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WO2018179088A1 - 電流再利用型電界効果トランジスタ増幅器 - Google Patents

電流再利用型電界効果トランジスタ増幅器 Download PDF

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整 久留須
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三菱電機株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to bias current control in a current reuse type FET amplifier using a depletion mode field effect transistor (FET).
  • FET depletion mode field effect transistor
  • Patent Document 1 and Non-Patent Document 1 show examples of power amplifiers using GaAs FETs. As shown in this document, a circuit configuration that can be operated with a single 5 V power source that is generally available in a vehicle is selected due to restrictions on in-vehicle use, and a typical example thereof is a current reuse type circuit configuration. . FIG. 6 shows a circuit configuration of a current reusing amplifier using a GaAs FET.
  • reference numerals 11 and 12 denote depletion mode (normally-on) GaAs FETs (usually HEMTs called high electron mobility transistors are used), 31 to 33 are resistors, 21 to 26 are capacitors, and 51 to 54 are A transmission line that plays the same role as the inductance, 1 is an RF signal input terminal, 2 is an RF signal output terminal, 3 is a power supply terminal of the amplifier, and Idd is a drain current flowing through the FET 12. 22 and 24 are capacitors for grounding the sources of the FETs 11 and 12 in an RF manner, and a capacitor 21 is an input DC blocking capacitor.
  • the capacitor 23 and the transmission lines 51 and 52 form an interstage matching circuit, and the capacitors 25 and 26 and the transmission lines 53 and 54 form an output matching circuit and a drain feeding circuit for the FET 12.
  • the resistor 31 plays a role of fixing the gate potential of the FET 11 to 0 V in terms of DC, and the resistors 32 and 33 are self-bias resistors.
  • the drain current Idd flowing through the FET 12 flows through the resistor 33, then flows again as the drain current of the FET 11, and finally passes through the resistor 32 and flows to the ground. Since the gate voltage of the FET 11 (gate-source voltage) is fixed to 0 V by the resistor 31 by the resistor 32, the gate-source voltage of the FET 11 is negative by the voltage of the product of the resistor 32 and the current Idd. Self-biased. Similarly, the gate-source potential of the FET 12 is negatively self-biased by the product of the resistor 33 and the current Idd.
  • the current Idd that has flowed through the FET 12 also flows into the FET 11 again, this circuit configuration is called a current recycling type.
  • the FETs 11 and 12 also play a role of RF amplification. Since the FETs 11 and 12 are RF-source-grounded by the capacitors 22 and 24, the circuit of FIG. 5 is equivalent to a source-grounded two-stage amplifier. However, regarding the current, since the same Idd flows in the FETs 11 and 12 in common, the current consumed from the power supply Vdd is only Idd.
  • the reason why the current recycling circuit is applied to the RF amplification unit for in-vehicle radar is largely related to the breakdown voltage restriction of the GaAs FET rather than the current reduction effect. Since the FET applicable in the millimeter wave band has a short gate length of 0.2 ⁇ m or less, the DC drain-source breakdown voltage is often 4 V or less, and in some cases it is about 3 V. Therefore, there are many cases where the standard power supply voltage 5V mounted on the automobile cannot be directly applied. In the case of the current recycling circuit shown in FIG. 6, the DC applied voltage per FET is 2.5V, which is half of 5V, and can be set sufficiently lower than the withstand voltage of 4V, so that the power supply voltage 5V can be used as the power supply for the amplifier. .
  • Non-Patent Document 2 is an enhancement mode nMOS, a current mirror type bias circuit resistant to process variations can be applied.
  • FIG. 7 shows a simulation result of the fluctuation of the drain current Idd of the circuit with respect to the fluctuation of the Idss of the FET (the drain current of the FET when the gate-source voltage is 0 V) in the circuit of FIG.
  • a GaAs HEMT having a power source voltage of 5 V and a gate length of 0.1 ⁇ m was used as the FET.
  • a characteristic 301 when the values of the resistors 32 and 33 are small and a characteristic 302 when the values are large are plotted.
  • A1 to A4 in the figure indicate the intersections of dotted lines. From the figure, the change in the drain current Idd in the characteristic 301 is larger than that in the characteristic 302 with respect to the change in Idss.
  • the characteristic 301 varies greatly from 24 mA to 31.5 mA (27% variation with respect to the drain current 27.5 mA when there is no variation in Idss).
  • the fluctuation is as small as ⁇ 21 mA (change of 15% with respect to 19.5 mA drain current without fluctuation of Idss).
  • the drain current of the characteristic 302 has a small current change, but since the resistance value is large, the drain current value when there is no Idss fluctuation is low.
  • a current reusing FET amplifier includes a first gate to which an RF signal is input, a first source, a first field effect transistor having a first drain, a first source, and a ground.
  • a second resistor having a first resistor connected between the power terminals, a second source, a second gate, and a second drain connected to the power terminal and outputting an amplified RF signal.
  • a field effect transistor a second resistor connected between the first drain and the second source, a capacitor connected between the first drain and the second gate, and a third
  • a third field effect transistor having a source, a third drain connected to the power supply terminal, and a third gate connected to the ground terminal; a fourth source; a fourth drain; A fourth electric field having a fourth gate connected to the source;
  • a fourth resistor connected between the first gate and a fifth resistor connected between the fourth drain and the second gate.
  • the current reusing FET amplifier according to the present invention changes the gate voltage of the amplifying FET or the resistance value for self-bias of the amplifying FET in accordance with the process variation of the saturation current Idss of the FET. It has the effect of suppressing the change of. Furthermore, since fluctuations in the drain voltage of the first stage FET can be suppressed, it is possible to avoid a state where the DC breakdown voltage between the drain and source of the FET is exceeded due to process variations of Idss.
  • FIG. 2 is a circuit configuration of a current reusing FET amplifier according to the first embodiment.
  • 4 is another circuit configuration for comparison with the current reusing FET amplifier according to the first embodiment.
  • FIG. 4 The simulation result of the drain voltage of FET11 with respect to the fluctuation
  • FIG. 4 is a circuit configuration of a current reusing FET amplifier according to a second embodiment. A circuit configuration of the entire current reusing FET amplifier for comparison.
  • a current reusing FET amplifier according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
  • a GaAs depletion mode FET including a high electron mobility transistor HEMT
  • FIG. 1 shows a circuit configuration of the amplification unit 101 and a circuit configuration of the control circuit unit 102 of the current reuse type FET amplifier according to Embodiment 1 of the present invention.
  • the transmission line and the like are omitted, and only elements that mainly contribute in a DC manner are shown.
  • a resistor 32 and a capacitor 22 are connected in parallel between the source of the FET 11 and the ground to constitute a DC negative feedback for DC operation and a source ground for RF operation. Since the drain current Idd also flows as the drain current of the FET 11 after flowing through the FET 12, the circuit of FIG.
  • the RF signal input to the input terminal 1 is amplified by the FET 11 and further input to the gate of the FET 12 via the capacitor 27.
  • the RF signal amplified by the FET 12 is output from the drain of the FET 12 through the capacitor 25.
  • the FET 13 has a gate grounded, a resistor 35 as a source load, and a resistor 36 as a drain load.
  • the FET 14 has a gate connected to the source of the FET 13, and has a source load of the diode 61 and a drain load of the resistor 37. Between the drain of the FET 12 and the ground, a load in which diodes 62 and 63 and resistors 38 and 39 are connected in series is connected.
  • the drain resistance loads 36 and 37 are connected to the power supply terminal 4.
  • the power supply terminal 4 of the control circuit unit 102 may be shared with the power supply terminal 3 of the amplification unit 101.
  • the control circuit 102 and the amplifying unit 101 are connected by two control signals.
  • the first control signal is given to the gate of the FET 11 via the resistor 34 connected between the connection point of the resistors 38 and 39 of the control circuit unit 102 and the gate of the FET 11.
  • the second control signal is given to the gate of the FET 12 through the resistor 40 connected between the connection point of the diodes 62 and 63 of the control circuit unit 102 and the gate of the FET 12.
  • the diode in FIG. 1 is assumed to be a GaAs Schottky junction diode that can be manufactured in the same process as the FET, but an equivalent operation can be realized even with a pn matching diode.
  • the gate voltage of the FET 11 is lowered when Idss becomes higher than a predetermined value, and conversely When Idss becomes lower than a predetermined value, the gate voltage of the FET 11 may be increased. Further, in order to suppress the fluctuation of the drain voltage of the FET 11 in addition to the fluctuation of the drain current Idd, as shown in FIG. 1, the gate voltage of the FET 12 is separated from the drain voltage of the FET 11 by using the capacitor 27, The gate voltage of the FET 12 may be appropriately controlled according to the process variation of Idd.
  • the change in the source potential of the FET 14 in the control circuit unit 102 is suppressed to be small with respect to the source current change in the FET 14 by the source load diode 61.
  • a plurality of diodes 61 may be connected in series according to the threshold voltage of the FET 14.
  • the source load of the FET 13 is the resistor 35
  • the source voltage of the FET 13 increases as Idss increases. Therefore, the gate-source voltage of the FET 14 increases as Idss increases, and the drain current of the FET 14 also increases.
  • the voltage drop of the drain load resistor 37 increases and the drain voltage of the FET 14 decreases.
  • This decrease in the drain voltage is level-shifted by the diode 62 and transmitted to the gate of the FET 12 through the resistor 40, and the other is level-shifted by the diodes 62 and 63 and then divided by the resistors 38 and 39. And transmitted to the gate of the FET 11 through the resistor 34.
  • the current reusing FET amplifier according to the first embodiment can independently control the gate voltage of the FET 11 and the gate voltage of the FET 12 according to the process variation of Idss.
  • the fluctuation of the drain voltage can also be suppressed.
  • the DC withstand voltage between the drain and the source has no margin with respect to a voltage that is 1 ⁇ 2 of the power supply voltage, a failure due to the excess withstand voltage is caused. Therefore, stable operation can be expected.
  • the circuit configuration of the comparison circuit is shown in FIG.
  • the main difference from the circuit of FIG. 1 is that the comparison circuit of FIG. 2 is directly connected without the capacitor 27 separating the drain voltage of the FET 11 and the gate voltage of the FET 12 as in FIG. That is, an FET 15 functioning as a resistor and a gate resistor 41 are provided.
  • the variable resistance value of the FET 15 is controlled by the resistance 41 from the drain voltage of the FET 14 in the control circuit unit 102.
  • FIG. 3 shows the simulation result of the drain current Idd with respect to the Idss fluctuation of the circuits of FIGS. 1 and 2
  • FIG. 4 shows the simulation result of the drain voltage of the FET 11 with respect to the Idss fluctuation of the circuits of FIGS. 3 and 4
  • the characteristics 401 and 403 indicate the simulation results of the circuit in FIG. 1
  • the characteristics 402 and 404 indicate the simulation results of the comparison circuit in FIG. B1 to B4 and C1 to C4 indicate intersections with the characteristics with respect to the variation of Idss of ⁇ 20%.
  • the change of the drain current Idd in the circuits of FIGS. 1 and 2 is quite close, and the fluctuation of the drain current Idd can be considerably suppressed in both circuit configurations.
  • the voltage change of the characteristic 403 is 0.8V from 2.8V at the point B3 to 2V at the point B4, whereas the voltage change of the characteristic 404 is 0.7V at the point C3. From point C4, the voltage changes by 4.0V to 4.0V.
  • the drain-source breakdown voltage of the FET 11 and FET 12 is 3V, if Idss increases by 20%, 4V is applied to the FET 11 and exceeds the breakdown voltage.
  • the voltage change of the characteristic 403 is 2.8V at the maximum and 2.0V at the minimum.
  • the main difference between the characteristics 403 and 404 is whether or not the gate voltage is applied to the FET 12 from the control circuit unit 102.
  • the gate voltage of the amplification FET or the resistance value for self-bias of the amplification FET is set according to the process variation of the saturation current Idss of the FET. Since it is changed, it has the effect of suppressing changes in the drain current of the amplifier. Furthermore, since fluctuations in the drain voltage of the first stage FET can be suppressed, it is possible to avoid a state where the DC breakdown voltage between the drain and source of the FET is exceeded due to process variations of Idss.
  • the circuit configuration described here also has an effect that the suppression of fluctuations in the drain current and the drain voltage of the first stage in the current reuse amplifier using the depletion mode FET can be realized by a positive single power source.
  • FIG. 5 shows a circuit configuration of the current reusing FET amplifier according to the second embodiment of the present invention, which is a modification of the first embodiment. 1 is different from FIG. 1 of the first embodiment in that the resistor 33 in FIG. 1 is changed to a variable resistor composed of an FET 15 and a resistor 41, and in order to control the variable resistor, a resistor 42, an FET 16, and a diode 64. Is added to the control circuit unit 102.
  • the gate of the FET 16 is connected to the source of the FET 13 and the drain of the FET 16 is connected to the gate of the FET 15 via the resistor 41 so that the drain-source resistance value of the FET 15 can be varied.
  • the source voltage of the FET 13 in the control circuit unit 102 increases and the drain current of the FET 16 increases. Since the increase in the drain current increases the voltage drop of the resistor 42, the gate voltage of the FET 15 is decreased. As a result, the drain-source resistance of the FET 15 is increased, the source potential of the FET 12 is increased, and the drain current of the FET 12 is decreased. As a result, it can be expected to be suppressed more than the fluctuation of the drain current with respect to the fluctuation of Idss in the first embodiment. Regarding the fluctuation of the drain voltage of the FET 11, the same effect as that of the first embodiment can be obtained because the gate voltage control circuit of the FET 12 is the same.
  • a control circuit composed of the FET 16, the resistor 42, and the diode 64 is newly added to control the gate voltage of the FET 15, but this is to give design freedom.
  • one end of the resistor 41 can be connected to the drain of the FET 14, the connection point between the diodes 62 and 63, or the connection point between the diode 63 and the resistor 38.
  • a GaAs depletion mode FET (including a high electron mobility transistor HEMT) has been described as an example.
  • an n-channel depletion mode FET can be used as an InP FET or a GaN FET.
  • the same effect can be obtained with a Si-based MOSFET.
  • the enhancement mode differs from a normal Si MOSFET, and in the case of a GaAs FET, InP FET, and GaN FET, a depletion mode FET is used in most of the products. It is important for practical use.
  • RF input terminal 2 RF output terminal 3: Drain power supply terminal of amplifier section 4: Drain power supply terminals of control circuit section 11 to 16: Depletion mode GaAs FET 21 to 27: Capacitors 31 to 41: Resistors 51 to 54: Transmission lines 61 to 64: Diode 101: Amplifying unit 102: Control circuit unit 301, 302: Drain current 401 against Idss fluctuation of the comparison circuit 401: Idss of the first embodiment Drain current 402 for fluctuation: Drain current 403 for Idss fluctuation of comparison circuit: Drain voltage 404 for Idss fluctuation of the first embodiment 404: Drain voltage for Idss fluctuation of comparison circuit

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Abstract

本発明に係る電流再利用型ＦＥＴ増幅器は、初段の第１のＦＥＴのドレインと次段の第２のＦＥＴのゲートの間に容量を設け、第２のＦＥＴのゲート電圧を第１のＦＥＴのドレイン電圧と電気的に分離し、ＦＥＴの飽和電流Ｉｄｓｓの変動に対して、第２のＦＥＴのドレイン電流の変動と第１のＦＥＴのドレイン電圧の変動を抑制するように第１のＦＥＴのゲート電圧と第２のＦＥＴのゲート電圧を制御する制御回路を備える。さらに本発明に係る電流再利用型ＦＥＴ増幅器は、デプレッションモードのＦＥＴだけを用いて、正の単一電源で動作可能な回路構成を提供する。

Description

電流再利用型電界効果トランジスタ増幅器
　本発明は、デプレションモードの電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）を用いた電流再利用型ＦＥＴ増幅器におけるバイアス電流制御に関するものである。
　近年，自動車の自動運転や衝突時の衝撃緩和を目的として、マイクロ波帯・ミリ波帯を用いた車載レーダの需要が増加している。この車載レーダの遠方監視には、直進性が良好で、かつ比較的雨天でも減衰しにくい７７ＧＨｚ帯のミリ波が使われている。そのレーダの信号の電力増幅や周波数変換を担う回路には、高周波での高出力・高利得特性に優れたＧａＡｓ系電界効果トランジスタ（以下電界効果トランジスタをＦＥＴと呼ぶ）を用いた電力増幅器がしばしば利用されている。（例えば特許文献１（Ｐ．４、図１）、或いは非特許文献１（Ｆｉｇ．９）参照）
特開２０１２－１１９７９４号 2011 Proc. Of the 6th European Microwave Integrated Circuits Conference, pp. 29-32, "E-Band Radio Link Communication Chipset in Cost Effective Wafer Level Chip Size Package (WLCSP) Technology" 2005 IEEE Journal of Solid-State Circuits, pp. 1288-1295, "A 1.8-V Operation 5-GHz-Band CMOS Frequency Doubler Using Current-Reuse Circuit Design Technique"
特許文献１及び非特許文献１には、ＧａＡｓ系ＦＥＴを用いた電力増幅器の例が示されている。当該文献に示すように、車載という制約から車内で一般に利用可能な、５Ｖの単一電源で動作可能な回路構成が選択されており、その代表例が電流再利用型の回路構成となっている。図６に、ＧａＡｓ系ＦＥＴを用いた電流再利用型増幅器の回路構成を示す。図で、１１、１２はデプレションモード（ノーマリオン）のＧａＡｓ系ＦＥＴ（通常は高電子移動度トランジスタと呼ばれるＨＥＭＴが使われる）、３１～３３は抵抗、２１～２６は容量、５１～５４はインダクタンスと同様の役割を担う伝送線路、１はＲＦ信号の入力端子、２はＲＦ信号の出力端子、３は増幅部の電源端子、ＩｄｄはＦＥＴ１２を流れるドレイン電流である。２２、２４はＦＥＴ１１と１２のソースをＲＦ的に接地するための容量で、容量２１は入力のＤＣ阻止容量である。容量２３と伝送線路５１と５２は段間整合回路を形成し、容量２５、２６と伝送線路５３と５４は出力整合回路とＦＥＴ１２のドレイン給電回路を形成している。また、抵抗３１はＦＥＴ１１のゲート電位をＤＣ的に０Ｖに固定する役割を担い、抵抗３２、３３は自己バイアス用の抵抗である。
次にバイアスに関して説明する。ＦＥＴ１２を流れるドレイン電流Ｉｄｄは、抵抗３３を流れ、その後ＦＥＴ１１のドレイン電流として再度流れ、最後に抵抗３２を通過して接地に流れる。ＦＥＴ１１のゲートバイアス（ゲート・ソース間電圧）は、抵抗３２によってゲート電圧が抵抗３１により０Ｖに固定されているため、抵抗３２と電流Ｉｄｄの積の電圧によって、ＦＥＴ１１のゲート・ソース間電圧は負に自己バイアスされる。ＦＥＴ１２のゲート・ソース間電位も同様に、抵抗３３と電流Ｉｄｄの積により負に自己バイアスされる。
ＦＥＴ１２を流れた電流Ｉｄｄが再度ＦＥＴ１１にも流れるため、本回路構成は電流再利用型と呼ばれる。ＦＥＴ１１と１２はＲＦ増幅の役割も担い、容量２２及び２４によってＦＥＴ １１及び１２はＲＦ的にソース接地されているので、図５の回路は、ソース接地の２段増幅器と等価である。しかし、電流に関しては同じＩｄｄがＦＥＴ１１と１２を共通に流れるため、電源Ｖｄｄから消費される電流はＩｄｄだけですむ。
一方、電源電圧Ｖｄｄ／２がＦＥＴ１１及び１２のドレイン端子に各々印加される通常のソース接地型２段増幅器の場合、ＦＥＴ Ｆ１及びＦ２に電流Ｉｄｄが流れるとすると、電源電圧Ｖｄｄ／２から消費される電流は２・Ｉｄｄとなり、電流再利用型の２倍になる。バッテリ駆動の製品では主にバッテリの電流容量が制限されるので、電流再利用型の回路を採用することで、消費電流を削減できる場合が多い。
車載レーダ用のＲＦ増幅部に電流再利用回路が適用される理由は、この電流削減効果よりもむしろＧａＡｓ系ＦＥＴの耐圧制約に関係するところが大きい。ミリ波帯で適用可能なＦＥＴは０．２μｍ以下の短ゲート長のため、ＤＣ的なドレイン・ソース間耐圧が４Ｖ以下の場合が多く、場合によっては３Ｖ程度の場合もある。そのため、自動車に搭載される標準電源電圧５Ｖを直接印加できない場合が多い。図６に示す電流再利用回路の場合、ＦＥＴ１段当たりのＤＣ印加電圧は５Ｖの半分である２．５Ｖとなり、４Ｖの耐圧よりも十分低く設定できるので、電源電圧５Ｖを増幅器の電源として利用できる。
しかし、ＧａＡｓ系ＦＥＴは通常デプレッションモードであるため、エンハンスメントモードのＣＭＯＳ系やバイポーラ系デバイスに比べて、プロセスばらつき変動に依存せずに一定のドレイン電流を供給できるバイアス回路を構成することが一般に難しい。例えば、非特許文献２に記載の電流再利用回路はエンハンスメントモードのｎＭＯＳであるため、プロセスばらつきに強いカレントミラー型のバイアス回路を適用できる。
図７は、図６の回路において、ＦＥＴのＩｄｓｓ（ゲート・ソース間電圧０Ｖ時のＦＥＴのドレイン電流）の変動に対する回路のドレイン電流Ｉｄｄの変動のシミュレーション結果を示す。電源電圧は５Ｖ、ＦＥＴはゲート長０．１ｕｍのＧａＡｓ系ＨＥＭＴを使用した。図には、抵抗３２、３３の値が小さい場合の特性３０１と大きい場合の特性３０２がプロットされている。図中のＡ１～Ａ４は点線の交点を示す。図より、Ｉｄｓｓの変化に対して、特性３０１のドレイン電流Ｉｄｄの変化は特性３０２に比べて大きい。Ｉｄｓｓの±２０％の変動に対して、特性３０１では２４ｍＡ～３１．５ｍＡ（Ｉｄｓｓの変動無時のドレイン電流２７．５ｍＡに対しての２７％変化）と大きく変動するのが、特性３０２では１８ｍＡ～２１ｍＡ（Ｉｄｓｓの変動無時のドレイン電流１９．５ｍＡに対して１５％の変化）と変動は小さい。また、特性３０２のドレイン電流は、電流変化は小さいが、抵抗値が大きいためＩｄｓｓ変動無時のドレイン電流値自身が低くなってしまう。
ミリ波帯の場合、ＦＥＴの持つ利得を最大限に引き出すために、ゲート電圧０Ｖより少し低い電圧（例えば－０．０５Ｖ～－０．１５Ｖ）に設定することが多いため、抵抗３２、３２の値は小さい。その結果、図７の特性３０１に示すように自己バイアス回路だけでは大きなドレイン電流の変化を伴う。バイアス電流の大きな変化は、増幅器の利得特性を大きく変動させるので、その抑制が課題であった。負の電源を利用したＩｄｓｓの変化を抑制するバイアス回路に関する報告はこれまでもあったが、本願で扱う、正の単一電源で動作可能なバイアス回路の提供とＩｄｓｓのプロセス変動に対してドレイン電流の変化を抑制できる回路の提供が課題であった。
　本発明に係る電流再利用型ＦＥＴ増幅器は、ＲＦ信号が入力される第１のゲートと、第１のソースと、第１のドレインを有する第１の電界効果トランジスタと、第１のソースと接地用端子の間に接続された第１の抵抗と、第２のソースと、第２のゲートと、電源用端子に接続され且つ増幅されたＲＦ信号を出力する第２のドレインとを有する第２の電界効果トランジスタと、第１のドレインと第２のソースとの間に接続された第２の抵抗と、第１のドレインと第２のゲートとの間に接続された容量と、第３のソース、電源用端子に接続された第３のドレイン、及び接地用端子に接続された第３ゲートを有する第３の電界効果トランジスタと、第４のソースと、第４のドレインと、第３のソースに接続された第４ゲートとを有する第４の電界効果トランジスタと、第４のソースと接地用端子との間に接続された第１のダイオードと、電源端子と第４のドレインとの間に接続された第３の抵抗と、第４のドレインと第１のゲートとの間に接続された第４の抵抗と、第４のドレインと前記第２のゲートとの間に接続された第５の抵抗とを備える。
　本発明に係る電流再利用型ＦＥＴ増幅器は、ＦＥＴの飽和電流Ｉｄｓｓのプロセスばらつきに応じて、増幅用ＦＥＴのゲート電圧或いは増幅用ＦＥＴの自己バイアス用の抵抗値を変化させるので、増幅器のドレイン電流の変化を抑制する効果を有する。さらに、初段のＦＥＴのドレイン電圧の変動も抑制できるので、Ｉｄｓｓのプロセスばらつきに対してＦＥＴのドレイン・ソース間ＤＣ耐圧を超える状態を回避できる。
実施の形態１に係る電流再利用型ＦＥＴ増幅器の回路構成。 実施の形態１に係る電流再利用型ＦＥＴ増幅器と比較するための別の回路構成。 実施の形態１に係る電流再利用型ＦＥＴ増幅器の回路構成のＩｄｓｓの変動に対するドレイン電流Ｉｄｄのシミュレーション結果。 実施の形態１に係る電流再利用型ＦＥＴ増幅器の回路構成のＩｄｓｓの変動に対するＦＥＴ１１のドレイン電圧のシミュレーション結果。 実施の形態２に係る電流再利用型ＦＥＴ増幅器の回路構成。 比較のための電流再利用型ＦＥＴ増幅器全体の回路構成。 比較のための電流再利用型ＦＥＴ増幅器の回路構成のＩｄｓｓの変動に対するドレイン電流Ｉｄｄのシミュレーション結果。
　本発明の実施の形態に係る電流再利用型ＦＥＴ増幅器について図面を参照して説明する。既に述べた図面も含めて、同じ又は対応する構成要素には同じ符号を付し、説明の繰り返しを省略する場合がある。以下に、ＧａＡｓ系デプレッションモードＦＥＴ（高電子移動度トランジスタのＨＥＭＴを含む）を例に説明する
［実施の形態１］
（構成の説明）
　図１に、本発明の実施の形態１に係る電流再利用型ＦＥＴ増幅器の増幅部１０１の回路構成と制御回路部１０２の回路構成を示す。図１では図面簡便化のために、伝送線路等を省略し、主にＤＣ的に寄与する素子だけを示している。図６と同様に、ＦＥＴ１１のソースと接地の間に抵抗３２と容量２２を並列に接続し、ＤＣ動作上の直流負帰還とＲＦ動作上のソース接地を構成している。ドレイン電流Ｉｄｄは、ＦＥＴ１２を流れた後、ＦＥＴ１１のドレイン電流としても流れるので、図１の回路は図６の回路と同様に電流再利用回路である。
入力端子１に入力されたＲＦ信号はＦＥＴ１１で増幅され、さらに容量２７を介してＦＥＴ１２のゲートに入力される。ＦＥＴ１２で増幅されたＲＦ信号は、ＦＥＴ１　２のドレインから容量２５を介して出力される。
制御回路部１０２において、ＦＥＴ１３は、ゲートが接地され、ソース負荷として抵抗３５、ドレイン負荷として抵抗３６を有する。ＦＥＴ１４は、ゲートがＦＥＴ １３のソースに接続され、ダイオード６１のソース負荷、抵抗３７のドレイン負荷を有する。ＦＥＴ１２のドレインと接地の間には、ダイオード６２、６３、抵抗３８、３９が直列に接続された負荷が接続されている。ドレイン抵抗負荷３６、３７は電源端子４に接続されている。尚、制御回路部１０２の電源端子４は、増幅部１０１の電源端子３と共通にしてもよい。
制御回路１０２と増幅部１０１は、２つの制御信号で接続されている。第１の制御信号は、制御回路部１０２の抵抗３８と３９の接続点とＦＥＴ１１のゲート間に接続した抵抗３４を介して、ＦＥＴ１１のゲートに与えられる。第２の制御信号は、制御回路部１０２のダイオード６２と６３の接続点とＦＥＴ１２のゲートの間に接続された抵抗４０を介して、ＦＥＴ１２のゲートに与えられる。
図１のダイオードは、ＦＥＴと同じ工程で作製可能なＧａＡｓ系ショットキー接合ダイオードを想定しているが、ｐｎ整合ダイオードでも同等の動作を実現できる。
（動作の説明）
　図１のドレイン電流Ｉｄｄの変化を、プロセスばらつきによるＦＥＴの飽和電流Ｉｄｓｓの変化に対してできるだけ抑制するには、Ｉｄｓｓが所定の値よりも高くなった時にはＦＥＴ１１のゲート電圧を低下させ、逆にＩｄｓｓが所定の値よりも低くなった時にはＦＥＴ１１のゲート電圧を増加させればよい。さらに、ドレイン電流Ｉｄｄの変動の抑制に加えて、ＦＥＴ１１のドレイン電圧の変動を抑制するには、図１に示すように、ＦＥＴ１２のゲート電圧をＦＥＴ１１のドレイン電圧から容量２７を用いて分離し、ＦＥＴ１２のゲート電圧をＩｄｄのプロセス変動に応じて適切に制御すればよい。
制御回路部１０２のＦＥＴ１４のソース電位の変化は、ソース負荷のダイオード６１によりＦＥＴ１４のソース電流変化に対して小さく抑制される。ここで、ＦＥＴ １４の閾値電圧に応じて、ダイオード６１の直列接続段数を複数個にしてもよい。
一方、ＦＥＴ１３のソース負荷は抵抗３５のため、Ｉｄｓｓの増加と共にＦＥＴ１３のソース電圧も増加する。そのため、ＦＥＴ１４のゲート・ソース間電圧はＩｄｓｓの増加と共に増加し、ＦＥＴ１４のドレイン電流も増加する。その結果、ドレイン負荷抵抗３７の電圧降下の増大し、ＦＥＴ１４のドレイン電圧は減少する。このドレイン電圧の減少は、１つはダイオード６２でレベルシフトされ、抵抗４０を介してＦＥＴ１２のゲートに伝達され、もう一つはダイオード６２、６３でレベルシフトされた後、抵抗３８と３９で分圧され、抵抗３４を介してＦＥＴ１１のゲートに伝達される。
　実施の形態１に係る電流再利用ＦＥＴ増幅器は、ＦＥＴ１１のゲート電圧とＦＥＴ１２のゲート電圧をＩｄｓｓのプロセス変動に応じて独立に制御できるため、ドレイン電流Ｉｄｄの変動を抑制するだけでなく、ＦＥＴ１１のドレイン電圧の変動も抑制できる。その結果、Ｉｄｓｓのプロセス変動に対する利得の変動を抑制できるだけでなく、ドレイン・ソース間のＤＣ耐圧が電源電圧の１／２の電圧に対して余裕がない場合でも、耐圧超過に起因した故障を起こさず、安定な動作が期待できる。
（比較回路との違いの説明）
次に実施の形態１に係る回路と比較回路との効果の違いを説明する。比較回路の回路構成を図２に示す。図１の回路との主要な違いは、図２の比較回路では図６と同様にＦＥＴ１１のドレイン電圧とＦＥＴ１２のゲート電圧を分離する容量２７がなく直結されていること、抵抗３３の代わりに可変抵抗として機能するＦＥＴ１５とゲート抵抗４１が設けられていることである。ＦＥＴ１５の可変抵抗値はそのゲート電圧を制御回路部１０２のＦＥＴ１４のドレイン電圧から抵抗４１を介して制御される。
図３に図１と図２の回路のＩｄｓｓ変動に対するドレイン電流Ｉｄｄのシミュレーション結果を、図４に図１と図２の回路のＩｄｓｓ変動に対するＦＥＴ１１のドレイン電圧のシミュレーション結果を示す。図３、図４において、特性４０１及び特性４０３が図１の回路のシミュレーション結果を、特性４０２及び特性４０４が図２の比較回路のシミュレーション結果を示す。またＢ１～Ｂ４、Ｃ１～Ｃ４は、±２０％のＩｄｓｓの変動に対する特性との交点を示す。
図３に示すように、図１と図２の回路のドレイン電流Ｉｄｄの変化はかなり近く、どちらの回路構成でもドレイン電流Ｉｄｄの変動をかなり抑制できる。
一方、図４に示すように、特性４０３の電圧変化は、点Ｂ３の２．８Ｖから点Ｂ４の２Ｖの０．８Ｖの変化に対して、特性４０４の電圧変化は、点Ｃ３の０．７Ｖから点Ｃ４の４．０Ｖの３．３Ｖ変化となっている。ＦＥＴ１１とＦＥＴ１２のドレイン・ソース間耐圧が３Ｖの場合、Ｉｄｓｓが２０％増加すると、ＦＥＴ１１に４Ｖ印加されることになり、耐圧を超えてしまう。これに対して、特性４０３の電圧変化は最大２．８Ｖ、最低２．０Ｖのため、３Ｖの耐圧の範囲内で動作可能になる。
ゲート長の短縮化による高周波領域での利得向上を図る場合、ドレイン・ソース間耐圧も必然的に低下するので、図４に示すようにドレイン電圧変化が小さい回路構成を実現することは、実使用では重要である。尚、特性４０３と４０４の違いは、ＦＥＴ１２に対してゲート電圧を制御回路部１０２から印加しているか、していないかの違いが主要因である。
（実施の形態１の効果）
以上述べたように、実施の形態１に係る電流再利用型ＦＥＴ増幅器は、ＦＥＴの飽和電流Ｉｄｓｓのプロセスばらつきに応じて、増幅用ＦＥＴのゲート電圧或いは増幅用ＦＥＴの自己バイアス用の抵抗値を変化させるので、増幅器のドレイン電流の変化を抑制する効果を有する。さらに、初段のＦＥＴのドレイン電圧の変動も抑制できるので、Ｉｄｓｓのプロセスばらつきに対してＦＥＴのドレイン・ソース間ＤＣ耐圧を超える状態を回避できる。また、ここで述べた回路構成はデプレッションモードのＦＥＴを用いた電流再利用増幅器におけるドレイン電流と初段のドレイン電圧の変動の抑制を正の単一電源で実現できる効果も有する。
［実施の形態２］
　図５は、本発明の実施の形態２に係る電流再利用型ＦＥＴ増幅器の回路構成で、実施の形態１の変形例である。実施の形態１の図１との違いは、図１の抵抗３３をＦＥＴ１５と抵抗４１で構成される可変抵抗に変更していること、その可変抵抗の制御ために、抵抗４２、ＦＥＴ１６、ダイオード６４で構成される制御回路が制御回路部１０２に追加されていることである。ＦＥＴ１６のゲートはＦＥＴ１３のソースに接続され、ＦＥＴ１６のドレインが抵抗４１を経由してＦＥＴ１５のゲートに接続され、ＦＥＴ１５のドレイン・ソース間抵抗値を可変できるようにしている。
　実施の形態１で述べたように、Ｉｄｓｓが増加した場合、制御回路部１０２のＦＥＴ１３のソース電圧が上昇し、ＦＥＴ１６のドレイン電流を増加させる。ドレイン電流の増加は抵抗４２の電圧降下を増大させるので、ＦＥＴ１５のゲート電圧を低下させる。これにより、ＦＥＴ１５のドレイン・ソース間抵抗が増大され、ＦＥＴ１２のソース電位を上昇させ、ＦＥＴ１２のドレイン電流を減少させる。その結果、実施の形態１のＩｄｓｓの変動に対するドレイン電流の変動よりも抑制されることが期待できる。ＦＥＴ１１のドレイン電圧の変動に関しては、ＦＥＴ１２のゲート電圧制御回路が同じであるため、実施の形態１と同等の効果が得られる。
　尚、図５では、ＦＥＴ１６、抵抗４２、ダイオード６４で構成される制御回路が、ＦＥＴ１５のゲート電圧を制御するために新たに追加されているが、これは設計の自由度を持たせるためで、回路定数の設定次第では、抵抗４１の一端をＦＥＴ１４のドレイン、あるいはダイオード６２と６３の接続点、あるいはダイオード６３と抵抗３８との接続点に接続することも可能である。
尚、以上述べた実施の形態はＧａＡｓ系デプレッションモードＦＥＴ（高電子移動度トランジスタのＨＥＭＴを含む）を例に説明したが、ｎ型チャネルのデプレッションモードＦＥＴであれば、ＩｎＰ系ＦＥＴでもＧａＮ系ＦＥＴでもＳｉ系ＭＯＳＦＥＴでも同様の効果が得られることを付記しておく。
特に、エンハンスメントモードが通常のＳｉ系ＭＯＳＦＥＴと異なり、ＧａＡｓ系ＦＥＴ、ＩｎＰ系ＦＥＴ、ＧａＮ系ＦＥＴの場合、そのほとんどの製品においてデプレッションモードのＦＥＴが用いられるため、本発明によるドレイン電流変動の抑制は実用上重要である。
１：ＲＦ入力端子
２：ＲＦ出力端子
３：増幅部のドレイン電源端子
４：制御回路部のドレイン電源端子
１１～１６：デプレッションモードのＧａＡｓ系ＦＥＴ
２１～２７：容量
３１～４１：抵抗
５１～５４：伝送線路
６１～６４：ダイオード
１０１：増幅部
１０２：制御回路部
３０１、３０２：比較回路のＩｄｓｓ変動に対するドレイン電流
４０１：実施の形態１のＩｄｓｓ変動に対するドレイン電流
４０２：比較回路のＩｄｓｓ変動に対するドレイン電流
４０３：実施の形態１のＩｄｓｓ変動に対するドレイン電圧
４０４：比較回路のＩｄｓｓ変動に対するドレイン電圧

Claims (6)

  1. 　ＲＦ信号が入力される第１のゲートと、第１のソースと、第１のドレインを有する第１の電界効果トランジスタと、
    　前記第１のソースと接地用端子の間に接続された第１の抵抗と、
    　第２のソースと、第２のゲートと、第１の電源用端子に接続され且つ増幅されたＲＦ信号を出力する第２のドレインとを有する第２の電界効果トランジスタと、
    　前記第１のドレインと前記第２のソースとの間に接続された第２の抵抗と、
    　前記第１のドレインと前記第２のゲートとの間に接続された容量と、
    　第３のソース、第２の電源用端子に接続された第３のドレイン、及び前記接地用端子に接続された第３ゲートを有する第３の電界効果トランジスタと、
    　第４のソースと、第４のドレインと、前記第３のソースに接続された第４ゲートとを有する第４の電界効果トランジスタと、
    　前記第４のソースと前記接地用端子との間に接続された第１のダイオードと、
    　前記第２の電源用端子と前記第４のドレインとの間に接続された第３の抵抗と、
    　前記第４のドレインと前記第１のゲートとの間に接続された第４の抵抗と、
    前記第４のドレインと前記第２のゲートとの間に接続された第５の抵抗と、
    を備え、
    　前記第１乃至第４の電界効果トランジスタがデプレッションモードであることを特徴とする電流再利用型電界効果トランジスタ増幅器。
  2. 　第５のゲートと、前記第２のソースに接続された第５のドレインと、前記第１のドレインに接続された第５のソースを有する、前記第２の抵抗の代わりに設けられたデプレションモードの第５の電界効果トランジスタと、
    を備え、
    　前記第５のゲートが前記第４のドレインに接続されていること、を特徴とする請求項１に記載の電流再利用型電界効果トランジスタ増幅器。
  3. 　前記第２の電源用端子が前記第１の電源用端子に接続され、共通化されていることを特徴とする請求項１または２のいずれか１項に記載の電流再利用型電界効果トランジスタ増幅器。
  4. 　前記第１乃至第５の電界効果トランジスタがＧａＡｓ系あるいはＩｎＰ系あるいはＧａＮ系のいずれかの化合物半導体電界効果トランジスタであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の電流再利用型電界効果トランジスタ増幅器。
  5. 　第５のゲートと、前記第２のソースに接続された第５のドレインと、前記第１のドレインに接続された第５のソースを有する、前記第２の抵抗の代わりに設けられた第５の電界効果トランジスタと、
    　第６のソースと、第６のドレインと、前記第３のソースに接続された第６ゲートとを有する第６の電界効果トランジスタと、
    　前記第６のソースと前記接地用端子との間に接続された第２のダイオードと、
    　前記第２の電源端子と前記第６のドレインとの間に接続された第６の抵抗と、
    を備え、
    　前記第１乃至第６の電界効果トランジスタがデプレッションモードであることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の電流再利用型電界効果トランジスタ増幅器。
  6. 　前記第１乃至第６の電界効果トランジスタがＧａＡｓ系あるいはＩｎＰ系あるいはＧａＮ系のいずれかの化合物半導体電界効果トランジスタであることを特徴とする請求項５に記載の電流再利用型電界効果トランジスタ増幅器。
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