mixed, and 0.01 g of IRGACURE 184 (0.1 phr with respect to the total mass of A-DOG and HBPE-4) and Karenz MT (registered trademark) NR1 ( 0.05 g (0.5 phr based on the total mass of A-DOG and HBPE-4) was added to Showa Denko Co., Ltd. to prepare imprint material PNI-a41.
  • Imprint material PNI-b1 was prepared by adding 10 g of A-DOG and 0.2 g of IRGACURE 184 (2 phr based on the mass of A-DOG).
  • the imprint material of this comparative example contains the component (A) and the component (C) but does not contain the component (B).
  • Imprint material PNI-b2 was prepared by adding 10 g of UM-90 (1/3) DA and 0.2 g of IRGACURE 184 (2 phr with respect to the mass of UM-90 (1/3) DA).
  • the imprint material of this comparative example contains the component (B) and the component (C) but does not contain the component (A).
  • Imprint material PNI-b3 was prepared by adding 10 g of ADMA and 0.2 g of IRGACURE 184 (2 phr with respect to the mass of ADMA).
  • the imprint material of this comparative example contains the component (B) and the component (C) but does not contain the component (A).
  • Imprint material PNI-b4 was prepared by adding 10 g of V # 230 and 0.2 g of IRGACURE 184 (2 phr with respect to the mass of V # 230).
  • the imprint material of this comparative example contains the component (B) and the component (C) but does not contain the component (A).
  • the imprint material PNI-b6 was prepared by adding 2 phr) to the mass. Since NPGDA used in this comparative example does not correspond to the component (B), the imprint material of this comparative example includes the component (A), the component (C), and the component (D), but does not include the component (B). .
  • a silicon mold having a 20 ⁇ m line and space pattern (hereinafter referred to as L / S), Optool (registered trademark) DSX (manufactured by Daikin Industries, Ltd.), Novec (registered trademark) HFE-7100 (hydrofluoroether, 3M Japan Ltd.) (Hereinafter, referred to as “Novec HFE-7100” in this specification).
  • a high temperature and high humidity apparatus having a temperature of 90 ° C. and a humidity of 90 RH% is immersed in a solution diluted to 0.1% by mass. And then rinsed with Novec HFE-7100 and dried with air.
  • the molded object of diameter 40mm and thickness 1mm was produced by heating for 5 minutes with a 170 degreeC hotplate.
  • the transmittance at 410 nm of the produced molded body was measured using a spectrophotometer UV2600 (manufactured by Shimadzu Corporation) in a state where the reference was air.
  • the refractive index n D and Abbe number ⁇ D at a wavelength of 589.3 nm (D line) were measured using an automatic refractometer (multi-wavelength) Abbemat-WR / MW type (manufactured by Anton Paar). The obtained results are shown in Table 1, Table 2 and Table 3.
  • the molded bodies produced using the imprint materials prepared in Examples 1 to 23 and Examples 25 to 41 are all 1 mm. Even a thick film has a high transparency of 90% or more at 410 nm, a high refractive index of 1.49 or more at a wavelength of 589.3 nm (D-line), and a high Abbe number of 56 or more.
  • all of the molded articles produced using the imprint materials prepared in Comparative Examples 1 to 8 had a transmittance of less than 90% at 410 nm and low transparency.
  • Comparative Examples 2 to 8 had a refractive index lower than 1.49, or an Abbe number lower than 56, and did not show a high refractive index and a high Abbe number at the same time.
  • the molded object produced using the imprint material of this invention has high transparency in visible region, and has a high refractive index and a high Abbe number simultaneously.

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Abstract

【課題】 新規なインプリント材料を提供すること。 【解決手段】 下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分および（Ｃ）成分を含有するインプリント材料。 （Ａ）：下記式（１）で表される化合物 （式中、２つのＲはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。） （Ｂ）：炭素原子数が６乃至１０の直鎖アルキレン基及び／又はシクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、イソボルニル構造及びアダマンタン構造からなる群から選択される脂環構造、並びに重合性基を少なくとも１つ有する化合物 （Ｃ）：光重合開始剤

Description

インプリント材料
本発明は、インプリント材料（インプリント用膜形成組成物）及び当該材料から作製され、パターンが転写された膜に関する。より詳しくは、当該材料から作製され、厚膜の状態においても高透明性を保持し、高屈折率かつ高アッベ数を有するパターンが転写された膜に関するものである。本明細書において“厚膜”とは、厚さ０．０１ｍｍ乃至１．５ｍｍの膜を表す。
１９９５年、現プリンストン大学のチョウ教授らがナノインプリントリソグラフィという新たな技術を提唱した（特許文献１）。ナノインプリントリソグラフィは、任意のパターンを有するモールドを樹脂膜が形成された基材と接触させ、当該樹脂膜を加圧すると共に、熱又は光を外部刺激として用い、目的のパターンを硬化された当該樹脂膜に形成する技術であり、このナノインプリントリソグラフィは、従来の半導体デバイス製造における光リソグラフィ等に比べて簡便・安価にナノスケールの加工が可能であるという利点を有する。
したがって、ナノインプリントリソグラフィは、光リソグラフィ技術に代わり、半導体デバイス、オプトデバイス、ディスプレイ、記憶媒体、バイオチップ等の製造への適用が期待されている技術であることから、ナノインプリントリソグラフィに用いる光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物について様々な報告がなされている（特許文献２、特許文献３）。
また、光ナノインプリントリソグラフィにおいて、パターンが転写された膜を高効率で量産する方法として、ロール・ツー・ロール方式が提唱されている。従来光ナノインプリントリソグラフィにおいて提案されているロール・ツー・ロール方式は、フレキシブルなフィルムを基材として用い、ナノインプリントリソグラフィに用いる材料（以下、本明細書では「インプリント材料」と略称する。）としてパターン寸法が変化しにくいように溶剤を加えない無溶剤タイプの材料を使用する方法が主流となっている。
米国特許第５７７２９０５号明細書 特開２００８－１０５４１４号公報 特開２００８－２０２０２２号公報
上述したように、従来提案されているインプリント材料には無溶剤タイプの材料が使用されているが、厚膜での光インプリント後、可視光領域において高透明性を有し、高屈折率かつ高アッベ数を有する材料について具体的な検討や報告はなされていない。
本発明は、上記の事情に基づいてなされたものであり、その解決しようとする課題は、厚膜での光インプリント後、可視光領域において高い透明性を有し、高屈折率かつ高いアッベ数を有するインプリント材料を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、１，３－ジオキサン環を有しかつ重合性基を両末端に有する化合物、炭素原子数が６乃至１０の直鎖アルキレン基及び／又はシクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、イソボルニル構造及びアダマンタン構造からなる群から選択される脂環構造並びに重合性基を少なくとも１つ有する化合物、及び光重合開始剤を含有する材料をインプリント材料として使用することにより、次の知見を得、本発明を成した。すなわち、本発明のインプリント材料は、厚膜での光インプリント後、可視光領域において高い透明性を有し、高屈折率かつ高いアッベ数を有する。
すなわち本発明は、第１観点として、
下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含有するインプリント材料。
（Ａ）：下記式（１）で表される化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 （式中、２つのＲはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。）
（Ｂ）：炭素原子数が６乃至１０の直鎖アルキレン基及び／又はシクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、イソボルニル構造及びアダマンタン構造からなる群から選択される脂環構造、並びに重合性基を少なくとも１つ有する化合物
（Ｃ）：光重合開始剤
第２観点として、前記重合性基がアクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基又はアリル基である、第１観点に記載のインプリント材料。
第３観点として、前記重合性基の数が１つ又は２つである、第１観点又は第２観点に記載のインプリント材料。
第４観点として、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総質量１００質量％に対し、該（Ａ）成分の割合が１０質量％乃至９０質量％である、第１観点乃至第３観点のいずれか一に記載のインプリント材料。
第５観点として、（Ｄ）成分としてチオール基を少なくとも１つ有する化合物をさらに含有する第１観点乃至第４観点のいずれか一に記載のインプリント材料。
第６観点として、（Ｅ）成分として酸化防止剤をさらに含有する第１観点乃至第５観点のいずれか一に記載のインプリント材料。
第７観点として、（Ｆ）成分として界面活性剤をさらに含有する第１観点乃至第６観点のいずれか一に記載のインプリント材料。
第８観点として、（Ｇ）成分として溶剤をさらに含有する第１観点乃至第７観点のいずれか一に記載のインプリント材料。
第９観点として、第１観点乃至第８観点のいずれか一に記載のインプリント材料を用いて作製された、パターンが転写された膜。
第１０観点として、前記パターンがレンズ形状である、第９観点に記載のパターンが転写された膜。
第１１観点として、前記パターンが転写された膜がカメラモジュール用レンズである、第９観点又は第１０観点に記載のパターンが転写された膜。
第１２観点として、前記パターンが転写された膜の最大膜厚が１．５ｍｍである、第９観点乃至第１１観点のいずれか一に記載のパターンが転写された膜。
第１３観点として、第１観点乃至第８観点のいずれか一に記載のインプリント材料を、接し合う基材とモールドとの間の空間、又は分割可能なモールドの内部の空間に充填する工程、及び該空間に充填されたインプリント材料を露光して光硬化する工程を含むパターンが転写された膜の作製方法。
第１４観点として、前記光硬化する工程の後、得られた光硬化物を取り出して離型する工程、並びに、該光硬化物を、該離型する工程の前、中途又は後において加熱する工程を含む第１３観点に記載のパターンが転写された膜の作製方法。
本発明のインプリント材料は、前記式（１）で表される化合物と、炭素原子数が６乃至１０の直鎖アルキレン基及び／又はシクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、イソボルニル構造及びアダマンタン構造からなる群から選択される脂環構造並びに重合性基を少なくとも１つ有する化合物とを含有することにより、当該インプリント材料から作製された硬化膜は厚膜でも可視光領域において高い透明性を有し、高屈折率かつ高いアッベ数を有する。
また本発明のインプリント材料は、光硬化が可能であり、かつモールドからの剥離時にパターンの一部に剥がれが生じないため、所望のパターンが正確に形成された膜が得られる。したがって、良好な光インプリントのパターン形成が可能である。
また、本発明のインプリント材料は、任意の基材上に製膜することができ、当該膜は厚膜でも可視光領域において高い透明性を有し、高屈折率かつ高いアッベ数を有する。このため、インプリント後に形成されるパターンが転写された膜は、固体撮像素子、カメラモジュール用レンズ、センサー用レンズなどの高い透明性、高い屈折率及び高いアッベ数が求められる光学部材の製造に好適に用いることができる。ここで、前記レンズとして、例えば、凹レンズ、凸レンズ、非球面レンズ、球面レンズ、フレネルレンズ、リニアフレネルレンズ、曲面に微細凹凸形状（反射防止構造）を有するレンズが挙げられる。本明細書において、上記凹レンズ、凸レンズ、非球面レンズ、球面レンズ、フレネルレンズ、リニアフレネルレンズ、及び曲面に微細凹凸形状（反射防止構造）を有するレンズにおける、レンズの曲面の形状を、レンズ形状という。
さらに、本発明のインプリント材料は、上記（Ｂ）成分の化合物の種類及び含有割合を変更することで、硬化速度、動的粘度、膜厚をコントロールすることができる。したがって、本発明のインプリント材料は、製造するデバイス種と露光プロセス及び焼成プロセスの種類に対応した材料の設計が可能であり、プロセスマージンを拡大できるため、光学部材の製造に好適に用いることができる。
［（Ａ）成分］
（Ａ）成分の化合物は、下記式（１）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 （式中、２つのＲはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。）
上記式（１）で表される化合物の具体例としては、ジオキサングリコールジアクリレート、ジオキサングリコールジメタアクリレートが挙げられる。
上記式（１）で表される化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＮＫエステル　Ａ－ＤＯＧ（新中村化学工業株式会社製）が挙げられる。
上記（Ａ）成分の化合物は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明のインプリント材料における上記（Ａ）成分の含有割合は、上記（Ａ）成分及び後述する（Ｂ）成分の総質量１００質量％に基づいて、１０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上６０質量％以下である。（Ａ）成分の割合が１０質量％未満、もしくは９０質量％を超えると光インプリント後、加熱により得られる膜の透明性が低下することがある。
［（Ｂ）成分］
（Ｂ）成分の化合物は炭素原子数が６乃至１０の直鎖アルキレン基及び／又はシクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、イソボルニル構造及びアダマンタン構造からなる群から選択される脂環構造、並びに重合性基を少なくとも１つ有する化合物を指す。前記炭素原子数が６乃至１０の直鎖アルキレン基とは、（－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2－）、（－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2－）、（－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2－）、（－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2－）又は（－ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2－）を表す。前記脂環構造とは、環状かつ非芳香族性の炭化水素を表す。前記重合性基としては、例えば、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基が挙げられる。ここで、アクリロイルオキシ基はアクリロキシ基と、メタアクリロイルオキシ基はメタアクリロキシ基と表現されることがある。（Ｂ）成分の化合物は、前記炭素原子数が６乃至１０の直鎖アルキレン基、前記脂環構造及び前記重合性基以外の基及び構造を有しても、有さなくてもよいが、当該直鎖アルキレン基、当該脂環構造及び当該重合性基以外の基及び構造を有さないことが好ましい。
上記（Ｂ）成分の化合物のうち、炭素原子数が６乃至１０の直鎖アルキレン基並びに重合性基を少なくとも１つ有する化合物の具体例としては、ｎ－へキシル（メタ）アクリレート、ｎ－へプチル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、ｎ－ノニル（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。なお、本明細書では（メタ）アクリレート化合物とは、アクリレート化合物とメタクリレート化合物の両方を意味し、例えば（メタ）アクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸の両方を意味する。
上記（Ｂ）成分の化合物のうち、炭素原子数が６乃至１０の直鎖アルキレン基並びに重合性基を少なくとも１つ有する化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、Ａｃｒｙｌｉｃ　ａｃｉｄ　ｎ－ｈｅｘｙｌ　ｅｓｔｅｒ、Ｍｅｔｈａｃｒｙｌｉｃ　ａｃｉｄ ｎ－ｈｅｘｙｌ　ｅｓｔｅｒ（以上、東京化成工業株式会社製）、ｎ－Ｈｅｐｔｙｌ　ａｃｒｙｌａｔｅ、ｎ－Ｈｅｐｔｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ｎ－Ｏｃｔｙｌ　ａｃｒｙｌａｔｅ、ｎ－Ｏｃｔｙｌ　ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ｎ－Ｎｏｎｙｌ　ａｃｒｙｌａｔｅ、ｎ－Ｎｏｎｙｌ　ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ、ｎ－Ｄｅｃｙｌ　ａｃｒｙｌａｔｅ、ｎ－Ｄｅｃｙｌ　ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ（以上、ＡＢＣＲ　ＧｍｂＨ　＆　Ｃｏ.  ＫＧ製）、ＮＫエステル　Ａ－ＨＤ－Ｎ、同ＨＤ－Ｎ、同Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、同ＮＯＤ－Ｎ、同Ａ－ＤＯＤ、同ＤＯＤ－Ｎ（以上、新中村化学工業株式会社製）、ＮＯＡＡ、ビスコート（登録商標）＃２３０、同＃２６０（以上、大阪有機化学工業株式会社製）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ－１２９ＡＳ（以上、日立化成工業株式会社製）が挙げられる。
上記（Ｂ）成分の化合物のうち、シクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、イソボルニル構造及びアダマンタン構造からなる群から選択される脂環構造並びに重合性基を少なくとも１つ有する化合物の具体例としては、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロへキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンスピロ－２－（１，３－ジオキソラン－４－イル）メチルアクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、１－アダマンチル（メタ）アクリレート、１－アクリロイルオキシ－３－ヒドロキシアダマンタン、３－ヒドロキシ－１－メタアクリロイルオキシアダマンタン、２－メタアクリロイルオキシ－２－メチルアダマンタン、１，３－ジアクリロイルオキシアダマンタン、２－エチル－２－メタアクロイルオキシアダマンタン、２－イソプロピル－２－メタアクリロイルオキシアダマンタン、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
上記（Ｂ）成分の化合物のうち、シクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、イソボルニル構造及びアダマンタン構造からなる群から選択される脂環構造並びに重合性基を少なくとも１つ有する化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、シクロペンチルアクリレート、シクロペンチルメタアクリレート（以上、ＡＢＣＲ　ＧｍｂＨ　＆　Ｃｏ.  ＫＧ製）、シクロへキシルアクリレート、シクロへキシルメタアクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタアクリレート、１－アクリロイルオキシ－３－ヒドロキシアダマンタン、３－ヒドロキシ－１－メタアクリロイルオキシアダマンタン、２－メタアクリロイルオキシ－２－メチルアダマンタン、２－エチル－２－メタアクロイルオキシアダマンタン、２－イソプロピル－２－メタアクリロイルオキシアダマンタン（以上、東京化成工業株式会社製）、ＩＢＸＡ、ビスコート＃１５５、ＣＨＤＯＬ－１０、１－ＡＤＡ、１－ＡＤＭＡ（以上、大阪有機化学工業株式会社製）、ライトエステル　ＣＨ、同ＩＢ－Ｘ、ライトアクリレート（登録商標）ＩＢ－ＸＡ（以上、共栄社化学株式会社製）、ダイヤピュレスト（登録商標）ＨＡＤＭ、ＨＡＤＡ、ＤＨＡＤＭ、ＡＤＰＭ、ＡＤＤＡ（以上、三菱ガス化学株式会社製）、ニューフロンティア（登録商標）ＨＢＰＥ－４（第一工業製薬株式会社製）、サイクロマー（登録商標）Ｍ１００（以上、株式会社ダイセル製）が挙げられる。
上記（Ｂ）成分の化合物のうち、炭素原子数が６乃至１０の直鎖アルキレン基、及びシクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、イソボルニル構造及びアダマンタン構造からなる群から選択される脂環構造並びに重合性基を少なくとも１つ有する化合物は、炭素原子数が６乃至１０の直鎖アルキレン基と当該脂環構造、並びに重合性基を１つの化合物中に有しているものであればよい。
上記（Ｂ）成分の化合物のうち、炭素原子数が６乃至１０の直鎖アルキレン基、及びシクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、イソボルニル構造及びアダマンタン構造からなる群から選択される脂環構造並びに重合性基を少なくとも１つ有する化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡ（宇部興産株式会社製）が挙げられる。
［（Ｃ）成分］
（Ｃ）成分である光重合開始剤は、光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されるものではない。例えば、ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシ－ｉｓｏ－ブチレート、２，５－ジメチル－２，５－ビス（ベンゾイルジオキシ）ヘキサン、１，４－ビス［α－（ｔｅｒｔ－ブチルジオキシ）－ｉｓｏ－プロポキシ］ベンゼン、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシド、２，５－ジメチル－２，５－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジオキシ）ヘキセンヒドロペルオキシド、α－（ｉｓｏ－プロピルフェニル）－ｉｓｏ－プロピルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロペルオキシド、１，１－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、ブチル－４，４－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルジオキシ）バレレート、シクロヘキサノンペルオキシド、２，２’，５，５’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’－ビス（ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシカルボニル）－４，４’－ジカルボキシベンゾフェノン、ｔｅｒｔ－ブチルペルオキシベンゾエート、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物；９，１０－アントラキノン、１－クロロアントラキノン、２－クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２－ベンズアントラキノン等のキノン類；ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α－メチルベンゾイン、α－フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体；２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－１－［４－｛４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）ベンジル｝－フェニル］－２－メチル－プロパン－１－オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－１－ブタノン、２－ジメチルアミノ－２－（４－メチル－ベンジル）－１－（４－モルホリン－４－イル－フェニル）－ブタン－１－オン等のアルキルフェノン系化合物；ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物；２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）－１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン、１－（Ｏ－アセチルオキシム）－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン等のオキシムエステル系化合物が挙げられる。
上記光重合開始剤は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、同１８４、同５００、同２９５９、同１２７、同７５４、同９０７、同３６９、同３７９、同３７９ＥＧ、同８１９、同８１９ＤＷ、同１８００、同１８７０、同７８４、同ＯＸＥ０１、同ＯＸＥ０２、同２５０、同１１７３、同ＭＢＦ、同４２６５、同ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）ＤＥＴＸ、同ＭＢＰ、同ＤＭＢＩ、同ＥＰＡ、同ＯＡ（以上、日本化薬株式会社製）、ＶＩＣＵＲＥ－１０、同５５（以上、ＳＴＡＵＦＦＥＲ　Ｃｏ．ＬＴＤ製）、ＥＳＡＣＵＲＥ（登録商標）ＫＩＰ１５０、同ＴＺＴ、同１００１、同ＫＴＯ４６、同ＫＢ１、同ＫＬ２００、同ＫＳ３００、同ＥＢ３、トリアジン－ＰＭＳ、トリアジンＡ、トリアジンＢ（以上、日本シイベルヘグナー株式会社製）、アデカオプトマーＮ－１７１７、同Ｎ－１４１４、同Ｎ－１６０６（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
上記光重合開始剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明のインプリント材料における（Ｃ）成分の含有割合は、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量に基づいて、例えば０．０１ｐｈｒ乃至３０ｐｈｒであり、好ましくは０．０５ｐｈｒ乃至２０ｐｈｒであり、より好ましくは０．１ｐｈｒ乃至８ｐｈｒである。（Ｃ）成分の含有割合が０．０１ｐｈｒ未満の場合には、十分な硬化性が得られず、パターニング特性の悪化が起こるからである。本明細書において“ｐｈｒ”とは、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量１００ｇに対する、例えば（Ｃ）成分である光重合開始剤の質量を表す。
［（Ｄ）成分］
（Ｄ）成分であるチオール基を少なくとも１つ有する化合物の具体例としては、メルカプト酢酸メチル、３－メルカプトプロピオン酸メチル、３－メルカプトプロピオン酸２－エチルヘキシル、３－メルカプトプロピオン酸３－メトキシブチル、３－メルカプトプロピオン酸ｎ－オクチル、３－メルカプトプロピオン酸ステアリル、１，４－ビス（３－メルカプトプロピオニルオキシ）ブタン、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタン、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトプロピオネート）、トリメチロールエタントリス（３－メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３－メルカプトブチレート）、トリス［２－（３－メルカプトプロピオニルオキシ）エチル］イソシアヌレート、テトラエチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、トリス［２－（３－メルカプトブチリルオキシ）エチル］イソシアヌレート、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチリルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６－（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン等のメルカプトカルボン酸エステル類；エタンチオール、２－メチルプロパン－２－チオール、ｎ－ドデカンチオール、２，３，３，４，４，５－ヘキサメチルヘキサン－２－チオール（ｔｅｒｔ－ドデカンチオール）、エタン－１，２－ジチオール、プロパン－１，３－ジチオール、ベンジルチオール等のアルキルチオール類；ベンゼンチオール、３－メチルベンゼンチオール、４－メチルベンゼンチオール、ナフタレン－２－チオール、ピリジン－２－チオール、ベンゾイミダゾール－２－チオール、ベンゾチアゾール－２－チオール等の芳香族チオール類；２－メルカプトエタノール、４－メルカプト－１－ブタノール等のメルカプトアルコール類；３－（トリメトキシシリル）プロパン－１－チオール、３－（トリエトキシシリル）プロパン－１－チオール等のシラン含有チオール類；ビス（２－メルカプトエチル）エーテルが挙げられる。
上記チオール基を少なくとも１つ有する化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、チオカルコール（登録商標）２０（花王株式会社製）、カレンズＭＴ（登録商標）ＰＥ１、同ＢＤ１、同ＮＲ１、ＴＰＭＢ、ＴＥＭＢ（以上、昭和電工株式会社製）が挙げられる。
本発明のインプリント材料における（Ｄ）成分は一種単独で、又は二種以上を混合して用いてもよい。また、その含有割合は、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量に基づいて、例えば０．０１ｐｈｒ乃至３０ｐｈｒであり、より好ましくは０．０５ｐｈｒ乃至２０ｐｈｒである。
［（Ｅ）成分］
（Ｅ）成分である酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤、スルフィド系酸化防止剤等が挙げられるが、中でもフェノール系酸化防止剤が好ましい。フェノール系酸化防止剤としては、例えば、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）２４５、同１０１０、同１０３５、同１０７６、同１１３５［以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製］、スミライザー（登録商標）ＧＡ－８０、同ＧＰ、同ＭＤＰ－Ｓ、同ＢＢＭ－Ｓ、同ＷＸ－Ｒ［以上、住友化学（株）製］、アデカスタブ（登録商標）ＡＯ－２０、同ＡＯ－３０、同ＡＯ－４０、同ＡＯ－５０、同ＡＯ－６０、同ＡＯ－８０、同ＡＯ－３３０［以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製］が挙げられる。
本発明のインプリント材料における（Ｅ）成分は一種単独で、又は二種以上を混合して用いてもよい。また、その含有割合としては、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量に基づいて、例えば０．０１ｐｈｒ乃至２０ｐｈｒ、さらに好ましくは０．０５ｐｈｒ乃至１０ｐｈｒである。
［（Ｆ）成分］
（Ｆ）成分である界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤が挙げられる。
上記界面活性剤は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（以上、三菱マテリアル電子化成株式会社製）、メガファック（登録商標）Ｆ－１７１、同Ｆ－１７３、同Ｆ－４７７、同Ｆ－４８６、同Ｆ－５５４、同Ｆ－５５６、同Ｒ－０８、同Ｒ－３０、同Ｒ－３０Ｎ、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、同ＲＳ－５６、同ＲＳ－７５、同ＲＳ－７２－Ｋ、同ＲＳ－７６－Ｅ、同ＲＳ－７６－ＮＳ、同ＲＳ－７８、同ＲＳ－９０（以上、ＤＩＣ株式会社製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（以上、スリーエムジャパン株式会社製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０２、同ＳＣ１０３、同ＳＣ１０４、同ＳＣ１０５、同ＳＣ１０６（以上、旭硝子株式会社製）等のフッ素系界面活性剤；及びオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業株式会社製）、ＢＹＫ－３０２、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３３３、ＢＹＫ－３７０、ＢＹＫ－３７５、ＢＹＫ－３７８、ＢＹＫ－ＵＶ　３５００、ＢＹＫ－ＵＶ　３５７０（以上、ビックケミー・ジャパン株式会社製）を挙げることができる。
本発明のインプリント材料における（Ｆ）成分は一種単独で、又は二種以上を混合して用いてもよい。また、その含有割合としては、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量に基づいて、好ましくは０．０１ｐｈｒ乃至４０ｐｈｒ、より好ましくは０．０１ｐｈｒ乃至１０ｐｈｒである。
［（Ｇ）成分］
本発明のインプリント材料は、（Ｇ）成分として溶剤を含有してもよい。その溶剤は、前記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の粘度調節の役割を果たす。
溶剤としては、例えば、トルエン、ｐ－キシレン、ｏ－キシレン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコ－ルジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１－オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３－ブタンジオール、１,４－ブタンジオール、２，３－ブタンジオール、γ－ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ－ブチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ－ブチル、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ－ブタノール、アリルアルコール、ｎ－プロパノール、２－メチル－２－ブタノール、イソブタノール、ｎ－ブタノール、２－メチル－１－ブタノール、１－ペンタノール、２－メチル－１－ペンタノール、２－エチルヘキサノール、トリメチレングリコール、１－メトキシ－２－ブタノール、イソプロピルエーテル、１，４－ジオキサン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ－シクロヘキシル－２－ピロリジンが挙げられ、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の粘度を調節することができるものであれば、特に限定されるものではない。
上記溶剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。溶剤が使用される場合、本発明のインプリント材料の全成分、すなわち前述の（Ａ）成分乃至（Ｆ）成分並びに後述するその他添加剤を含む全成分から（Ｇ）成分の溶剤を除いたものとして定義される固形分は、５０質量％乃至９９質量％、好ましくは７０質量％乃至９９質量％であることが好ましい。
［その他添加剤］
本発明のインプリント材料は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じてポリマー化合物、エポキシ化合物、光酸発生剤、光増感剤、紫外線吸収剤、連鎖移動剤、密着補助剤及び離型性向上剤からなる群から選択される添加剤を含有することができる。
上記ポリマー化合物は、透明性を損なわず屈折率やアッベ数を調整するために添加することが可能であり、当該ポリマー化合物として、下記式（２）で表される繰り返し構造単位を有することが好ましい。その含有割合としては、上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び当該ポリマー化合物の総質量に基づいて０．１質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは５質量％以上７０質量％以下である。
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 （式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｘはシクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、イソボルニル構造、アダマンタン構造及びトリシクロデカン構造からなる群から選択される脂環構造を有する有機基を表す。）
上記エポキシ化合物としては、例えば、エポリード（登録商標）ＧＴ－４０１、同ＰＢ３６００、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ、同２０００、同３０００、ＥＨＰＥ３１５０、同ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ（以上、株式会社ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）８４０、同８４０－Ｓ、同Ｎ－６６０、同Ｎ－６７３－８０Ｍ（以上、ＤＩＣ株式会社製）が挙げられる。
上記光酸発生剤としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＰＡＧ１０３、同ＰＡＧ１０８、同ＰＡＧ１２１、同ＰＡＧ２０３、同ＣＧＩ７２５（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、ＷＰＡＧ－１４５、ＷＰＡＧ－１７０、ＷＰＡＧ－１９９、ＷＰＡＧ－２８１、ＷＰＡＧ－３３６、ＷＰＡＧ－３６７（以上、和光純薬工業株式会社製）、ＴＦＥトリアジン、ＴＭＥ－トリアジン、ＭＰ－トリアジン、ジメトキシトリアジン、ＴＳ－９１、ＴＳ－０１（株式会社三和ケミカル製）、ＣＰＩ－１００Ｐ、ＣＰＩ－１０１Ａ、ＣＰＩ－２００Ｋ、ＣＰＩ－１１０Ｐ、２１０Ｓ、ＣＰＩ－１１０Ｐ、ＣＰＩ－１１０Ｂ（（以上、サンアプロ株式会社製）が挙げられる。
上記光増感剤としては、例えば、チオキサンテン系、チオキサントン系、キサンテン系、ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、３－置換クマリン系、３，４－置換クマリン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、ペリレン系、ケトクマリン系、クマリン系、ボレート系が挙げられる。上記光増感剤は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、アントラキュアー（登録商標）ＵＶＳ－５８１、同ＵＶＳ－１３３１（以上、川崎化成工業株式会社製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）ＤＥＴＸ－Ｓ（日本化薬株式会社製）が挙げられる。この光増感剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。当該光増感剤を用いることによって、ＵＶ領域の吸収波長を調整することもできる。
上記紫外線吸収剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）ＰＳ、同９９－２、同１０９、同３２８、同３８４－２、同４００、同４０５、同４６０、同４７７、同４７９、同９００、同９２８、同１１３０、同１１１ＦＤＬ、同１２３、同１４４、同１５２、同２９２、同５１００、同４００－ＤＷ、同４７７－ＤＷ、同９９－ＤＷ、同１２３－ＤＷ、同５０５０、同５０６０、同５１５１（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）が挙げられる。この紫外線吸収剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。当該紫外線吸収剤を用いることによって、本発明のインプリント材料の光硬化時に膜の最表面の硬化速度を制御することができ、離型性を向上できる場合がある。
上記連鎖移動剤としては、例えば、ジエチルジスルフィド、ジプロピルジスルフィド、ジイソプロピルジスルフィド、ジブチルジスルフィド、ジ－ｔｅｒｔ－ブチルジスルフィド、ジペンチルジスルフィド、ジイソペンチルジスルフィド、ジヘキシルジスルフィド、ジシクロヘキシルジスルフィド、ジデシルジスルフィド、ビス（２，３，３，４，４，５－ヘキサメチルヘキサン－２－イル）ジスルフィド（ジ－ｔｅｒｔ－ドデシルジスルフィド）、ビス（２，２－ジエトキシエチル）ジスルフィド、ビス（２－ヒドロキシエチル）ジスルフィド、ジベンジルジスルフィド等のアルキルジスルフィド類；ジフェニルジスルフィド、ジ－ｐ－トリルジスルフィド、ジ（ピリジン－２－イル）ピリジルジスルフィド、ジ（ベンゾイミダゾール－２－イル）ジスルフィド、ジ（ベンゾチアゾール－２－イル）ジスルフィド等の芳香族ジスルフィド類；テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ビス（ペンタメチレン）チウラムジスルフィド等のチウラムジスルフィド類；α－メチルスチレンダイマーが挙げられる。この連鎖移動剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
上記密着補助剤としては、例えば、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシランが挙げられる。当該密着補助剤を用いることによって、基材との密着性が向上する。当該密着補助剤の含有量は、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量に基づいて、好ましくは５ｐｈｒ乃至５０ｐｈｒ、より好ましくは１０ｐｈｒ乃至５０ｐｈｒである。
上記離型性向上剤としては、例えば、フッ素含有化合物が挙げられる。フッ素含有化合物としては、例えば、Ｒ－５４１０、Ｒ－１４２０、Ｍ－５４１０、Ｍ－１４２０、Ｅ－５４４４、Ｅ－７４３２、Ａ－１４３０、Ａ－１６３０（以上、ダイキン工業株式会社製）が挙げられる。
［インプリント材料の調製］
本発明のインプリント材料の調製方法は、特に限定されないが、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、並びに任意成分である（Ｄ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、（Ｇ）成分、並びに所望によりその他添加剤を混合し、インプリント材料が均一な状態となっていればよい。また、（Ａ）成分乃至（Ｇ）成分並びに所望によりその他添加剤を混合する際の順序は、均一なインプリント材料が得られるなら問題なく、特に限定されない。当該インプリント材料の調製方法としては、例えば、（Ａ）成分、（Ｂ）成分を所定の割合で混合し、これに更に（Ｃ）成分、並びに任意で（Ｄ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分及び（Ｇ）成分を適宜混合し、均一なインプリント材料とする方法も挙げられる。さらに、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて、その他の添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。
［光インプリント及びパターンが転写された膜］
本発明のインプリント材料は、基材上に塗布し光硬化させることで所望の被膜を得ることができる。塗布方法としては、公知又は周知の方法、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法を挙げることができる。
本発明のインプリント材料を塗布するための基材としては、例えば、シリコン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が製膜されたガラス（ＩＴＯ基板）、シリコンナイトライド（ＳｉＮ）が製膜されたガラス（ＳｉＮ基板）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が製膜されたガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリル、プラスチック、ガラス、石英、セラミックス等からなる基材を挙げることができる。また、可撓性を有するフレキシブル基材、例えばトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィン（コ）ポリマー、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルフォン、並びにこれらポリマーを組み合わせた共重合体からなる基材を用いることも可能である。
本発明のインプリント材料を光硬化させる光源としては、特に限定されないが、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、無電極ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦエキシマーレーザー、ＡｒＦエキシマーレーザー、Ｆ2エキシマーレーザー、電子線（ＥＢ）、極端紫外線（ＥＵＶ）、紫外線ＬＥＤ（ＵＶ－ＬＥＤ）を挙げることができる。また、波長は、一般的には、４３６ｎｍのＧ線、４０５ｎｍのＨ線、３６５ｎｍのＩ線、又はＧＨＩ混合線を用いることができる。さらに、露光量は、好ましくは、３０ｍＪ／ｃｍ2乃至２０００ｍＪ／ｃｍ2、より好ましくは３０ｍＪ／ｃｍ2乃至１０００ｍＪ／ｃｍ2である。
なお、前述の（Ｇ）成分である溶剤を用いる場合には、光照射前の塗膜及び光照射後の硬化物の少なくとも一方に対し、溶剤を蒸発させる目的で、焼成工程を加えてもよい。焼成機器としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレート、オーブン、ファーネスを用いて、適切な雰囲気下、すなわち大気、窒素等の不活性ガス、又は真空中で焼成することができるものであればよい。焼成温度は、溶剤を蒸発させる目的では、特に限定されないが、例えば、４０℃乃至２００℃で行うことができる。
本発明のインプリント材料を用いて作製される、パターンが転写された膜は、例えば１ｍｍの厚膜でも可視光領域において高い透明性を有し、更に高い屈折率およびアッベ数を示すため、カメラモジュール用レンズやインプリント用樹脂モールド等の光学物品として好適に用いることができる。
光インプリントを行う装置は、目的のパターンが得られれば特に限定されないが、例えば、東芝機械株式会社製のＳＴ５０、Ｏｂｄｕｃａｔ社製のＳｉｎｄｒｅ（登録商標）６０、明昌機工株式会社製のＮＭ－０８０１ＨＢ等の市販されている装置にて、基材とモールドをローラー圧着し、光硬化後に当該モールドから硬化物を離型する方法を用いることができる。
また、本発明で用いる光インプリント用に使用するモールド材としては、例えば、石英、シリコン、ニッケル、アルミナ、カルボニルシラン、グラッシーカーボンを挙げることができるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。また、モールドは、離型性を高めるために、その表面にフッ素系化合物等の薄膜を形成する離型処理を行ってもよい。離型処理に用いる離型剤としては、例えば、ダイキン工業株式会社製のオプツール（登録商標）ＨＤ、同ＤＳＸが挙げられるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。
本発明における光インプリントのパターンサイズは特に限定されず、例えば、ナノメートルオーダー、マイクロメートルオーダー、ミリメートルオーダーいずれでも良好なパターンを得ることが可能である。
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。
後述する合成例１及び合成例２に示すポリマーの重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（以下、本明細書では「ＧＰＣ」と略称する。）による測定結果である。測定には、（株）島津製作所製ＧＰＣシステムを用いた。当該ＧＰＣシステムの構成と、測定条件は下記のとおりである。
ＧＰＣシステム構成
システムコントローラ：ＣＢＭ－２０Ａ、カラムオーブン：ＣＴＯ－２０、オートサンプラ：ＳＩＬ－１０ＡＦ、検出器：ＳＰＤ－２０Ａ及びＲＩＤ－１０Ａ、排気ユニット：ＤＧＵ－２０Ａ３
ＧＰＣカラム：Ｓｈｏｄｅｘ（登録商標）ＫＦ－８０４Ｌ及びＫＦ－８０３Ｌ
カラム温度：４０℃
溶媒：テトラヒドロフラン
流量：１ｍＬ／分
標準試料：異なる重量平均分子量（１９７０００、５５１００、１２８００、３９５０、１２６０、５８０）のポリスチレン６種
＜合成例１＞
トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノール９．１８ｇ、２－ヒドロキシエチルアクリレート２．７２ｇ、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール０．０１３ｇ、ジブチル錫ジラウレート０．０１９ｇ及び酢酸エチル３７．４ｇを三つ口フラスコに入れ８０℃に加熱した。そこへイソホロンジイソシアネート１３．００ｇを３時間かけて滴下し、８０℃で１２時間反応させた。反応溶液を、室温まで冷却したのち、ヘキサンへ入れ、析出した固体を回収し、４０℃、１ｍｍＨｇの条件下で乾燥させ、化合物Ｇ１を得た。得られたＧ１は（Ｂ）成分に該当し、その重量平均分子量をＧＰＣで測定したところ、３６１０であった。
＜合成例２＞
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、本明細書では「ＰＧＭＥＡ」と略称する。）３４．５８ｇを三つ口フラスコに入れ、脱気及び窒素置換後、９０℃へ加熱した。そこへ１－ＡＤＭＡ（大阪有機化学工業株式会社製）（以下、本明細書では「ＡＤＭＡ」と略称する。）２０．００ｇ、アゾビスイソブチロニトニル０．７５ｇ及びＰＧＭＥＡ４８．４１ｇを均一に相溶させた溶液を３時間かけて滴下し、９０℃で２４時間反応させた。反応溶液を、室温まで冷却したのち、メタノールへ入れ、析出した固体を回収し、８０℃で真空乾燥させ、化合物Ｇ２を得た。得られたＧ２は、前記その他添加剤のうちポリマー化合物に該当し、その重量平均分子量をＧＰＣで測定したところ、１１３２２であった。
［インプリント材料の調製］
＜実施例１＞
ＮＫエステル　Ａ－ＤＯＧ（以下、本明細書では「Ａ－ＤＯＧ」と略称する。）（新中村化学工業株式会社製）１ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡ（宇部興産株式会社製）９ｇを混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）（以下、本明細書では「ＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４」と略称する。）を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ１を調製した。
＜実施例２＞
Ａ－ＤＯＧを２ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを８ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ２を調製した。
＜実施例３＞
Ａ－ＤＯＧを３ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを７ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ３を調製した。
＜実施例４＞
Ａ－ＤＯＧを４ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを６ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ４を調製した。
＜実施例５＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ５を調製した。
＜実施例６＞
Ａ－ＤＯＧを６ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを４ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ６を調製した。
＜実施例７＞
Ａ－ＤＯＧを７ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを３ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ７を調製した。
＜実施例８＞
Ａ－ＤＯＧを８ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを２ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ８を調製した。
＜実施例９＞
Ａ－ＤＯＧを９ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを１ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ９を調製した。
＜実施例１０＞
Ａ－ＤＯＧを１ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを９ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール（登録商標）　２０（花王株式会社製）（以下、本明細書では「チオカルコール　２０」と略称する。）を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）を加え、（インプリント材料ＰＮＩ－ａ１０を調製した。
＜実施例１１＞
Ａ－ＤＯＧを２ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを８ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ１１を調製した。
＜実施例１２＞
Ａ－ＤＯＧを３ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを７ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ１２を調製した。
＜実施例１３＞
Ａ－ＤＯＧを４ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを６ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ１３を調製した。
＜実施例１４＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ１４を調製した。
＜実施例１５＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、カレンズＭＴ（登録商標）ＰＥ１（昭和電工株式会社製）（以下、本明細書では「カレンズＭＴ　ＰＥ１」と略称する。）を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ１５を調製した。
＜実施例１６＞
Ａ－ＤＯＧを６ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを４ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ１６を調製した。
＜実施例１７＞
Ａ－ＤＯＧを７ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを３ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ１７を調製した。
＜実施例１８＞
Ａ－ＤＯＧを８ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを２ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ１８を調製した。
＜実施例１９＞
Ａ－ＤＯＧを９ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを１ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ１９を調製した。
＜実施例２０＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）、アデカスタブ（登録商標）ＡＯ－６０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）を０．０１ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．１ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ２０を調製した。
＜実施例２１＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）、アデカスタブ（登録商標）ＡＯ－８０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）を０．０１ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．１ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ２１を調製した。
＜実施例２２＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）、ＢＹＫ－ＵＶ　３５７０（ビックケミー・ジャパン株式会社製）を０．０１ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．１ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ２２を調製した。
＜実施例２３＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）、ＰＧＭＥＡ１．１３９ｇを加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ２３を調製した。
＜参考例２４＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びＮＫエステル　Ａ－ＤＣＰ（新中村化学工業株式会社製）（以下、本明細書では「Ａ－ＤＣＰ」と略称する。）を５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、Ａ－ＤＣＰの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、Ａ－ＤＣＰの総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ２４を調製した。
＜実施例２５＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びＡＤＭＡを５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＡＤＭＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＡＤＭＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ２５を調製した。
＜実施例２６＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びＩＢＸＡ（大阪有機化学工業株式会社製）を５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＩＢＸＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＩＢＸＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ２６を調製した。
＜実施例２７＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びニューフロンティア（登録商標）ＨＢＰＥ－４（第一工業製薬株式会社製）（以下、本明細書では「ＨＢＰＥ－４」と略称する。）を５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ２７を調製した。
＜実施例２８＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びビスコート＃２３０（大阪有機化学工業株式会社製）（以下、本明細書では「Ｖ＃２３０」と略称する。）を５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、Ｖ＃２３０の総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、Ｖ＃２３０の総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ２８を調製した。
＜実施例２９＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びビスコート＃２６０（大阪有機化学工業株式会社製）（以下、本明細書では「Ｖ＃２６０」と略称する。）を５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、Ｖ＃２６０の総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、Ｖ＃２６０の総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ２９を調製した。
＜実施例３０＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ、ＡＤＭＡを２．５ｇ、及びＵＭ－９０（１／３）ＤＡを２．５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＡＤＭＡ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＡＤＭＡ、ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ３０を調製した。
＜実施例３１＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ、ＡＤＭＡを２．５ｇ、及びＨＢＰＥ－４を２．５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＡＤＭＡ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＡＤＭＡ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ３１を調製した。
＜実施例３２＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ、ＡＤＭＡを２．５ｇ、及び合成例１で得たＧ１を２．５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＡＤＭＡ、Ｇ１の総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＡＤＭＡ、Ｇ１の総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ３２を調製した。
＜実施例３３＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ、ＡＤＭＡを２．５ｇ、及び合成例２で得たＧ２を２．５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＡＤＭＡ、Ｇ２の総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＡＤＭＡ、Ｇ２の総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ３３を調製した。
＜実施例３４＞
Ａ－ＤＯＧを７ｇ及びＨＢＰＥ－４を３ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．０１ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して０．１ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ３４を調製した。
＜実施例３５＞
Ａ－ＤＯＧを６ｇ及びＨＢＰＥ－４を４ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．０１ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して０．１ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ３５を調製した。
＜実施例３６＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びＨＢＰＥ－４を５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．０１ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して０．１ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ３６を調製した。
＜実施例３７＞
Ａ－ＤＯＧを４ｇ及びＨＢＰＥ－４を６ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．０１ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して０．１ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ３７を調製した。
＜実施例３８＞
Ａ－ＤＯＧを３ｇ及びＨＢＰＥ－４を７ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．０１ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して０．１ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ３８を調製した。
＜実施例３９＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ、ＨＢＰＥ－４を５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．０１ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して０．１ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ３９を調製した。
＜実施例４０＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ、ＨＢＰＥ－４を５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．０１ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して０．１ｐｈｒ）、カレンズＭＴ　ＰＥ１を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ４０を調製した。
＜実施例４１＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ、ＨＢＰＥ－４を５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．０１ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して０．１ｐｈｒ）、カレンズＭＴ（登録商標）ＮＲ１（昭和電工株式会社製）を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＨＢＰＥ－４の総質量に対して０．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ａ４１を調製した。
＜比較例１＞
Ａ－ＤＯＧを１０ｇ及びＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧの質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ｂ１を調製した。本比較例のインプリント材料は、（Ａ）成分及び（Ｃ）成分を含むが（Ｂ）成分を含まない。
＜比較例２＞
ＵＭ－９０（１／３）ＤＡを１０ｇ及びＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（ＵＭ－９０（１／３）ＤＡの質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ｂ２を調製した。本比較例のインプリント材料は、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含むが（Ａ）成分を含まない。
＜比較例３＞
ＡＤＭＡを１０ｇ及びＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（ＡＤＭＡの質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ｂ３を調製した。本比較例のインプリント材料は、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含むが（Ａ）成分を含まない。
＜比較例４＞
Ｖ＃２３０を１０ｇ及びＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ｖ＃２３０の質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ｂ４を調製した。本比較例のインプリント材料は、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含むが（Ａ）成分を含まない。
＜比較例５＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ、及びＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＮＰＧＤＡ（日本化薬株式会社製）（以下、本明細書では「ＮＰＧＤＡ」と略称する。）を５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＮＰＧＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ｂ５を調製した。本比較例で使用したＮＰＧＤＡは（Ｂ）成分に該当しないので、本比較例のインプリント材料は（Ａ）成分及び（Ｃ）成分を含むが、（Ｂ）成分を含まない。
＜比較例６＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びＮＰＧＤＡを５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＮＰＧＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＮＰＧＤＡの総質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ｂ６を調製した。本比較例で使用したＮＰＧＤＡは（Ｂ）成分に該当しないので、本比較例のインプリント材料は（Ａ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含むが、（Ｂ）成分を含まない。
＜比較例７＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ、及びＮＫエステル　ＡＰＧ－４００（新中村化学工業株式会社製）以下、本明細書では「ＡＰＧ－４００」と略称する。）を５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＡＰＧ－４００の総質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ｂ７を調製した。本比較例で使用したＡＰＧ－４００は（Ｂ）成分に該当しないので、本比較例のインプリント材料は（Ａ）成分及び（Ｃ）成分を含むが、（Ｂ）成分を含まない。
＜比較例８＞
Ａ－ＤＯＧを５ｇ及びＡＰＧ－４００を５ｇ混合し、その混合物にＩＲＧＡＣＵＲＥ　１８４を０．２ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＡＰＧ－４００の総質量に対して２ｐｈｒ）、チオカルコール　２０を０．０５ｇ（Ａ－ＤＯＧ、ＡＰＧ－４００の総質量に対して２ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ－ｂ８を調製した。本比較例で使用したＡＰＧ－４００は（Ｂ）成分に該当しないので、本比較例のインプリント材料は（Ａ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分を含むが、（Ｂ）成分を含まない。
［モールドの離型処理］
２０μｍのラインアンドスペースパターン（以下、Ｌ／Ｓ）を有するシリコン製モールドを、オプツール（登録商標）ＤＳＸ（ダイキン工業株式会社製）をノベック（登録商標）ＨＦＥ－７１００（ハイドロフルオロエーテル、スリーエムジャパン株式会社製）（以下、本明細書では「ノベックＨＦＥ－７１００」と略称する。）で０．１質量％に希釈した溶液へ浸漬し、温度が９０℃、湿度が９０ＲＨ％の高温高湿装置を用いて１時間処理し、ノベックＨＦＥ－７１００でリンス後、エアーで乾燥させた。
［光インプリント］
実施例１乃至実施例２３、実施例２５乃至実施例４１、参考例２４、並びに比較例１乃至比較例８で得られた各インプリント材料を、前述の離型処理を施したモールドへポッティングし、その上に石英ガラスを被せ、ナノインプリント装置ＮＭ－０８０１ＨＢ（明昌機構株式会社製）で光インプリントを行った。
光インプリントは、常時２３℃の条件で、ａ）１０秒間かけて５００Ｎまで加圧、ｂ）高圧水銀ランプを用いて６０００ｍＪ／ｃｍ2の露光、ｃ）１０秒間かけて除圧、ｄ）モールドと基板を分離して離型、というシーケンスで行い、得られた石英ガラス上のＬ／Ｓパターンを１７０℃のホットプレートで５分間加熱した。そしてＬ／Ｓパターンの剥がれ、割れの有無を、工業用顕微鏡　ＥＣＬＩＰＳＥ　Ｌ１５０（株式会社ニコン製）を用いて観察した。得られた結果を表１及び表２に示す。
［硬化物の作製及び光学特性評価］
実施例１乃至実施例２３、実施例２５乃至実施例４１、参考例２４、並びに比較例１乃至比較例８で得られた各インプリント材料を、１ｍｍ厚のシリコーンゴム製スペーサーとともに、Ｎｏｖｅｃ（登録商標）１７２０（スリーエムジャパン株式会社製）で表面処理をしたガラス基板２枚で挟み込んだ。この挟み込んだ重合性組成物を、バッチ式ＵＶ照射装置（高圧水銀灯２ｋＷ×１灯）（アイグラフィックス（株）製）を用いて２０ｍＷ／ｃｍ2で３００秒間ＵＶ露光した。得られた硬化物をガラス基板から剥離した後、１７０℃のホットプレートで５分間加熱することで、直径４０ｍｍ、厚さ１ｍｍの成形体を作製した。作製された成形体の４１０ｎｍにおける透過率を、分光光度計　ＵＶ２６００（株式会社島津製作所製）を用い、リファレンスを空気にした状態で測定した。また、波長５８９．３ｎｍ（Ｄ線）における屈折率ｎD、及びアッベ数νDを、自動屈折計（多波長）Ａｂｂｅｍａｔ－ＷＲ／ＭＷ型（アントンパール社製）を用いて測定した。得られた結果を表１、表２及び表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
表１、表２及び表３に示す結果より、実施例１乃至実施例２３、及び実施例２５乃至実施例４１で調製されたインプリント材料を用いて作製された成形体はいずれも、１ｍｍの厚膜でも４１０ｎｍにおける透過率が９０％以上の高い透明性が確認され、波長５８９．３ｎｍ（Ｄ線）における屈折率が１．４９以上の高い屈折率を有し、かつ５６以上の高いアッベ数を有するという結果を得た。一方、比較例１乃至比較例８で調製されたインプリント材料を用いて作製された成形体は、いずれも４１０ｎｍにおける透過率が９０％を下回り、透明性は低い結果となった。また、比較例２乃至比較例８はいずれも屈折率が１．４９を下回るか、又はアッベ数が５６を下回り、高い屈折率と高いアッベ数を同時に示さないことが確認された。以上、本発明のインプリント材料を用いて作製された成形体は、可視光領域において高い透明性を有し、かつ高屈折率及び高アッベ数を同時に有するものとなる。

Claims (14)

  1. 下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分および（Ｃ）成分を含有するインプリント材料。
    （Ａ）：下記式（１）で表される化合物
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、２つのＲはそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。）
    （Ｂ）：炭素原子数が６乃至１０の直鎖アルキレン基及び／又はシクロペンタン構造、シクロヘキサン構造、ノルボルナン構造、イソボルニル構造及びアダマンタン構造からなる群から選択される脂環構造、並びに重合性基を少なくとも１つ有する化合物
    （Ｃ）：光重合開始剤
  2. 前記重合性基がアクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基又はアリル基である、請求項１に記載のインプリント材料。
  3. 前記重合性基の数が１つ又は２つである、請求項１又は請求項２に記載のインプリント材料。
  4. （Ａ）成分と（Ｂ）成分の総質量１００質量％に対し、該（Ａ）成分の割合が１０質量％乃至９０質量％である、請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のインプリント材料。
  5. （Ｄ）成分としてチオール基を少なくとも１つ有する化合物をさらに含有する請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のインプリント材料。
  6. （Ｅ）成分として酸化防止剤をさらに含有する請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のインプリント材料。
  7. （Ｆ）成分として界面活性剤をさらに含有する請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のインプリント材料。
  8. （Ｇ）成分として溶剤をさらに含有する請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載のインプリント材料。
  9. 請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載のインプリント材料を用いて作製された、パターンが転写された膜。
  10. 前記パターンがレンズ形状である、請求項９に記載のパターンが転写された膜。
  11. 前記パターンが転写された膜がカメラモジュール用レンズである、請求項９又は請求項１０に記載のパターンが転写された膜。
  12. 前記パターンが転写された膜の最大膜厚が１．５ｍｍである、請求項９乃至請求項１１のいずれか一項に記載のパターンが転写された膜。
  13. 請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載のインプリント材料を、接し合う基材とモールドとの間の空間、又は分割可能なモールドの内部の空間に充填する工程、及び該空間に充填されたインプリント材料を露光して光硬化する工程を含むパターンが転写された膜の作製方法。
  14. 前記光硬化する工程の後、得られた光硬化物を取り出して離型する工程、並びに、該光硬化物を、該離型する工程の前、中途又は後において加熱する工程を含む請求項１３に記載のパターンが転写された膜の作製方法。
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